JPS61165363A - ケイ皮酸アミド誘導体及びその製造法 - Google Patents
ケイ皮酸アミド誘導体及びその製造法Info
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- JPS61165363A JPS61165363A JP650385A JP650385A JPS61165363A JP S61165363 A JPS61165363 A JP S61165363A JP 650385 A JP650385 A JP 650385A JP 650385 A JP650385 A JP 650385A JP S61165363 A JPS61165363 A JP S61165363A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｉ−Ｌ−１−１
本発明は、ケイ皮酸アミド誘導体及びその製造法に関す
る。
る。
１里１１し【
本発明の、ケイ皮酸アミド誘導体は、文献未載の新規化
合物であり、式 で表わされるＮ−（２−ジメチルアミノエチル）−Ｎ−
（ｏ−メルカプトフェニル）−ｐ−メトキシ−α−７セ
トキシケイ皮酸アミド及びその酸付加塩である。
合物であり、式 で表わされるＮ−（２−ジメチルアミノエチル）−Ｎ−
（ｏ−メルカプトフェニル）−ｐ−メトキシ−α−７セ
トキシケイ皮酸アミド及びその酸付加塩である。
本発明のケイ皮酸アミド誘導体は、閉環反応により容易
に式 で表わされる２−（４−メトキシフェニル）−３−アセ
トキシ−５−（２−ジメチルアミノエチル）−２．３−
ジヒドロ−１．５−ベンゾチアゼピン−４ （５Ｈ）−
オンを生成する。従って、本発明のケイ皮酸アミド誘導
体は、式（ＩＦ）の化合物及びその酸付加塩の製造中間
体として有用である。
に式 で表わされる２−（４−メトキシフェニル）−３−アセ
トキシ−５−（２−ジメチルアミノエチル）−２．３−
ジヒドロ−１．５−ベンゾチアゼピン−４ （５Ｈ）−
オンを生成する。従って、本発明のケイ皮酸アミド誘導
体は、式（ＩＦ）の化合物及びその酸付加塩の製造中間
体として有用である。
式（ｎ）の化合物及びその酸付加塩は、ベンゾチアゼピ
ン誘導体の中でも特に重要な医薬品であり、抗抑うつ剤
、精神神経安定剤、冠状血管拡張剤等として臨床に供さ
れている。
ン誘導体の中でも特に重要な医薬品であり、抗抑うつ剤
、精神神経安定剤、冠状血管拡張剤等として臨床に供さ
れている。
本発明の式ＣＩ）の化合物は、例えば下記反応工程式Ａ
に従って製造される。
に従って製造される。
く反応工程式Ａ〉
脱水縮合反応又は
〔上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｘは水酸基又はハロゲン原
子を示す。〕 即ち、一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物と式（ｒＶ
）で表わされる２−Ｎ− （２−ジメチルアミノエチル
）アミノチオフェノールとを、脱水縮合反応又は脱ハロ
ゲン化水素反応に付することにより目的の式ＣＩ）の化
合物が得られる。
子を示す。〕 即ち、一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物と式（ｒＶ
）で表わされる２−Ｎ− （２−ジメチルアミノエチル
）アミノチオフェノールとを、脱水縮合反応又は脱ハロ
ゲン化水素反応に付することにより目的の式ＣＩ）の化
合物が得られる。
上記脱水縮合反応の反応条件としては、特に限定されず
、この種の反応の通常の条件と同様で良い。具体的には
、Ｘが水酸基の化合物（ｌｉｒａ ）に対して化合物（
ＴＶ）を通常０．５〜２倍モル程度の割合で用い、非プ
