JPH0224657A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは印刷配
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
(従来の技術)
従来、印刷配線板業界において、ソルダマスク。
化学めっき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有す
る感光性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主
な目的は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、は
んだブリッジ等を防ぐこと。
る感光性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主
な目的は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、は
んだブリッジ等を防ぐこと。
裸の銅導体の腐食を防止すること、および長期にわたっ
て導体間の電気絶縁性を保持することである。通常ソル
ダマスクとしては、エポキシ樹脂。
て導体間の電気絶縁性を保持することである。通常ソル
ダマスクとしては、エポキシ樹脂。
アミノブラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とするも
ので(印刷マスク)が用いられる。
ので(印刷マスク)が用いられる。
しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり。
また導体間の電気絶縁性の要求も厳しくなり、それに用
いるソルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求
されるようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処
できなくなっている。
いるソルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求
されるようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処
できなくなっている。
そこで写真法C像状露光に続く現像により画像を形成)
で厚膜(通常導体上15μmが望まれている)で、かつ
寸法精度の優れた高信頼性のソルダマスクを形成する感
光性樹脂組成物の出現が望まれている。
で厚膜(通常導体上15μmが望まれている)で、かつ
寸法精度の優れた高信頼性のソルダマスクを形成する感
光性樹脂組成物の出現が望まれている。
従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物としては、
(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノマを主成分
とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018号公
報、特開昭54−1018号公報等)、(21光反応性
が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤を
主成分とする感光性樹脂組成物(特開昭52−3799
6号公報、特開昭58−62636号公報等)等が知ら
れている。
(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノマを主成分
とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018号公
報、特開昭54−1018号公報等)、(21光反応性
が付与されたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤を
主成分とする感光性樹脂組成物(特開昭52−3799
6号公報、特開昭58−62636号公報等)等が知ら
れている。
しかしながら前記(1)の感光性樹脂組成物は9通常の
エツチングおよびめっき用フィルム状感光材料(例えば
デュポン社製、商品名リストン、日立化成工業■製、商
品名フオテツク等)に使用されている難燃性の1.1.
1− )ジクロルエタンで現像可能であり、高解儂度の
ソルダマスクを形成することはできるが、このような感
光性樹脂組成物はフィルム性付与のためアクリル系ポリ
マを多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱性が充分
でないという欠点がある。
エツチングおよびめっき用フィルム状感光材料(例えば
デュポン社製、商品名リストン、日立化成工業■製、商
品名フオテツク等)に使用されている難燃性の1.1.
1− )ジクロルエタンで現像可能であり、高解儂度の
ソルダマスクを形成することはできるが、このような感
光性樹脂組成物はフィルム性付与のためアクリル系ポリ
マを多量に使用しているため、硬化被膜の耐熱性が充分
でないという欠点がある。
一方、前記(2)の感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂
をペースとしており、硬化被膜の耐熱性には優れている
が、 1.1.1− ト!Jクロルエタン等の難燃性
有機溶剤に不溶性であるため、現像液として。
をペースとしており、硬化被膜の耐熱性には優れている
が、 1.1.1− ト!Jクロルエタン等の難燃性
有機溶剤に不溶性であるため、現像液として。
シクロヘキサノン等の可燃性有機溶剤を使用する必要が
あり、安全上好ましくないという欠点がある。
あり、安全上好ましくないという欠点がある。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去し。
1、1.1− ) !jジクロルタン等の難燃性現像液
により現像でき、かつ解像度および耐熱性にも優れた高
信頼性ソルダマスクを形成することのできる感光性樹脂
組成物を提供することにある。
