JPS6064301A - 光学部品の反射防止膜とその形成方法 - Google Patents
光学部品の反射防止膜とその形成方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学部品の反射防止膜とその形成方法に関し、
特に反射防止膜を光学部品に加熱することなく常温で真
空蒸着により形成することを特徴とするものである。
特に反射防止膜を光学部品に加熱することなく常温で真
空蒸着により形成することを特徴とするものである。
従来、反射防止膜を光学部品に形成する場合、反射防止
膜形成用の蒸着材料を２５０〜４００℃に加熱しながら
光学部品上に真空蒸着する方法、所謂ボットコート法が
普通に行われている。しかし、ホットコート法は後述す
る如く真空蒸着の応用範囲、生産性、特性の安定性が極
めて狭く且つ低いのが現状である。
膜形成用の蒸着材料を２５０〜４００℃に加熱しながら
光学部品上に真空蒸着する方法、所謂ボットコート法が
普通に行われている。しかし、ホットコート法は後述す
る如く真空蒸着の応用範囲、生産性、特性の安定性が極
めて狭く且つ低いのが現状である。
たとえば、光学部品が無機ガラス基板の場合、下記の（
１１〜（６）の欠点がある。
１１〜（６）の欠点がある。
（１１蒸着材料として金属フッ化物、金属酸化物等が用
いられるため、ホットコート法を実施すると、加熱され
たガラス基板に不所望な酸化反応を生じ、また完全に冷
却されない状態で大気に曝されて再度酸化されるので、
屈折率が変化し、これが分光反射率の絆時変化という形
になって表われる。
いられるため、ホットコート法を実施すると、加熱され
たガラス基板に不所望な酸化反応を生じ、また完全に冷
却されない状態で大気に曝されて再度酸化されるので、
屈折率が変化し、これが分光反射率の絆時変化という形
になって表われる。
（２）鉛等を含有する高屈折率ガラス基板においては、
加熱によりＰｂ等の金属元素が基板表面に析出し易い現
象を呈する。その結果、Ｐｈ析出層と蒸着膜とよりなる
別の分光反射特性が得られ、予期した膜の分光反射特性
が得られない。
加熱によりＰｂ等の金属元素が基板表面に析出し易い現
象を呈する。その結果、Ｐｈ析出層と蒸着膜とよりなる
別の分光反射特性が得られ、予期した膜の分光反射特性
が得られない。
（３）非常に線膨弗率の大きいＰＫ−０１等のガラスを
基板として用いる場合、蒸着時の加熱湿度を通常より低
い値に設定したり、加熱後の徐冷時間を長くしたりして
ガラス自体の割れが発生しないようにする必要がある。
基板として用いる場合、蒸着時の加熱湿度を通常より低
い値に設定したり、加熱後の徐冷時間を長くしたりして
ガラス自体の割れが発生しないようにする必要がある。
（４）真空蒸着に際しては、ガラス基板を通常金属ヤト
イに設置し、蒸着装置内のドームに仕掛ける。このよう
な状態でホットコート法を３００℃前後の温度で実施し
、しかる後冷却すると、ガラスと金属ヤトイとの線詐張
率の差に応じて両者の間に収縮の差が生じる。
イに設置し、蒸着装置内のドームに仕掛ける。このよう
な状態でホットコート法を３００℃前後の温度で実施し
、しかる後冷却すると、ガラスと金属ヤトイとの線詐張
率の差に応じて両者の間に収縮の差が生じる。
その結果、ガラス基板と金属ヤトイとのサイズクリアラ
ンスが非常に小さい場合、金属ヤトイがガラス基板に嵌
入してガラスが割れる不其合を生じる。
ンスが非常に小さい場合、金属ヤトイがガラス基板に嵌
入してガラスが割れる不其合を生じる。
（５）ホットコート法に用いる真空蒸着装置では、荒引
排気の時点から加熱昇温するので、チャンバー内にガス
が発生し、非常に排気時間が長くなり、また蒸着後も徐
冷時間が必要なため、総合的な排気時間が極めて長くな
る。
排気の時点から加熱昇温するので、チャンバー内にガス
が発生し、非常に排気時間が長くなり、また蒸着後も徐
冷時間が必要なため、総合的な排気時間が極めて長くな
る。
（６）蒸着装置の駆動、搬送、回転、チャンバー自体の
構造設計を含めて真空シール、潤滑、ベアリング構造に
加熱（３００℃前後）による変形等の不具合を生ずる場
合がある。たとえば、駆動部にベアリングを用いてあれ
ば、これは焼き付きをおこし易く、長時間の耐久性がど
うしても満足されないのて゛、躯１１部に冷却部を設け
たり、ベアリングとして特殊材料を用いるか又はベアリ
ングに特殊処理を施すため、部品コストが非常に高くな
る。また、真空シール（パツキン）にしても、耐熱性の
高い材料を用いるので、これもコス）高の一因となる。
構造設計を含めて真空シール、潤滑、ベアリング構造に
加熱（３００℃前後）による変形等の不具合を生ずる場
合がある。たとえば、駆動部にベアリングを用いてあれ
ば、これは焼き付きをおこし易く、長時間の耐久性がど
うしても満足されないのて゛、躯１１部に冷却部を設け
たり、ベアリングとして特殊材料を用いるか又はベアリ
ングに特殊処理を施すため、部品コストが非常に高くな
る。また、真空シール（パツキン）にしても、耐熱性の
高い材料を用いるので、これもコス）高の一因となる。
その上、搬送系、回転系を有する複雑な機構の装置を用
いたくても、加熱を行うためこれらに冷却部を設けなけ
ればならず、使用する冷却水の量が単価に影昏し、且つ
材料変形をおこさず放出ガスを少なくするよう特殊な厚
い材料を用いることにもなり、コスト高の原因となる。
いたくても、加熱を行うためこれらに冷却部を設けなけ
ればならず、使用する冷却水の量が単価に影昏し、且つ
材料変形をおこさず放出ガスを少なくするよう特殊な厚
い材料を用いることにもなり、コスト高の原因となる。
次に、光学部品が合成樹脂製の場合、ホットコート法を
適用すると次のような欠点がある。
適用すると次のような欠点がある。
光学用透明合成樹脂としては、アクリル樹脂をベースと
したジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポ
リカーボネートのｆ也、アクリル樹脂、ＡＳ（アクリロ
ニトリル・スチレン共重合体）、ＰＳ（ポリスチレン）
等がある。光学部品はこれら樹脂から注型、射出成形に
より安価に作られ、無機ガラスに比べ軽鎖で、また任意
の形状に自由に形成し得る長所がある反面、熱に弱く
（変形、材料特性劣化）、傷付き易い等の短所がある。
したジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポ
リカーボネートのｆ也、アクリル樹脂、ＡＳ（アクリロ
ニトリル・スチレン共重合体）、ＰＳ（ポリスチレン）
等がある。光学部品はこれら樹脂から注型、射出成形に
より安価に作られ、無機ガラスに比べ軽鎖で、また任意
の形状に自由に形成し得る長所がある反面、熱に弱く
（変形、材料特性劣化）、傷付き易い等の短所がある。
この熱に弱い点がホットコート法の真空蒸着により反射
防止膜を形成する際致命的な欠陥となる。すなわち、無
機ガラス基板の場合、該基板を２５０〜４００℃に加熱
しながらこれに金属フッ化物または金ｊｘ酸化物等の付
着、硬度ともに強固な膜を容易に蒸着することができる
。しかし、合成樹脂基板の場合、８０℃以上に加熱する
と、基板が変形したり、その屈折率が変化するので、こ
の上に２５０〜４００℃で加熱しながら真空蒸着により
付着、娩度ともに強固な反射防止膜を形成することは極
めて困難である。
防止膜を形成する際致命的な欠陥となる。すなわち、無
機ガラス基板の場合、該基板を２５０〜４００℃に加熱
しながらこれに金属フッ化物または金ｊｘ酸化物等の付
着、硬度ともに強固な膜を容易に蒸着することができる
。しかし、合成樹脂基板の場合、８０℃以上に加熱する
と、基板が変形したり、その屈折率が変化するので、こ
の上に２５０〜４００℃で加熱しながら真空蒸着により
付着、娩度ともに強固な反射防止膜を形成することは極
めて困難である。
従って、合成樹脂光学部品に反射防止膜を形成するため
に、ホットコート法に代り、後述するような種々の方法
が現在試みられている。しかし、これら方法は無機ガラ
ス上に反射防止膜を形成する場合と異なり、成膜材料、
膜構成、特性（光学特性、耐久性）を重視する各々独特
の方法であるため、後述するよう処理方法に様々な不具
合を有する。
に、ホットコート法に代り、後述するような種々の方法
が現在試みられている。しかし、これら方法は無機ガラ
ス上に反射防止膜を形成する場合と異なり、成膜材料、
膜構成、特性（光学特性、耐久性）を重視する各々独特
の方法であるため、後述するよう処理方法に様々な不具
合を有する。
（α）第１の方法は合成樹脂光学部品の表面に下地層と
してＳｉＯ！又は蒸着ガラスを０．５〜１０μの厚さで