ロトン性溶媒中で反応させれば良い。非プロトン性溶媒
としては、例えば塩化メチレン、ジオキサン、アセトニ
トリル、１．１゜２−トリクロルエタン、クロロホルム
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を挙
げることができ、これらの少なくとも１種を用いる。
、この種の反応の通常の条件と同様で良い。具体的には
、Ｘが水酸基の化合物（ｌｉｒａ ）に対して化合物（
ＴＶ）を通常０．５〜２倍モル程度の割合で用い、非プ
ロトン性溶媒中で反応させれば良い。非プロトン性溶媒
としては、例えば塩化メチレン、ジオキサン、アセトニ
トリル、１．１゜２−トリクロルエタン、クロロホルム
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を挙
げることができ、これらの少なくとも１種を用いる。
反応は、通常、縮合剤の存在下に行なうのが好ましい。
縮合剤としては、例えばＮ、Ｎ’ −ジシクロヘキシル
カルボジイミド ゾール、１−エチル−３− （３’ −ジメチルアミノ
プロピル〉カルボジイミド、これらの塩酸塩等を挙げる
ことができる。縮合剤の使用量は、化合物Ｃｍａ ）に
対して通常０．５倍モル以上程度、特に好ましくは１〜
４倍モル程度とするのが良い。
カルボジイミド ゾール、１−エチル−３− （３’ −ジメチルアミノ
プロピル〉カルボジイミド、これらの塩酸塩等を挙げる
ことができる。縮合剤の使用量は、化合物Ｃｍａ ）に
対して通常０．５倍モル以上程度、特に好ましくは１〜
４倍モル程度とするのが良い。
反応雰囲気は、特に限定されないが、窒素、二酸化炭素
、アルゴン等の不活性雰囲気であるのが好ましい。反応
温度は、特に限定されないが、通常＝２０〜５０℃程度
とするのが適当である。本反応は、通常１〜２４時間程
時間路了し、目的化合物（Ｉ）が生成する。
、アルゴン等の不活性雰囲気であるのが好ましい。反応
温度は、特に限定されないが、通常＝２０〜５０℃程度
とするのが適当である。本反応は、通常１〜２４時間程
時間路了し、目的化合物（Ｉ）が生成する。
また上記脱ハロゲン化水素反応の反応条件としては、特
に限定されず、この種の反応の通常の条件と同様で良い
。具体的には、Ｘが弗素、塩素、臭素、沃素等のハロゲ
ン原子である化合物（Ｉｌｒｂ ）に対して化合物（ｒ
Ｖ）を通常０．５〜２倍モル程度の割合で用い、前記非
プロトン性溶媒中で反応させれば良い。反応は、無触媒
下でも触媒存在下でも進行する。無触媒下で反応させた
場合には、生成物が塩酸塩等のハロゲン化水素付加塩と
して得られる。触媒を用いる場合には、通常例えばピリ
ジン、コリジン、トリエチルアミン等の塩基性触媒の存
在下に行なうのが好ましい。触媒を使用する場合の使用
量は、化合物（Ｉｌ［ｂ ）に対して通常０．５倍モル
以上程度、特に好ましくは１〜２倍モル程度とするのが
良い。反応は、前記不活性雰囲気中で行なうのが好まし
い。反応温度は、特に限定されないが、通常−３０〜５
０℃程度とするのが適当である。本反応は、通常１０分
〜２４時間程度で終了し、目的化合物（Ｉ）が生成する
。
に限定されず、この種の反応の通常の条件と同様で良い
。具体的には、Ｘが弗素、塩素、臭素、沃素等のハロゲ
ン原子である化合物（Ｉｌｒｂ ）に対して化合物（ｒ
Ｖ）を通常０．５〜２倍モル程度の割合で用い、前記非
プロトン性溶媒中で反応させれば良い。反応は、無触媒
下でも触媒存在下でも進行する。無触媒下で反応させた
場合には、生成物が塩酸塩等のハロゲン化水素付加塩と
して得られる。触媒を用いる場合には、通常例えばピリ
ジン、コリジン、トリエチルアミン等の塩基性触媒の存
在下に行なうのが好ましい。触媒を使用する場合の使用
