JPS61130946A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS61130946A JPS61130946A JP59252630A JP25263084A JPS61130946A JP S61130946 A JPS61130946 A JP S61130946A JP 59252630 A JP59252630 A JP 59252630A JP 25263084 A JP25263084 A JP 25263084A JP S61130946 A JPS61130946 A JP S61130946A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- parts
- unsatd
- type epoxy
- resin composition
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは印刷配
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
(従来の技術)
従来、印刷配線板業界において、ソルダマスク、化学め
っき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有する感光
性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主な目的
は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、はんだブ
リッジ等を防ぐこと、裸の銅導体の腐食を防止すること
、および長期にわたって導体間の電気絶縁性を保持する
ことである。通常ソルダマスクとしては、エポキシ樹脂
、アミノブラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする
もので(印刷マスク)が用いられる。
っき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有する感光
性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主な目的
は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、はんだブ
リッジ等を防ぐこと、裸の銅導体の腐食を防止すること
、および長期にわたって導体間の電気絶縁性を保持する
ことである。通常ソルダマスクとしては、エポキシ樹脂
、アミノブラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする
もので(印刷マスク)が用いられる。
しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり、また導
体間の電気絶縁性の要求も厳しくなり、それに用いるソ
ルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求される
ようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処できな
くなっている。
体間の電気絶縁性の要求も厳しくなり、それに用いるソ
ルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求される
ようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処できな
くなっている。
そこで写真法(像状露光に続く現像により画像を形成)
で厚膜(導体上25μm)で、かつ寸法精度の優れた高
信頼性のソルダマスクを形成する感光性樹脂組成物の出
現が望まれている。
で厚膜(導体上25μm)で、かつ寸法精度の優れた高
信頼性のソルダマスクを形成する感光性樹脂組成物の出
現が望まれている。
従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物としては、
(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノマを主成分
とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018号公
報、特開昭54−1018号公報等)、(2)光反応性
が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤を
主成分とする感光性樹脂組成物(特開昭52−3799
6号公報、特開昭58−62636号公報等)等が知ら
れている。
(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノマを主成分
とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018号公
報、特開昭54−1018号公報等)、(2)光反応性
が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤を
主成分とする感光性樹脂組成物(特開昭52−3799
6号公報、特開昭58−62636号公報等)等が知ら
れている。
しかしながら前記(1)の感光性樹脂組成物は、通常の
エツチングおよびめっき用フィルム状感゛光材料(例え
ばデュポン社製 商品名リストン、日立化成工業(株)
製、商品名フォチック等)に使用されている、難燃性の
1.1.1−1−リクロルエタンで現像可能であり、高
解像度のソルダマスクを形成することはできるが、この
ような感光性樹脂組成物はフィルム性付与のためアクリ
ル系ポリマを多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱
性が充分でないという欠点がある。
エツチングおよびめっき用フィルム状感゛光材料(例え
ばデュポン社製 商品名リストン、日立化成工業(株)
製、商品名フォチック等)に使用されている、難燃性の
1.1.1−1−リクロルエタンで現像可能であり、高
解像度のソルダマスクを形成することはできるが、この
ような感光性樹脂組成物はフィルム性付与のためアクリ
ル系ポリマを多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱
性が充分でないという欠点がある。
一方、前記(2)の感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂
をベースとしており、硬化被膜の耐熱性には優れている
が、1.1.1−)リクロルエタン等の難燃性有機溶剤
に不溶性であるため、現像液として、シクロヘキサノン
等の可燃性有機溶剤を使用する必要があり、安全上好ま
しくないという欠点がある。
をベースとしており、硬化被膜の耐熱性には優れている
が、1.1.1−)リクロルエタン等の難燃性有機溶剤
に不溶性であるため、現像液として、シクロヘキサノン
等の可燃性有機溶剤を使用する必要があり、安全上好ま
しくないという欠点がある。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去し、1.1
.1−1−リクロルエタン等の難燃性現像液により現像
でき、かつ解像度および耐熱性にも優れた高信頼性ソル
ダマスクを形成することのできる感光性樹脂組成物を提
供することにある。 l(問題点を解決