蒸着し、その上に反射防止膜を形成するものである。し
かし、この方法では、Ｓ−〇、又は蒸着ガラスの蒸着に
時間がかかるので作業生産性が悪くなる。また、ＳｉＯ
２の膜厚が０．５〜１０μになると、光の吸収が大きく
なり、０．１〜０．３％のリップル反射波形を呈するよ
うになる。その上、下地層の強度が大きいため、該下地
層の厚膜による応力変形を生じ、合成樹脂光学部品の成
形形状精度が保持できなくなる。
してＳｉＯ！又は蒸着ガラスを０．５〜１０μの厚さで
蒸着し、その上に反射防止膜を形成するものである。し
かし、この方法では、Ｓ−〇、又は蒸着ガラスの蒸着に
時間がかかるので作業生産性が悪くなる。また、ＳｉＯ
２の膜厚が０．５〜１０μになると、光の吸収が大きく
なり、０．１〜０．３％のリップル反射波形を呈するよ
うになる。その上、下地層の強度が大きいため、該下地
層の厚膜による応力変形を生じ、合成樹脂光学部品の成
形形状精度が保持できなくなる。
（ｈ）第２の方法は合成樹脂光学部品の光面にγルキル
トリアルコキシシランを主成分とするポリシロキサン系
塗料を塗布して硬化鼓膜を形成するか、または該硬化被
膜上に５ｔＯ１ｓｉｏｔ 、ＡＬ２０．＋等の無機酸化
物被膜を真空蒸着により形成するものである。しかし、
この方法では、ポリシロキサン系塗料を任意の形状を有
する光学部品に均一な膜ｊシ精度で塗布することが極め
て内縦であり、また強固な硬化被膜を短時間で形成する
手段に関係する（生産）設備費用が多大なものとなる。
トリアルコキシシランを主成分とするポリシロキサン系
塗料を塗布して硬化鼓膜を形成するか、または該硬化被
膜上に５ｔＯ１ｓｉｏｔ 、ＡＬ２０．＋等の無機酸化
物被膜を真空蒸着により形成するものである。しかし、
この方法では、ポリシロキサン系塗料を任意の形状を有
する光学部品に均一な膜ｊシ精度で塗布することが極め
て内縦であり、また強固な硬化被膜を短時間で形成する
手段に関係する（生産）設備費用が多大なものとなる。
現在、上記方法を仮状の光学部品に適用する場合、該部
品の形状精度を変化させることなく短時間で形成される
硬化被膜の膜厚精度を保持するには、該膜厚は１μ前後
が限度となる。これに対し、任意形状の合成、樹脂光学
部品に関しては、ポリシロキサン系塗料を全体的に０．
１〜０，３μの膜厚精度で塗布し、光学部品の形状精度
を変えることなく短時間で強固な硬化被膜にすることは
殆ど不可能である０ （ｔり 皓３の方法はＳｉＯを合成樹脂光学部品に蒸着
することである。ＳｔＯは抵抗加熱により蒸着すること
ができ、５ｉＯ１に比べ光学部品との密着性が良好で、
０２１素）の封入により屈折率を任意に変化日せること
かでき、また多層膜としての光学特性を付与することが
できる。しかし、ＳｉＯ蒸着時の加熱力に対し蒸着開始
からその完了までのｓｉｏ蒸発速度をＪｔ例して制御す
ることが困難であり、また０２による屈折率可変が蒸着
装置におけるチャンバー寸法、排気量、排気速度によっ
てＳＬＯの酸化作用、すなわち屈折率の便化率の差を生
じ、これにより所望の屈折率を常に再現性良く得るのが
困難になる。
品の形状精度を変化させることなく短時間で形成される
硬化被膜の膜厚精度を保持するには、該膜厚は１μ前後
が限度となる。これに対し、任意形状の合成、樹脂光学
部品に関しては、ポリシロキサン系塗料を全体的に０．
１〜０，３μの膜厚精度で塗布し、光学部品の形状精度
を変えることなく短時間で強固な硬化被膜にすることは
殆ど不可能である０ （ｔり 皓３の方法はＳｉＯを合成樹脂光学部品に蒸着
することである。ＳｔＯは抵抗加熱により蒸着すること
ができ、５ｉＯ１に比べ光学部品との密着性が良好で、
０２１素）の封入により屈折率を任意に変化日せること
かでき、また多層膜としての光学特性を付与することが
できる。しかし、ＳｉＯ蒸着時の加熱力に対し蒸着開始
からその完了までのｓｉｏ蒸発速度をＪｔ例して制御す
ることが困難であり、また０２による屈折率可変が蒸着
装置におけるチャンバー寸法、排気量、排気速度によっ
てＳＬＯの酸化作用、すなわち屈折率の便化率の差を生
じ、これにより所望の屈折率を常に再現性良く得るのが
困難になる。
従って、ＳＬＯの蒸着法は生産性（自動化、量産性）が
非常に悪く、高い効率、歩留り向上を考えた場合問題と
なる。
非常に悪く、高い効率、歩留り向上を考えた場合問題と
なる。
（ｄ）第４の方法は合成樹脂光学部品上に化学的に安定
で吸湿性のない酸窒化硅素（５ｉＯｘＮｙ）よりなるハ
ードコート膜を高周波イオンブレーティング法により形
成し、その上に反射防止効果を有する膜を形成するもの
である。
で吸湿性のない酸窒化硅素（５ｉＯｘＮｙ）よりなるハ
ードコート膜を高周波イオンブレーティング法により形
成し、その上に反射防止効果を有する膜を形成するもの
である。
この場合、酸窒化硅素膜を形成するには大別して次の４
つの方法がある。
つの方法がある。
ｒ、 ｓ ｉ ０２とＳ’２Ｎｌ とを蒸着速度の比を
制御しながら同等蒸着して所望の屈折率を有する酸窒化
硅素膜を得る。
制御しながら同等蒸着して所望の屈折率を有する酸窒化
硅素膜を得る。
■、５ｉｏｔ−Ｎｏ、アンモニア等の雰囲気中で反応蒸
着する。
着する。
■１．金ｓｓｉ、ｓｉｏの蒸発源にＡｒ十ＮＯ、アンモ
ニア、Ｎ２．０２等のガス雰囲気中で反応性イオンプレ
ートラ施ス。
ニア、Ｎ２．０２等のガス雰囲気中で反応性イオンプレ
ートラ施ス。
■、金属ＳｉターゲットにＡｒ十ＮＯ，アンモニア、Ｎ
２．０２等の反応ガス雰囲気中でスパッタ蒸着を施す。
２．０２等の反応ガス雰囲気中でスパッタ蒸着を施す。
上述したいずれの方法でも１．４６〜２．００の範囲内
で任意の屈折率を有する酸窒化硅素膜を形成し得るので
、これを光学部品の屈折率に合せて該光学部品上に第１
層として被着することにより、屈折率の差により生ずる
分光反射特性のリップル波形のないシャープな硬化性反
射防止膜が再現性良く得られるとしている。しかし、か
−る反応性高周波イオンブレーティング法が適用される
合成樹脂光学部品は通常ＣＲ−３９（熱硬化性樹脂）基
板である。この熱硬化性樹脂は射出成形用樹脂に比べ１
００℃の高温に耐えることができるので、上記第４の方
法を実施するに際し、実際メガネレンズに用いられるＣ
Ｒ＝３９等は蒸着開始前に予め約７０℃に加熱されてい
る。
で任意の屈折率を有する酸窒化硅素膜を形成し得るので
、これを光学部品の屈折率に合せて該光学部品上に第１
層として被着することにより、屈折率の差により生ずる
分光反射特性のリップル波形のないシャープな硬化性反
射防止膜が再現性良く得られるとしている。しかし、か
−る反応性高周波イオンブレーティング法が適用される
合成樹脂光学部品は通常ＣＲ−３９（熱硬化性樹脂）基
板である。この熱硬化性樹脂は射出成形用樹脂に比べ１
００℃の高温に耐えることができるので、上記第４の方
法を実施するに際し、実際メガネレンズに用いられるＣ
Ｒ＝３９等は蒸着開始前に予め約７０℃に加熱されてい
る。
従って、酸窒化硅素のハードコート膜を１〜３μ厚で形
成し、さらにその上に反射防止膜を形成する際に次のよ
うな欠点が生ずる。
成し、さらにその上に反射防止膜を形成する際に次のよ
うな欠点が生ずる。
■１〜３μ厚のハードフート膜を反応性高周波イオンブ
レーティングにより蒸着するのに極めて時間がかかる。
レーティングにより蒸着するのに極めて時間がかかる。
■Ａ ｒｚ Ｎ Ｏ％ ７ ＞ モニア、Ｎ、 、Ｏ，
等の活性又は不活性ガスを装置内に封入し、か＼るガス
算囲気中で高周波イオンブレーティングにより酸窒化硅
素膜を形成する際、成膜を仕曾の屈折率で再現性良く蒸
着することは極めて困難である。
等の活性又は不活性ガスを装置内に封入し、か＼るガス
算囲気中で高周波イオンブレーティングにより酸窒化硅
素膜を形成する際、成膜を仕曾の屈折率で再現性良く蒸
着することは極めて困難である。
■反応性高周波イオンブレーティングによる酸窒化硅素
の成膜法では、蒸発速度を大きくとれないので蒸着時間
が長くなりまた蒸発源からの輻射熱を回僻するため基板
までの距離を十分にとると蒸着時間が一層長くなる。と
ころで、基板は高周波プラズマ雰囲気中に曝されている
ので蒸着時間が長くかかると、基板表面の温度が常に上
昇するようになる。しかも、基板は熱に強くないので、
長時間の蒸着により該基板の形状寸法精度が低下し、最
終的には変形という不具合を生じる。
の成膜法では、蒸発速度を大きくとれないので蒸着時間
が長くなりまた蒸発源からの輻射熱を回僻するため基板
までの距離を十分にとると蒸着時間が一層長くなる。と
ころで、基板は高周波プラズマ雰囲気中に曝されている
ので蒸着時間が長くかかると、基板表面の温度が常に上