量は、化合物（Ｉｌ［ｂ ）に対して通常０．５倍モル
以上程度、特に好ましくは１〜２倍モル程度とするのが
良い。反応は、前記不活性雰囲気中で行なうのが好まし
い。反応温度は、特に限定されないが、通常−３０〜５
０℃程度とするのが適当である。本反応は、通常１０分
〜２４時間程度で終了し、目的化合物（Ｉ）が生成する
。
生成した目的化合物ＣＩ）は、慣用の分離精製手段、例
えば再結晶、各種クロマトグラフィー等により容易に単
離できる。かくして、目的化合物（Ｉ）を高収率で得る
ことができる。
えば再結晶、各種クロマトグラフィー等により容易に単
離できる。かくして、目的化合物（Ｉ）を高収率で得る
ことができる。
本発明においては、上記で得られる目的化合物（Ｉ）を
、必要に応じて、常法によって、塩酸塩、硫酸塩、硝酸
塩等の酸付加塩にすることもできる。
、必要に応じて、常法によって、塩酸塩、硫酸塩、硝酸
塩等の酸付加塩にすることもできる。
上記反応工程式Ａにおける化合物（ＴＶ）は公知の化合
物であるが、化合物（１）は新規化合物である。化合物
（Ｉ［［）は、例えば下記反応工程式Ｂに従って製造で
きる。
物であるが、化合物（１）は新規化合物である。化合物
（Ｉ［［）は、例えば下記反応工程式Ｂに従って製造で
きる。
く反応工程式Ｂ〉
ＣＯＯＨ ＣＯＯＨ ＣＩ）（上記
一般式（Ｉｌｌｂ ）中、Ｘ′はハロゲン原子を示す。
一般式（Ｉｌｌｂ ）中、Ｘ′はハロゲン原子を示す。
〕
即ち、式（Ｖ）で表わされる公知化合物であるｐ−メト
キシフェニルピルビン酸をアセチル化して化合物（ＩＩ
Ｉ）の内Ｘが水酸基である化合物（Ｉａ ）を得る。次
いで、これをハロゲン化して化合物（ＩＩ［）の内Ｘが
ハロゲン原子である化合物ＣＩ［［ｂ ）を得る。
キシフェニルピルビン酸をアセチル化して化合物（ＩＩ
Ｉ）の内Ｘが水酸基である化合物（Ｉａ ）を得る。次
いで、これをハロゲン化して化合物（ＩＩ［）の内Ｘが
ハロゲン原子である化合物ＣＩ［［ｂ ）を得る。
上記アセチル化反応は、アセチル化剤として、例えば無
水酢酸、塩化アセチル等を用い、アセチル化剤をそのま
ま溶媒としても用いるか又は前記非プロトン性溶媒中で
、行なわれる。アセチル化剤の使用量は、化合物（Ｖ）
に対して通常０．５倍モル以上、好ましくは等倍モル以
上とするのが良い。反応は、無触媒下でも進行するが、
反応の際、例えばｐ−トルエンスルホン酸等の触媒を、
化合物（Ｖ）に対して０．１〜１０％程度使用するのが
好ましい。反応温度は、特に限定されないが、通常Ｏ〜
２００℃程度とすれば良い。反応時間は、通常３０分〜
２４時間程度である。
水酢酸、塩化アセチル等を用い、アセチル化剤をそのま
ま溶媒としても用いるか又は前記非プロトン性溶媒中で
、行なわれる。アセチル化剤の使用量は、化合物（Ｖ）
に対して通常０．５倍モル以上、好ましくは等倍モル以
上とするのが良い。反応は、無触媒下でも進行するが、
反応の際、例えばｐ−トルエンスルホン酸等の触媒を、
化合物（Ｖ）に対して０．１〜１０％程度使用するのが
好ましい。反応温度は、特に限定されないが、通常Ｏ〜
２００℃程度とすれば良い。反応時間は、通常３０分〜
２４時間程度である。
また、上記ハロゲン化反応は、ハロゲン化剤として、例
えばオキサリルクロライド、チオニルクロライド、オキ
シ塩化燐、オキサリルブロマイド等を用い、ハロゲン化
剤をそのまま溶媒としても用いるか又は前記非プロトン
性溶媒中で、行なわれる。ハロゲン化剤の使用量は、化
合物（Ｉａ ）に対して通常０．２倍モル程度以上、好
ましくは０．５倍モル以上とするのが良い。反応温度は
、特に限定されないが、通常Ｏ〜２００℃程度とすれば
良い。反応時間は、通常１０分〜１２時間程度である。