するための手段) 本発明は(a)オルソクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロ
ゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群
から選ばれた少なくとも1種のノボラック型エポキシ樹
脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比
が0.2〜1の範囲で付加反応させて得られる不飽和化
合物の2級水酸基に、イソシアナートエチルメタクリレ
ートを、イソシアナート当量/水酸基当量比が0.2〜
1の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化合物、
(b)ガラス転移温度が約40〜150℃の線状高分子
化合物並びに(c)活性光により遊離ラジカルを生成す
る増感剤および(または)増感剤系を含有してなる感光
性樹脂組成物に関する。
.1−1−リクロルエタン等の難燃性現像液により現像
でき、かつ解像度および耐熱性にも優れた高信頼性ソル
ダマスクを形成することのできる感光性樹脂組成物を提
供することにある。 l(問題点を解決
するための手段) 本発明は(a)オルソクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロ
ゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群
から選ばれた少なくとも1種のノボラック型エポキシ樹
脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比
が0.2〜1の範囲で付加反応させて得られる不飽和化
合物の2級水酸基に、イソシアナートエチルメタクリレ
ートを、イソシアナート当量/水酸基当量比が0.2〜
1の範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化合物、
(b)ガラス転移温度が約40〜150℃の線状高分子
化合物並びに(c)活性光により遊離ラジカルを生成す
る増感剤および(または)増感剤系を含有してなる感光
性樹脂組成物に関する。
本発明の感光性樹脂組成物は必須成分(a)として、オ
ルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少な
くとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和カル
ボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0.2〜lの範
囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基
に、イソシアナートエチルメタクリレートを、イソシア
ナート当量/水酸基当量比が0.2〜1の範囲で反応さ
せて得られる光重合不飽和化合物を含有する。
ルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少な
くとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和カル
ボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0.2〜lの範
囲で付加反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基
に、イソシアナートエチルメタクリレートを、イソシア
ナート当量/水酸基当量比が0.2〜1の範囲で反応さ
せて得られる光重合不飽和化合物を含有する。
本発明に用いられるノボラック型エポキシ樹脂は、例え
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて得られ
るノボランク型樹脂のフェノール性水酸基にアルカリの
存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られるもの
で、商業的にも入手可能である。
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて得られ
るノボランク型樹脂のフェノール性水酸基にアルカリの
存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られるもの
で、商業的にも入手可能である。
オルソクレゾールノボラック型エポ・キシ樹脂としては
、例えばチバ・ガイギー社製アラルダイトECN129
9(軟化点99℃、エポキシ当量230) 、ECN1
280 (軟化点80℃、エポキシ当量230) 、E
CN1273 (軟化点73℃、エポキシ当量230)
、日本化薬(株)製EQCN104(軟化点90〜10
0℃、エポキシ当量225〜245) 、ECN123
(軟化点80〜90℃、エポキシ当量215〜235
) 、ECN127 215〜235) 、EOCNIOI (軟化点65〜
69℃、エポキシ当量205〜225)等が挙げられる
。
、例えばチバ・ガイギー社製アラルダイトECN129
9(軟化点99℃、エポキシ当量230) 、ECN1
280 (軟化点80℃、エポキシ当量230) 、E
CN1273 (軟化点73℃、エポキシ当量230)
、日本化薬(株)製EQCN104(軟化点90〜10
0℃、エポキシ当量225〜245) 、ECN123
(軟化点80〜90℃、エポキシ当量215〜235
) 、ECN127 215〜235) 、EOCNIOI (軟化点65〜
69℃、エポキシ当量205〜225)等が挙げられる
。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば
シェル社製エピコー)154 (、エポキシ当量176
〜181)、ダウケミカル社製DEN431 (エポキ
シ当量172〜179) 、DEN438 (エポキシ
当量175〜182)、東部化成(株)製YDPN−6
38(エポキシ当量170〜I 90) 、YDPN−
601(エポキシ当jt180〜220) 、YDPN
−602(エポキシ当量180〜220)等が挙げられ
る。
シェル社製エピコー)154 (、エポキシ当量176
〜181)、ダウケミカル社製DEN431 (エポキ
シ当量172〜179) 、DEN438 (エポキシ
当量175〜182)、東部化成(株)製YDPN−6
38(エポキシ当量170〜I 90) 、YDPN−
601(エポキシ当jt180〜220) 、YDPN
−602(エポキシ当量180〜220)等が挙げられ
る。
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は、例えば日本化薬(株)製BREN (エポキシ当量
270〜300、臭素含有量35〜37%、軟化点80
〜90℃)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂等が挙げられる。
は、例えば日本化薬(株)製BREN (エポキシ当量
270〜300、臭素含有量35〜37%、軟化点80
〜90℃)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂等が挙げられる。
不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸
、β−フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
〜シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用いられる。
、β−フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
〜シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用いられる。
本発明において、これらのノボラック型エポキシ樹脂と
不飽和カルボン酸との付加反応は式(■)に示すようで
あり、酸当量/エポキシ当量比が0、2〜1の範囲で常
法により行なわれる。酸当量/エポキシ当量比が0.2
未満ではイメージ露光後の現像処理により光硬化被膜が
膨潤しやすい。酸当量/エポキシ当量比が1を超える場
合には、密着性、耐熱性等が低下する。
不飽和カルボン酸との付加反応は式(■)に示すようで
あり、酸当量/エポキシ当量比が0、2〜1の範囲で常
法により行なわれる。酸当量/エポキシ当量比が0.2
未満ではイメージ露光後の現像処理により光硬化被膜が
膨潤しやすい。酸当量/エポキシ当量比が1を超える場
合には、密着性、耐熱性等が低下する。
例えば前記ノボラック型エポキシ樹脂をメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、シクロヘキサノン等の不活性有機溶剤に溶
解し、触媒としてトリエチルアミン、トリーn−ブチル
アミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の3級アミン
、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジル
トリエチルアンモニウム等の4級アンモニウム塩を、ま
た重合禁止剤としてハイドロキノン、p−メトキシフェ
ノール等を用い、70〜110℃で前記不飽和カルボン
酸と攪拌反応させることにより、不飽和化合物が得られ
る。
トン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、シクロヘキサノン等の不活性有機溶剤に溶
解し、触媒としてトリエチルアミン、トリーn−ブチル
アミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の3級アミン
、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジル
トリエチルアンモニウム等の4級アンモニウム塩を、ま
た重合禁止剤としてハイドロキノン、p−メトキシフェ
ノール等を用い、70〜110℃で前記不飽和カルボン
酸と攪拌反応させることにより、不飽和化合物が得られ
る。
上記のようにノボラック型エポキシ樹脂を不飽和カルボ
ン酸とを付加反応させて得られる不飽和化合物の2級水
酸基に対するイソシアナートエチルメタクリレートの反
応は式(II)に示すようでありイソシアナート当量/
水酸基当量比が0.2〜1の範囲で常法により行なわれ
る。イソシアナート当量/水酸基当量比が0.2未満の
場合には、1゜1.1−1−リクロルエタン等の#i燃
性有機溶剤による現像が困囃となり、また光硬化性も低
下する。
ン酸とを付加反応させて得られる不飽和化合物の2級水
酸基に対するイソシアナートエチルメタクリレートの反
応は式(II)に示すようでありイソシアナート当量/
水酸基当量比が0.2〜1の範囲で常法により行なわれ
る。イソシアナート当量/水酸基当量比が0.2未満の
場合には、1゜1.1−1−リクロルエタン等の#i燃
性有機溶剤による現像が困囃となり、また光硬化性も低
下する。
インシアナート当f/水酸基当量比が1を超える場合に
は、保存安定性、耐熱性等が低下する。イソシアナート
エチルメタクリレートとしては、ヒ11えばダウケミカ
ル社製のものが用いられる。
は、保存安定性、耐熱性等が低下する。イソシアナート
エチルメタクリレートとしては、ヒ11えばダウケミカ
ル社製のものが用いられる。
例えば前記のノボラック型エポキシ樹脂と不鉋、和カル
ボン酸との付加反応を行ない、次いでこの生成物にジブ
チルチンジラウレート、ジブチルチンジ2エチルヘキソ
エート等のウレタン化触媒を添加し、所定量のイソシア
ナートエチルメタクリレートを50〜110℃で攪拌反
応させることにより、光重合性不飽和化合物が得られる
。このような反応条件下ではウレタン結合とエポキシ基
との反応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止するこ
とができ、その結果ゲル状物を生成させることなく、光
重合性不飽和化合物を得ることができる。
ボン酸との付加反応を行ない、次いでこの生成物にジブ
チルチンジラウレート、ジブチルチンジ2エチルヘキソ
エート等のウレタン化触媒を添加し、所定量のイソシア
ナートエチルメタクリレートを50〜110℃で攪拌反
応させることにより、光重合性不飽和化合物が得られる
。このような反応条件下ではウレタン結合とエポキシ基
との反応、不飽和結合の熱重合等の副反応を防止するこ
とができ、その結果ゲル状物を生成させることなく、光
重合性不飽和化合物を得ることができる。
本発明において、特に好ましい光重合性不飽和化合物と
しては、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂/
アクリル酸/イソシアナートエチルメタクリレート(酸
当量/エポキシ当量比0.2〜1、イソシアナート当量
/水酸基当量比0.2〜1)系反応物、オルソクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂/メタクリル酸/イソシア
ナートエチルメタクリレート(酸当量/エポキシ当量比
0.2〜1\イソシアナート当量/水酸基当量比0.2
〜1)系反応物等が挙げられる。
しては、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂/
アクリル酸/イソシアナートエチルメタクリレート(酸
当量/エポキシ当量比0.2〜1、イソシアナート当量
/水酸基当量比0.2〜1)系反応物、オルソクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂/メタクリル酸/イソシア
ナートエチルメタクリレート(酸当量/エポキシ当量比
0.2〜1\イソシアナート当量/水酸基当量比0.2
〜1)系反応物等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、ガラス転移温度が約40
〜150℃の線状高分子化合物を必須成分(b)として
含有する。この高分子化合′物は既に公知のものが用い
られる。
〜150℃の線状高分子化合物を必須成分(b)として
含有する。この高分子化合′物は既に公知のものが用い
られる。
ガラス転移温度が約40℃未満では形成されるソルダマ
スクの耐熱性が低く、ガラス転移温度が約゛150℃を
繍えると前記光重合性不飽和化合物との相溶性が悪くな
り、゛支持体フィルムまたは基板主に感光性樹脂組成物
の層を形成できなくなる。
スクの耐熱性が低く、ガラス転移温度が約゛150℃を
繍えると前記光重合性不飽和化合物との相溶性が悪くな
り、゛支持体フィルムまたは基板主に感光性樹脂組成物
の層を形成できなくなる。
