JPS60130703A - 合成樹脂基板の反射防止膜 - Google Patents
合成樹脂基板の反射防止膜Info
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- JPS60130703A JPS60130703A JP58238813A JP23881383A JPS60130703A JP S60130703 A JPS60130703 A JP S60130703A JP 58238813 A JP58238813 A JP 58238813A JP 23881383 A JP23881383 A JP 23881383A JP S60130703 A JPS60130703 A JP S60130703A
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- Japan
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- film
- layer
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- antireflection
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は合成樹脂レンズのような合成樹脂基板の多層反
射防止膜に関する。
射防止膜に関する。
近年、成形の容易さと軽量とによって合成樹脂製光学部
品、特にレンズが用いられるようになったが、これらの
光学部品の反射防と膜に（ｄ、なお問題が残っている。
品、特にレンズが用いられるようになったが、これらの
光学部品の反射防と膜に（ｄ、なお問題が残っている。
従来、このような反射防止膜としては、例えば次のもの
が知られている。すなわち、特開昭５６−１８９２２号
には、合成樹脂基板上に機械的強度を補うに十分な、数
μの膜厚の二酸化ケイ素（Ｓ１０□）からなる第１層を
形成し、その上に膜厚０４１５λ〜０．２５λ〔λ（光
の波長） ＝ ４５０〜５５Ｑｎｍ〕の酸化イツトリウ
ム（Ｙ２Ｏ２）膜からなる第２層、その上に膜厚０．６
５λ〜０，４５λの酸化ジルコニウム（Ｚｒ。
が知られている。すなわち、特開昭５６−１８９２２号
には、合成樹脂基板上に機械的強度を補うに十分な、数
μの膜厚の二酸化ケイ素（Ｓ１０□）からなる第１層を
形成し、その上に膜厚０４１５λ〜０．２５λ〔λ（光
の波長） ＝ ４５０〜５５Ｑｎｍ〕の酸化イツトリウ
ム（Ｙ２Ｏ２）膜からなる第２層、その上に膜厚０．６
５λ〜０，４５λの酸化ジルコニウム（Ｚｒ。
０２）膜からなる第６層、およびさらに第６層の上いる
。
。
特開昭５０−６７１４７号には、合成樹脂基板上に、例
えば、第１層として一酸化ケイ素（Ｓｉｎ）を１／４λ
または１／２λ（λ−５３０ｎｍ）の厚さに蒸着し、つ
いで第２層として二酸化ケイ素を１／４λの厚さに蒸着
して多層反射防止膜を形成することが開示されている。
えば、第１層として一酸化ケイ素（Ｓｉｎ）を１／４λ
または１／２λ（λ−５３０ｎｍ）の厚さに蒸着し、つ
いで第２層として二酸化ケイ素を１／４λの厚さに蒸着
して多層反射防止膜を形成することが開示されている。
−また、特開昭５６−１２１００１号には、合成樹）１
旨基板上に第１層として膜厚２Ｑｎｍ以下の一酸化ケイ
素膜、その」二に第２層として膜厚０．５０λ未満のア
ルミナ膜、さら（１（その上に第６層として膜厚０．２
５λ〜０．６０λのフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）
ｆｌ負をｌｌＩｉＩ次積層したプラスチック光学部品が
開示さｉｔている。
旨基板上に第１層として膜厚２Ｑｎｍ以下の一酸化ケイ
素膜、その」二に第２層として膜厚０．５０λ未満のア
ルミナ膜、さら（１（その上に第６層として膜厚０．２
５λ〜０．６０λのフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）
ｆｌ負をｌｌＩｉＩ次積層したプラスチック光学部品が