えばオキサリルクロライド、チオニルクロライド、オキ
シ塩化燐、オキサリルブロマイド等を用い、ハロゲン化
剤をそのまま溶媒としても用いるか又は前記非プロトン
性溶媒中で、行なわれる。ハロゲン化剤の使用量は、化
合物（Ｉａ ）に対して通常０．２倍モル程度以上、好
ましくは０．５倍モル以上とするのが良い。反応温度は
、特に限定されないが、通常Ｏ〜２００℃程度とすれば
良い。反応時間は、通常１０分〜１２時間程度である。
かくして、化合物（ＩＩ［）が得られ、これを前記反応
工程式Ａの原料とする。
工程式Ａの原料とする。
本発明のケイ皮酸アミド誘導体を閉環して化合物（ＩＩ
）とする反応は、例えば、適当な溶媒中、通常１〜１０
時市程度、通常５０〜１５０℃程度の温度に加熱するこ
とにより行なわれる１反応は、前記不活性雰囲気中で行
なうのが好ましい。溶媒としては、例えばクロロホルム
、ジクロルエタン、１．１．１−トリクロルエタン、１
．１．２−トリクロルエタン、テトラクロルエタン等の
ハロゲン化炭化水素、エタノール、プロパツール、ブタ
ノール等のアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素等を挙げることができ、これらの少
なくとも１種を用いる。
）とする反応は、例えば、適当な溶媒中、通常１〜１０
時市程度、通常５０〜１５０℃程度の温度に加熱するこ
とにより行なわれる１反応は、前記不活性雰囲気中で行
なうのが好ましい。溶媒としては、例えばクロロホルム
、ジクロルエタン、１．１．１−トリクロルエタン、１
．１．２−トリクロルエタン、テトラクロルエタン等の
ハロゲン化炭化水素、エタノール、プロパツール、ブタ
ノール等のアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素等を挙げることができ、これらの少
なくとも１種を用いる。
本発明によれば、化合物（ＩＩ）の製造中間体として有
用な新規化合物ＣＩ）及びその酸付加塩、並びにこれら
を簡便且つ高収率で得る方法が提供される。
用な新規化合物ＣＩ）及びその酸付加塩、並びにこれら
を簡便且つ高収率で得る方法が提供される。
ＬＬｆＬＬ工ヌ」口１
以下、参考例及び実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明する。
に説明する。
参考例１
ｐ−メトキシ−α−アセトキシケイ皮酸の合成ｐ−メト
キシフェニルピルビンＷＩ２Ｑを無水酢１１５−に懸濁
し、Ｄ−トルエンスルホン酸０．１ｇを加え、撹拌下２
時間還流した。反応終了後、冷却し析出する結晶を枦取
し、酢酸エチル洗浄後乾燥した。収量２ｇ （収率８２
．２％）、■、ｐ。
キシフェニルピルビンＷＩ２Ｑを無水酢１１５−に懸濁
し、Ｄ−トルエンスルホン酸０．１ｇを加え、撹拌下２
時間還流した。反応終了後、冷却し析出する結晶を枦取
し、酢酸エチル洗浄後乾燥した。収量２ｇ （収率８２
．２％）、■、ｐ。
１８０〜１８１℃、黄色結晶。
Ｉ Ｒ（ａｍ−’ ） ：
１７６５ （−Ｃ−Ｃ−０−Ｇｏ−）、１７１０（−Ｃ
ＯＯＨ）。
ＯＯＨ）。
元素分析値：ｃ＋ ２ Ｈ１２０ｓとして計算値（％）
Ｃ：６１．０１、Ｈ：５．１２、実験値（％）Ｃ：６１
．１１、Ｈ：５．１５゜参考例２ ｐ−メトキシ−α−７セトキシケイ皮酸クロライドの合
成 ｐ−メトキシ−α−７セトキシケイ皮酸３ｇをオキサリ
ルクロライド１０Ｉｉ２に加え、撹拌下４０分間還流し
た。反応終了後、反応液を減圧にて濃縮した。更に、残
存するオキサリルクロライドを除去するために塩化メチ
レンを加え、再度、減圧で濃縮した。残渣にｎ−ヘキサ
ンを加えて結晶化させ、結晶を枦取した。収量２．６０
（収率８０％） 、１．９．１２４〜１２７℃（分
解）、赤色針状結晶。
