JPH05313001A - プラスチック製光学部品の反射防止膜 - Google Patents
プラスチック製光学部品の反射防止膜Info
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- JPH05313001A JPH05313001A JP4121604A JP12160492A JPH05313001A JP H05313001 A JPH05313001 A JP H05313001A JP 4121604 A JP4121604 A JP 4121604A JP 12160492 A JP12160492 A JP 12160492A JP H05313001 A JPH05313001 A JP H05313001A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プラスチック製光学部品の反射防止膜に関
し、密着性、耐久性、光学特性および量産性を向上させ
る。 【構成】 プラスチック製光学部品１の表面側から順に
酸化インジウム・錫膜からなる第１層２、酸化セリウム
膜、五酸化タンタル膜または酸化ハフニウム膜からなる
第２層３、酸化珪素膜からなる第３層４の３層構造から
なる。
し、密着性、耐久性、光学特性および量産性を向上させ
る。 【構成】 プラスチック製光学部品１の表面側から順に
酸化インジウム・錫膜からなる第１層２、酸化セリウム
膜、五酸化タンタル膜または酸化ハフニウム膜からなる
第２層３、酸化珪素膜からなる第３層４の３層構造から
なる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プロジェクション型テ
レビ受像機、ビデオカメラ、スチルカメラなどの光学系
に使用されるプラスチック製光学部品の反射防止膜に関
する。
レビ受像機、ビデオカメラ、スチルカメラなどの光学系
に使用されるプラスチック製光学部品の反射防止膜に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、レンズなどの光学部品には無機ガ
ラスが多く使用されてきたが、近年、軽量で加工が容易
でありかつ量産性にすぐれているプラスチックが光学部
品の素材として用いられるようになってきた。しかしな
がら、プラスチックレンズなどのプラスチック製光学部
品も無機ガラス製光学部品と同様に表面での光の反射が
大きいという欠点がある。この欠点を解消するために、
プラスチック製光学部品の表面に無機ガラス製光学部品
と同様の反射防止膜を形成し、表面での光反射を防ぐこ
とは一般技術として知られている（たとえば「精密プラ
スチック光学レンズの設計、成形技術とその問題点」ト
リケップス資料集No.８７、Ｐ６−１〜Ｐ６−４）。
ラスが多く使用されてきたが、近年、軽量で加工が容易
でありかつ量産性にすぐれているプラスチックが光学部
品の素材として用いられるようになってきた。しかしな
がら、プラスチックレンズなどのプラスチック製光学部
品も無機ガラス製光学部品と同様に表面での光の反射が
大きいという欠点がある。この欠点を解消するために、
プラスチック製光学部品の表面に無機ガラス製光学部品
と同様の反射防止膜を形成し、表面での光反射を防ぐこ
とは一般技術として知られている（たとえば「精密プラ
スチック光学レンズの設計、成形技術とその問題点」ト
リケップス資料集No.８７、Ｐ６−１〜Ｐ６−４）。
【０００３】以下図面を参照しながら従来のプラスチッ
ク製光学部品の反射防止膜についてその形成方法ととも
に説明する。単層の反射防止膜としてはフッ化マグネシ
ウム（ＭｇＦ2）膜からなるものが一般的であり、その
断面を図３に示し、屈折率１．４９のアクリル樹脂（ポ
リメチルメタクリレート）製光学部品（以下光学部品と
略す）１１の表面にフッ化マグネシウム膜１２を形成し
たときの分光反射特性を図４の（ｄ）で示す。図４の
（ｅ）で示す特性は比較のための反射防止膜を形成して
いない光学部品（ポリメチルメタクリレート製）の分光
反射特性である。フッ化マグネシウム膜１２等の反射防
止膜は通常真空蒸着法によって形成されるが、最近では
反射防止膜と光学部品との密着性や耐久性を向上させる
ために光学部品を６０℃〜８０℃に加熱して真空蒸着す
る方法や、ＲＦイオンプレーティング法を用いて形成す
る方法が行われている。図３に示す反射防止膜は１種類
の蒸着物質を使用したものであるが、２種類を使用した