開示さｉｔている。
さらに、特開昭５８−６０７０１号には、複数、の蒸着
条件を異にするため異った屈折率を持ったー酸イヒ′
ケイ素の蒸着膜によって構成さｊする多層反射防止膜が
開示され、具体的（では基板−１Ｊ″こ屈折−＠ １−
６０〜１．６８光学的膜厚がλ／４の−ｊ投化ケイ素か
らなる第１層、その上に屈折率１．７５〜１．８６、九
′７的ｊＩ位厚がλ／４の一酸化ケイ素からなる第２層
、さら（′こその」二に屈折率１．５０〜１．５５、光
学的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素膜からなる第６層を、
順次積層し７た多層反射防止膜が開示されている。この
際、−酸化ケイ素の屈折率は蒸着速１隻一定の条件下に
１賀素ガス圧力を変化させたり、寸たは酸素ガ、ス月カ
一定の条件下に蒸着速度を変化さ（ｔろことに、１、っ
て、変化させることが開示さ、１１．ている、−１これ
らの多層反射防止膜のうち、特開昭５６−１８９２２号
に開示されたものは、合成樹脂基板としてジエチレング
リコールビスアリルカーホ不−１・（ＣＲ・−６９）が
使用され、メガネ用に開発され／、ニ多層反射防止膜で
あり、上記の構成膜をイン７エクシヨンおよびキャスト
成形された基板に適用すると第１層の二酸化ケイ素膜に
亀裂が発生する。−ｉだ特開昭５０−６７１４７号およ
びＩ特開昭５６−１２１００１号に開示されたものは、
膜の亀裂の発生はないが、可視光領域における反射置市
効果が低く、密着性に若干の不安がある。
条件を異にするため異った屈折率を持ったー酸イヒ′
ケイ素の蒸着膜によって構成さｊする多層反射防止膜が
開示され、具体的（では基板−１Ｊ″こ屈折−＠ １−
６０〜１．６８光学的膜厚がλ／４の−ｊ投化ケイ素か
らなる第１層、その上に屈折率１．７５〜１．８６、九
′７的ｊＩ位厚がλ／４の一酸化ケイ素からなる第２層
、さら（′こその」二に屈折率１．５０〜１．５５、光
学的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素膜からなる第６層を、
順次積層し７た多層反射防止膜が開示されている。この
際、−酸化ケイ素の屈折率は蒸着速１隻一定の条件下に
１賀素ガス圧力を変化させたり、寸たは酸素ガ、ス月カ
一定の条件下に蒸着速度を変化さ（ｔろことに、１、っ
て、変化させることが開示さ、１１．ている、−１これ
らの多層反射防止膜のうち、特開昭５６−１８９２２号
に開示されたものは、合成樹脂基板としてジエチレング
リコールビスアリルカーホ不−１・（ＣＲ・−６９）が
使用され、メガネ用に開発され／、ニ多層反射防止膜で
あり、上記の構成膜をイン７エクシヨンおよびキャスト
成形された基板に適用すると第１層の二酸化ケイ素膜に
亀裂が発生する。−ｉだ特開昭５０−６７１４７号およ
びＩ特開昭５６−１２１００１号に開示されたものは、
膜の亀裂の発生はないが、可視光領域における反射置市
効果が低く、密着性に若干の不安がある。
さらに、特開昭５８−６０７０１号に開示されたものは
、−酸化ケイ素のみで構成されているので、大気中に放
置すると酸素の影響を受け、二酸化ケイ素て近ずくため
、経時的に分光反射特性が変化するという欠点がある。
、−酸化ケイ素のみで構成されているので、大気中に放
置すると酸素の影響を受け、二酸化ケイ素て近ずくため
、経時的に分光反射特性が変化するという欠点がある。
本発明の目的は、合成樹脂基板の種類に関係なく、基板
の補強効果と可視光領域および近赤外領域における反射
置市効果を向上させた合成樹脂基板の反射防止膜を提供
することにある。
の補強効果と可視光領域および近赤外領域における反射
置市効果を向上させた合成樹脂基板の反射防止膜を提供
することにある。
本発明のい捷一つの目的ｔよ、カラーバ′ランスが良好
で、基板に対する密着性が高く、かつ耐溶剤４−１．１
１１Ｉ暦耗ｊノド、面１環境性の良好な反射防止膜を提
供することにある。
で、基板に対する密着性が高く、かつ耐溶剤４−１．１
１１Ｉ暦耗ｊノド、面１環境性の良好な反射防止膜を提
供することにある。
本発明による合成樹脂基板の反射防止膜は、合成樹脂基