前記線状高分子化合物としては、前記光重合性不飽和化
合物とめ相溶性、印刷配線基板と感光性樹脂組成物の層
との密着性の点で、ビニル共重合線状高分子化合物が好
ましい、線状高分子化合物の置台成分として各種のビニ
ル単量体、例えばメチルメタクリレート、ブチルメタク
リレート、エチルアクリレート、スチレン、α−メチル
スチレン、ビニルトルエン、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタク
リル酸、グリシジルメタクリレート、t−ブチルアミノ
エチルメタクリレート、2゜3、−ジブロモプロピルメ
タクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、モノブロモフェニルアクリレート、モノ
ブロモフェニルメタアクリレート、ジブロモフェニルア
クリレート、ジブロモフェニルメタクリレート、トリブ
ロモフェニルアクリレート、トリブロモフェニルメタク
リレート、トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
トリブロモフェノキシエチルアクリレートアクリルアミ
ド、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレート、アクリルアミド、アク
リロニトリル等を用いることができる。
合物とめ相溶性、印刷配線基板と感光性樹脂組成物の層
との密着性の点で、ビニル共重合線状高分子化合物が好
ましい、線状高分子化合物の置台成分として各種のビニ
ル単量体、例えばメチルメタクリレート、ブチルメタク
リレート、エチルアクリレート、スチレン、α−メチル
スチレン、ビニルトルエン、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタク
リル酸、グリシジルメタクリレート、t−ブチルアミノ
エチルメタクリレート、2゜3、−ジブロモプロピルメ
タクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、モノブロモフェニルアクリレート、モノ
ブロモフェニルメタアクリレート、ジブロモフェニルア
クリレート、ジブロモフェニルメタクリレート、トリブ
ロモフェニルアクリレート、トリブロモフェニルメタク
リレート、トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
トリブロモフェノキシエチルアクリレートアクリルアミ
ド、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレート、アクリルアミド、アク
リロニトリル等を用いることができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、活性光により遊離ラジカ
ルを生成する増感剤および(または)増感剤系を必須成
分(c)として含有する。
ルを生成する増感剤および(または)増感剤系を必須成
分(c)として含有する。
増感剤としては、置換または非置換の多核キノン類、例
えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−ベ
ンズアントラキノン、2゜3−ジフェニルアントラキノ
ン等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、
ベンゾイン、ビバロン等のα−ケタルドニルアルコール
類およびエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェ
トキシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、4.41−
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン
類、2メチルチオキサントン、2.4−ジエチルロチ1
キ号ントン、2ニクロルチオキサントン、2−イソプロ
ピルチオキサントン、2−エチルチオキサントン等のチ
オキサントン類が用いられ、これらi単独でも組合わせ
て使用してもよい。
えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−ベ
ンズアントラキノン、2゜3−ジフェニルアントラキノ
ン等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、
ベンゾイン、ビバロン等のα−ケタルドニルアルコール
類およびエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイ
ン類、例えばα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェ
トキシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、4.41−
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン
類、2メチルチオキサントン、2.4−ジエチルロチ1
キ号ントン、2ニクロルチオキサントン、2−イソプロ
ピルチオキサントン、2−エチルチオキサントン等のチ
オキサントン類が用いられ、これらi単独でも組合わせ
て使用してもよい。
増感剤系としては、例えば2.4.5−1−リアリ、ル
イミダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール
、ロイコクリスタルバイオレット、トリス(4−ジエチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組合わせ
が用いられる。またそれ自体で光開始性はないが、前記
物質と組合わせて用いることにより全体として光開始性
能のより良好な増感剤系となるような添加剤、例えば、
ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の3級
アミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安息
香酸イソアミル、N−メチルジエタールアミン、とスエ
チルアミノベンゾフェノン等を用いることもできる。
イミダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール
、ロイコクリスタルバイオレット、トリス(4−ジエチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組合わせ
が用いられる。またそれ自体で光開始性はないが、前記
物質と組合わせて用いることにより全体として光開始性
能のより良好な増感剤系となるような添加剤、例えば、
ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の3級
アミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安息
香酸イソアミル、N−メチルジエタールアミン、とスエ
チルアミノベンゾフェノン等を用いることもできる。
本発明の感光性樹脂組成物は、(a)上記の光重合性不
飽和化合物100重量部に対して1.(b)上記の線状
高分子化合物を5〜400重量部並びに(c)上記の増
感剤および(または)増感剤系を0.1〜30重量部の
範囲で用いることが、解像度および半田耐熱性に優れた