ものとしては二酸化珪素膜とフッ化マグネシウム膜を用
いたもの（特開昭６０−１２９７０１号公報参照）や酸
化セリウム膜と酸化珪素（ＳｉＯx）膜を用いたもの
（特開昭６３−１７２２０１号公報参照）などがある。
ク製光学部品の反射防止膜についてその形成方法ととも
に説明する。単層の反射防止膜としてはフッ化マグネシ
ウム（ＭｇＦ2）膜からなるものが一般的であり、その
断面を図３に示し、屈折率１．４９のアクリル樹脂（ポ
リメチルメタクリレート）製光学部品（以下光学部品と
略す）１１の表面にフッ化マグネシウム膜１２を形成し
たときの分光反射特性を図４の（ｄ）で示す。図４の
（ｅ）で示す特性は比較のための反射防止膜を形成して
いない光学部品（ポリメチルメタクリレート製）の分光
反射特性である。フッ化マグネシウム膜１２等の反射防
止膜は通常真空蒸着法によって形成されるが、最近では
反射防止膜と光学部品との密着性や耐久性を向上させる
ために光学部品を６０℃〜８０℃に加熱して真空蒸着す
る方法や、ＲＦイオンプレーティング法を用いて形成す
る方法が行われている。図３に示す反射防止膜は１種類
の蒸着物質を使用したものであるが、２種類を使用した
ものとしては二酸化珪素膜とフッ化マグネシウム膜を用
いたもの（特開昭６０−１２９７０１号公報参照）や酸
化セリウム膜と酸化珪素（ＳｉＯx）膜を用いたもの
（特開昭６３−１７２２０１号公報参照）などがある。
【０００４】なお図４に示すように、フッ化マグネシウ
ム膜１２を形成したものの反射分光特性（ｄ）は中心波
長５２０ｎｍで１．５％と（ｅ）に比べてずいぶん改善
されている。
ム膜１２を形成したものの反射分光特性（ｄ）は中心波
長５２０ｎｍで１．５％と（ｅ）に比べてずいぶん改善
されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、以下に示す課題を有していた。
来の構成では、以下に示す課題を有していた。
【０００６】（１）プラスチックの流動温度、熱変形温
度が低くまたプラスチック内部からの放出ガスの問題も
あるために無機ガラス基板に反射防止膜を形成するとき
に行う基板加熱（３００℃〜４００℃）が不可能で強固
な蒸着膜を得ることができず、４０℃〜５０℃以下の低
温でプラスチック製光学部品の表面に反射防止膜の形成
を行うが、この低温で形成された反射防止膜はプラスチ
ック表面との密着性が悪く、耐久性も低い。
度が低くまたプラスチック内部からの放出ガスの問題も
あるために無機ガラス基板に反射防止膜を形成するとき
に行う基板加熱（３００℃〜４００℃）が不可能で強固
な蒸着膜を得ることができず、４０℃〜５０℃以下の低
温でプラスチック製光学部品の表面に反射防止膜の形成
を行うが、この低温で形成された反射防止膜はプラスチ
ック表面との密着性が悪く、耐久性も低い。
【０００７】（２）プラスチック製光学部品を６０℃〜
８０℃に加熱したり、ＲＦイオンプレーティング法など
を用いて形成した反射防止膜はクラックが生じやすく、
また形成時の条件を一定にしかつプラスチック表面の状
態を一定に保つことが困難であり量産に適するものでは
ない。
８０℃に加熱したり、ＲＦイオンプレーティング法など
を用いて形成した反射防止膜はクラックが生じやすく、
また形成時の条件を一定にしかつプラスチック表面の状
態を一定に保つことが困難であり量産に適するものでは
ない。
【０００８】（３）図４の（ｄ）で示すように、フッ化
マグネシウム単層膜での反射防止膜は中心波長（λ0）
において残存反射率が約１．５％もあり、反射防止膜と
しては十分な特性を持っていない。またフッ化マグネシ
ウム膜と二酸化珪素膜を用いた反射防止膜ではクラック
は発生せず耐久性も比較的良いが、残存反射率が単層膜
と同程度あり十分な特性ではない。また酸化セリウム膜
と一酸化珪素膜を用いた反射防止膜は一酸化珪素膜の屈
折率が経時的に変化しやすいので光学特性の安定性に問
題がある。
マグネシウム単層膜での反射防止膜は中心波長（λ0）
において残存反射率が約１．５％もあり、反射防止膜と
しては十分な特性を持っていない。またフッ化マグネシ
ウム膜と二酸化珪素膜を用いた反射防止膜ではクラック
は発生せず耐久性も比較的良いが、残存反射率が単層膜
と同程度あり十分な特性ではない。また酸化セリウム膜
と一酸化珪素膜を用いた反射防止膜は一酸化珪素膜の屈
折率が経時的に変化しやすいので光学特性の安定性に問
題がある。
【０００９】以上のように従来の反射防止膜には、プラ
スチック表面との密着性が悪い、耐久性に劣る、反射防