昇するようになる。しかも、基板は熱に強くないので、
長時間の蒸着により該基板の形状寸法精度が低下し、最
終的には変形という不具合を生じる。
■高周波イオンブレーティングによれば、成膜の分布領
域が狭いので量産性が極めて悪く、また用いる装置自体
が機械的に複雑なためマニュアルが困難で、コスト高と
なる。特に、プラズマ放電を利用するため、パラメータ
ーの定創、化が困難で成膜特性の再現性が著しく劣る。
域が狭いので量産性が極めて悪く、また用いる装置自体
が機械的に複雑なためマニュアルが困難で、コスト高と
なる。特に、プラズマ放電を利用するため、パラメータ
ーの定創、化が困難で成膜特性の再現性が著しく劣る。
従って、本発明の目的は上述した従来技術の諸欠点を解
消し、光学部品に加熱することなく常温で真空蒸着によ
り反射防止膜を形成した光学部品の反射防止膜並びにそ
の方法を提供せんとするにある。
消し、光学部品に加熱することなく常温で真空蒸着によ
り反射防止膜を形成した光学部品の反射防止膜並びにそ
の方法を提供せんとするにある。
すなわち、本発明の方法によれば、ガラス基板又は合成
樹脂基板（ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト、射出成形用のアクリル、ＰＣ，ＡＳ、ＰＳ樹脂）上
に反射防止特性を有する蒸発材料（たとえば１．３８の
Ｍ！ＩＦ、等）と１０〜３０％のｓ ｉ Ｏ２との混合
物を単層膜として、または基板側から見て嬉１層として
フッ化物または硅素酸化物等の蒸発材料、中間層および
最終層としてフッ化物または酸化物等の蒸発材料と、こ
れら各材料に添加した１０〜３０％のｓｉｏ、との混合
物を順次基板の加熱なしに又はＡｒおよび／またはＯ７
のイオンビームを照射しつつ常温で電子ビーム加熱蒸発
により真空蒸着して反射防止膜を形成する。
樹脂基板（ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト、射出成形用のアクリル、ＰＣ，ＡＳ、ＰＳ樹脂）上
に反射防止特性を有する蒸発材料（たとえば１．３８の
Ｍ！ＩＦ、等）と１０〜３０％のｓ ｉ Ｏ２との混合
物を単層膜として、または基板側から見て嬉１層として
フッ化物または硅素酸化物等の蒸発材料、中間層および
最終層としてフッ化物または酸化物等の蒸発材料と、こ
れら各材料に添加した１０〜３０％のｓｉｏ、との混合
物を順次基板の加熱なしに又はＡｒおよび／またはＯ７
のイオンビームを照射しつつ常温で電子ビーム加熱蒸発
により真空蒸着して反射防止膜を形成する。
このようにして形成した反射防止膜は基板との密着性が
極めて良く、耐擦傷性および耐候性が優れ、また反射の
低い干渉色が再現性良く得られる。
極めて良く、耐擦傷性および耐候性が優れ、また反射の
低い干渉色が再現性良く得られる。
特に、貞空蒸看時にＡｒ若しくはＯ７又はＡ ｒ ＋
０２ のイオンビームを基板に照射する。
０２ のイオンビームを基板に照射する。
このようにして、反射防止膜の耐久性を一層向上させる
ことができる。
ことができる。
本発明によれば、光学部品の基板としては従来用いられ
ている全てのものを使用することができ、たとえばＢ
Ｋ −７を始めとする光学用のあらゆるガラス、光学部
品としての機Ｍ１度を出せるジエチレングリコールビス
アリルカーボネート等のあらゆる熱硬化性樹脂、光学部
品として機械精度を付与し得るアクリル樹脂、ＰＣＳＡ
ｓ、ＰＳの如き射出成形用樹脂がある。
ている全てのものを使用することができ、たとえばＢ
Ｋ −７を始めとする光学用のあらゆるガラス、光学部
品としての機Ｍ１度を出せるジエチレングリコールビス
アリルカーボネート等のあらゆる熱硬化性樹脂、光学部
品として機械精度を付与し得るアクリル樹脂、ＰＣＳＡ
ｓ、ＰＳの如き射出成形用樹脂がある。
か＼る基板に蒸着して反射防止膜を形成する蒸発材料と
しては、Ｃｇ ＦｓＳＮｄＦ、 、ＬｃＬＦ。
しては、Ｃｇ ＦｓＳＮｄＦ、 、ＬｃＬＦ。
、ＰｂＦ２、Ｎａ、ＡｔＦ６、ＮａＦ１ＬｉＦ１ＭｇＦ
２等の如きフッ化物、Ｃｇ Ｏｘ 、Ｚ ｒ Ｏｘ 、
Ｔ ’２０ｓ、ＴｉＯｌＡＺｔＯｍ等の酸化物を用いる
。また、ＳｔＯ等を含む硅素酸化物も一部使用すること
ができる。
２等の如きフッ化物、Ｃｇ Ｏｘ 、Ｚ ｒ Ｏｘ 、
Ｔ ’２０ｓ、ＴｉＯｌＡＺｔＯｍ等の酸化物を用いる
。また、ＳｔＯ等を含む硅素酸化物も一部使用すること
ができる。
Ｍ！ＩＦ、の如きフッ化物は、従来常温真空蒸着すると
基板との密着性よりも引張応力が大きくち密な膜になら
ず、すぐ剥離しがちなことが知られていたが、これに硬
度、粘性、密着効果を向上させる硅素酸化物、特にｓ
ｉ ａｔを１０〜３０％添加すると、常温真空蒸着後密
着性の高い蒸着膜が得られることを確めた。
基板との密着性よりも引張応力が大きくち密な膜になら
ず、すぐ剥離しがちなことが知られていたが、これに硬
度、粘性、密着効果を向上させる硅素酸化物、特にｓ
ｉ ａｔを１０〜３０％添加すると、常温真空蒸着後密
着性の高い蒸着膜が得られることを確めた。
従って、本発明においては、単層又は多層反射防止膜を
形成する際、上′述した蒸発材料に１０〜３０％のｓｉ
ｏ、を添加することが必須条件である。５ｉＯ１が１０
％未満の場合、蒸着膜が剥離しがちなため好ましくなく
、また４０％を越えると反射防止幼果が得られなくなり
好ましくない。
形成する際、上′述した蒸発材料に１０〜３０％のｓｉ
ｏ、を添加することが必須条件である。５ｉＯ１が１０
％未満の場合、蒸着膜が剥離しがちなため好ましくなく
、また４０％を越えると反射防止幼果が得られなくなり
好ましくない。
次に本発明を実施例につき説明する。
実施例 １
本例では、第１図に示すように光学部品の基板１１上に
硬化性反射防止膜１２を下記のようにして形成した。
硬化性反射防止膜１２を下記のようにして形成した。
Ａ８基板１１として１．５１６３３の屈折率（α線）を
有するＢＫ−７ガラスを用い、これを第２図に示すよう
な常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバー２１内の回転
ドーム２３に取り付けた。一方、蒸発材料２４として、
ＭｇＦ２に１０〜３０％の５ｉｏｖを添加して得た混合
物を用い、これを常温で電子銃２２により加熱蒸発させ
て基板１１上に蒸着した。この場合、チャンバー内の到
悸真空度は８×１０°６〜２ Ｘ １ ｒＯｒｒであっ
た。このようにして得た反射防止蒸着膜１２αは１．３
８９の屈折率および１３７．５ｙｎμの光学的膜厚を有
し、また第３図に示すような優れた分光反射特性を示し
た。
有するＢＫ−７ガラスを用い、これを第２図に示すよう
な常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバー２１内の回転
ドーム２３に取り付けた。一方、蒸発材料２４として、
ＭｇＦ２に１０〜３０％の５ｉｏｖを添加して得た混合
物を用い、これを常温で電子銃２２により加熱蒸発させ
て基板１１上に蒸着した。この場合、チャンバー内の到
悸真空度は８×１０°６〜２ Ｘ １ ｒＯｒｒであっ
た。このようにして得た反射防止蒸着膜１２αは１．３
８９の屈折率および１３７．５ｙｎμの光学的膜厚を有
し、また第３図に示すような優れた分光反射特性を示し
た。
次に、反射防止蒸着膜１２ａに対し下記に示すような耐
擦傷性試験、耐熱・耐湿性試験、耐溶剤性試験および密
着性試験を行って第１表に示すような結果を得た。
擦傷性試験、耐熱・耐湿性試験、耐溶剤性試験および密
着性試験を行って第１表に示すような結果を得た。
洗浄クロスラップ試験：
基板１１の面を約１ ｋｇの荷重下洗浄クロスで往復２
０回こすって擦傷量を目視で評価した。評価は傷が全く
発生しない状態をＳとし、傷の大小によりＡからＥの５
段階相対評価で行った。
０回こすって擦傷量を目視で評価した。評価は傷が全く
発生しない状態をＳとし、傷の大小によりＡからＥの５
段階相対評価で行った。
鉛筆硬度試験：
ＪＩＳ Ｋ−５４００に従った。
耐熱・耐湿性試験；
蒸着膜１２αを一４０℃〜８０℃の温度、９５％の湿度
の条件下で３日間くり返し試験に伽し、クランク発生を
観察した。
の条件下で３日間くり返し試験に伽し、クランク発生を
観察した。
耐溶剤性試験：
ｍ着膜１２αをエタノール又はメタノールを含浸した洗
浄クロスで１０回こすり、クラック発生を観察した。
浄クロスで１０回こすり、クラック発生を観察した。
密着性試験：
セロテープ（１５ｉｍ幅）を蒸着膜１２αに十分こすり
つけて密着し、セロテープの一端を４５°の角度にし、
これがら瞬時に引き剥して蒸着膜１２αの剥離を目視に
より確認して密着性を評価する。