ソルダマスクを形成する上で好ましい。更に他の光重合
性化合物を含有していてもよい。他の光重合性化合物と
じては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチ
ルへキサメチレンジイソシアチート/2−ヒドロキシエ
チルアクリレートN4モル比)反応物等が挙げられる。
飽和化合物100重量部に対して1.(b)上記の線状
高分子化合物を5〜400重量部並びに(c)上記の増
感剤および(または)増感剤系を0.1〜30重量部の
範囲で用いることが、解像度および半田耐熱性に優れた
ソルダマスクを形成する上で好ましい。更に他の光重合
性化合物を含有していてもよい。他の光重合性化合物と
じては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチ
ルへキサメチレンジイソシアチート/2−ヒドロキシエ
チルアクリレートN4モル比)反応物等が挙げられる。
また特開昭53−56018号公報に示される光重合性
化合物を用いることもできる。しかしこれら他の光重合
性化合物の含有量は、耐熱性保持上、(a)光重合性不
飽和化合物および(b)線状高分子化合物の合計量に対
して10重量%以下であることが好ましい。
化合物を用いることもできる。しかしこれら他の光重合
性化合物の含有量は、耐熱性保持上、(a)光重合性不
飽和化合物および(b)線状高分子化合物の合計量に対
して10重量%以下であることが好ましい。
更に本発明の感光性樹脂組成物は他の副次的成分を含有
していてもよい。副次的成分としては、熱重合防止剤、
染料、顔料、フィラー、塗工性向上剤、消泡剤、難燃剤
、難燃助剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化
剤等が挙げられる。
していてもよい。副次的成分としては、熱重合防止剤、
染料、顔料、フィラー、塗工性向上剤、消泡剤、難燃剤
、難燃助剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化
剤等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物を用いて感光層を形成するに
際しては、例えば、感光性樹脂組成物をメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、シクロヘキサノン等の有機溶剤に溶解させ
、この溶液をディ・ノブコート法、フローコート法、ロ
ールコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加工
保護すべき基板板上に直接塗布し、溶剤を乾燥させるこ
とにより、厚さ10〜150μmの感光層を容易に形成
することができる。
際しては、例えば、感光性樹脂組成物をメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、シクロヘキサノン等の有機溶剤に溶解させ
、この溶液をディ・ノブコート法、フローコート法、ロ
ールコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加工
保護すべき基板板上に直接塗布し、溶剤を乾燥させるこ
とにより、厚さ10〜150μmの感光層を容易に形成
することができる。
また前記溶液を、例えばポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリイミドフィルム等の支持体フィルム上に、
ナイフコート法、ロールコート法等により塗布し、乾燥
して得られる感光性エレメントを熱ロールを用いて基板
上に加熱加圧積層して感光層を形成することもできる。
ィルム、ポリイミドフィルム等の支持体フィルム上に、
ナイフコート法、ロールコート法等により塗布し、乾燥
して得られる感光性エレメントを熱ロールを用いて基板
上に加熱加圧積層して感光層を形成することもできる。
この際基板が導体配線ラインの形成された印刷配線板等
の10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き込
みを防ぐため、200mHg以下の真空下で積層するこ
とが好ましい。このための装置としては例えば特公昭5
5−13341号公報に記載される積層装置が用いられ
る。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用いる場合
には、露光時に支持体フィルムを剥離する必要がある。
の10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き込
みを防ぐため、200mHg以下の真空下で積層するこ
とが好ましい。このための装置としては例えば特公昭5
5−13341号公報に記載される積層装置が用いられ
る。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用いる場合
には、露光時に支持体フィルムを剥離する必要がある。
こうして形成された感光層の露光および現像は常法によ
り行なわれる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
は支持体フィルムを介し、ネガマスクを通して、像的に
露光する。露光後支持体フィルムが残っている場合は支
持体フィルムを剥離した後、現像する。
り行なわれる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
は支持体フィルムを介し、ネガマスクを通して、像的に
露光する。露光後支持体フィルムが残っている場合は支
持体フィルムを剥離した後、現像する。
現像処理に用いられる現像液は露光部にダメージを与え
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない。現像液としては、例えば1
,1.1−トリクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、
ジエチレングリコールモツプチルエーテル/炭酸ナトリ
ウム水溶液等の有機溶剤/希アルカリ水溶液混合液等が
用いられる。また1、1.1−)リクロルエタンを主成
分とする洗浄剤、例えばスリーワンEX(東亜合成化学
(株)製)を使用することもできる。
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない。現像液としては、例えば1
,1.1−トリクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、
ジエチレングリコールモツプチルエーテル/炭酸ナトリ
ウム水溶液等の有機溶剤/希アルカリ水溶液混合液等が
用いられる。また1、1.1−)リクロルエタンを主成
分とする洗浄剤、例えばスリーワンEX(東亜合成化学
(株)製)を使用することもできる。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は、通常のエツチ
ング、めっき等のための耐食膜であるが、現像後に活性
光の露光および80〜200 ’Cでの加熱処理を行な
うことにより、更に優れた特性を有する保護膜が得られ
る。これらの活性光の露光および加熱処理の順序はどち
らが先でもよい。
ング、めっき等のための耐食膜であるが、現像後に活性
光の露光および80〜200 ’Cでの加熱処理を行な