止膜としての光学特性が十分でない、光学特性の安定性
に欠けるという課題を有していた。
スチック表面との密着性が悪い、耐久性に劣る、反射防
止膜としての光学特性が十分でない、光学特性の安定性
に欠けるという課題を有していた。
【００１０】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、プラスチック製光学部品に対しての密着性、耐久性
および光学特性に優れたプラスチック製光学部品の反射
防止膜を提供することを目的とする。
で、プラスチック製光学部品に対しての密着性、耐久性
および光学特性に優れたプラスチック製光学部品の反射
防止膜を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のプラスチック製光学部品の反射防止膜は、プ
ラスチック製光学部品の表面から空気側へ順に、第１層
が酸化インジウム・錫膜、第２層および第３層が金属酸
化物膜からなる構成を有している。
に本発明のプラスチック製光学部品の反射防止膜は、プ
ラスチック製光学部品の表面から空気側へ順に、第１層
が酸化インジウム・錫膜、第２層および第３層が金属酸
化物膜からなる構成を有している。
【００１２】
【作用】この構成によって、第１層の透明かつ導電性を
持つ酸化インジウム・錫膜がプラスチック製光学部品と
の密着性を向上させ、その結果、密着性、耐久性、光学
特性に優れた反射防止膜を得ることができる。
持つ酸化インジウム・錫膜がプラスチック製光学部品と
の密着性を向上させ、その結果、密着性、耐久性、光学
特性に優れた反射防止膜を得ることができる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００１４】図１は本発明の一実施例におけるプラスチ
ック製光学部品の反射防止膜の断面図であり、図２の
（ａ）ないし（ｃ）にその分光反射特性を示す。図２に
は同時に従来の反射防止膜（ｄ）および反射防止膜なし
（ｅ）の特性を示した。本実施例では光学部品はアクリ
ル樹脂（ポリメチルメタクリレート）製である。図１に
おいて、１はアクリル樹脂製の光学部品、２は酸化イン
ジウム・錫膜、３は酸化セリウム膜（五酸化タンタル膜
または酸化ハフニウム膜でもよい）、４は二酸化珪素膜
である。
ック製光学部品の反射防止膜の断面図であり、図２の
（ａ）ないし（ｃ）にその分光反射特性を示す。図２に
は同時に従来の反射防止膜（ｄ）および反射防止膜なし
（ｅ）の特性を示した。本実施例では光学部品はアクリ
ル樹脂（ポリメチルメタクリレート）製である。図１に
おいて、１はアクリル樹脂製の光学部品、２は酸化イン
ジウム・錫膜、３は酸化セリウム膜（五酸化タンタル膜
または酸化ハフニウム膜でもよい）、４は二酸化珪素膜
である。
【００１５】（第１の実施例）第１の実施例の反射防止
膜の構成は（表１）に示す通りである。
膜の構成は（表１）に示す通りである。
【００１６】
【表１】
【００１７】各膜の形成条件は以下の通りである。第１
層の酸化インジウム・錫膜は、真空蒸着槽内を１．０×
１０-5Ｔｏｒｒまで排気した後酸素を３×１０-5Ｔｏｒ
ｒまで導入し、酸化インジウムに酸化錫を２ｗｔ．％添
加した酸化インジウム・錫膜を光学的膜厚λ0／４（λ0
＝５２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約２〜３Å／ｓｅｃで
形成した。このときの酸化インジウム・錫膜の屈折率は
１．９０である。次に酸素を５×１０-5Ｔｏｒｒまで導
入し、酸化セリウム膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５２
０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約５〜８Å／ｓｅｃで形成し
た。このときの酸化セリウム膜の屈折率は２．２０であ
る。次に酸素の導入を停止し、真空度１×１０-5Ｔｏｒ
ｒで二酸化珪素膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５２０ｎ
ｍ）の厚さに蒸着速度約１０Å／ｓｅｃで形成した。こ
のときの二酸化珪素膜の屈折率は１．４６である。
層の酸化インジウム・錫膜は、真空蒸着槽内を１．０×
１０-5Ｔｏｒｒまで排気した後酸素を３×１０-5Ｔｏｒ
ｒまで導入し、酸化インジウムに酸化錫を２ｗｔ．％添
加した酸化インジウム・錫膜を光学的膜厚λ0／４（λ0