つけて密着し、セロテープの一端を４５°の角度にし、
これがら瞬時に引き剥して蒸着膜１２αの剥離を目視に
より確認して密着性を評価する。
第１表の結果から明らかな如く、反射防止蒸着膜１２α
は優れた光学特性のほかに耐久性等のすぐれた光学部品
としての物性を有する。
は優れた光学特性のほかに耐久性等のすぐれた光学部品
としての物性を有する。
Ｂ：基板１１として、ＢＫ−７の代りに１゜５０２の屈
折率（α線）を有するジエチレングリコールとスγリル
カーボネートを用い、これに上記Ａ項と同じ処理を繰返
して１．３８９の屈折率を有する反射防止蒸着膜１２Ａ
を形成した。この蒸着膜１２Ａは第４図に示すようなす
ぐれた分光反射特性を示し、第１表に示すような光学部
品としてすぐれた物性を有する。
折率（α線）を有するジエチレングリコールとスγリル
カーボネートを用い、これに上記Ａ項と同じ処理を繰返
して１．３８９の屈折率を有する反射防止蒸着膜１２Ａ
を形成した。この蒸着膜１２Ａは第４図に示すようなす
ぐれた分光反射特性を示し、第１表に示すような光学部
品としてすぐれた物性を有する。
Ｃ：基板１１として、ＢＫ−７の代りに、１、４９９の
屈折率（α線）を有するアクリル樹脂射出成形品を用い
、これに上記Ａ項と同じ処理を繰返して１．３８９の屈
折率を有する反射防止蒸着膜１？を形成した。この蒸着
膜１２Ｃは第５図に示すようなすぐれた分光反射特性を
示し、第１表に示すような光学部品としてすぐれた物性
を有する。
屈折率（α線）を有するアクリル樹脂射出成形品を用い
、これに上記Ａ項と同じ処理を繰返して１．３８９の屈
折率を有する反射防止蒸着膜１？を形成した。この蒸着
膜１２Ｃは第５図に示すようなすぐれた分光反射特性を
示し、第１表に示すような光学部品としてすぐれた物性
を有する。
実施例 ２
本例では、第６図に示すように光学部品の基板３１上に
硬化性反射防止膜３２を下記のようにして形成した。
硬化性反射防止膜３２を下記のようにして形成した。
Ａ：基板３１として、１．５１６３３の屈折率（α線）
を有するＩ３に一７ガラスを用い、これを第７図に示す
ような常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバー４１内の
回転ドーム４４に取り付けた。一方、蒸発材料４５とし
てＭ！ＩＦ。
を有するＩ３に一７ガラスを用い、これを第７図に示す
ような常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバー４１内の
回転ドーム４４に取り付けた。一方、蒸発材料４５とし
てＭ！ＩＦ。
に１０〜３０％の５ｉｏ２を添加して得た混合物を用い
、これを常温で電子銃４２により加熱蒸発させて基板３
１上に蒸着した。この場合、チャンバー４１内の到達真
空度は６×１０′６〜２ Ｘ ’ｌ ｍ’ｆｏｒｒであ
り、２〜８ Ｘ １０４Ｔｏｒｔ＠封入量のＡｒイオン
源４３からＡｒプラズマイオンビーム４６を基板３１に
照射した。
、これを常温で電子銃４２により加熱蒸発させて基板３
１上に蒸着した。この場合、チャンバー４１内の到達真
空度は６×１０′６〜２ Ｘ ’ｌ ｍ’ｆｏｒｒであ
り、２〜８ Ｘ １０４Ｔｏｒｔ＠封入量のＡｒイオン
源４３からＡｒプラズマイオンビーム４６を基板３１に
照射した。
このようにして得た反射防止蒸着膜３２αは１．３８９
の屈折率および１３７．５ｍμの光学的膜厚を有し、第
８図に示すような優れた分光反射特性を示した。
の屈折率および１３７．５ｍμの光学的膜厚を有し、第
８図に示すような優れた分光反射特性を示した。
この蒸着膜３２αの物性を調べるために実施列１に記載
したと同じ試験を行って第１表に示すような結果を得た
。第１表の結果から明らかな如く、常濡次空蒸着時にＡ
ｒプラズマイオンビームを照射することにより光学部品
としての蒸着膜の耐久性がさらに向上していることがわ
かる。
したと同じ試験を行って第１表に示すような結果を得た
。第１表の結果から明らかな如く、常濡次空蒸着時にＡ
ｒプラズマイオンビームを照射することにより光学部品
としての蒸着膜の耐久性がさらに向上していることがわ
かる。
Ｂ；基板３１として、ＢＫ−７の代りに、１、５０２の
屈折率（α線）を有するジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネートを用い、これに上記Ａ項と同じ処理を繰
返して１．３８９の屈折率を有する反射防止蒸着膜３２
ｈを形成した。この蒸着膜３２ｈは第９図に示すよＣＩ
基板３１として、ＢＫ−７の代りに、１、４９９の屈折
率（α線）を有するアクリル樹脂射出成形品を用い、こ
れに上記Ａ項と同じ処理を繰返して、１．３８９の屈折
率を有する反射防止蒸着膜３２Ｃを形成した。この蒸着
膜３２ｅは第１０図に示すような優れた分光反射特性を
示し、第１表に示すような光学部品としてすぐれた物性
を有する。
屈折率（α線）を有するジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネートを用い、これに上記Ａ項と同じ処理を繰
返して１．３８９の屈折率を有する反射防止蒸着膜３２
ｈを形成した。この蒸着膜３２ｈは第９図に示すよＣＩ
基板３１として、ＢＫ−７の代りに、１、４９９の屈折
率（α線）を有するアクリル樹脂射出成形品を用い、こ
れに上記Ａ項と同じ処理を繰返して、１．３８９の屈折
率を有する反射防止蒸着膜３２Ｃを形成した。この蒸着
膜３２ｅは第１０図に示すような優れた分光反射特性を
示し、第１表に示すような光学部品としてすぐれた物性
を有する。
実施例 ３
本例では、第１１図に示すように光学部品の基板５１上
に硬化性反射防止膜５２として第１層５３、第２層５４
、第３Ｎ５５よりなる三層構成の膜を下記のようにして
形成した。
に硬化性反射防止膜５２として第１層５３、第２層５４
、第３Ｎ５５よりなる三層構成の膜を下記のようにして
形成した。
Ａ；基板５１として、１．５１６３３の屈折率（α線）
を有するＢＫ−７ガラスを用い、これを第２図に示すよ
うな常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバー２１内の回
転ドーム２３に取り付けた。一方、蒸発材料２４として
、ＣｅＦ、に１０〜３０％のｓｉｏ、を添加して得た混
合物を用い、これを常温で電子銃２２により加熱蒸発さ
せて基板５１上に蒸着することにより１．６２５の屈折
率（α線）および１２５ｍμの光学的膜厚を有する嬉１
＃５３の膜を形成した。次に、蒸発材料として、Ｃ１０
，に１０〜３０％のｓ ｉ ｏ、を添加して得た混合物
を用い、第１層５３の形成と同じ処理を繰返して第１層
５３上に２．０２の屈折率および２５０ｍμの光学的膜
厚を有する第２Ｎ５４の膜を形成した。さらに、蒸発材
料として、Ｍ！ＩＦ、に１０〜３０％のｓ ｉ ｏ、を
添加して得た混合物を用い、第１層５３の形成と同じ処
理を繰返して第２層５４上に１．３８９の屈折率および
１２５ｍμの光学的膜厚を有する第３層５５の膜を形成
した。これら第１〜３層の膜を形成する常温真空蒸着処
理の間、チャンバー２１内の到達真空度は６ Ｘ １
（ｒ’〜２ Ｘ １ ｒｒ”Ｔｏｒｒであった。
を有するＢＫ−７ガラスを用い、これを第２図に示すよ
うな常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバー２１内の回
転ドーム２３に取り付けた。一方、蒸発材料２４として
、ＣｅＦ、に１０〜３０％のｓｉｏ、を添加して得た混
合物を用い、これを常温で電子銃２２により加熱蒸発さ
せて基板５１上に蒸着することにより１．６２５の屈折
率（α線）および１２５ｍμの光学的膜厚を有する嬉１
＃５３の膜を形成した。次に、蒸発材料として、Ｃ１０
，に１０〜３０％のｓ ｉ ｏ、を添加して得た混合物
を用い、第１層５３の形成と同じ処理を繰返して第１層
５３上に２．０２の屈折率および２５０ｍμの光学的膜
厚を有する第２Ｎ５４の膜を形成した。さらに、蒸発材
料として、Ｍ！ＩＦ、に１０〜３０％のｓ ｉ ｏ、を
添加して得た混合物を用い、第１層５３の形成と同じ処
理を繰返して第２層５４上に１．３８９の屈折率および
１２５ｍμの光学的膜厚を有する第３層５５の膜を形成
した。これら第１〜３層の膜を形成する常温真空蒸着処
理の間、チャンバー２１内の到達真空度は６ Ｘ １
（ｒ’〜２ Ｘ １ ｒｒ”Ｔｏｒｒであった。
ぐれた分光反射特性を示し、また実施列１と同じ試験を
行って得た第１表に示す結果から分るように光学部品と
してすぐれた物性を有する。
行って得た第１表に示す結果から分るように光学部品と
してすぐれた物性を有する。
Ｂ：基板５１として、ＢＫ−７の代りに、１、５０２の