板−Ｊ−（ｒ（形成された光学的膜厚０６１６λ〜λ〔
λ（光の波長）−４５０〜５５０ｎｎｌ：］の−酸化ケ
イ素膜からなる第１層、該第１層上に形成された光学的
膜厚０９１６λ〜λの二酸化ケイ素膜からなる第２層、
該第２層上に形成された光学的膜厚ｏ、２６λ〜０．２
９λの酸化ジルコニウム（ＺｒＯ，）、酸化セリウム（
Ｃｅ０２）−Ｅたけこれらの混合物の膜、或は酸化ジル
コニウムおよびＩ酸化セリウムの多層Ｊ拠からなる第６
層、該第６層上に形成された光学的膜厚ｏ、２６λ〜０
．２９λの五酸化タンタル（Ｔａ２０１）−酸化チタン
（’］’ｉＯ）二酸化チタン（ｑ”＋０２）ｔ’たけそ
れらの２以上の混合物の膜、或は五酸化タンタル、−ｅ
化チタンおよび二酸化チタンの２以上の多層膜からなる
第４層および該第４層上に形成された光学的膜厚０，２
６λ〜０．２９λの二酸化ケイ素、フン化マグネシウム
寸たけこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素およびフ
ッ化マグネ／ウムの多層膜からなる第５層からなること
を特徴とするものである、。
板−Ｊ−（ｒ（形成された光学的膜厚０６１６λ〜λ〔
λ（光の波長）−４５０〜５５０ｎｎｌ：］の−酸化ケ
イ素膜からなる第１層、該第１層上に形成された光学的
膜厚０９１６λ〜λの二酸化ケイ素膜からなる第２層、
該第２層上に形成された光学的膜厚ｏ、２６λ〜０．２
９λの酸化ジルコニウム（ＺｒＯ，）、酸化セリウム（
Ｃｅ０２）−Ｅたけこれらの混合物の膜、或は酸化ジル
コニウムおよびＩ酸化セリウムの多層Ｊ拠からなる第６
層、該第６層上に形成された光学的膜厚ｏ、２６λ〜０
．２９λの五酸化タンタル（Ｔａ２０１）−酸化チタン
（’］’ｉＯ）二酸化チタン（ｑ”＋０２）ｔ’たけそ
れらの２以上の混合物の膜、或は五酸化タンタル、−ｅ
化チタンおよび二酸化チタンの２以上の多層膜からなる
第４層および該第４層上に形成された光学的膜厚０，２
６λ〜０．２９λの二酸化ケイ素、フン化マグネシウム
寸たけこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素およびフ
ッ化マグネ／ウムの多層膜からなる第５層からなること
を特徴とするものである、。
本発明において、前記第２層から第５層までは活性化反
応蒸着により形成されたものであることが各層間の密着
性を高める」二で好ましい。こ＼で「活性化反応蒸着」
とは、プラズマ化された活１り：ガス、例えば酸素ガス
中で蒸着を行なうことを意味する。
応蒸着により形成されたものであることが各層間の密着
性を高める」二で好ましい。こ＼で「活性化反応蒸着」
とは、プラズマ化された活１り：ガス、例えば酸素ガス
中で蒸着を行なうことを意味する。
本発明における合成樹脂基板としては、特に小型カメラ
用レンズ、ビデオカメラ用レンズ、複写機用レンズ等に
利用される非球面レンズを目的としたレンズ構成に用い
られる合成樹脂レンズを挙げることができる。これらの
合成樹脂基板は、例えばジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート、キャスティング成形またはインジェク
ション成形されたアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂
、スチレン樹脂からなる。
用レンズ、ビデオカメラ用レンズ、複写機用レンズ等に
利用される非球面レンズを目的としたレンズ構成に用い
られる合成樹脂レンズを挙げることができる。これらの
合成樹脂基板は、例えばジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート、キャスティング成形またはインジェク
ション成形されたアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂
、スチレン樹脂からなる。
合成樹脂基板上に各層を順次積層するには、真２ 蒸ｙ
ｔ、エレクトロンビームなどの公知の手段を月いること
ができるが、第２層から第５層寸では油述した活性化反
