JPS61177422A - 光の可干渉性の低下を図つた光学装置 - Google Patents
光の可干渉性の低下を図つた光学装置Info
- Publication number
- JPS61177422A JPS61177422A JP60019441A JP1944185A JPS61177422A JP S61177422 A JPS61177422 A JP S61177422A JP 60019441 A JP60019441 A JP 60019441A JP 1944185 A JP1944185 A JP 1944185A JP S61177422 A JPS61177422 A JP S61177422A
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- Japan
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- light
- mask
- optical
- optical device
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/48—Laser speckle optics
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は光の可干渉性の低下を図った光学装置に関し、
特に可干渉性の良い光を用いＩ（ｔ、ＬＳＩ等のｈ細パ
ターンをシリコンウエノ１−等に焼付ける場合に生じる
干渉によ雇悪影響の防止を図った光の可干渉性の低下を
図った光学装置に関するものである。
特に可干渉性の良い光を用いＩ（ｔ、ＬＳＩ等のｈ細パ
ターンをシリコンウエノ１−等に焼付ける場合に生じる
干渉によ雇悪影響の防止を図った光の可干渉性の低下を
図った光学装置に関するものである。
（従来技？り
従来よりＩＣ，ＬＳＩ等の電子回路の微細パターンをウ
ェハ面上に光リングラフィ手法により焼使われていた。
ェハ面上に光リングラフィ手法により焼使われていた。
ところが近時、光リングラフィの使用波長である紫外域
の光を高出力で発振するレーサー（エキシマレーザ−等
）が開発され、半導体製造用の光装置の新しい光源とし
て注目されている。一般にレーザー光は高い輝度と指向
性を有するので、光源として使用すると集光光学系の高
効率化が達成されるが、レーザー光特有の強い干渉性が
光りソグラフイにおいては欠点となっている。即ち、微
細パターンが形成されているマスク面やウニへ面の不完
全さや照明光学系の光学特性及び光学系内の多重反射等
によりマスク面やウェハ面上にランダムな干渉縞、所謂
スペックルが発生し、照明ムラや焼付は誤差を起こし微
細パターン像の解像力を低下させていた。
の光を高出力で発振するレーサー（エキシマレーザ−等
）が開発され、半導体製造用の光装置の新しい光源とし
て注目されている。一般にレーザー光は高い輝度と指向
性を有するので、光源として使用すると集光光学系の高
効率化が達成されるが、レーザー光特有の強い干渉性が
光りソグラフイにおいては欠点となっている。即ち、微
細パターンが形成されているマスク面やウニへ面の不完
全さや照明光学系の光学特性及び光学系内の多重反射等
によりマスク面やウェハ面上にランダムな干渉縞、所謂
スペックルが発生し、照明ムラや焼付は誤差を起こし微
細パターン像の解像力を低下させていた。
（本発明の目的）
本発明は、マスクの照明用光源として高輝度のレーザー
光等の可干渉性の良い光を用いて微細パターンをウェハ
面上に焼付ける際に光の可干渉性を低下させマスク及び
ウェハ面に生ずるスペックルの軽減を図り微細パターン
のウェハ面上へノ焼付は精度の向上を図った光学装置の
提供を目的とする。
光等の可干渉性の良い光を用いて微細パターンをウェハ
面上に焼付ける際に光の可干渉性を低下させマスク及び
ウェハ面に生ずるスペックルの軽減を図り微細パターン
のウェハ面上へノ焼付は精度の向上を図った光学装置の
提供を目的とする。
（本発明の構成上の主たる特徴）
各々の屈折率が異なる複数のファイバーを束ねたファイ
ンバー部材の入射面に可干渉性の良い光束を入射させ、
前記ファインバー部材の射出面より射出する光束の可干
渉性を低下させた光束を利用したことである。
ンバー部材の入射面に可干渉性の良い光束を入射させ、
前記ファインバー部材の射出面より射出する光束の可干
渉性を低下させた光束を利用したことである。
その他、本発明の目的を更に良好に達成するための特徴
は実施例の中で詳述されている。
は実施例の中で詳述されている。
（実施例）
第１図は、本発明の基本概念の説明図である。
同図において、１は可干渉性の光を発振する例えばレー
ザー発振器、２は集積回路パターンの形成されているマ
スクでマスク２の後方に極近接若しくは投影系を疼んで
ウェハが配されている。３゜４．５は光束制御手段であ
り６はレーザー発振器１から発振したレーザー光を可干
渉性低下用の光学部材５に入射させる光学系、４は光学