うことにより、更に優れた特性を有する保護膜が得られ
る。これらの活性光の露光および加熱処理の順序はどち
らが先でもよい。
(発明の効果)
本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保護被膜は
、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピルアル
コール、トルエン等の有tMiN剤に充分耐え、酸性水
溶液またはアルカ+J水溶液にも耐える。更に耐熱性、
機械的特性にも優れているので、ソルダマスク等の永久
的な保護膜として使用することができる。更に本発明の
感光性樹脂組成物を用いて形成される被膜は優れた化学
的、物理的特性を有し、このため多層印刷配線板の眉間
絶縁層、゛感光性接着側、塗料、プラスチックレリーフ
、印刷版材料、金属精密加工材料等にも用いることがで
きる。
、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピルアル
コール、トルエン等の有tMiN剤に充分耐え、酸性水
溶液またはアルカ+J水溶液にも耐える。更に耐熱性、
機械的特性にも優れているので、ソルダマスク等の永久
的な保護膜として使用することができる。更に本発明の
感光性樹脂組成物を用いて形成される被膜は優れた化学
的、物理的特性を有し、このため多層印刷配線板の眉間
絶縁層、゛感光性接着側、塗料、プラスチックレリーフ
、印刷版材料、金属精密加工材料等にも用いることがで
きる。
また、本発明の感光性樹脂組成物を用いることにより、
1,1.1−トリクロルエタン等の難燃性現像液により
現像でき、解像度および耐熱性に優れたソルダマスクを
形成することができる。しかも写真法により厚膜のソル
ダマスクを形成することも可能である。
1,1.1−トリクロルエタン等の難燃性現像液により
現像でき、解像度および耐熱性に優れたソルダマスクを
形成することができる。しかも写真法により厚膜のソル
ダマスクを形成することも可能である。
(実施例)
実施例中の部は重量部を意味する。
実施例1
(a)光重合性不飽和化合物の合成
A1オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、EO
CN102 (エポキシ当量2301095部 メチルエチルケトン 800部B1アクリル
酸 343部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルエチル
ケトン 100部C、イソシアナートエチル
メタクリレート737部 ジブチルチンジラウレート 0.5部メチルエチ
ルケトン 100部D、メタノール
10部温度計、攪拌装置、冷却管および
滴下器の付いた加熱および冷却可能な51の反応器に、
前記Aを加え、攪拌しながら60℃に昇温し、均一に熔
解させた0反応温度を60℃に保ちながら、これに約1
時間かけてBを滴下した。B滴下後、2時間かけて80
℃に昇温し、80℃で約20時間攪拌を続は反応系の酸
価を1以下にした。
CN102 (エポキシ当量2301095部 メチルエチルケトン 800部B1アクリル
酸 343部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルエチル
ケトン 100部C、イソシアナートエチル
メタクリレート737部 ジブチルチンジラウレート 0.5部メチルエチ
ルケトン 100部D、メタノール
10部温度計、攪拌装置、冷却管および
滴下器の付いた加熱および冷却可能な51の反応器に、
前記Aを加え、攪拌しながら60℃に昇温し、均一に熔
解させた0反応温度を60℃に保ちながら、これに約1
時間かけてBを滴下した。B滴下後、2時間かけて80
℃に昇温し、80℃で約20時間攪拌を続は反応系の酸
価を1以下にした。
次いで温度を60℃に低下させ、反応温度を60℃に保
ちながら約3時間かけて均一にCを滴下した。 CWI
l下後、約5時間かけて徐々に反応温度を80℃まで昇
温した後、温度を60℃に低下させ、Dを加え、約1時
間攪拌を続けた。こうして不揮発分69%のオルソクレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/イソシ
アナートエチ lルメタクリレート(酸当量/
エポキシ当量比−1、インシアナート当量/水酸基当量
比−1)系光重合性不飽和化合物の溶液(1)を得た。
ちながら約3時間かけて均一にCを滴下した。 CWI
l下後、約5時間かけて徐々に反応温度を80℃まで昇
温した後、温度を60℃に低下させ、Dを加え、約1時
間攪拌を続けた。こうして不揮発分69%のオルソクレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/イソシ
アナートエチ lルメタクリレート(酸当量/
エポキシ当量比−1、インシアナート当量/水酸基当量
比−1)系光重合性不飽和化合物の溶液(1)を得た。
(b)感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(I)7
2部(不揮発分50部)、スチレン/メチルメタクリレ
ート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(30/6
3/7重量比)共重合体、(分子量約15万、ガラス転
移温度100℃)20部、2.4−ジエチルチオキサン
トン1部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル2部およ
びビクトリアビニアブルー0.01部を混合して本発明
の感光性樹脂組成物の溶液、を調製した。
2部(不揮発分50部)、スチレン/メチルメタクリレ
ート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(30/6
3/7重量比)共重合体、(分子量約15万、ガラス転
移温度100℃)20部、2.4−ジエチルチオキサン
トン1部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル2部およ
びビクトリアビニアブルー0.01部を混合して本発明
の感光性樹脂組成物の溶液、を調製した。
(c)硬化被膜の形成
(b)で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、銅張り積
層板上に塗布し、室温で20分、80℃で20分間乾燥
し、厚さ40μmの感光層を形成した0次いでネガマス
クを通してオーク製作所(、株)製フェニックス300
0型露光機を用い、200mJ/aJで露光した。g先
後80℃で5分間加熱し、常温で30分放置した後、1
. 1. 1−トリクロルエタンを用いて20℃で90
秒間スプレー現像した0次いで東芝電材(株)製東芝紫
外線照射装置(定格電圧200■、定格消費型カフ。
層板上に塗布し、室温で20分、80℃で20分間乾燥
し、厚さ40μmの感光層を形成した0次いでネガマス
クを通してオーク製作所(、株)製フェニックス300
0型露光機を用い、200mJ/aJで露光した。g先
後80℃で5分間加熱し、常温で30分放置した後、1
. 1. 1−トリクロルエタンを用いて20℃で90
秒間スプレー現像した0次いで東芝電材(株)製東芝紫
外線照射装置(定格電圧200■、定格消費型カフ。
2KW、適合ランプH5600L/2、ランプ本数1本
)を使用し、IJ/−で照射した後、100℃で30分