により現像でき、かつ解像度および耐熱性にも優れた高
信頼性ソルダマスクを形成することのできる感光性樹脂
組成物を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明は
1、(al(イ) オルソクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およ
びハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂から
なる群から選ばれた少なくとも1稽のノボラック型エポ
キシ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ
当量比が0.1〜0.98の範囲で付加反応させて得ら
れる不飽和化合物(町 ノボラック型エポキシ樹脂10
0重量部に対して0.2〜0.8重量部の水およびイン
シアネートエチルメタクリレートを反応させて得られる
光重合性化合物 並びに [bl 活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤
および(または)増感剤系を含有してなる感光性樹脂組
成物に関する。
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およ
びハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂から
なる群から選ばれた少なくとも1稽のノボラック型エポ
キシ樹脂と、不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ
当量比が0.1〜0.98の範囲で付加反応させて得ら
れる不飽和化合物(町 ノボラック型エポキシ樹脂10
0重量部に対して0.2〜0.8重量部の水およびイン
シアネートエチルメタクリレートを反応させて得られる
光重合性化合物 並びに [bl 活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤
および(または)増感剤系を含有してなる感光性樹脂組
成物に関する。
本発明の感光性樹脂組成物は必須成分子atとして。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少
なくとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カル
ボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0.1〜0.9
8の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物、仲)
ノボラック型エポキシ樹脂100重量部に対して0.2
〜0.8重量部の水及びインシアネートエチルメタアク
リレートを反応させて得られる光重合性化合物を含有す
る。
ルノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂からなる群から選ばれた少
なくとも1種のノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カル
ボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比が0.1〜0.9
8の範囲で付加反応させて得られる不飽和化合物、仲)
ノボラック型エポキシ樹脂100重量部に対して0.2
〜0.8重量部の水及びインシアネートエチルメタアク
リレートを反応させて得られる光重合性化合物を含有す
る。
本発明に用いられるノボラック型エポキシ樹脂ハ1例え
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて得られ
るノボラック型樹脂のフェノール性水酸基にアルカリの
存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られるもの
で、商業的にも人手可能である。
ばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ル等とアルデヒドを酸触媒の存在下に反応させて得られ
るノボラック型樹脂のフェノール性水酸基にアルカリの
存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得られるもの
で、商業的にも人手可能である。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては9
例えばチバ・ガイギー社製、アラルダイトECN129
9(軟化点99℃、エポキシ当量230)、ECN12
80(軟化点80℃、エポキシ当量230)、ECN1
273(軟化点73℃、エポキシ当量230)、日本生
薬■製、EOCN104(軟化へ90〜100℃、エポ
キシ当量225〜245)、ECN123(軟化a80
〜90℃、エポキシ当Jt215〜235 )、 EO
CN102(軟化点70〜80℃、エポキシ当量215
〜235)、EOCNlol(軟化点65〜69℃、エ
ポキシ当量205〜225)等が挙げられる。
例えばチバ・ガイギー社製、アラルダイトECN129
9(軟化点99℃、エポキシ当量230)、ECN12
80(軟化点80℃、エポキシ当量230)、ECN1
273(軟化点73℃、エポキシ当量230)、日本生
薬■製、EOCN104(軟化へ90〜100℃、エポ
キシ当量225〜245)、ECN123(軟化a80
〜90℃、エポキシ当Jt215〜235 )、 EO
CN102(軟化点70〜80℃、エポキシ当量215
〜235)、EOCNlol(軟化点65〜69℃、エ
ポキシ当量205〜225)等が挙げられる。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては。
例えばシェル社製、エピコート154(エポキシ当量1
76〜181)、 ダウケミ、カル社製、DEN43
1(エポキシ当量172〜179)、DEN438(エ
