JPH01168443A - 高反射フイルム - Google Patents

高反射フイルム

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JPH01168443A
JPH01168443A JP32872387A JP32872387A JPH01168443A JP H01168443 A JPH01168443 A JP H01168443A JP 32872387 A JP32872387 A JP 32872387A JP 32872387 A JP32872387 A JP 32872387A JP H01168443 A JPH01168443 A JP H01168443A
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silver
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Denichiro Goto
後藤 傅一郎
Koji Anayama
穴山 弘司
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Oike and Co Ltd
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Oike and Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は高反射フィルムに関し、さらに詳しくは、蛍光
灯のバラツクの反射板、レーザーの反射板、液晶デイス
プレィのバックの反射板などの高い反射率を要求される
用途に用いられる高反射フィルムに関する。
[従来の技術] 従来よりこの種の金属光沢を有する高反射フィルムには
、たとえば、ポリエステルフィルムの表面にアルミニウ
ム、銀のような金属の薄膜を蒸着形成し、さらに保護層
を塗布形成したものかあった。
しかしながら、上記のポリエステルフィルムの表面にア
ルミニウム蒸着層を設けたものにあっては、銀蒸着層を
設けたものに比較して反射率か劣っている。また上記の
ポリエステルフィルムの表面に銀蒸着層を設けたものに
あっては、ポリエステルフィルム面からの反射およびポ
リエステルフィルム自身のヘイズにより高反射は得られ
ないという問題点があった。
[発明の目的] 本発明は上記従来の問題点に鑑み、反射率の優れた高反
射フィルムを提供することにある。
[発明の構成] 本発明は、ポリエチレンテレフタレートフィルムからな
る基材の表面には二酸化珪素からなる表面層を設け、裏
面には銀蒸若層、アクリル樹脂からなる保護層を順次形
成し、要すれば粘着剤層および!As性シートを設けて
なることを特徴とする高反射フィルムに関するものであ
る。
すなわち、従来のこの種の金属光沢を有する高反射フィ
ルムに用いられていた、たとえば、ポリエステルフィル
ムの表面にアルミニウム、銀のような金属の薄膜を蒸着
形成し、さらに保護層を塗布形成したものにかえて、本
発明ではポリエチレンテレフタレートフィルムからなる
基材の表面に二酸化珪素からなる表面層を設け、裏面に
は銀蒸着層、アクリル樹脂からなる保護層を順次形成し
、要すれば粘着剤層および剥離性シートを設けるように
したので、従来の種々の問題点をことごとく解消して、
反射率の優れた高反射フィルムを完成したものである。
すなわち本発明は、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムからなる基材(1)の表面には二酸化珪素からなる表
面層(2)を設け、裏面には銀蒸着層(3)、アクリル
樹脂からなる保護層(4)を順次形成し、要すれば粘着
剤層(5)および剥離性シート(6)を設けたことによ
り、反射率の優れた高反射フィルムを提供することを可
能としたものである。
本発明の高反射フィルムにおけるポリエチレンテレフタ
レートフィルムからなる基材(1)としてのその厚さに
は特に制限はないが、厚さが12〜2001程度のもの
を用いるのが良く、特に25〜100−の厚みのものが
、透明性、耐久性、取扱い性、経済性などの点から好ま
しい。
本発明の高反射フィルムの銀蒸着層(3)は、たとえば
銀を常法により蒸着したものである。tR蒸着層(3)
の厚さは通常は70〜100n1程度の範囲から選ばれ
る。たとえば厚さが70n■以下では金属の反射率が充
分でなく、一方100n■以上の場合には金属の反射率
にかわりがないので経済性に劣り好ましくない。
本発明の高反射フィルムの二酸化珪素からなる表面層(
2)は、たとえば二酸化珪素を常法により蒸着したもの
である0表面層(2)の厚さは光学膜厚(nd)入/4
の厚さに形成するのが望ましい0通常は70〜120n
m範囲、より好ましくは90〜1100nの範囲から選
ばれる。厚さが70ロ臘未満ては反射防止効果が不十分
で、且つ、フィルム表面を平滑にするには不十分て、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム自身のもっているヘ
イズをなくし光透過性を改良することができず表面層(
2)を設けた効果が充分に発揮できず表面層(2)を形
成した価値がなく、一方120nsを越えると表面層(
2)が厚すぎて反射防止の効果が無くなり透明性を損な
い、また製膜も遅くなり非悌率的で経済性に劣り好まし
くない。
本願明細書において蒸着とは真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンブレーティング法等の通常の金属の薄膜形