屈折率を有するジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートを用い、これに上記Ａ項と同じ処理を繰返して第
１〜３層よりなる反射防止蒸着膜５１を形成した。この
蒸着膜５２ｈは第１．３図に示すようなすぐれた分光反
射特性を示し、第１表に示すような光学部品としてすぐ
れた物性を有する。
屈折率を有するジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートを用い、これに上記Ａ項と同じ処理を繰返して第
１〜３層よりなる反射防止蒸着膜５１を形成した。この
蒸着膜５２ｈは第１．３図に示すようなすぐれた分光反
射特性を示し、第１表に示すような光学部品としてすぐ
れた物性を有する。
ＣＩ基板５１として、ＢＫ−７の代りに、１、４９９の
屈折率を有するアクリル樹脂射出成形品を用い、これに
上記Ａ項と同じ処理を繰返して、第１〜３層よりなる反
射防止蒸着膜５？を形成した。この蒸着膜５２Ｃは第１
４図に示すようなすぐれた分光反射特性を示し、第１表
に示すような光学部品としてすぐれた物性を有する。
屈折率を有するアクリル樹脂射出成形品を用い、これに
上記Ａ項と同じ処理を繰返して、第１〜３層よりなる反
射防止蒸着膜５？を形成した。この蒸着膜５２Ｃは第１
４図に示すようなすぐれた分光反射特性を示し、第１表
に示すような光学部品としてすぐれた物性を有する。
娑施例 ４
本例においては、第１５図に示すように光学部品の基板
６１上に硬化性反射防止膜６２として第１層６３、第２
層６４、第３層６５よりなる三層構成の膜を下記のよう
にして形成した。
６１上に硬化性反射防止膜６２として第１層６３、第２
層６４、第３層６５よりなる三層構成の膜を下記のよう
にして形成した。
Ａ：基枦６１として、１．５１６３３の屈折率（α線）
を有するＢＫ−７ガラスを用い、これを第７図に示すよ
うな常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバー４１内の回
転ドーム４４に取り付けた。一方、蒸発材料４５として
Ｃｇ Ｆｍに１０〜３０％のｓｈｏ、を添加して得た混
合物を用い、これを常温で電子銃４２により加熱蒸発さ
せて基板６１上に蒸着することにより１．６２５の屈折
率（α線）および１２５ｍμの光学的膜厚を有する第１
Ｎ６３の膜を形成した。次に、蒸発材料として、Ｃｅ０
ｔに１０〜３０％の５ｉｏｖを添加して得た混合物を用
い第１層６３の形成と同じ処理を繰返して第１層６３上
に２．０２の屈折率および２５０ｍμの光学的膜厚を有
する第２Ｎ６４の膜を形成した。さらに、蒸発材料とし
て、Ｍ！ＩＦｚに１０〜３０％のｓｉｏ、を添加して得
た混合物を用い、第１層６３の形成と同じ処理を繰返し
て第２層６４上に１．３８９の屈折率および１２５ｍμ
の光学的膜厚を有する第３層６５の膜を形成した。これ
ら第１〜３層の膜を形成する常温真空処理の間、チャン
バー４１内の到達真空度は６ Ｘ １０’〜２ Ｘ Ｉ
Ｑ’ｔｏｒｒで、２〜８×１０″ＩＴｏｒ憎封入量の
Ａｒイオン源４３からＡｒプラズマイオンビーム４６を
基板６１の方に照射した。
を有するＢＫ−７ガラスを用い、これを第７図に示すよ
うな常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバー４１内の回
転ドーム４４に取り付けた。一方、蒸発材料４５として
Ｃｇ Ｆｍに１０〜３０％のｓｈｏ、を添加して得た混
合物を用い、これを常温で電子銃４２により加熱蒸発さ
せて基板６１上に蒸着することにより１．６２５の屈折
率（α線）および１２５ｍμの光学的膜厚を有する第１
Ｎ６３の膜を形成した。次に、蒸発材料として、Ｃｅ０
ｔに１０〜３０％の５ｉｏｖを添加して得た混合物を用
い第１層６３の形成と同じ処理を繰返して第１層６３上
に２．０２の屈折率および２５０ｍμの光学的膜厚を有
する第２Ｎ６４の膜を形成した。さらに、蒸発材料とし
て、Ｍ！ＩＦｚに１０〜３０％のｓｉｏ、を添加して得
た混合物を用い、第１層６３の形成と同じ処理を繰返し
て第２層６４上に１．３８９の屈折率および１２５ｍμ
の光学的膜厚を有する第３層６５の膜を形成した。これ
ら第１〜３層の膜を形成する常温真空処理の間、チャン
バー４１内の到達真空度は６ Ｘ １０’〜２ Ｘ Ｉ
Ｑ’ｔｏｒｒで、２〜８×１０″ＩＴｏｒ憎封入量の
Ａｒイオン源４３からＡｒプラズマイオンビーム４６を
基板６１の方に照射した。
このようにして得た第１〜３層よりなる反射防止蒸着膜
６２ｃＬは第１６図に示すようなすぐれた分光反射特性
を示し、また実施例１と同じ試験を行って得た第１表に
示す結果から明らかな如く常温真空蒸着時にＡｒプラズ
マイオンビームを照射することにより光学部品としての
蒸着膜の耐久性がさらに向上していることがわかる。
６２ｃＬは第１６図に示すようなすぐれた分光反射特性
を示し、また実施例１と同じ試験を行って得た第１表に
示す結果から明らかな如く常温真空蒸着時にＡｒプラズ
マイオンビームを照射することにより光学部品としての
蒸着膜の耐久性がさらに向上していることがわかる。
Ｂ：基板６１として、ＢＫ−７の代りに、１、５０２の
屈折率を有するジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートを用い、これに上記Ａ項と同じ処理を繰返して第
１〜３１ｆｌよりなる反射防止蒸着膜６２ｈを形成した
。この蒸着膜６２ｈは第１γ図に示すようなすぐれた分
光反射特性を示し、第１表に示すような光学部品として
すぐれた物性を有する。
屈折率を有するジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートを用い、これに上記Ａ項と同じ処理を繰返して第
１〜３１ｆｌよりなる反射防止蒸着膜６２ｈを形成した
。この蒸着膜６２ｈは第１γ図に示すようなすぐれた分
光反射特性を示し、第１表に示すような光学部品として
すぐれた物性を有する。
Ｃ；基板６１として、ＢＫ−７の代りに、１、４９９の
屈折率を有するアクリル樹脂射出成形品を用い、これに
上記Ａ項と同じ処理を繰返して第１〜３層よりなる反射
防止蒸着膜６２Ｃを形成した。この蒸着膜６２０は第１
８図に示すようなすぐれた分光反射特性を示し、第１表
に示すような光学部品としてすぐれた物性を有する。
屈折率を有するアクリル樹脂射出成形品を用い、これに
上記Ａ項と同じ処理を繰返して第１〜３層よりなる反射
防止蒸着膜６２Ｃを形成した。この蒸着膜６２０は第１
８図に示すようなすぐれた分光反射特性を示し、第１表
に示すような光学部品としてすぐれた物性を有する。
比較例 １
光学部品の基板として、ＡｉＢＫ−７ガラス、Ｂ＋ジエ
チレングリコールビスアリルカーボネート、Ｃニアクリ
ル樹脂成形品を用いて実施例１に記載したと同じ処理を
繰返した。
チレングリコールビスアリルカーボネート、Ｃニアクリ
ル樹脂成形品を用いて実施例１に記載したと同じ処理を
繰返した。
ただし、蒸発材料として、ＭｇＦ、に５％のｓｉｏ宜を
添加して得た混合物を用いた。このようにして得た反射
防止蒸着膜（７０α、７０ｂ、７００＞はそれぞれ実施
例１と同じ屈折率および光学的膜厚を有し、第１９〜２
１図に示すように第３〜５図に示すものとほぼ同等の分
光反射特性を示したが、実施例１と同じ試験を行って得
た第１表に示す結果がら明らかな如くクラック発生のな
い成膜は可能でも特に密着性、耐候性、耐溶剤性が光学
部品の物性として劣ることがわかる。
添加して得た混合物を用いた。このようにして得た反射
防止蒸着膜（７０α、７０ｂ、７００＞はそれぞれ実施
例１と同じ屈折率および光学的膜厚を有し、第１９〜２
１図に示すように第３〜５図に示すものとほぼ同等の分
光反射特性を示したが、実施例１と同じ試験を行って得
た第１表に示す結果がら明らかな如くクラック発生のな
い成膜は可能でも特に密着性、耐候性、耐溶剤性が光学
部品の物性として劣ることがわかる。
比較例 ２
蒸発材料としてＭ、７Ｆ、に４０％のｓｉｏ、ｔｔ添加
して得た混合物を用いて実施例１に記載したと同じ処理
を繰返してＢＫ−７ガラス、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、およびアクリル樹脂射出成形品の
基板上にそれぞれ１．４０６〜１．４１１の屈折率を有
する硬化性反射防止蒸着膜（８０α、８０ｂ、８０Ｃ）
を形成した。
して得た混合物を用いて実施例１に記載したと同じ処理
を繰返してＢＫ−７ガラス、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、およびアクリル樹脂射出成形品の