間加熱処理してネガマスクに相応する寸法精度の優れた
ソルダマスクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性
に優れ、ロジン系フラックスA−226(タムラ化研(
株)製)を用いて、260℃で10秒間、はんだ付は処
理し、更にトリクレンで25℃、10分間清浄化処理し
た後、MIL−3TD−202E 107D 条件
B(−65℃30分間、常温5分以内、125℃30分
間)、50サイクルの冷#!)衝撃試験でクラッタの発
生および被膜の剥がれは認められず、長期間の信頼性が
非常に優れていることがわかった。
)を使用し、IJ/−で照射した後、100℃で30分
間加熱処理してネガマスクに相応する寸法精度の優れた
ソルダマスクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性
に優れ、ロジン系フラックスA−226(タムラ化研(
株)製)を用いて、260℃で10秒間、はんだ付は処
理し、更にトリクレンで25℃、10分間清浄化処理し
た後、MIL−3TD−202E 107D 条件
B(−65℃30分間、常温5分以内、125℃30分
間)、50サイクルの冷#!)衝撃試験でクラッタの発
生および被膜の剥がれは認められず、長期間の信頼性が
非常に優れていることがわかった。
実施例2
(a)光重合性不飽和化合物の合成
A1オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、EO
CN104(エポキシ当量230920部 ハロゲン化フェノールノボラック型工t−t−シ樹脂、
BREN (エポキシ当量285)285部 メチルセロソルブアセテート 600部B1アクリル
酸 288部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルセロソ
ルブアセテート 100部C1イソシアナートエチル
メタクリレート620部 ジブチルチンジラウレート0.5部 メチルセロソルブアセテート 100部D、メタノー
ル 10部A−Dを用い、その他
は実施例1−(a)と同様にして、不揮発分54%のノ
ボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/イソシアナート
エチルメタクリレート(散光f/エポキシ当量比−0.
8イソシアナート当量/水酸基当量比=1)系光重合性
不飽和化合物の溶液(II)を得た。
CN104(エポキシ当量230920部 ハロゲン化フェノールノボラック型工t−t−シ樹脂、
BREN (エポキシ当量285)285部 メチルセロソルブアセテート 600部B1アクリル
酸 288部塩化ベンジルトリメ
チルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルセロソ
ルブアセテート 100部C1イソシアナートエチル
メタクリレート620部 ジブチルチンジラウレート0.5部 メチルセロソルブアセテート 100部D、メタノー
ル 10部A−Dを用い、その他
は実施例1−(a)と同様にして、不揮発分54%のノ
ボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/イソシアナート
エチルメタクリレート(散光f/エポキシ当量比−0.
8イソシアナート当量/水酸基当量比=1)系光重合性
不飽和化合物の溶液(II)を得た。
(b)感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(If)
148部(不揮発分80部)、メチルメタクリレート/
トリブロモフェニルアクリレート/スチレン/2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート(68/10/15/7重
量比)共重合体く分子量約10万、ガラス転移温度10
2℃)20蔀、ベンゾフェノン2.7部、ミヒラーケト
ン0.3部、ホスマーM(油脂製品(株)製リン酸エス
テル)とベンゾトリアゾールとの等モル塩0.1部およ
びビクトリアピュアブルー0.02部を混合して本発明
の感光性樹脂組成物の溶液を@製した。
148部(不揮発分80部)、メチルメタクリレート/
トリブロモフェニルアクリレート/スチレン/2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート(68/10/15/7重
量比)共重合体く分子量約10万、ガラス転移温度10
2℃)20蔀、ベンゾフェノン2.7部、ミヒラーケト
ン0.3部、ホスマーM(油脂製品(株)製リン酸エス
テル)とベンゾトリアゾールとの等モル塩0.1部およ
びビクトリアピュアブルー0.02部を混合して本発明
の感光性樹脂組成物の溶液を@製した。
以下、実施例1−(c)と同様にして耐熱性に優れた硬
化被膜を得た。
化被膜を得た。
また前記感光性樹脂組成物を厚さ0.8鶴、UL94V
−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化成工業(株)製
MCL−E−67)の両面に通用し、厚さ75μmの
硬化被膜を形成させた場合には、UL94V−1の難燃
性を保持することがわかった。
−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化成工業(株)製
MCL−E−67)の両面に通用し、厚さ75μmの
硬化被膜を形成させた場合には、UL94V−1の難燃
性を保持することがわかった。
実施例3
(a)光重合性不飽和化合物の合成
A、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、EO
CN104 (エポキシ当量2301095部 メチルセロソルブアセテート 600部B、メタクリ
ル酸 368部塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルセロ
ソルブアセテート 100部C、イソシアナートエチ
ルメタクリレート287部 ジブチルチンジラウレート0.5部 メチルセロソルブアセテート 100部D1メタノー
ル 10部A−Dを用い、その他
は実施例L−(a)と同様にして、不揮発分69%のノ
ボラック型エポキシ樹脂/メククリル酸/イソシアナー
トエチルメタクリレート(酸当Hi/エポキシ当量比−
0,8イソシアナート当量/水酸基当量比−0,88)
系光重合性不飽和化合物の溶液(III)を得た。
CN104 (エポキシ当量2301095部 メチルセロソルブアセテート 600部B、メタクリ
ル酸 368部塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム 7部 p−メトキシフェノール 3部メチルセロ
ソルブアセテート 100部C、イソシアナートエチ
ルメタクリレート287部 ジブチルチンジラウレート0.5部 メチルセロソルブアセテート 100部D1メタノー
ル 10部A−Dを用い、その他
は実施例L−(a)と同様にして、不揮発分69%のノ
ボラック型エポキシ樹脂/メククリル酸/イソシアナー
トエチルメタクリレート(酸当Hi/エポキシ当量比−
0,8イソシアナート当量/水酸基当量比−0,88)
系光重合性不飽和化合物の溶液(III)を得た。
(b)感光性樹脂組成物の調製
光重合性不飽和化合物の溶液(■)の代わりに、(a)