Ｃ：６１．０１、Ｈ：５．１２、実験値（％）Ｃ：６１
．１１、Ｈ：５．１５゜参考例２ ｐ−メトキシ−α−７セトキシケイ皮酸クロライドの合
成 ｐ−メトキシ−α−７セトキシケイ皮酸３ｇをオキサリ
ルクロライド１０Ｉｉ２に加え、撹拌下４０分間還流し
た。反応終了後、反応液を減圧にて濃縮した。更に、残
存するオキサリルクロライドを除去するために塩化メチ
レンを加え、再度、減圧で濃縮した。残渣にｎ−ヘキサ
ンを加えて結晶化させ、結晶を枦取した。収量２．６０
（収率８０％） 、１．９．１２４〜１２７℃（分
解）、赤色針状結晶。
ＩＲ（ｃ−４）：
１８１０ （−ＣＯＣｌ２ ）。
元素分析値：Ｃｔ ２ Ｈ＋ ｔ ｅ１２０Ａ トシテ
計算値（％）Ｃ：５６．５９、Ｈ：４．３５、実験値（
％）Ｃ：５６．７０、Ｈ：４．４０゜実施例１ Ｎ−（２−ジメチルアミンエチル）−Ｎ−（ｏ−メルカ
プトフェニル トキシケイ皮酸アミド及びその塩酸塩の合成ｐ−メトキ
シ−α−７セトキシケイ皮１１１． ２９とＮ．Ｎ’
−ジシクロへキシルカルボジイミド１、１ｇとをクロロ
ホルム３５−に溶解し、窒素気流中Ｎ瀉下で撹拌した。
計算値（％）Ｃ：５６．５９、Ｈ：４．３５、実験値（
％）Ｃ：５６．７０、Ｈ：４．４０゜実施例１ Ｎ−（２−ジメチルアミンエチル）−Ｎ−（ｏ−メルカ
プトフェニル トキシケイ皮酸アミド及びその塩酸塩の合成ｐ−メトキ
シ−α−７セトキシケイ皮１１１． ２９とＮ．Ｎ’
−ジシクロへキシルカルボジイミド１、１ｇとをクロロ
ホルム３５−に溶解し、窒素気流中Ｎ瀉下で撹拌した。
３時間後、これにり０ロホルム２０１１２に溶解した２
−Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）アミノチオフェノ
ール１．０ｇを窒素気流中撹拌下に室温で加えた。更に
、１２時間撹拌し、反応終了後、析出した沈澱を枦去し
クロロホルムで洗った。反応液を冷水で洗浄後、芒硝に
より乾燥し、減圧で濃縮℃てＮ−（２−ジメチルアミノ
エチル）−Ｎ−（０−メルカプトフェニル）−ｐ−メト
キシ−α−アセトキシケイ皮酸アミドを得た。収量１．
９０（収率９０．４％）、淡黄色粘稠性油状物。
−Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）アミノチオフェノ
ール１．０ｇを窒素気流中撹拌下に室温で加えた。更に
、１２時間撹拌し、反応終了後、析出した沈澱を枦去し
クロロホルムで洗った。反応液を冷水で洗浄後、芒硝に
より乾燥し、減圧で濃縮℃てＮ−（２−ジメチルアミノ
エチル）−Ｎ−（０−メルカプトフェニル）−ｐ−メト
キシ−α−アセトキシケイ皮酸アミドを得た。収量１．
９０（収率９０．４％）、淡黄色粘稠性油状物。
Ｉ Ｒ（ｃｍ−’ ） ：
１７６０ （−Ｃ−Ｃ−０−Ｃｏ−）、１６３５ （Ｃ
−Ｃ−Ｇｏ−Ｎ−Ｃ−Ｃ）。
−Ｃ−Ｇｏ−Ｎ−Ｃ−Ｃ）。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ ｓ 、δ）：
１．９０ （３Ｈ，Ｓ 、−ＣＯＯ比し）、２．２２
（６Ｈ，ｓ 、−Ｎ （ＣＬＬＬＬ＞、２．８５〜３．
５０ （５Ｈ，ｓ 。
（６Ｈ，ｓ 、−Ｎ （ＣＬＬＬＬ＞、２．８５〜３．
５０ （５Ｈ，ｓ 。
−ＣＬＬＣＬＬＮく及び−８Ｈ）、
３ 、７９ （３Ｈ，Ｓ 、 ＱＣＬＬ）、６．６５
〜８．１０（９Ｈ，ｍ。
〜８．１０（９Ｈ，ｍ。
芳香族性Ｈ及び−ＣＬ−Ｃ＜ ）。
これをエタノールに溶解させ、塩酸・エタノールを加え
放置して塩酸塩を析出させた。これを枦取、乾燥した。
放置して塩酸塩を析出させた。これを枦取、乾燥した。
収量１．９ａ（収率７８％）、吸湿性の黄褐色固体。
ＩＲ（ａｍ″）：
２６００〜２３００ （ＮＨ４）、