基板上にそれぞれ１．４０６〜１．４１１の屈折率を有
する硬化性反射防止蒸着膜（８０α、８０ｂ、８０Ｃ）
を形成した。
このようにして得た蒸着膜は、それぞれ第２２〜２４図
に示す如く、１０〜３０％のｓｉＯ！を添加した実施例
１のものに比べｓｉｏ。
に示す如く、１０〜３０％のｓｉＯ！を添加した実施例
１のものに比べｓｉｏ。
を４０％と多量に添加しているため分光反射特性が約０
．４％高く、また分光反射特性の再現性もバラツキがあ
る。
．４％高く、また分光反射特性の再現性もバラツキがあ
る。
また、電子ビーム加熱蒸発の際、電子線強度＝蒸発速度
を大きくとると、成＠後チャンバーから大気に取出した
時蒸着膜にクラック発生がおこり易く、また密着性試験
でもテープ剥離を生じ易い。
を大きくとると、成＠後チャンバーから大気に取出した
時蒸着膜にクラック発生がおこり易く、また密着性試験
でもテープ剥離を生じ易い。
特に大きな問題点は、蒸発材料中の５ｉｏ１が４０％と
多いため、熱伝導が急激に低下して蒸発速度が不安定に
なり易く、蒸発粒子の大きいトビ粒子が基板に付着し外
観上使用不可能になる。すなわち、４０％のｓｉｏ、を
含有する蒸発材料から得た蒸着膜の物性を測定する以前
に、成膜時の条件をコントロールすることが困難になり
、外観検査で不具合が極めて生じ易く、また光学部品と
しての物性も十分でない。
多いため、熱伝導が急激に低下して蒸発速度が不安定に
なり易く、蒸発粒子の大きいトビ粒子が基板に付着し外
観上使用不可能になる。すなわち、４０％のｓｉｏ、を
含有する蒸発材料から得た蒸着膜の物性を測定する以前
に、成膜時の条件をコントロールすることが困難になり
、外観検査で不具合が極めて生じ易く、また光学部品と
しての物性も十分でない。
比較例 ３
蒸発材料としてＭ！Ｉ Ｆｔ ＋Ｓ ｔ Ｏ＠の混合物
の代りにＭ！ｉＦ！のみを用いて実施例１に記載したと
同じ処理を繰返すことにより、ＢＫ−７ガラス、ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネートおよびアクリル
樹脂射出成形品の基板上にそれぞれ反射防止蒸着膜を形
成した。
の代りにＭ！ｉＦ！のみを用いて実施例１に記載したと
同じ処理を繰返すことにより、ＢＫ−７ガラス、ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネートおよびアクリル
樹脂射出成形品の基板上にそれぞれ反射防止蒸着膜を形
成した。
このようにして得た各蒸着膜の分光反射特性は第１９〜
２１図に示すものとほぼ同じでまた第１表に示すように
光学部品としての物性も極めて劣る。
２１図に示すものとほぼ同じでまた第１表に示すように
光学部品としての物性も極めて劣る。
比較例 ４
実施例３と同じ処理を繰返してＢＫ−７ガラス、ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネートおよびアクリル
樹脂射出成形品の基板上にそれぞれ三層構成よりなる硬
化性反射防止蒸着１ｉＱ（１００−１１００ｈ 、 １
００ Ｃ）を形成した。ただし、蒸発材料として第１層
にはＣ＃ Ｆ、のみを、第２層にはＣ＃ Ｏ，のみを、
第３層にはＭ！ＩＦ！のみを用い、いずれの層にもｓｉ
ｏ、は添加しなかった。
レングリコールビスアリルカーボネートおよびアクリル
樹脂射出成形品の基板上にそれぞれ三層構成よりなる硬
化性反射防止蒸着１ｉＱ（１００−１１００ｈ 、 １
００ Ｃ）を形成した。ただし、蒸発材料として第１層
にはＣ＃ Ｆ、のみを、第２層にはＣ＃ Ｏ，のみを、
第３層にはＭ！ＩＦ！のみを用い、いずれの層にもｓｉ
ｏ、は添加しなかった。
このようにして得た蒸着膜（１００α、１００ｂ、１０
０Ｃ）はそれぞれ第２５〜２７図に示すような分光反射
特性を示し、第１表に示すような光学部品として極めて
劣る物性を有する。
０Ｃ）はそれぞれ第２５〜２７図に示すような分光反射
特性を示し、第１表に示すような光学部品として極めて
劣る物性を有する。
上述した如く、本発明によれば、反射防止特性を有する
ＭｇＦ２の如き蒸発材料に１０〜３０％のｓ ｉ ｏ２
を添加して得た混合物を少くとも一層として光学部品の
基板上に常温で電子ビーム加熱蒸発により、所要に応じ
てＡｒプラズマイオンビームを照射しながら真空蒸着し
て反射防止膜を形成することができるので、下記に示す
利点がある。
ＭｇＦ２の如き蒸発材料に１０〜３０％のｓ ｉ ｏ２
を添加して得た混合物を少くとも一層として光学部品の
基板上に常温で電子ビーム加熱蒸発により、所要に応じ
てＡｒプラズマイオンビームを照射しながら真空蒸着し
て反射防止膜を形成することができるので、下記に示す
利点がある。
（Ｉ）光学部品として用い得るガラス、熱硬化性樹脂、
射出成形用樹脂等のあらゆる基板に常温真空蒸着により
密着性の高い成膜が可能である。すなわち、成膜後のセ
ロテープ剥離試験で全く膜の剥岬を生じない。
射出成形用樹脂等のあらゆる基板に常温真空蒸着により
密着性の高い成膜が可能である。すなわち、成膜後のセ
ロテープ剥離試験で全く膜の剥岬を生じない。
■硬度が高い、すなわち耐擦傷性の高い成膜が常温真空
蒸着で可能になる。硅素酸化物（特に原子％でｓｉ＞ｏ
のもの）は他の蒸発材料に比べ常温真空蒸着により耐久
性の高い成膜を付与する唯一の蒸発材料である。これを
良好な密着性を有するフッ化物等に１０〜３０％添加す
ることにより、硬度の高い（耐擦傷性のすぐれた）成膜
が常温真空蒸着により得られる。たとえば、Ｍ ！ＩＦ
ｔに１０〜３０％（７） Ｓ 龜Ｏｘ ヲ添加シテ用
いることにより、光学特性および耐久性のすぐれた反射
防止膜を単層で常温真空蒸着により形成することができ
、またフッ化物、酸化物等にそれぞれ１０〜３０％のｓ
ｉ ｏ、を添加して用いることにより、硬化性能、密
着性および耐クラツク性もすぐれた多層構成よりなる反
射防止膜を常温真空蒸着により形成することができる。
蒸着で可能になる。硅素酸化物（特に原子％でｓｉ＞ｏ
のもの）は他の蒸発材料に比べ常温真空蒸着により耐久
性の高い成膜を付与する唯一の蒸発材料である。これを
良好な密着性を有するフッ化物等に１０〜３０％添加す
ることにより、硬度の高い（耐擦傷性のすぐれた）成膜
が常温真空蒸着により得られる。たとえば、Ｍ ！ＩＦ
ｔに１０〜３０％（７） Ｓ 龜Ｏｘ ヲ添加シテ用
いることにより、光学特性および耐久性のすぐれた反射
防止膜を単層で常温真空蒸着により形成することができ
、またフッ化物、酸化物等にそれぞれ１０〜３０％のｓ
ｉ ｏ、を添加して用いることにより、硬化性能、密
着性および耐クラツク性もすぐれた多層構成よりなる反
射防止膜を常温真空蒸着により形成することができる。
（ＩＩＩ） 耐熱性（低温〜高温に耐える耐熱衝撃性）
および耐湿度性が高い成膜を常温真空蒸着により可能に
する。
および耐湿度性が高い成膜を常温真空蒸着により可能に
する。
ＭｇＦ、のみを常温真空蒸着すると、密着性および硬度
のすぐれた膜が得られるが、脆く、低温（−４０℃）〜
高温（＋８０’Ｃ）の変化を繰返すとクラックを発生す
る。このＭｙＦｌに１０〜３０％のｓｉｏ、を添加する
と、常温真空蒸着後粘性の高い成膜になり、耐熱性およ
び耐湿度性が向上する。
のすぐれた膜が得られるが、脆く、低温（−４０℃）〜
高温（＋８０’Ｃ）の変化を繰返すとクラックを発生す
る。このＭｙＦｌに１０〜３０％のｓｉｏ、を添加する
と、常温真空蒸着後粘性の高い成膜になり、耐熱性およ
び耐湿度性が向上する。
（ＩＶ） 耐溶剤性が向上する。
耐溶剤性の悪いフッ化物、酸化物等に耐溶剤性の良いＳ
ｉＯ□を１０〜３０％添加することにより、常温真空蒸
着により形成した膜の耐溶剤性が極めて向上し、エタノ
ール、メタノール等の溶剤に対してクランク発生、劣化
による剥離が全く生じない。
ｉＯ□を１０〜３０％添加することにより、常温真空蒸
着により形成した膜の耐溶剤性が極めて向上し、エタノ
ール、メタノール等の溶剤に対してクランク発生、劣化
による剥離が全く生じない。
（Ｖ） 光学特性の低下がない。
単層又は多層膜に用いるフッ化物、酸化物に８１０（１
０〜３０％）を添加しても、屈折率の変化がなく光学特
性（分光反射特性）を変えることなく耐久性を向上させ
ることができる。
０〜３０％）を添加しても、屈折率の変化がなく光学特
性（分光反射特性）を変えることなく耐久性を向上させ
ることができる。
（ＶＩ） 蒸発材料に１０〜３０％のｓ ｉ ｏ、を添
加すトν るとにより、常ｍ真空蒸着で従来のホットコート法に匹
敵する耐久性が得られるが、常温真空蒸着中にＡｒイオ
ンビームを基板に照射すると、イオン結合効果が加わり
成膜の耐久性が一層大幅に向上する。