＝５２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約２〜３Å／ｓｅｃで
形成した。このときの酸化インジウム・錫膜の屈折率は
１．９０である。次に酸素を５×１０-5Ｔｏｒｒまで導
入し、酸化セリウム膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５２
０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約５〜８Å／ｓｅｃで形成し
た。このときの酸化セリウム膜の屈折率は２．２０であ
る。次に酸素の導入を停止し、真空度１×１０-5Ｔｏｒ
ｒで二酸化珪素膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５２０ｎ
ｍ）の厚さに蒸着速度約１０Å／ｓｅｃで形成した。こ
のときの二酸化珪素膜の屈折率は１．４６である。
【００１８】第１の実施例の分光反射特性を図２の
（ａ）で示す。中心波長（λ0＝５２０ｎｍ）で反射率
は０．２％以下であり、反射防止膜として優れておりか
つ広帯域において優れた特性が得られた。
（ａ）で示す。中心波長（λ0＝５２０ｎｍ）で反射率
は０．２％以下であり、反射防止膜として優れておりか
つ広帯域において優れた特性が得られた。
【００１９】（第２の実施例）第２の実施例の反射防止
膜の構成は（表２）に示す通りである。
膜の構成は（表２）に示す通りである。
【００２０】
【表２】
【００２１】各膜の形成条件は以下の通りである。第１
層の酸化インジウム・錫膜は、真空蒸着槽内を１．０×
１０-5Ｔｏｒｒまで排気した後酸素を３×１０-5Ｔｏｒ
ｒまで導入し、酸化インジウムに酸化錫を３ｗｔ．％添
加した酸化インジウム・錫膜を光学的膜厚λ0／４（λ0
＝５２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約２〜３Å／ｓｅｃで
形成した。このときの酸化インジウム・錫膜の屈折率は
１．８５である。次に酸素を５×１０-5Ｔｏｒｒまで導
入し、五酸化タンタル膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５
２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約７〜８Å／ｓｅｃで形成
した。このときの五酸化タンタル膜の屈折率は２．１０
である。次に酸素の導入を停止し、真空度１×１０-5Ｔ
ｏｒｒで二酸化珪素膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５２
０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約１０Å／ｓｅｃで形成し
た。このときの二酸化珪素膜の屈折率は１．４６であ
る。
層の酸化インジウム・錫膜は、真空蒸着槽内を１．０×
１０-5Ｔｏｒｒまで排気した後酸素を３×１０-5Ｔｏｒ
ｒまで導入し、酸化インジウムに酸化錫を３ｗｔ．％添
加した酸化インジウム・錫膜を光学的膜厚λ0／４（λ0
＝５２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約２〜３Å／ｓｅｃで
形成した。このときの酸化インジウム・錫膜の屈折率は
１．８５である。次に酸素を５×１０-5Ｔｏｒｒまで導
入し、五酸化タンタル膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５
２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約７〜８Å／ｓｅｃで形成
した。このときの五酸化タンタル膜の屈折率は２．１０
である。次に酸素の導入を停止し、真空度１×１０-5Ｔ
ｏｒｒで二酸化珪素膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５２
０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約１０Å／ｓｅｃで形成し
た。このときの二酸化珪素膜の屈折率は１．４６であ
る。
【００２２】第２の実施例の分光反射特性を図２の
（ｂ）で示す。中心波長（λ0＝５２０ｎｍ）で反射率
は０．４％以下であり、反射防止膜として優れておりか
つ広帯域において優れた特性が得られた。
（ｂ）で示す。中心波長（λ0＝５２０ｎｍ）で反射率