ポキシ当量175〜182)、東部化成■裂、YDPN
−638(エポキシ当1−170〜190)、YDPN
−601(エポキシ当量180〜220)、YDPN−
602(エポキシ当量180〜220)等が挙げられる
。
76〜181)、 ダウケミ、カル社製、DEN43
1(エポキシ当量172〜179)、DEN438(エ
ポキシ当量175〜182)、東部化成■裂、YDPN
−638(エポキシ当1−170〜190)、YDPN
−601(エポキシ当量180〜220)、YDPN−
602(エポキシ当量180〜220)等が挙げられる
。
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は9例えば日本化薬■製、BREN(エポキシ当量27
0〜300.臭素含有fk35〜37係、軟化点80〜
90℃)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂等が挙げられる。
は9例えば日本化薬■製、BREN(エポキシ当量27
0〜300.臭素含有fk35〜37係、軟化点80〜
90℃)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂等が挙げられる。
不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸
、β−フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用いられる。
、β−フリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、α
−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等が用いられる。
本発明において、これらのノボラック型エポキシ樹脂と
不飽和カルボン酸との付加反応は、酸当量/エポキシ当
量比が0.1〜0.98の範囲で常法により行なわれる
。酸当量/エポキシ当量比が0.1未満ではイメージ露
光後の現儂処理により光硬化被膜が膨潤しやすい。酸当
量/エポキシ当量比が0.98を超える場合には、密着
性、耐熱性等が低下する。
不飽和カルボン酸との付加反応は、酸当量/エポキシ当
量比が0.1〜0.98の範囲で常法により行なわれる
。酸当量/エポキシ当量比が0.1未満ではイメージ露
光後の現儂処理により光硬化被膜が膨潤しやすい。酸当
量/エポキシ当量比が0.98を超える場合には、密着
性、耐熱性等が低下する。
ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加
反応物は1例えば前記ノボラック型エポキシ樹脂をメチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、シクロヘキサノン等の不活性有
機溶剤に溶解し、触媒としてトリエチルアミン、トリー
n−ブチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の
3級アミン、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩
化ベンジルトリエチルアンモニウム等の4級アンモニウ
ム塩などを、また重合禁止剤としてハイドロキノン、p
−メトキシフェノール等を用い、70〜110℃で前記
不飽和カルボン酸と上記の当量比の範囲で攪拌反応させ
ることにより得られる。
反応物は1例えば前記ノボラック型エポキシ樹脂をメチ
ルエチルケトン、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、シクロヘキサノン等の不活性有
機溶剤に溶解し、触媒としてトリエチルアミン、トリー
n−ブチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の
3級アミン、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩
化ベンジルトリエチルアンモニウム等の4級アンモニウ
ム塩などを、また重合禁止剤としてハイドロキノン、p
−メトキシフェノール等を用い、70〜110℃で前記
不飽和カルボン酸と上記の当量比の範囲で攪拌反応させ
ることにより得られる。
本発明において、光重合性化合物を得る際に。
ノボラック型エポキシ樹脂100重量部に対して0.2
〜0.8iii1部の水が使用されるが水を使用すると
本発明の感光性組成物の光感度が向上する。
〜0.8iii1部の水が使用されるが水を使用すると
本発明の感光性組成物の光感度が向上する。
水の使用量がノボラック型エポキシ樹脂100重量部に
対して0.2重量部以下では光感度の向上効果が少なく
、O,S重量部を超えるとネガフィルムと感光性組成物
との粘着性が大きくなり好ましくない。
対して0.2重量部以下では光感度の向上効果が少なく
、O,S重量部を超えるとネガフィルムと感光性組成物
との粘着性が大きくなり好ましくない。
本発明に使用される水はノボラック型エポキシ樹脂、不
飽和カルボン酸、有機溶媒などに付着したり含有されて
いるものでもよく、外部から添加したものでもよい。
飽和カルボン酸、有機溶媒などに付着したり含有されて
いるものでもよく、外部から添加したものでもよい。
本発明のノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸
より得られる不飽和化合物、水およびインシアネートエ
チルメタクリレートとの反応はジプチルチンジラウレー
ト、ジブチルチンジ2エチルヘキソエート、アミンなど
のウレタン化触媒を使用し、50〜110℃の温度で行
なうことが好ましい。
より得られる不飽和化合物、水およびインシアネートエ
チルメタクリレートとの反応はジプチルチンジラウレー
ト、ジブチルチンジ2エチルヘキソエート、アミンなど
のウレタン化触媒を使用し、50〜110℃の温度で行
なうことが好ましい。
本発明において、不飽和化合物の活性水素及び水の活性
水素にインシアネートエチルメタクリレートが反応する
