JPS61126041A - ベンゼンのエチル化法 - Google Patents

ベンゼンのエチル化法

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JPS61126041A
JPS61126041A JP59246135A JP24613584A JPS61126041A JP S61126041 A JPS61126041 A JP S61126041A JP 59246135 A JP59246135 A JP 59246135A JP 24613584 A JP24613584 A JP 24613584A JP S61126041 A JPS61126041 A JP S61126041A
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JP
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benzene
ethylene
hydrogen
catalyst
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JP59246135A
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Hiroshi Ishida
浩 石田
Hitoshi Nakajima
斉 中島
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Research Association for Utilization of Light Oil
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Research Association for Utilization of Light Oil
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、スチレ/の原料として有用なエチルベンゼン
を選択的に製造する方法に関するものである。
(従来の技術) ぺ/ゼンを気相においてエチル化する方法に関しては、
近年、モーピル社が開発した触媒として結晶性アルミノ
シリケー) 28 M−5を用いる方法(特公昭56−
44050号参照)が知られている。しかし、ZSM−
5をその11触媒として使用した場合、トルエン、エチ
ルトルエン等の副生が多いため、モーピル社では、ZS
M−5をリン酸化物で処理した触媒を用いる方法(特開
昭51−57688号参照)を提案しておシ、実際に、
これらの触媒を用いてモービル−バジャー法として知ら
れるプσセスが企業化されている。 。
(発明が確決しようとする問題点) しかしながら、リンの酸化物で処理したZSM−5を用
いる方法は、確かにエチルベンゼン、ジエチルベンゼン
への選択率は昼(,97%に達するものもあるが、98
%以上という極めて高い選択率の実現は困難であり、ま
た、活性が低いという問題があった。さらに、本反応は
反応中に触媒上へ炭素質の析出を生じるため、活性の経
時的な低下を伴なう。それを防ぐために、水素を共存さ
せることが考えられるが、リンの酸化物で処理したZ 
S M−5の場合、水素を共存させるとトルエン、エチ
ルトルエン等の副生が多く、選択率が低下するという問
題のあることがわかった。
(間頑点を屏決するための手段) 本発明者らは、エチルベンゼン、ジエチルベンゼンへの
選択率が98%以上で高活性を有し、しかも、水素共存
下でも選択性の低下しない触媒を開発すべく鋭意検討を
重ねた結果、X線回折図において表1の回折パターンを
有する結晶性アルミノシリケートを触媒として用いる場
合に 、目的を満足する結果が得られることを見い出し
、本発明を完成するに至った。
&    1 X線回折分析はCuKa線を用いて測定する。たたし、
8.7±0.2と8.9±0.2の回近線のどちらかを
相対強度100とする。
すなわち、本発明は、ベンゼンを水素共存下で気相にお
いてエチレンと反応きせる際に、触媒としてX線回折図
において表1に示される回折パターンを有する結晶性ア
ルミノシリケートを用いる  。
ことを特徴とするベンゼンのエチル化法を提供す  □
るものである。
本発明に用いられる表1に示される回折パターンを有す
る結晶性アルミノシリケートとは、AZ−1(特開昭5
9−128210号参照)と呼ばれる゛特異な結晶構造
を有する結晶性アルミノシリケートである。
本発明における反応温度は200〜6QQ7:。
好ましくは300〜500Cの範囲である。また、圧力
は常圧または加圧で行なわれるが、好ましい範囲は、常
圧〜20 kg/allの範囲である。
本発明は、気相流通法で行なわれるが、その際・  の
ベンゼン/エチレンモル比は1〜20、好tしくは2〜
1aの範囲、水素/エチレンモル比は0.5〜20、好
ましくI/ii〜10の範囲で行なわれる。
(発明の効果) 本発明の方法によれば、従来のリンの酸化物で処理し7
’CZ S M−5を触媒として用いる方法に比べて、
水素共存下で高収率で、しかも、槙めて高イ選択率でエ
チルベンゼンおよびジエチルベンゼンを得ることができ
る。このことは、工業的に実施する際に極めて有利にな
る。
(実施例) 実施例1 1.8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン100?
、硫駿アルミニウム(A4(SO+)n・18 H,O
)4MF、水酸化す) IJウム5fを水1501にと
かし、さらにシリカゾル(50%Sin、 ) 2 G
 Ofを加えて均質な溶液を得た。この溶液に、かきま
ぜながら20%硫酸son鏑下して均質なゲルを得た。
さらに、このゲルをホモジナイザーに入れ、10000
 rpmで10分間混合した。このゲルをチアミン内張
りステンレス製耐圧容器中で、1800145時間静置