成方法によって薄膜を形成することを意味する。
銀蒸着層とはこれら金属の薄膜形成方法によって形成さ
れた銀の薄膜の全てを含むものとする。
本発明の高反射フィルムにおいて銀蒸着層(3)自体は
機械的強度が弱<J!]!擦による損傷などを受けやす
いうえ、化学的に活性で大気中の硫化物などにより変色
したり腐食しやすいので、銀蒸着層(3)の面上に銀蒸
着層を保護する目的でアクリル樹脂からなる保護層(4
)を設ける。保護層(4)の厚さは特に制限は無いが通
常0.01〜10μsの範囲から適宜選ばれる。
かかる保護層(4)を形成するためのアクリル樹脂塗料
としては、たとえば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれからなる塗料
も用いられる。
保護層(4)の形成は、前記保護層(4)を形成する為
の樹脂塗料をロールコーティング法、グラビアコーティ
ング法、リバースコーティング法、スプレィコーティン
グ法などの通常のコーティング法により塗布し、乾燥(
熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂な
どの場合は硬化)することによって行われる。
つぎに実施例をあげて本発明を説明する。
[実施例] 実施例1 厚さ50趨のポリエチレンテレフタレートフィルムの表
面上に、二酸化珪素を真空蒸着法にて蒸着させて光学膜
厚(nd)入/4の厚さに二酸化珪素蒸着層を形成して
表面層を形成し1次いでポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの裏面上に銀をスパッタリング法にてスパッタさ
せて厚さ80n■の銀蒸着層を形成し、さらにアクリル
樹脂10部、メチルイソブチルケトン19部、キシレン
10部とからなる塗液な塗布乾燥して約5On−の保護
層を形成して本発明の高反射フィルムを得た。
実施例2 実施例1で得た本発明の高反射フィルムの保護層の面上
に、剥離性フィルムの剥離性面にアクリル系粘着樹脂1
00部、硬化剤4部、酢酸エチル20部、トルエン10
部とからなる塗液な塗布乾燥して粘着剤層を厚さ18%
に形成した総厚が56μsの剥離性フィルムの粘着剤層
側を貼り合せて本発明の高反射フィルムを得た。
比較例1 厚さ50μsのポリエチレンテレフタレートフィルムの
裏面上にアルミニウムを真空蒸着法にて蒸着して厚さ8
0n■のアルミニウム蒸着層を形成し、さらにアクリル
樹脂10部、メチルイソブチルケトン19部、キシ12
10部とからなる塗液な塗布乾燥して約50nsの保護
層を形成して従来タイプの高反射フィルムを得た。
比較例2 厚さ50−のポリエチレンテレフタレートフィルムの裏
面上に銀をスパッタリング法にてスパッタさせて厚さ8
0部mの銀蒸着層を形成し、更にアクリル樹脂10部、
メチルイソブチルケトン10部、キジロール10部とか
らなる塗液な塗布乾燥して約りOn重の保護層を形成し
て従来タイプの高反射フィルムを得た。
[発明の効果] 実施@1.2および比較例1,2て得られた高反射フィ
ルムの反射率は表−1の通りであった。
表−1
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の高反射フィルムの基本構成を示す断面
図であり、第2図は本発明の高反射フィルムの他の実施
態様例を示す断面図でありる。 (図面の符号) (1):基材 (2)二表面層 (3):銀蒸着層 (4):保護層 (5):粘着剤層 (6):剥離性フィルム

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる基材
    の表面には二酸化珪素からなる表面層を設け、裏面には
    銀蒸着層、アクリル樹脂保護層を順次形成し、要すれば
    粘着剤層および剥離性シートを設けてなることを特徴と
    する高反射フィルム。
JP32872387A 1987-12-24 1987-12-24 高反射フイルム Expired - Fee Related JP2577938B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5032438A (en) * 1988-05-28 1991-07-16 Tomoegawa Paper Co., Ltd. Adhesive tapes for die bonding
JPH0445921A (ja) * 1990-06-14 1992-02-14 Sekisui Chem Co Ltd 銀蒸着反射フィルム
JPH05162227A (ja) * 1991-12-18 1993-06-29 Mitsui Toatsu Chem Inc 反射体
WO1995002785A1 (en) * 1993-07-15 1995-01-26 Honeywell Inc. Backlight apparatus with increased reflectance

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WO1995002785A1 (en) * 1993-07-15 1995-01-26 Honeywell Inc. Backlight apparatus with increased reflectance

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