は０．４％以下であり、反射防止膜として優れておりか
つ広帯域において優れた特性が得られた。
【００２３】（第３の実施例）第３の実施例の反射防止
膜の構成は（表３）に示す通りである。
膜の構成は（表３）に示す通りである。
【００２４】
【表３】
【００２５】各膜の形成条件は以下の通りである。第１
層の酸化インジウム・錫膜は、真空蒸着槽内を１．０×
１０-5Ｔｏｒｒまで排気した後酸素を３×１０-5Ｔｏｒ
ｒまで導入し、酸化インジウムに酸化錫を２ｗｔ．％添
加した酸化インジウム・錫膜を光学的膜厚λ0／４（λ0
＝５２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約２〜３Å／ｓｅｃで
形成した。このときの酸化インジウム・錫膜の屈折率は
１．９０である。次に酸素を５×１０-5Ｔｏｒｒまで導
入し、酸化ハフニウム膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５
２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約５〜７Å／ｓｅｃで形成
した。このときの酸化ハフニウム膜の屈折率は２．１５
である。次に酸素の導入を停止し、真空度１×１０-5Ｔ
ｏｒｒで二酸化珪素膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５２
０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約１０Å／ｓｅｃで形成し
た。このときの二酸化珪素膜の屈折率は１．４６であ
る。
層の酸化インジウム・錫膜は、真空蒸着槽内を１．０×
１０-5Ｔｏｒｒまで排気した後酸素を３×１０-5Ｔｏｒ
ｒまで導入し、酸化インジウムに酸化錫を２ｗｔ．％添
加した酸化インジウム・錫膜を光学的膜厚λ0／４（λ0
＝５２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約２〜３Å／ｓｅｃで
形成した。このときの酸化インジウム・錫膜の屈折率は
１．９０である。次に酸素を５×１０-5Ｔｏｒｒまで導
入し、酸化ハフニウム膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５
２０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約５〜７Å／ｓｅｃで形成
した。このときの酸化ハフニウム膜の屈折率は２．１５
である。次に酸素の導入を停止し、真空度１×１０-5Ｔ
ｏｒｒで二酸化珪素膜を光学的膜厚λ0／４（λ0＝５２
０ｎｍ）の厚さに蒸着速度約１０Å／ｓｅｃで形成し
た。このときの二酸化珪素膜の屈折率は１．４６であ
る。
【００２６】第３の実施例の分光反射特性を図２の
（ｃ）で示す。第３の実施例の分光反射特性は第２の実
施例とほとんど同じであった。中心波長（λ0＝５２０
ｎｍ）で反射率は０．４％以下であり、反射防止膜とし
て優れておりかつ広帯域において優れた特性が得られ
た。
（ｃ）で示す。第３の実施例の分光反射特性は第２の実
施例とほとんど同じであった。中心波長（λ0＝５２０
ｎｍ）で反射率は０．４％以下であり、反射防止膜とし
て優れておりかつ広帯域において優れた特性が得られ
た。
【００２７】上記の第１ないし第３の実施例の反射防止
膜の密着性、耐久性を確認するために行った試験は、
（１）剥離試験（温度４０℃、相対湿度８５％の高温・
高湿雰囲気中に１０００時間放置した後、粘着テープを
プラスチック製光学部品表面に密着し、引きはが
す。）、（２）耐湿試験（温度４０℃、相対湿度９５％
の高温・高湿雰囲気中に１０００時間放置）、（３）熱
衝撃試験（温度−３０℃、７０℃の低温・高温雰囲気中
に交互に３０分間ずつ放置を約１００時間）である。密
着性・耐久性試験結果は（表４）に示す通りである。
膜の密着性、耐久性を確認するために行った試験は、
（１）剥離試験（温度４０℃、相対湿度８５％の高温・
高湿雰囲気中に１０００時間放置した後、粘着テープを
プラスチック製光学部品表面に密着し、引きはが
す。）、（２）耐湿試験（温度４０℃、相対湿度９５％
の高温・高湿雰囲気中に１０００時間放置）、（３）熱
衝撃試験（温度−３０℃、７０℃の低温・高温雰囲気中
に交互に３０分間ずつ放置を約１００時間）である。密
着性・耐久性試験結果は（表４）に示す通りである。
【００２８】
【表４】