１７５５．１６７０ （Ｃ−０）。
ＮＭＲ（ＣＨａ ０Ｈ−ｄ 、、δ）：２．００ （３
Ｈ，ｓ 、−ＣＯＣ比Ｌ）、２．９３ （６Ｈ，Ｓ 、
−Ｎ （ＣＬＬＬＬ）、３．１８〜３．８３ （４Ｈ，
ｍ 。
Ｈ，ｓ 、−ＣＯＣ比Ｌ）、２．９３ （６Ｈ，Ｓ 、
−Ｎ （ＣＬＬＬＬ）、３．１８〜３．８３ （４Ｈ，
ｍ 。
−ＣＬＬＣＬＬＮく）、
３．７９ （３Ｈ，Ｓ 、 ０ＣＬＬ）、６ 、 ４
８〜７． ７５ （９Ｈ，鵬 。
８〜７． ７５ （９Ｈ，鵬 。
芳香族性Ｈ及び−〇Ｈ−Ｃ＜）。
実施例２
Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル） −Ｎ−（ｏ −メ
ルカプトフェニル）−ｐ−メトキシ−α−７セトキシケ
イ皮酸アミド・塩酸塩の合成 ｐ−メトキシ−α−アセトキシケイ皮酸クロライド２ｇ
を１．１．２−ト）’）ＣＪ）Ｌｔエタン２０ｗ１ｔに
溶解した。これを窒素ガス気流下で１．１．２−トリク
ロルエタン４０−に１１解した２−Ｎ−（２−ジメチル
アミノエチル）アミノチオフェノール１．５５ａ中に撹
拌下、−１０℃以下に保って加えた。更に一１０’Ｃ以
下に保ちながら３時間撹拌した。その後、空温下で１２
時間撹拌した。
ルカプトフェニル）−ｐ−メトキシ−α−７セトキシケ
イ皮酸アミド・塩酸塩の合成 ｐ−メトキシ−α−アセトキシケイ皮酸クロライド２ｇ
を１．１．２−ト）’）ＣＪ）Ｌｔエタン２０ｗ１ｔに
溶解した。これを窒素ガス気流下で１．１．２−トリク
ロルエタン４０−に１１解した２−Ｎ−（２−ジメチル
アミノエチル）アミノチオフェノール１．５５ａ中に撹
拌下、−１０℃以下に保って加えた。更に一１０’Ｃ以
下に保ちながら３時間撹拌した。その後、空温下で１２
時間撹拌した。
反応終了後、反応液中に析出した結晶を枦取し、エーテ
ル洗浄後、イソプロピルアルコール・エーテルから再結
晶した。収量３ｇ （収率８７％）、吸湿性の黄褐色固
体。
ル洗浄後、イソプロピルアルコール・エーテルから再結
晶した。収量３ｇ （収率８７％）、吸湿性の黄褐色固
体。
このもののＩＲ及びＮＭＲｇ５データーは、実施。
例１で得たものと一致した。
参考例３
２−（４−メトキシフェニル）−３−７セトキシー５−
（２−ジメチルアミノエチル）−２，３−ジヒドロ−
１，５−ベンゾチアゼピン−４（５Ｈ）−オン・塩酸塩
の合成 Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル） −Ｎ＝（０−メル
カプトフェニル）−ｐ−メトキシ−α−７セトキシケイ
皮酸アミド・塩酸塩１．９ｇに１゜１．２−トリクロル
エタン２５ｍを加え、窒素気流中、撹拌下６時間還流し
た。その後、反応液を減圧下に濃縮した。この濃縮残！
ｌ［（粘稠性固体）をエタノールから再結晶して２−（
４−メトキシフェニル）−３−アセトキシ−５−（２−
ジメチルアミノエチル）−２，３−ジヒドロ−１，５−
ベンゾチアゼピン−４（５Ｈ）−オン・塩酸塩を得た。
（２−ジメチルアミノエチル）−２，３−ジヒドロ−
１，５−ベンゾチアゼピン−４（５Ｈ）−オン・塩酸塩
の合成 Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル） −Ｎ＝（０−メル
カプトフェニル）−ｐ−メトキシ−α−７セトキシケイ
皮酸アミド・塩酸塩１．９ｇに１゜１．２−トリクロル
エタン２５ｍを加え、窒素気流中、撹拌下６時間還流し
た。その後、反応液を減圧下に濃縮した。この濃縮残！
ｌ［（粘稠性固体）をエタノールから再結晶して２−（
４−メトキシフェニル）−３−アセトキシ−５−（２−
ジメチルアミノエチル）−２，３−ジヒドロ−１，５−
ベンゾチアゼピン−４（５Ｈ）−オン・塩酸塩を得た。