して結晶化を行った。
得られ喪生成物を濾過、洗浄したのち、120Cで6時
間乾燥して、さらに5aaCで6時間焼成した。
この生成物のX線回折パターンを図面に示す。
この回折パターンよシ、この生成物は、AZ−1と同定
されfc、tた、螢光X線分析から求めたシリカ/アル
ミナモル比は80であった。
この結A性アルミノシリケー)AZ−1を触媒として用
い、ベンゼンとエチレンの反応を行った。実験条件は、
ベンゼン/エチレン/ Htモル比、−4/1/4、W
H8V(ベンゼン基準) −4,0hr−監、反応温度
400C,圧力5.0kg/cr/lで行った。
反応開始後、2時間、6時間、20時間の結果を表2に
示す。
表   2 実施例2 実施例1で得られた触媒を用いて、ベンゼン/エチレン
/Jモル比−5/1/4、WE S ”/−4,Ohr
’、反応温度450 Cs圧力5.0にξ/cI!で反
応を行った。
反応開始後、3時間、40時間、120時間の成績を表
3に示す。
表   3 実施例3 1.8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン2000
 ? s硫酸アルミニウム150 ?、水酸化ナトリウ
ム150?を水5000 tKとかし、さらにシリカゾ
ル(50%Sin、 ) 4000 rを加えて均質か
溶液を得た。この溶液に、かきまぜながら20%硫酸5
00?を加えて均質なゲルを得た。
さらに、このゲルをホモジナイザーに入れ、11000
0rpで20分間混合した。このゲルをテフロン内張り
ステンレス製耐圧容器中で、165C160時間静置し
て結晶化を行った。
得られた生成物を濾過、洗浄したのち、120Cで6時
間乾燥して、さらに500Cで6時間焼成した。
この生成物のX線回折パターンより、この生成物は、A
Z−1と同定された。また、螢光X線分析から求めた7
リ力/アヤミナモル比は80であった。
このAZ−IQ触媒に用いてベンゼンとエチレンの反応
を行った。実験条件は、ベンゼン基準チL’ 7 / 
H@ モA/比−3/1/2、WHS V −5,2h
r−鳳、反応温度420 C,圧力−4,0kg/cd
で行つ九。
反応開始後、3時間、25時間の成績を表4に示す。
表   4 実施例4 実施例3で得られた触媒を用いてベンゼン/エチL’7
/H,モル比、6/1/3、WHS V = 6.Oh
r″′1、反応温度440C,圧力−4,0kP/dで
反応を行った。
反応開始後、2時間、30時間、150時間の成績を表
5に示す。
表   5 比較例 水350L?に硫醒アルミニウム52とテトラプロピル
アンモニウムプロミド10?を溶かし、さらにQ br
andケイ酸塩水溶液(Na1O−8,9重量%、8i
02−28.9重−i%、H,O−62,2重量%)1
502を加え、かきまぜて均質なゲルを得た。
このゲルに、20%H,So、 50 fをかきまぜな
がら滴下してゲル化を促進させた。このゲルをテフaン
内張りオートクレーブに入れ、150C’で20時間攪
拌しながら結晶化させた。
得られた生成物を濾過洗浄後、120Cで5時間乾燥し
、500Cで4時間空気中で焼成を行った。
この生成物のX線回折パターンは、ZSM−5の回折パ
・ターンと一致した。また、螢光X線分析より求めた7
リ力/アルミナモル比は50であった。
このZSM−5を、1N塩化アンモニウム水溶液で60
Tl’、24時間イオン交換を行った後、濾過、洗浄、
120Cで6時間乾燥後、500Cで5時間空気焼成し
てH−ZSM−5を得た。
得られたH−ZSM−510Fをフラスコで、n−オク
タン50ccにトリメチルフォスファイト4ccを溶解
した溶液に加え九。窒素を徐々に流しながら、この混合
物を還流温度で80時間加熱した。その後、この混合物
を蒸発乾固して、得られた固体をペンタンで洗浄した後
、120Cで10時間乾燥、500Cで3時間焼成した
得られた生成物のリン酸化物の担持量は8.2重量−で
あった。
このり/含有H−Z 5M−5を触媒に用いて、ヘンセ
ン/エチレン/H81llI4/1/4、WH8V−4
eOhr−’、反応温度400 C%圧力= 3 、0
 kg/crAで行った。
反応開始後、6時間の成績を表6に示す。
表   6
【図面の簡単な説明】
図面は実施例1で得られた結晶性アルミノシリケー)A
Z−1のX線回折パターンを示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ベンゼンを水素共存下で気相においてエチレンと反応さ
    せる際に、触媒としてX線回折図において下表の回折パ
    ターンを有する結晶性アルミノシリケートを用いること
    を特徴とするベンゼンのエチル化法。 X線回折分析はCuKα線を用いて測定する。ただし、
    8.7±0.2と8.9±0.2の回折線のどちらかを
    相対強度100とする。
JP59246135A 1984-11-22 1984-11-22 ベンゼンのエチル化法 Granted JPS61126041A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5157688A (en) * 1974-09-23 1976-05-20 Mobil Oil Ringanjushokubai oyobi sonoseizoho
JPS59128210A (ja) * 1982-12-30 1984-07-24 Asahi Chem Ind Co Ltd 結晶性アルミノシリケ−ト、その製造方法及びそのアルミノシリケ−トから成るモノアルキルベンゼンのアルキル化用触媒

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPH0453851B2 (ja) 1992-08-27

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