が、好ましくはインシアネート当f/全活性水素当量比
が0.9〜1.1の範囲とされる。
水素にインシアネートエチルメタクリレートが反応する
が、好ましくはインシアネート当f/全活性水素当量比
が0.9〜1.1の範囲とされる。
反応後、もし未反応のインシアネートエチルメタクリレ
ートがあればメタノール、エタノール。
ートがあればメタノール、エタノール。
2−ヒドロキシエチルアクリレートなどの1級アルコー
ルを用い失活させることが安全上および保存安定性向上
の上で望ましい。
ルを用い失活させることが安全上および保存安定性向上
の上で望ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、活性光により遊離ラジカ
ルを生成する増感剤およびC″1!たけ)増感剤系を必
須成分(b)として含有する。
ルを生成する増感剤およびC″1!たけ)増感剤系を必
須成分(b)として含有する。
増感剤としては、置換または非胃換の多核キノン類1例
えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−ベ
ンズアントラキノン、ス3−ジフェニルアントラキノン
等、シア七チルペ/ジル等のケトアルドニル化合物、ベ
ンゾイン、ビスロン等のα−ケタルドニルアルコール類
およびエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイン
類。
えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−ベ
ンズアントラキノン、ス3−ジフェニルアントラキノン
等、シア七チルペ/ジル等のケトアルドニル化合物、ベ
ンゾイン、ビスロン等のα−ケタルドニルアルコール類
およびエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイン
類。
例、ttfα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェト
キシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、4.4’−ビ
スジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類
、2メチルチオキサントン、2.4−ジエチルチオキサ
ントン、2.4−ジメチルチオキサントン、2−クロル
チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2
−エチルチオキサントン等のチオキサントン類が用いら
れ、これらは単独でも組み合わせて使用してもよい。
キシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、4.4’−ビ
スジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類
、2メチルチオキサントン、2.4−ジエチルチオキサ
ントン、2.4−ジメチルチオキサントン、2−クロル
チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2
−エチルチオキサントン等のチオキサントン類が用いら
れ、これらは単独でも組み合わせて使用してもよい。
増感剤系としては1例えば2.4.5− トリアリルイ
ミダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール、
ロイコクリスタルバイオレッ)、1ス(4−ジエチルア
ミン−2−メチルフェニル)メタン等との組み合わせが
用いられる。またそれ自体で光開始性はないが、前記物
質と組み合わせて用いることにより全体として光開始性
能のより良好な増感剤系となるような添加剤0例えば、
ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の3級
アミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安息
香酸イソアミル、N−メチルジエタールアミン、ビスエ
チルアミノベンゾフェノン等ヲ用いることもできる。
ミダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール、
ロイコクリスタルバイオレッ)、1ス(4−ジエチルア
ミン−2−メチルフェニル)メタン等との組み合わせが
用いられる。またそれ自体で光開始性はないが、前記物
質と組み合わせて用いることにより全体として光開始性
能のより良好な増感剤系となるような添加剤0例えば、
ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の3級
アミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安息
香酸イソアミル、N−メチルジエタールアミン、ビスエ
チルアミノベンゾフェノン等ヲ用いることもできる。
本発明の感光性樹脂組成物においては、これらの増感剤
および(または)増感剤系(b)は、光重合性不飽和化
合物(a)に対して、0.5〜10重量係の割合で含有
されることが好ましい。
および(または)増感剤系(b)は、光重合性不飽和化
合物(a)に対して、0.5〜10重量係の割合で含有
されることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は他の副次的成分を含有して
いてもよい。副次的成分としては、熱重合防止剤、染料
、顔料、フィラー、塗工性向上剤。
いてもよい。副次的成分としては、熱重合防止剤、染料
、顔料、フィラー、塗工性向上剤。
難燃剤、難燃助剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在
性硬化剤、熱可塑性有機高分子化合物等のフィルム性向
上剤、消泡剤等が挙げられる。
性硬化剤、熱可塑性有機高分子化合物等のフィルム性向
上剤、消泡剤等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物を用いて感光層を形成するに