【００２９】（表４）に示すように本実施例の反射防止
膜はいずれも密着性、耐久性に優れている。さらに従来
は反射防止膜形成時にクラックの発生が見られるものも
あったが、本実施例においては常時安定していた。なお
上記の実施例では、各膜厚を（表１）ないし（表３）に
示すものにしたが、膜厚は特に上記の値に限定されるも
のではなく、設計波長に応じて変化させれば良い。
膜はいずれも密着性、耐久性に優れている。さらに従来
は反射防止膜形成時にクラックの発生が見られるものも
あったが、本実施例においては常時安定していた。なお
上記の実施例では、各膜厚を（表１）ないし（表３）に
示すものにしたが、膜厚は特に上記の値に限定されるも
のではなく、設計波長に応じて変化させれば良い。
【００３０】
【発明の効果】以上のように本発明は、酸化インジウム
・錫膜からなる第１層、金属酸化物からなる第２層、第
３層で構成される３層構造であり、プラスチック製光学
部品との密着性に優れ、反射防止膜の耐久性の向上と共
に分光特性にも優れ、クラックも発生しない優れたプラ
スチック製光学部品の反射防止膜を実現できるものであ
る。
・錫膜からなる第１層、金属酸化物からなる第２層、第
３層で構成される３層構造であり、プラスチック製光学
部品との密着性に優れ、反射防止膜の耐久性の向上と共
に分光特性にも優れ、クラックも発生しない優れたプラ
スチック製光学部品の反射防止膜を実現できるものであ
る。
【図１】本発明の一実施例におけるプラスチック製光学
部品の反射防止膜の断面図
部品の反射防止膜の断面図
【図２】同反射防止膜の分光反射特性図
【図３】従来のプラスチック製光学部品の反射防止膜の
断面図
断面図
【図４】同反射防止膜の分光反射特性図
１ プラスチック製光学部品 ２ 酸化インジウム・錫膜（第１層） ３ 酸化セリウム膜（金属酸化物膜；第２層） ４ 二酸化珪素膜（金属酸化物膜；第３層）
Claims (2)
- 【請求項１】プラスチック製光学部品の表面から空気側
へ順に、第１層が酸化インジウム・錫膜、第２層および
第３層が金属酸化物膜であるプラスチック製光学部品の
反射防止膜。 - 【請求項２】第２層が酸化セリウム膜、酸化タンタル膜
または酸化ハフニウム膜であり、第３層が二酸化珪素膜
である請求項１記載のプラスチック製光学部品の反射防
止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4121604A JPH05313001A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4121604A JPH05313001A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05313001A true JPH05313001A (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=14815371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4121604A Pending JPH05313001A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05313001A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7534500B2 (en) * | 2001-10-05 | 2009-05-19 | Bridgestone Corporation | Transparent electroconductive film, method for manufacture thereof, and touch panel |
| JP2013195649A (ja) * | 2012-03-19 | 2013-09-30 | Hoya Corp | プラスチックレンズ |
-
1992
- 1992-05-14 JP JP4121604A patent/JPH05313001A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2013195649A (ja) * | 2012-03-19 | 2013-09-30 | Hoya Corp | プラスチックレンズ |
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