加すトν るとにより、常ｍ真空蒸着で従来のホットコート法に匹
敵する耐久性が得られるが、常温真空蒸着中にＡｒイオ
ンビームを基板に照射すると、イオン結合効果が加わり
成膜の耐久性が一層大幅に向上する。
箔１図は本発明に係る基板上に形成した単層反射防止膜
の一例を示す線図的断面図。第２図は本発明方法を実施
するために用いる常温真空蒸着装置の一例を示す線図、
第３〜５図はそれぞれ種々の基板に形成した第１図の単
層反射防止膜の分光反射特性図、第６図は本発明に係る
基板上に形成した単層反射防止膜の他の例を示す騨図的
断面図、陪７図は本発明方法を実施するために用いる常
温真空蒸着装置の他の例を示す線図、第８〜１０図はそ
れぞれ種々の基板に形成した第６図の単層反射防止膜の
分光反射特性図、第１１図は本発明に係る基板上に形成
した三層構成よりなる反射防止膜の一例を示す線図的断
面図、第１２〜１４図はそれぞれ種々の基板に形成した
第１１図の三層構成よりなる反射防止膜の分光反射特性
図、第１５図は本発明に係る基板上に形成した三層構成
よりなる反射防止膜の他の例を示す線図的断面図、第１
６〜１８図はそれぞれ種々の基板に形成した第１５図の
三層構成よりなる反射防止膜の分光反射特性図、第１９
〜２１図はそれぞれ種々の基板にＭ （Ｉ Ｆｔ ＋
５％Ｓｔｅｗの蒸発材料より形成した単層反射防止膜の
分光反射特性図、第２２〜２４図はそれぞれ種々の基板
にＭ ｙ Ｆｇ ＋４０％Ｓｉｎ、の蒸発材料より形成
した単層反射防止膜の分光反射特性図、第２５−２７図
はそれぞれ種々の基板に形成したＣａ ｐ ｓ Ｃａ
Ｏｔ−ＭｙＦｌの三層構成よりなる反射防止膜の分光反
射特性図である。 ２１．４１・・・常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバ
ー ２２．４２・・・電子銃 １１．３１・・ｅ基 板 ２３．４４・−嗜回転ドーム ２４．４５・・−蒸発材料 ４３・・・イオン源 ４６＊φ・イオンビーも 第１図 第２図 第５図 第６図 ０− 叱 犀 糾 −賠 茄 枡 第１０図 第１１図 第１２図 第１３図 ′Ｍ ｆン 職 等 枡 第１６図 第１７図 第１８図 第１９図 −回 算 科 第２２図 第２３図 ０Ｏ４００５００６００７００８ｏＯｎ波 長 第２５図 手続補正書（自発） 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１７３８４８号 ２、発明の名称 光学部品の反射防止膜とその形成方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号４、代理
人 ６、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲ヨおよび「発明の詳細な説明
ヨの澗 ７、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 （２）明細書第１６頁第１〜２行目の記載を次の通り補
正する。 「を順次基板の加熱なしにまたはＡｒまたはＡ ｒ ＋
０２または０２のイオンビームを蒸着前、基板にプレ
スパツタ照射し、かつイオンビームを照射しつつ基板の
加熱なしに常温で」 （３）明細書第１６頁第９行目の「真空蒸着時に１との
記載を「真空蒸着前（プレスパツタ効果）かつ真空蒸着
時にヨと補正する。 （４）明細書第１９頁第１５行目の「−４０°Ｃ〜８０
℃」との記載を「−４０８Ｃ〜＋８０℃１と補正する。 （５）明細書第３７頁第１２行目の’ Ｓ ｒ ＯＪ七
の記載を「５ｉＯ２Ｊと補正する。 ８、添付書類の目録 （１）別 紙 １通 別 紙 ２、特許請求の範囲 （１）光学部品の基板」二に、反射防止効果を有する蒸
発材料に５ｉｎ２を添加し、生成した混合物の常温真空
蒸着膜を設けて成る光学部品の反射防止膜。 （２） 光学部品の基板上に、該基板側から見て第１層
に反射防止効果を有する蒸発材料としてのフッ化物又は
硅素酸化物、中間層並びに最終層にフッ化物又は酸化物
で、これら全てに５ｉｎ２を添加し、生成した混合物の
多層の常温真空蒸着膜を設けてなる光学部品の反射防止
膜。 （３） 基板はガラス基板又は合成樹脂基板である特許
請求の範囲第１項又は第２項記載の光学部品の反射防止
膜。 （４） 合成樹脂基板は、ジエチレングリコールビスア
リルカーボネート、アクリル樹脂、ＰＣｌＡＳ又はＰＳ
の基板である特許請求の範囲第３項記載の光学部品の反
射防止膜。 ２− （５） 蒸発材料に添加する５Ｉ０２は１０〜３０％で
ある特許請求の範囲第１項又は第２項記載の光学部品の
反射防止膜。 （６）蒸発材料としてのフッ化物がＭｇ Ｆ ２である
特許請求の範囲第１項記載の光学部品の反射・ 防止膜
。 （７）蒸発材料としてのフッ化物がＣｅＦ３、ＮｄＦ３
、Ｐ ｂＦａ、Ｎａ５ＡＱ Ｆｅ、ＮａＦ 、、Ｌ＋Ｆ
又はＭｇＦ２、酸化物がＣｅ Ｏ２、Ｚ ｒ Ｏ２、Ｔ
ｉ ２０３、ＴｉＯ又はＡＱ ２０３である特許請求
の範囲第２記載の光学部品の反射防止膜。 （８）光学部品の基板上に反射防止膜を形成するにあた
り、反射防止効果を有する蒸発材料にＳｉＯ２を１０〜
３０％添加し、生成した混合物を少なくとも一層として
基板の加熱なしに常温で電子ビーム加熱蒸発により該基
板上に真空蒸着することを特徴とする光学部品の反射防
止膜を形成する方法。 （９）光学部品の基板上に反射防止膜を形成するにあた
り、反射防止効果を有する蒸発材料に５ｉＯ７を１０〜
３０％添加し、生成した混合物を少なくとも一層として
、基板にＡｒまたはＡｒ−１−０２または０２のイオン
ビームを蒸着前、基板にプレスパツタ照射し、かつイオ
ンビームを照射しつつ基板の加熱なしに常温で電子ヒー
ム加熱蒸発により、該基板」二に真空蒸着することを特
徴とする光学部品に反射防止膜を形成する方法。 （１０） 基板は光学部品として用い得るガラス又は合
成樹脂である特許請求の範囲第８項又は第９項記載の光
学部品に反射防止膜を形成する方法。 （１１）合成樹脂としてジエチレングリコ−几ヒスアリ
ルカーボネート、アクリル樹脂、ＰＣ。 ＡＳ又はＰＳを用いる特許請求の範囲第１Ｏ項記載の光
学部品に反射防止膜を形成する方法。 （１２） 反射防止膜が単層よりなる場合、蒸発材料と
してフッ化物に１０〜３０％のＳｉＣ２を添加してなる
混合物を用いる特許請求の範囲第 ３− ８項記載の光学部品に反射防止膜を形成する方法。 （１３）フッ化物がＭｇＦ２である特許請求の範囲第１
２項記載の光学部品に反射防止膜を形成する方法。 （Ｉ４）反射防止膜が多層よりなる場合、蒸発材料とし
て基板側から見て第１層にフッ化物又は硅素酸化物、中
間層並びに最終層にフッ化物又は酸化物でこれら全てに
１０〜３０％のＳｉＣ２を添加してなる混合物をそれぞ
れ用いる特許請求の範囲第８項記載の光学部品に反射防
止膜を形成する方法。 （托）フッ化物としてＣｅＦ３、ＮｄＦ３、Ｌ ａ Ｆ
３、ＰｂＦ３、Ｎａ５ＡＱ Ｆａ、ＮａＦ％ＬＩＦ又は
ＭｇＦ２を用い、また酸化物としてＣｅ Ｏ２Ｎ Ｚ
ｒ Ｏ２、Ｔｉ２Ｏ３、ＴｉＯ又はＡＱ 、、０３を用
いる特許端 ４ −
の一例を示す線図的断面図。第２図は本発明方法を実施
するために用いる常温真空蒸着装置の一例を示す線図、
第３〜５図はそれぞれ種々の基板に形成した第１図の単
層反射防止膜の分光反射特性図、第６図は本発明に係る
基板上に形成した単層反射防止膜の他の例を示す騨図的
断面図、陪７図は本発明方法を実施するために用いる常
温真空蒸着装置の他の例を示す線図、第８〜１０図はそ
れぞれ種々の基板に形成した第６図の単層反射防止膜の
分光反射特性図、第１１図は本発明に係る基板上に形成
した三層構成よりなる反射防止膜の一例を示す線図的断
面図、第１２〜１４図はそれぞれ種々の基板に形成した
第１１図の三層構成よりなる反射防止膜の分光反射特性
図、第１５図は本発明に係る基板上に形成した三層構成
よりなる反射防止膜の他の例を示す線図的断面図、第１
６〜１８図はそれぞれ種々の基板に形成した第１５図の
三層構成よりなる反射防止膜の分光反射特性図、第１９
〜２１図はそれぞれ種々の基板にＭ （Ｉ Ｆｔ ＋
５％Ｓｔｅｗの蒸発材料より形成した単層反射防止膜の
分光反射特性図、第２２〜２４図はそれぞれ種々の基板
にＭ ｙ Ｆｇ ＋４０％Ｓｉｎ、の蒸発材料より形成
した単層反射防止膜の分光反射特性図、第２５−２７図
はそれぞれ種々の基板に形成したＣａ ｐ ｓ Ｃａ
Ｏｔ−ＭｙＦｌの三層構成よりなる反射防止膜の分光反
射特性図である。 ２１．４１・・・常温真空蒸着装置の真空蒸着チャンバ