応蒸着により積層するのが、各層相瓦間の密着性が高く
なるので好ましい。第１層の一酸化ケイ素膜は合成樹脂
との密着性がよいので、特に活性化反応蒸着によらなく
てもよい。
ｔ、エレクトロンビームなどの公知の手段を月いること
ができるが、第２層から第５層寸では油述した活性化反
応蒸着により積層するのが、各層相瓦間の密着性が高く
なるので好ましい。第１層の一酸化ケイ素膜は合成樹脂
との密着性がよいので、特に活性化反応蒸着によらなく
てもよい。
本発明による多層反射防止膜において、−酸化ケイ素膜
からなる第１層と二酸化ケイ素膜から々る第２層とは反
射防止の機能とともに、基板の補強機能をも備えている
。
からなる第１層と二酸化ケイ素膜から々る第２層とは反
射防止の機能とともに、基板の補強機能をも備えている
。
以−下に本発明の実施例を示して本発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
実施例１
第１図を参照（、て本発明の詳細な説明する。
第１図は、この実施例の反射防止膜の一部の拡犬祈面図
である。インジェクション成形されたアクリル樹脂基板
１の表面に、真空度１ Ｘ １０ ’Ｊ’ｏｒｒにおい
て一酸化ケイ素を抵抗加熱により、蒸着膜１２に／秒（
一定）で真空蒸着して膜厚０．５λ（λ＝４５０〜５５
０ｎｍ）の第１層２を形成する。このときの第１層の屈
折率は１．６０〜１．６８ である。
である。インジェクション成形されたアクリル樹脂基板
１の表面に、真空度１ Ｘ １０ ’Ｊ’ｏｒｒにおい
て一酸化ケイ素を抵抗加熱により、蒸着膜１２に／秒（
一定）で真空蒸着して膜厚０．５λ（λ＝４５０〜５５
０ｎｍ）の第１層２を形成する。このときの第１層の屈
折率は１．６０〜１．６８ である。
第１層の上に二酸化ケイ素をエレクトロンビームで蒸着
して膜厚０．５λの第２層６を形成する。
して膜厚０．５λの第２層６を形成する。
第２層の屈折率は１．４５〜１．４６である。第１層と
第２層とは基板の補強効果をも有している。
第２層とは基板の補強効果をも有している。
第２層の上に、酸化ジルコニウムをエレクトロンビーム
で蒸着して膜厚０．２５λの第６層４を形成する。第６
層の屈折率は１．８９〜１．９１である。
で蒸着して膜厚０．２５λの第６層４を形成する。第６
層の屈折率は１．８９〜１．９１である。
ついで、第６層の上に五酸化タンタルをエレクトロンビ
ームで蒸着して膜厚００２５λの第４層５を形成する。
ームで蒸着して膜厚００２５λの第４層５を形成する。
第４層の屈折率は２．０〜２１である。
さらに、第４層の上に二酸化ケイ素を蒸着して膜厚が０
．２５λ、屈折率が１．４５〜１４６の第５層６を形成
する。
．２５λ、屈折率が１．４５〜１４６の第５層６を形成
する。
このようにして得られた反射防止膜の分光反射率特性は
第２図から明らかなように、近赤外領域まで良好な特性
を示し、波長５００〜５４Ｑ ｎｍの光の反射率が、わ
ずかに山形に高くなっているので反射光が鮮やか々緑色
となる。したがって、眼鏡用レンズに対しても適用する
ことができる。
第２図から明らかなように、近赤外領域まで良好な特性
を示し、波長５００〜５４Ｑ ｎｍの光の反射率が、わ
ずかに山形に高くなっているので反射光が鮮やか々緑色
となる。したがって、眼鏡用レンズに対しても適用する
ことができる。
次に、得られた反射防止膜について以下の試験を行った
。
。
（１）密着性テスト：上記のようにして得られた反射防
ｌニ膜の表面にセロノ・ンテープにチ／４ン）を接着さ
せた後、この表面にはソ垂直な角度で、すばやくとりの
ぞくテストを１５回繰返したが、蒸着膜の剥離を生ずる
ことがなかった。
ｌニ膜の表面にセロノ・ンテープにチ／４ン）を接着さ
せた後、この表面にはソ垂直な角度で、すばやくとりの
ぞくテストを１５回繰返したが、蒸着膜の剥離を生ずる
ことがなかった。
（２） 耐溶剤性テスト：反射防止膜表面をエーテル、
アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙（シル；■セン