際しては9例えば、感光性樹脂組成物をメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセf −トウエチルセロソル
ブアセテート、シクロヘキサノン等の有機溶剤に溶解さ
せ、この溶液をデイツプコート法、フローコート法、ロ
ールコート法。
際しては9例えば、感光性樹脂組成物をメチルエチルケ
トン、メチルセロソルブアセf −トウエチルセロソル
ブアセテート、シクロヘキサノン等の有機溶剤に溶解さ
せ、この溶液をデイツプコート法、フローコート法、ロ
ールコート法。
スクリーン印刷法等の常法により、加工保護すべき基板
板上に直接塗布し、溶剤を乾燥させることにより、厚さ
10〜150μmの感光層を容易に形成することができ
る。
板上に直接塗布し、溶剤を乾燥させることにより、厚さ
10〜150μmの感光層を容易に形成することができ
る。
また前記溶液を2例えばポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリイミドフィルム等の支持体フィルム上に、
ナイフコート法、ロールコート法等により塗布し、乾燥
して得られる感光性エレメントを、熱ロールを用いて基
板上に加熱加圧積層して感光層を形成することもできる
。この際基板が導体配線ラインの形成された印刷配線板
等の10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き
込みを防ぐため、200mmHg以下の真空下で積層す
ることが好ましい。このための装置としては例えば特公
昭55−13341号公報に記載される積層装置が用い
られる。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用いる
場合には、jll待時支持体フィルムを剥離する必要が
ある。
ィルム、ポリイミドフィルム等の支持体フィルム上に、
ナイフコート法、ロールコート法等により塗布し、乾燥
して得られる感光性エレメントを、熱ロールを用いて基
板上に加熱加圧積層して感光層を形成することもできる
。この際基板が導体配線ラインの形成された印刷配線板
等の10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き
込みを防ぐため、200mmHg以下の真空下で積層す
ることが好ましい。このための装置としては例えば特公
昭55−13341号公報に記載される積層装置が用い
られる。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用いる
場合には、jll待時支持体フィルムを剥離する必要が
ある。
こうして形成された感光層の露光および現像は常法によ
り行なわれる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
は支持体フィルムを介し。
り行なわれる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高
圧水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接また
は支持体フィルムを介し。
ネガマスクを通して、IJ!的に露光する。露光後支持
体フィルムが残っている場合は支持体フィルムを剥離し
た後、現像する。
体フィルムが残っている場合は支持体フィルムを剥離し
た後、現像する。
現像処理に用いられる現像液は露光部にダメージを与え
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない。現像液としては9例えば1
.1.1− )ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素
、ジエチレングリコールモツプチルエーテル/炭酸す)
IJウウム溶液等の有機溶剤/希アルカリ水溶液混合
液等が用いられる。
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない。現像液としては9例えば1
.1.1− )ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素
、ジエチレングリコールモツプチルエーテル/炭酸す)
IJウウム溶液等の有機溶剤/希アルカリ水溶液混合
液等が用いられる。
また1、 1.1− ) IJジクロルタンを主成分と
する洗浄剤2例えばスリーワンEX(東亜合成化学■f
f)を使用することもできる。
する洗浄剤2例えばスリーワンEX(東亜合成化学■f
f)を使用することもできる。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は9通常のエツチ
ング、めっき等のための耐食膜であるが。
ング、めっき等のための耐食膜であるが。
現像後に活性光の露光および80〜200℃での加熱処
理を行なうことにより、更に優れた特性を有する保護膜
が得られる。これらの活性光の露光および加熱処理の順
序はどちらが先でもよい。
理を行なうことにより、更に優れた特性を有する保護膜
が得られる。これらの活性光の露光および加熱処理の順
序はどちらが先でもよい。
(発明の効果)
本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保護被膜は
、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピルアル
コール、トルエン等の有機溶剤に充分耐え、rl&性水
溶水溶液はアルカリ水溶液にも耐える。更に耐熱性1機
械的特性にも優れているので、ソルダマスク等の永久的
な保護膜として使用することができる。更に本発明の感
光性樹脂組成物を用いて形成される被膜は優れた化学的
、物理的特性を有し、このため多層印刷配線板の眉間絶
縁層、感光性接着剤、塗料、プラスチックレリーフ、印
刷版材料、金属精密加工材料等にも用いることができる
。
、トリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピルアル
コール、トルエン等の有機溶剤に充分耐え、rl&性水
溶水溶液はアルカリ水溶液にも耐える。更に耐熱性1機
械的特性にも優れているので、ソルダマスク等の永久的
な保護膜として使用することができる。更に本発明の感
光性樹脂組成物を用いて形成される被膜は優れた化学的
、物理的特性を有し、このため多層印刷配線板の眉間絶
縁層、感光性接着剤、塗料、プラスチックレリーフ、印
刷版材料、金属精密加工材料等にも用いることができる
。
また2本発明の感光性樹脂組成物を用いることにより、
1,1.1−トリクロルエタン等の難燃性現像液により
現像でき、解像度および耐熱性に優れたソルダマスクを
形成することができる。しかも写真法により厚膜のソル
ダマスクを疹成することも可能である。
1,1.1−トリクロルエタン等の難燃性現像液により
現像でき、解像度および耐熱性に優れたソルダマスクを
形成することができる。しかも写真法により厚膜のソル
ダマスクを疹成することも可能である。
(実施例)
実施例中の部は重量部を意味する。
実施例1
(a) 光重合性化合物の合成
温度計、かくはん装置、冷却管および滴下器の付込た加
熱および冷却可能な51!四つロフラスコにエチルセロ
ソルブアセテ−)224部、オルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂EOCNIO4(日本化薬■製、エポ
キシ当量230)307部を仕込み、100℃に昇温し
均一に溶解させた。
熱および冷却可能な51!四つロフラスコにエチルセロ
ソルブアセテ−)224部、オルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂EOCNIO4(日本化薬■製、エポ
キシ当量230)307部を仕込み、100℃に昇温し
均一に溶解させた。
内温を80℃に下げ塩化ベンジルトリメチルアンモニウ
ム2部、p−メトキシフェノール0.84部。
ム2部、p−メトキシフェノール0.84部。
エチルセロソルブアセテート28部、アクリル酸72部
を均一に溶解したものを加え、80℃で約20時間反応
させ酸価を1以下にした。反応物溶液の水分をカールフ
ィッシャー法で測定したところ、O,OS重量%であっ
た。内温を60℃に下げ。
を均一に溶解したものを加え、80℃で約20時間反応
させ酸価を1以下にした。反応物溶液の水分をカールフ
ィッシャー法で測定したところ、O,OS重量%であっ
た。内温を60℃に下げ。
水0.63部を添加、混合し、水の含有量を0.15重
te4としたのちイソシアネートエチルメタクリレート
171.4部(インシアネート当量/全活性水素当量=
1.07)、ジブチルチンジラウレート0.14部、
エチルセロソルブアセテート28部の混合物を約3時間
かけて均一に滴下し、約5時間かけて徐々に反応温度を
80℃まで昇温した後。
te4としたのちイソシアネートエチルメタクリレート
171.4部(インシアネート当量/全活性水素当量=
1.07)、ジブチルチンジラウレート0.14部、
エチルセロソルブアセテート28部の混合物を約3時間
かけて均一に滴下し、約5時間かけて徐々に反応温度を
80℃まで昇温した後。
内温を室温壕で下げ光重合性化合物の溶液を得た。
tb> 感光性樹脂組成物の調製
(alで得られた光重合性不飽和化合物の溶液+I)1
52部(不揮発分100部)、 2.4−ジエチルチ
オキサントン1部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル
2部およびビクトリアピュアブルー0.01部を混合し
て本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
52部(不揮発分100部)、 2.4−ジエチルチ
オキサントン1部、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル
2部およびビクトリアピュアブルー0.01部を混合し
て本発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
(C) 硬化被膜の形成
(blで得られた感光性樹脂組成物の溶液を、銅張り積
層板上に塗布し、室温で20分、80℃で20分間乾燥
し、厚さ40μmの感光層を形成した。次いで21ステ
ツプのグレースケールネガフィルムと配線パターン用ネ
ガフィルムを感光/11 v<−当て、オーク製作所■
製フェニックス3000型露光機を用い200 mJ
/cm”で露光した。感光層からネガフィルムを容易に
除去することができた。
層板上に塗布し、室温で20分、80℃で20分間乾燥
し、厚さ40μmの感光層を形成した。次いで21ステ
ツプのグレースケールネガフィルムと配線パターン用ネ
ガフィルムを感光/11 v<−当て、オーク製作所■
製フェニックス3000型露光機を用い200 mJ
/cm”で露光した。感光層からネガフィルムを容易に
除去することができた。
露光後80℃で5分間加熱し、常温で30分放置した後
、1.1.1−トリクロルエタンを用いて20℃で90
秒間スプレー現像した。グレースケールネガフィルムを
当てた部分の残存部は10段であった。
、1.1.1−トリクロルエタンを用いて20℃で90
秒間スプレー現像した。グレースケールネガフィルムを
当てた部分の残存部は10段であった。
次いで東芝電材■製東芝紫外線照射装置(定格電圧20
0V、定格消費電カフ、 2 kW 、適合ランプH5
600L/2. ランプ本数1本)を使用し。
0V、定格消費電カフ、 2 kW 、適合ランプH5
600L/2. ランプ本数1本)を使用し。
IJ/cm”で照射した後、150℃で30分間加熱処
理してネガマスクに相応する寸法精度の優れたソルダマ
スクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性に優れ、
ロジン系フラックスA−226(タムラ化研■製)を用
いて、260℃で10秒間、はんだ付は処理し、更にト
リクレンで25°C210分間清浄化処理した後、MI