部材５から可干渉性が低下して射出してきた光によりマ
スク２を照明する照明系である。光学部材５は例えば各
々の屈折率が異った多数のファイバーを束ねた７アイパ
一部材から構成されている。ファイバーの内部屈折率を
５．長さをｌとすると光路長は％ｌで与えられるので、
光路長ｓｊを各々のファイバー毎に異ならしめて各々の
ファイバーより射出する光束間で可干渉距離以上となる
ように設定して射出光どおしの可干渉性の低下を図って
いる。
ザー発振器、２は集積回路パターンの形成されているマ
スクでマスク２の後方に極近接若しくは投影系を疼んで
ウェハが配されている。３゜４．５は光束制御手段であ
り６はレーザー発振器１から発振したレーザー光を可干
渉性低下用の光学部材５に入射させる光学系、４は光学
部材５から可干渉性が低下して射出してきた光によりマ
スク２を照明する照明系である。光学部材５は例えば各
々の屈折率が異った多数のファイバーを束ねた７アイパ
一部材から構成されている。ファイバーの内部屈折率を
５．長さをｌとすると光路長は％ｌで与えられるので、
光路長ｓｊを各々のファイバー毎に異ならしめて各々の
ファイバーより射出する光束間で可干渉距離以上となる
ように設定して射出光どおしの可干渉性の低下を図って
いる。
第２図は、第１図に示した基本概念に基づいた本発明の
一実施例の光学系の概略図である。同図において、レー
ザー発振器１１から発したレーザー光はビームエキスパ
ンダー等の光学、１％１３により光束径が拡げられて可
干渉性の低下を図った光学部材１５に入射する。光学部
材１５は例えば第３図に示すように、内部の屈折率が各
々異なる多数のファイバー１５′を束ねたファイバー部
材より構成されている。光学部材１５より射出した光束
は、複数の微少レンズより成るレンズアレイ１６を介し
てコンデンサーレンズ等から成る［明、ｆｔ１４によっ
て再び１つに重なり合いマスク２を照明する。ここでレ
ンズアレイ１６は、照明系１４の第２次光源面となるよ
うに構成されている。
一実施例の光学系の概略図である。同図において、レー
ザー発振器１１から発したレーザー光はビームエキスパ
ンダー等の光学、１％１３により光束径が拡げられて可
干渉性の低下を図った光学部材１５に入射する。光学部
材１５は例えば第３図に示すように、内部の屈折率が各
々異なる多数のファイバー１５′を束ねたファイバー部
材より構成されている。光学部材１５より射出した光束
は、複数の微少レンズより成るレンズアレイ１６を介し
てコンデンサーレンズ等から成る［明、ｆｔ１４によっ
て再び１つに重なり合いマスク２を照明する。ここでレ
ンズアレイ１６は、照明系１４の第２次光源面となるよ
うに構成されている。
このように本実施例においては、光学部材１５の射出面
から射出する各光束間どおしが可干渉距離を越えるよう
に構成している。この為、マスク２の面上で各光束は干
渉せず、スペックルの発生を防止することができる。
から射出する各光束間どおしが可干渉距離を越えるよう
に構成している。この為、マスク２の面上で各光束は干
渉せず、スペックルの発生を防止することができる。
尚、本実施例において、光学部材１５を長さが一定のフ
ァイバーを束ねたファイバープレートで構成すれば入射
面及び射出面を揃えることができ装置が簡素化されるの
で好ましい。又、ファイバー部材の断面を入射光のビー
ムの断面に合うようにしても良い。レンズアレイ１６は
、光学部材１５の射出面に貼り合わせて一体化して構成
しても良い。
ァイバーを束ねたファイバープレートで構成すれば入射
面及び射出面を揃えることができ装置が簡素化されるの
で好ましい。又、ファイバー部材の断面を入射光のビー
ムの断面に合うようにしても良い。レンズアレイ１６は
、光学部材１５の射出面に貼り合わせて一体化して構成
しても良い。
（発明の効果）
以上のように、本発明によれば、光の可干渉性を低下さ
せ、スペックルの発生を防止することができるので、Ｌ
ＳＩ等の微細パターンのウェハ面上への焼付は精度の向
上を図った光学装置を達成することができる。特に、レ
ーザー等を容易に用いることができるので高輝度照明が
可能となり、スループットの向上を図った光学装置の達
成が可能となる。
せ、スペックルの発生を防止することができるので、Ｌ
ＳＩ等の微細パターンのウェハ面上への焼付は精度の向
上を図った光学装置を達成することができる。特に、レ
ーザー等を容易に用いることができるので高輝度照明が
可能となり、スループットの向上を図った光学装置の達
成が可能となる。
第１図は本発明の基本概念の説明図、第２図は本発明の
一実施例の光学系の概略図、第３図は第２図の一部分の
説明図である。図中、１．１１はレーザー発振器、３，
１３は光学系、５，１５は光学部材、４，１４は照明系
、２，１２はマスク、１６はレンズアレイ、１５′はフ
ァイバーである。
一実施例の光学系の概略図、第３図は第２図の一部分の
説明図である。図中、１．１１はレーザー発振器、３，
１３は光学系、５，１５は光学部材、４，１４は照明系