紙）で拭いたが、異常が認められなかった。
アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙（シル；■セン
紙）で拭いたが、異常が認められなかった。
（３） 耐摩耗テスト、反射防止膜表面の１ケＦ）？を
レンズ拭き紙（シルボン紙）を用いて６〜４ ｋｇ／
ｄの圧で５０往復こすったが、異常が認められなかった
。
レンズ拭き紙（シルボン紙）を用いて６〜４ ｋｇ／
ｄの圧で５０往復こすったが、異常が認められなかった
。
（４）耐環境テスト二反射防止膜を４５℃、相対湿度９
５係の恒温恒湿槽中に１０００時間放置し、ついで熱衝
撃テスト（６０℃ｒｉ−３０℃）を５回繰返［−だが、
異常が認められなかった。
５係の恒温恒湿槽中に１０００時間放置し、ついで熱衝
撃テスト（６０℃ｒｉ−３０℃）を５回繰返［−だが、
異常が認められなかった。
）
実施例２
実施例１における第２層６、第３層４、第４層５および
第５層６を真空度７×１０〜１ｘｉｏ’＝Ｔｏｒｒにお
いて高周波（１３−５６ＭＩＩＺ ）＋？素プラズマ中
において活性化蒸着する。
第５層６を真空度７×１０〜１ｘｉｏ’＝Ｔｏｒｒにお
いて高周波（１３−５６ＭＩＩＺ ）＋？素プラズマ中
において活性化蒸着する。
この実施例により得られた反則防止膜は、実施例１によ
り得られた反射防止膜と実質的に同じ分光反射特性を示
し、密着性テストにおける２０回゛の繰返しでも膜の剥
離は認められず、捷だ耐溶剤性も実施例１の反射防止膜
のそれと同等またはそれ以上であった。
り得られた反射防止膜と実質的に同じ分光反射特性を示
し、密着性テストにおける２０回゛の繰返しでも膜の剥
離は認められず、捷だ耐溶剤性も実施例１の反射防止膜
のそれと同等またはそれ以上であった。
なお、この実施例において第６層４の酸化ジルコニウム
膜を酸化セリウム膜、酸化ジルコニウムと酸化セリウム
の混合物の膜または酸化ジルコニウムと酸化セリウムの
多層膜に代えた反射防止膜、第４層５の五酸化タンタル
膜を一酸化チタン膜、二酸化チタン膜、または−酸化チ
タン、二酸化チタンおよび五酸化タンタルの２以−ヒの
混合物の膜若しくはこれらの２以上の多層膜に代えた反
射防止膜、および／捷たは第５層６の二酸化ケイ素膜に
代えて弗化マグネシウム模型たは二酸化ケイ素とフン化
マグネシウムの混合物の膜若しくはこれらの多層膜を用
いた反射防止膜は、いずれも密着性、耐溶剤性、耐摩耗
性、耐環境性に優れたものであった。
膜を酸化セリウム膜、酸化ジルコニウムと酸化セリウム
の混合物の膜または酸化ジルコニウムと酸化セリウムの
多層膜に代えた反射防止膜、第４層５の五酸化タンタル
膜を一酸化チタン膜、二酸化チタン膜、または−酸化チ
タン、二酸化チタンおよび五酸化タンタルの２以−ヒの
混合物の膜若しくはこれらの２以上の多層膜に代えた反
射防止膜、および／捷たは第５層６の二酸化ケイ素膜に
代えて弗化マグネシウム模型たは二酸化ケイ素とフン化
マグネシウムの混合物の膜若しくはこれらの多層膜を用
いた反射防止膜は、いずれも密着性、耐溶剤性、耐摩耗
性、耐環境性に優れたものであった。
本発明によれば、合成樹脂の種類、成形方法に無関係に
、合成樹脂基板の補強効果と可視光領域および近赤外領
域における良好な反射防止効果とを兼ね備え、しかも密
着性、耐溶剤性、耐摩耗性および耐環境性に優れた合成
樹脂基板の反射防止膜をうろことができる。
、合成樹脂基板の補強効果と可視光領域および近赤外領
域における良好な反射防止効果とを兼ね備え、しかも密
着性、耐溶剤性、耐摩耗性および耐環境性に優れた合成
樹脂基板の反射防止膜をうろことができる。
第１図は本発明の一実施例の反射防止膜の一部の拡大断
面図であり、第２図は上記反射防止膜の分光反射率特性
を示すグラフである。 １・・・基板 ２・・第１層 ６ ・第２層 ４・第６層 ５・・第４層 ６ 第５層
面図であり、第２図は上記反射防止膜の分光反射率特性
を示すグラフである。 １・・・基板 ２・・第１層 ６ ・第２層 ４・第６層 ５・・第４層 ６ 第５層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂基板上て形成された光学的膜厚００１３λ