L−8TD−202E 107D 条件B(−65
℃30分間。
理してネガマスクに相応する寸法精度の優れたソルダマ
スクを得た。このソルダマスクは耐冷熱衝撃性に優れ、
ロジン系フラックスA−226(タムラ化研■製)を用
いて、260℃で10秒間、はんだ付は処理し、更にト
リクレンで25°C210分間清浄化処理した後、MI
L−8TD−202E 107D 条件B(−65
℃30分間。
常温5分以内、125℃30分間)、50サイクルの冷
熱衝撃試験でクラックの発生および被膜の剥がれは認め
られず、長期間の(N軸性が非常に優れていた。
熱衝撃試験でクラックの発生および被膜の剥がれは認め
られず、長期間の(N軸性が非常に優れていた。
実施例2
実施例1(a)に2いて、水0.63部を1.9部に変
えて、水の含有量を0.35重1%とし、インシアネー
トエチルメタクリレート171.4部を193.2部(
イソシアネート当量/全活性水素当量=0.997)に
変えた以外は実施例1(a)、 1(b)と全く同様
に行った。
えて、水の含有量を0.35重1%とし、インシアネー
トエチルメタクリレート171.4部を193.2部(
イソシアネート当量/全活性水素当量=0.997)に
変えた以外は実施例1(a)、 1(b)と全く同様
に行った。
(C) 硬化被膜の形成
実施例1(C)と同様に行ったが、感光層から容易にネ
ガフィルムを除去することができた。現像後のグレース
ケールネガフィルムを当てた部分の残存部は12段であ
った。
ガフィルムを除去することができた。現像後のグレース
ケールネガフィルムを当てた部分の残存部は12段であ
った。
実施例1(C)と同様にしてソルダマスクを形成したの
ち、実施例1(C)と同様の試験を行った。クラックの
発生および被膜の剥れは認められず、長期間の信頼性に
非常に優れていた。
ち、実施例1(C)と同様の試験を行った。クラックの
発生および被膜の剥れは認められず、長期間の信頼性に
非常に優れていた。
比較例
実施例1(a)において水を用いず、インシアネートエ
チルメタクリレート171.4部(インシアネート当量
/全活性水素当量=1.0)を155部にした以外は実
施例1と同様に行なった。現像後のグレースケールネガ
フィルムを当てた部分の残存部は8段であり、これに比
べ実施例1及び2は光感度が高いことが示される。
チルメタクリレート171.4部(インシアネート当量
/全活性水素当量=1.0)を155部にした以外は実
施例1と同様に行なった。現像後のグレースケールネガ
フィルムを当てた部分の残存部は8段であり、これに比
べ実施例1及び2は光感度が高いことが示される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)(イ)オルソクレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、フエノールノボラック型エポキシ樹脂およびハ
ロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂からなる
群から選ばれた少なくとも1種のノボラック型エポキシ
樹脂と不飽和カルボン酸とを、酸当量/エポキシ当量比
が0.1〜0.98の範囲で付加反応させて得られる不
飽和化合物 (ロ)ノボラック型エポキシ樹脂100重量部に対して
0.2〜0.8重量部の水およびイソシアネートエチル
メタクリレートを反応させて得られる光重合性化合物 並びに (b)活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤およ
び(または)増感剤系を含有してなる感光性樹脂組成物
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17479488A JPH0224657A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17479488A JPH0224657A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0224657A true JPH0224657A (ja) | 1990-01-26 |
Family
ID=15984786
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17479488A Pending JPH0224657A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0224657A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5436279A (en) * | 1991-05-24 | 1995-07-25 | Rutgerswerke Aktingesellschaft | Coating materials containing a reaction product of an epoxy novolak resin and an olefinically unsaturated carboxylic acid crosslinkable by radiation |
-
1988
- 1988-07-13 JP JP17479488A patent/JPH0224657A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5436279A (en) * | 1991-05-24 | 1995-07-25 | Rutgerswerke Aktingesellschaft | Coating materials containing a reaction product of an epoxy novolak resin and an olefinically unsaturated carboxylic acid crosslinkable by radiation |
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