収量１．５０（収率７８．９％）、白色結晶、■、ｐ、
１８５〜１８８℃。
１８５〜１８８℃。
ＩＲ（ＣＩ″′）：
１７４０．１２１３ （ＣＯＣＨ３）、１６８０ （−
Ｇｏ−Ｎ＜）、 １２５０．１０２８ （Ｃ−８）。
Ｇｏ−Ｎ＜）、 １２５０．１０２８ （Ｃ−８）。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ ８ 、δ）：
１．８９ （３Ｈ，ｓ 、 Ｃ０ＣＬＬ）、２、７
０〜３．０５ （６Ｈ，ｂｒｏａｄ 。
０〜３．０５ （６Ｈ，ｂｒｏａｄ 。
−Ｎ（ＣＬＬＬＬ）、
３．１０〜３．６３ （２Ｈ，ｍ 。
−〇 ＨＮ ＜ ）、
３．８２（３Ｈ，ｓ、 ０ＣＬＬ）、４．１０〜４
．７５ （２Ｈ，ｍ 。
．７５ （２Ｈ，ｍ 。
−Ｃ旦ニー−）、
４．９９ （１Ｈ，ｄ 、Ｊ−７Ｈ２。
−８−ＯＨ＜）、
５．１５ （１Ｈ，ｄ 、Ｊ−７Ｈｚ 。
＞ＣＨ−ＯＣＯＣＨａ ） 、
６．７０〜７．８２ （８Ｈ，■ 。
芳香族性Ｈ）。
（以 上）
Claims (2)
- （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるＮ−（２−ジメチルアミノエチル）−Ｎ−
（ｏ−メルカプトフェニル）−ｐ−メトキシ−α−アセ
トキシケイ皮酸アミド及びその酸付加塩であるケイ皮酸
アミド誘導体。 - （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。〕で表わ
される化合物と式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる２−Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）ア
ミノチオフェノールとを、脱水縮合反応又は脱ハロゲン
化水素反応に付して式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるＮ−（２−ジメチルアミノエチル）−Ｎ−
（ｏ−メルカプトフェニル）−ｐ−メトキシ−α−アセ
トキシケイ皮酸アミドを得、更に必要に応じて酸付加塩
とすることを特徴とするケイ皮酸アミド誘導体の製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP650385A JPS61165363A (ja) | 1985-01-16 | 1985-01-16 | ケイ皮酸アミド誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP650385A JPS61165363A (ja) | 1985-01-16 | 1985-01-16 | ケイ皮酸アミド誘導体及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61165363A true JPS61165363A (ja) | 1986-07-26 |
Family
ID=11640236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP650385A Pending JPS61165363A (ja) | 1985-01-16 | 1985-01-16 | ケイ皮酸アミド誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61165363A (ja) |
-
1985
- 1985-01-16 JP JP650385A patent/JPS61165363A/ja active Pending
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