〜λ〔λ（光の波長） ＝ ４５０〜５５０１ｍ）の−
酸化ケイ素膜からなる第１層、該第１層上に形成された
光学的膜厚０．１６λ〜λの二酸化ケイ素膜からなる第
２層、該第２層上に形成された光学的膜厚０．２６λ〜
０．２９λの酸化ジルコニウム、酸化セリウム捷たはこ
れらの混合物の膜、或は酸化ジルコニウムおよび酸化セ
リウムの多層膜からなる第６層、該第６層上に形成され
た光学的膜厚０．２６λ〜０．２９λの五酸化タンタル
、−酸化チタン、二酸化チタン捷たはそれらの２以上の
混合物の膜、或は五酸化タンタル、−酸化チタンおよび
二酸化チタンの２以上の多層膜からなる第４層、および
該第４層上に形成された光学的膜厚０．２６λ〜０，２
９λの二酸化ケイ素、フッ化マグネシウムまたはこれら
の混合物の膜、或は二酸化ケイ素およびフッ化マグネシ
ウムの多層膜からなる第５層からなること・′（特徴と
する合成樹脂基板の反射防止膜。 ２ 前記第２層から第５層重でか活性化反応蒸着により
形成されたものである特許請求の範囲第１項記載の反射
防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238813A JPS60130703A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238813A JPS60130703A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60130703A true JPS60130703A (ja) | 1985-07-12 |
| JPH0461323B2 JPH0461323B2 (ja) | 1992-09-30 |
Family
ID=17035665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58238813A Granted JPS60130703A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60130703A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0505547A1 (en) * | 1990-10-11 | 1992-09-30 | Viratec Thin Films, Inc. | D.c. reactively sputtered antireflection coatings |
| US5597622A (en) * | 1991-08-28 | 1997-01-28 | Leybold Aktiengesellschaft | Process for the production of a reflection-reducing coating on lenses |
-
1983
- 1983-12-20 JP JP58238813A patent/JPS60130703A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0505547A1 (en) * | 1990-10-11 | 1992-09-30 | Viratec Thin Films, Inc. | D.c. reactively sputtered antireflection coatings |
| US5597622A (en) * | 1991-08-28 | 1997-01-28 | Leybold Aktiengesellschaft | Process for the production of a reflection-reducing coating on lenses |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0461323B2 (ja) | 1992-09-30 |
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