、２，１２はマスク、１６はレンズアレイ、１５′はフ
ァイバーである。
Claims (3)
- （１）各々の屈折率が異なる複数のファイバーを束ねた
ファインバー部材の入射面に可干渉性の良い光束を入射
させ、前記ファインバー部材の射出面より射出する光束
の可干渉性を低下させた光束を利用したことを特徴とす
る光の可干渉性の低下を図つた光学装置。 - （２）前記ファイバー部材を前記複数のファイバーの長
さを一定としたファイバープレートより構成したことを
特徴とする特許請求の範囲１項記載の光の可干渉性の低
下を図つた光学装置。 - （３）前記ファイバー部材の射出面を第２次光源面とす
る照明系を有していることを特徴とする特許請求の範囲
第２項記載の光の可干渉性の低下を図つた光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60019441A JPS61177422A (ja) | 1985-02-04 | 1985-02-04 | 光の可干渉性の低下を図つた光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60019441A JPS61177422A (ja) | 1985-02-04 | 1985-02-04 | 光の可干渉性の低下を図つた光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61177422A true JPS61177422A (ja) | 1986-08-09 |
Family
ID=11999386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60019441A Pending JPS61177422A (ja) | 1985-02-04 | 1985-02-04 | 光の可干渉性の低下を図つた光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61177422A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63235912A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Nikon Corp | 光学装置 |
| EP0959378A1 (en) * | 1998-05-20 | 1999-11-24 | Sony Corporation | Optical coherence reduction method and device, illuminating method and system |
| EP0997762A2 (en) * | 1998-10-30 | 2000-05-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Laser transmission system |
| KR100842598B1 (ko) | 2006-09-15 | 2008-07-01 | 엘지전자 주식회사 | 마이크로 렌즈 어레이를 이용한 스크린 및 디스플레이 장치 |
| JP2010156786A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光学部品および光源装置 |
-
1985
- 1985-02-04 JP JP60019441A patent/JPS61177422A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63235912A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Nikon Corp | 光学装置 |
| EP0959378A1 (en) * | 1998-05-20 | 1999-11-24 | Sony Corporation | Optical coherence reduction method and device, illuminating method and system |
| EP0997762A2 (en) * | 1998-10-30 | 2000-05-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Laser transmission system |
| KR100842598B1 (ko) | 2006-09-15 | 2008-07-01 | 엘지전자 주식회사 | 마이크로 렌즈 어레이를 이용한 스크린 및 디스플레이 장치 |
| JP2010156786A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光学部品および光源装置 |
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