ー ２２．４２・・・電子銃 １１．３１・・ｅ基 板 ２３．４４・−嗜回転ドーム ２４．４５・・−蒸発材料 ４３・・・イオン源 ４６＊φ・イオンビーも 第１図 第２図 第５図 第６図 ０− 叱 犀 糾 −賠 茄 枡 第１０図 第１１図 第１２図 第１３図 ′Ｍ ｆン 職 等 枡 第１６図 第１７図 第１８図 第１９図 −回 算 科 第２２図 第２３図 ０Ｏ４００５００６００７００８ｏＯｎ波 長 第２５図 手続補正書（自発） 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１７３８４８号 ２、発明の名称 光学部品の反射防止膜とその形成方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号４、代理
人 ６、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲ヨおよび「発明の詳細な説明
ヨの澗 ７、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 （２）明細書第１６頁第１〜２行目の記載を次の通り補
正する。 「を順次基板の加熱なしにまたはＡｒまたはＡ ｒ ＋
０２または０２のイオンビームを蒸着前、基板にプレ
スパツタ照射し、かつイオンビームを照射しつつ基板の
加熱なしに常温で」 （３）明細書第１６頁第９行目の「真空蒸着時に１との
記載を「真空蒸着前（プレスパツタ効果）かつ真空蒸着
時にヨと補正する。 （４）明細書第１９頁第１５行目の「−４０°Ｃ〜８０
℃」との記載を「−４０８Ｃ〜＋８０℃１と補正する。 （５）明細書第３７頁第１２行目の’ Ｓ ｒ ＯＪ七
の記載を「５ｉＯ２Ｊと補正する。 ８、添付書類の目録 （１）別 紙 １通 別 紙 ２、特許請求の範囲 （１）光学部品の基板」二に、反射防止効果を有する蒸
発材料に５ｉｎ２を添加し、生成した混合物の常温真空
蒸着膜を設けて成る光学部品の反射防止膜。 （２） 光学部品の基板上に、該基板側から見て第１層
に反射防止効果を有する蒸発材料としてのフッ化物又は
硅素酸化物、中間層並びに最終層にフッ化物又は酸化物
で、これら全てに５ｉｎ２を添加し、生成した混合物の
多層の常温真空蒸着膜を設けてなる光学部品の反射防止
膜。 （３） 基板はガラス基板又は合成樹脂基板である特許
請求の範囲第１項又は第２項記載の光学部品の反射防止
膜。 （４） 合成樹脂基板は、ジエチレングリコールビスア
リルカーボネート、アクリル樹脂、ＰＣｌＡＳ又はＰＳ
の基板である特許請求の範囲第３項記載の光学部品の反
射防止膜。 ２− （５） 蒸発材料に添加する５Ｉ０２は１０〜３０％で
ある特許請求の範囲第１項又は第２項記載の光学部品の
反射防止膜。 （６）蒸発材料としてのフッ化物がＭｇ Ｆ ２である
特許請求の範囲第１項記載の光学部品の反射・ 防止膜
。 （７）蒸発材料としてのフッ化物がＣｅＦ３、ＮｄＦ３
、Ｐ ｂＦａ、Ｎａ５ＡＱ Ｆｅ、ＮａＦ 、、Ｌ＋Ｆ
又はＭｇＦ２、酸化物がＣｅ Ｏ２、Ｚ ｒ Ｏ２、Ｔ
ｉ ２０３、ＴｉＯ又はＡＱ ２０３である特許請求
の範囲第２記載の光学部品の反射防止膜。 （８）光学部品の基板上に反射防止膜を形成するにあた
り、反射防止効果を有する蒸発材料にＳｉＯ２を１０〜
３０％添加し、生成した混合物を少なくとも一層として
基板の加熱なしに常温で電子ビーム加熱蒸発により該基
板上に真空蒸着することを特徴とする光学部品の反射防
止膜を形成する方法。 （９）光学部品の基板上に反射防止膜を形成するにあた
り、反射防止効果を有する蒸発材料に５ｉＯ７を１０〜
３０％添加し、生成した混合物を少なくとも一層として
、基板にＡｒまたはＡｒ−１−０２または０２のイオン
ビームを蒸着前、基板にプレスパツタ照射し、かつイオ
ンビームを照射しつつ基板の加熱なしに常温で電子ヒー
ム加熱蒸発により、該基板」二に真空蒸着することを特
徴とする光学部品に反射防止膜を形成する方法。 （１０） 基板は光学部品として用い得るガラス又は合
成樹脂である特許請求の範囲第８項又は第９項記載の光
学部品に反射防止膜を形成する方法。 （１１）合成樹脂としてジエチレングリコ−几ヒスアリ
ルカーボネート、アクリル樹脂、ＰＣ。 ＡＳ又はＰＳを用いる特許請求の範囲第１Ｏ項記載の光
学部品に反射防止膜を形成する方法。 （１２） 反射防止膜が単層よりなる場合、蒸発材料と
してフッ化物に１０〜３０％のＳｉＣ２を添加してなる
混合物を用いる特許請求の範囲第 ３− ８項記載の光学部品に反射防止膜を形成する方法。 （１３）フッ化物がＭｇＦ２である特許請求の範囲第１
２項記載の光学部品に反射防止膜を形成する方法。 （Ｉ４）反射防止膜が多層よりなる場合、蒸発材料とし
て基板側から見て第１層にフッ化物又は硅素酸化物、中
間層並びに最終層にフッ化物又は酸化物でこれら全てに
１０〜３０％のＳｉＣ２を添加してなる混合物をそれぞ
れ用いる特許請求の範囲第８項記載の光学部品に反射防
止膜を形成する方法。 （托）フッ化物としてＣｅＦ３、ＮｄＦ３、Ｌ ａ Ｆ
３、ＰｂＦ３、Ｎａ５ＡＱ Ｆａ、ＮａＦ％ＬＩＦ又は
ＭｇＦ２を用い、また酸化物としてＣｅ Ｏ２Ｎ Ｚ
ｒ Ｏ２、Ｔｉ２Ｏ３、ＴｉＯ又はＡＱ 、、０３を用
いる特許端 ４ −
Claims (9)
- （１）光学部品の基板上に、反射防止効果を有する蒸発
材料にｆ３ｉＱを添加し、生成した混合物の常温真空蒸
着膜を設けて成る光学部品の反射防止膜。 - （２）光学部品の基板上に、該基板側から見て第１層に
反射防止効果を有する蒸発材料としてのフッ化物又は硅
素酸化物、中間層並びに最終層にフッ化物又は酸化物で
、これら全てに５ｉＯ８を添加し、生成、した混合物の
多層の常温真空蒸着膜を設けて成る光学部品の反射防止
膜。 - （３）基板はガラス基板又は合成樹脂基板である特許請
求の範囲ｗＳ１項又は第２項記載の光学部品の反射防止
膜。 - （４）合成樹脂基板は、ジエチレングリコールビスアル
カ−ボネート、アクリル樹脂、ＰＣｌＡＳ又はＰＳの基
枡である特許請求の範囲筒３墳記載の光学部品の反射防
止膜。 - （５）蒸発材料に添加するｓｉｏ、は１０〜３０％であ
る特許請求の範囲第１項又は第２項記載の光学部品の反
射防止膜。 - （６）蒸発材料としてのフッ化物がＭ、！７Ｆ、である
特許請求の範囲第１項記載の光学部品の反射防止膜。 - （７）蒸発材料としてのフッ化物がＣｇ Ｆａ 、Ｎ’
Ｆｍ、ＰｂＦｓ 、ＮＧｓ ＡＺＦａ 、ＮａＦｌＬｉ
Ｆ又はＭｆＦ＊、Ｅｉｉ’ｅ化物がＣｅＯ２、ＺｒＯ２
、ＴＬ、Ｏｌ、ＴｉＯ又はＡＺＩＯＩである特許請求の
範囲第２項記載の光学部品の反射防止膜。 - （８）光学部品の基板上に反射防止膜を形成するにあた
り、反射防止効果を有する蒸発材料にＳｉｏ、を１θ〜
３０％添加し、生成した混合物を少くとも一層として基
板の加熱なしに常温で電子ビーム加熱蒸発により該基板
上に真空蒸着することを特徴とする光学部品に反射防止
膜をノヒ成する方決。 - （９）光学部品の基板上に、反射防止膜を形成するにあ
たり、反射防止効果を有する蒸発材料にＳｔＯ，を１０
〜３０％添加し、生成した混合物を少なくとも一層とし
て、基板にＡｒおよび／またはＯｌのイオンビームをｆ
ｆ（ｔ 射しつつ、基板の加熱なしに常温で電子ビーム
加熱蒸発により、該基板上に真空蒸石することを特徴と
する光学部品に反射防止膜を形成する方法。 θ０）基板は光学部品として用い得るガラス又は合成樹
脂である特＃！Ｆ＃求の範囲第８項又は第９項記載の方
法。 α１）合成樹脂としてジエチレングリコールビスアリル
カーボネート、アクリル樹脂、ＰＣＳＡＳ又はＰＳを用
いる特許請求の範囲第１０項記載の方法。 Ｑ２１反射防止膜が単層よりなる場合、蒸発材料として
フッ化物に１０〜３０％のｓｉｏ、を添加して成る混合
物を用いる特許請求の範囲第８項記載の方法。 Ｑ３＋フフ化物がｆＦ、である特許請求の範囲第１２項
記載の方法。 ａ４）反射防止膜が多層よりなる場合、蒸発材料として
基板側から見て第１層にフッ化物又は硅素醇化物、中間
層並びに最終層にフッ化物又は酸化物でこれら全てに１
０〜３０％の５ＬＯ２を添加してなる混合物をそれぞれ
用いる特許請求の範囲第８項記載の方法。 （１５１７７化物として（ｊＦ、 、ＮｄＦｆｉ 、Ｌ
’ＺＦｓ 、ＰｂＦＳ、Ｎαｓ ＡＩ Ｆａ 、ＮαＦ
１ＬｉＦ又はＭｇＦ２ を用い、また酸化物としてＣａ
Ｏ２、Ｚｒ０ｔ 、Ｔ’ｓ Ｏｓ ＳＴｉ。 又はＡ１２０ｇを用いる特許請求の範囲第１４項記載の
方法。
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| JPH0642003B2 JPH0642003B2 (ja) | 1994-06-01 |
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