で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(III)11
6部(不揮抛分80部)を用い、その他は実施例2(b
)および(c)と同様にして、耐熱性に優れた硬化被膜
を得た。
で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(III)11
6部(不揮抛分80部)を用い、その他は実施例2(b
)および(c)と同様にして、耐熱性に優れた硬化被膜
を得た。
実施例4
(a)光重合性不飽和化合物の合成
A1フェノールノボラック型エポキシ樹脂、YDPN−
638(エポキシ当量180)857部 エチルセロソルブアセテート 600部B、ケイ皮酸
176部アクリル酸
86部m化ベンジルトリメチルアンモニ
ウム塩7部 p−メトキシフェノール 3部エチルセロソ
ルブアセテ−1−100部C1イソシアナートエチルメ
タクリレート369部 ジブチルチンジラウレート0.1部 エチルセロソルブアセテート 100部D、メタノー
ル 10部A−Dを用い、その他
は実施例1−(a)と同様にして、NV65%のフェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂/ケイ皮酸/アクリル酸
/イソシアナートエチルメタクリレート(酸当量/エポ
キシ当量比−0,5、イソシアナート当量/水酸基当量
比−1)系光重合性不飽和化合物の溶液(IV)を得た
。
638(エポキシ当量180)857部 エチルセロソルブアセテート 600部B、ケイ皮酸
176部アクリル酸
86部m化ベンジルトリメチルアンモニ
ウム塩7部 p−メトキシフェノール 3部エチルセロソ
ルブアセテ−1−100部C1イソシアナートエチルメ
タクリレート369部 ジブチルチンジラウレート0.1部 エチルセロソルブアセテート 100部D、メタノー
ル 10部A−Dを用い、その他
は実施例1−(a)と同様にして、NV65%のフェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂/ケイ皮酸/アクリル酸
/イソシアナートエチルメタクリレート(酸当量/エポ
キシ当量比−0,5、イソシアナート当量/水酸基当量
比−1)系光重合性不飽和化合物の溶液(IV)を得た
。
(b)感光性樹脂組成物の調製
(a)で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(■)9
2部(不揮発分60部)、アクリル酸メチル/スチレン
/メタクリル酸メチル(55/25/20ffi量比)
共重合体(分子量約10万、ガラス転移温度44℃)4
0部、2,4−ジエチルチオキサントン2部、ジメチル
アミノ安息香酸エチル3部、およびビクトリアピュアブ
ルー0.02部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の
溶液を調製した。
2部(不揮発分60部)、アクリル酸メチル/スチレン
/メタクリル酸メチル(55/25/20ffi量比)
共重合体(分子量約10万、ガラス転移温度44℃)4
0部、2,4−ジエチルチオキサントン2部、ジメチル
アミノ安息香酸エチル3部、およびビクトリアピュアブ
ルー0.02部を混合して本発明の感光性樹脂組成物の
溶液を調製した。
(c)硬化被膜の形成
現像液として、1,1.1−)リクロルエタンの代わり
にスリーワンEX (1,1,1−)リクロルエタンを
主成分とする洗浄液、東亜合成(株)製)を用い、その
他は実施例1−(c)と同様にして耐熱性に優れた硬化
被膜を得た。
にスリーワンEX (1,1,1−)リクロルエタンを
主成分とする洗浄液、東亜合成(株)製)を用い、その
他は実施例1−(c)と同様にして耐熱性に優れた硬化
被膜を得た。
Claims (1)
- 1、(a)オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン
化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる群から
選ばれた少なくとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と
、不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0
.2〜1の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物
の2級水酸基に、イソシアナートエチルメタクリレート
を、イソシアナート当量/水酸基当量比が0.2〜1の
範囲で反応させて得られる光重合性不飽和化合物、(b
)ガラス転移温度が約40〜150℃の線状高分子化合
物並びに(c)活性光により遊離ラジカルを生成する増
感剤および(または)増感剤系を含有してなる感光性樹
脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59252630A JPS61130946A (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59252630A JPS61130946A (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61130946A true JPS61130946A (ja) | 1986-06-18 |
JPH0435061B2 JPH0435061B2 (ja) | 1992-06-09 |
Family
ID=17240029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59252630A Granted JPS61130946A (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61130946A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61200536A (ja) * | 1985-03-01 | 1986-09-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS61264341A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPS61264340A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
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JPH05114673A (ja) * | 1991-10-23 | 1993-05-07 | Nikko Kyodo Co Ltd | Tab用テ−プキヤリア製造裏止め剤 |
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-
1984
- 1984-11-29 JP JP59252630A patent/JPS61130946A/ja active Granted
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0435061B2 (ja) | 1992-06-09 |
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