JPS6062121A - フオトレジスト吐出装置 - Google Patents
フオトレジスト吐出装置Info
- Publication number
- JPS6062121A JPS6062121A JP17077183A JP17077183A JPS6062121A JP S6062121 A JPS6062121 A JP S6062121A JP 17077183 A JP17077183 A JP 17077183A JP 17077183 A JP17077183 A JP 17077183A JP S6062121 A JPS6062121 A JP S6062121A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- resist
- photo
- valve
- discharge port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体素子製造工程における半導体基板（以下
ウェハと呼ぶ）にフォトレジストを塗布処理をするフォ
トレジスト塗布装置内のフォトレジスト吐出装置に関す
るものである。
ウェハと呼ぶ）にフォトレジストを塗布処理をするフォ
トレジスト塗布装置内のフォトレジスト吐出装置に関す
るものである。
フォトレジスト吐出装置はウェハ上に一定量の粘度の均
一な塵埃を含まないフォトレジストを吐出する条件を必
要とする。
一な塵埃を含まないフォトレジストを吐出する条件を必
要とする。
一般的に前記条件のうち粘度の均一性を保つ上でフォト
レジスト吐出口の先端からの溶剤の揮発を低く押さえ、
かつフォトレジスト吐出口先端の溜り量の垂れ落ちを防
止するため、フォトレジスト吐出後、若干量のフォトレ
ジストを引き戻す方法が採用されている。このフォトレ
ジストの引き戻し量は適正量に調整された後、常に安定
していなければ、前記フォトレジスト吐出装置の条件を
満足できない。
レジスト吐出口の先端からの溶剤の揮発を低く押さえ、
かつフォトレジスト吐出口先端の溜り量の垂れ落ちを防
止するため、フォトレジスト吐出後、若干量のフォトレ
ジストを引き戻す方法が採用されている。このフォトレ
ジストの引き戻し量は適正量に調整された後、常に安定
していなければ、前記フォトレジスト吐出装置の条件を
満足できない。
又、近年フォトリソグラフィによるレジストパターンは
よシ一層の微細化を要求されており、ウェハ上に形成さ
れるフォトレジストは均一なものが必要となっている。
よシ一層の微細化を要求されており、ウェハ上に形成さ
れるフォトレジストは均一なものが必要となっている。
そのため、フォトレジスト内の塵埃及び一部粘度が高く
膠化したフォトレジストを除去しなければならない。前
記フォトレジスト内の異物を除去する方法としてフォト
レジスト吐出時、フィルターを通過させることが行われ
ておシ、このフィルターの組み込み位置として、吐出口
末端に近い方が好ましいことは説明するまでもない。
膠化したフォトレジストを除去しなければならない。前
記フォトレジスト内の異物を除去する方法としてフォト
レジスト吐出時、フィルターを通過させることが行われ
ておシ、このフィルターの組み込み位置として、吐出口
末端に近い方が好ましいことは説明するまでもない。
従来のフォトレジスト吐出装置には、前記したフォトレ
ジスト引き戻し方法として、ベローズ又はピストン・シ
リンダー構造による吐出手段の吐出動作終了後の吸引動
作時に吐出口側からもフォトレジストを若干量吸引する
方法、又は吐出手段以外にこれと同様に定量機能をもっ
た引き戻し手段を備え、該引き戻し手段でフォトレジス
トを吸引して引き戻す方法が採用されているが、いずれ
の場合も吐出口末端近くにフィルターのように容積の大
きな部品を設けることにより安定した引き戻し量を確保
することは困難である。
ジスト引き戻し方法として、ベローズ又はピストン・シ
リンダー構造による吐出手段の吐出動作終了後の吸引動
作時に吐出口側からもフォトレジストを若干量吸引する
方法、又は吐出手段以外にこれと同様に定量機能をもっ
た引き戻し手段を備え、該引き戻し手段でフォトレジス
トを吸引して引き戻す方法が採用されているが、いずれ
の場合も吐出口末端近くにフィルターのように容積の大
きな部品を設けることにより安定した引き戻し量を確保
することは困難である。
したがって、従来のフォトレジスト吐出装置では一般的
にその吐出手段の吸引側にフィルターを設は使用されて
いるが、その吐出手段の吐出動作による塵埃発生が比較
的多く、好ましい状態で使用されていないのが実情であ
る。
にその吐出手段の吸引側にフィルターを設は使用されて
いるが、その吐出手段の吐出動作による塵埃発生が比較
的多く、好ましい状態で使用されていないのが実情であ
る。
本発明は前記問題点を解消し、安定した引き戻し量を確
保し、かつ吐出口末端近くへフィルターを設けることを
可能としたフォトレジスト吐出装置である。
保し、かつ吐出口末端近くへフィルターを設けることを
可能としたフォトレジスト吐出装置である。
以下に、本発明の一実施例を図により説明する。
図において、フォトレジスト吐出口１に空気作動弁等よ
りなる第１の開閉弁２及びフォトレジスト用フィルター
３を介して、エアシリンダーとベローズ等による定量機
能をもったフォトレジストの主吐出手段４を配、管接続
し、フォトレジスト用フィルター３に空気作動弁等より
なる第２の開閉弁５を介して、エアシリンダーとベロー
ズ等による定量機能をもった引き戻し手段６を配管接続
する。さらに第１の逆止弁７を介して第１の開閉弁２と
フォトレジスト吐出口１との中間にフォトレジストの引
き戻し手段６を主吐出手段４と並列に配管接続し、また
、主吐出手段４に第２の逆止弁８を介してフォトレジス
ト吸引口９を設け、該吸引口９をフォトレジスト貯蔵容
器１０に接続する。
りなる第１の開閉弁２及びフォトレジスト用フィルター
３を介して、エアシリンダーとベローズ等による定量機
能をもったフォトレジストの主吐出手段４を配、管接続
し、フォトレジスト用フィルター３に空気作動弁等より
なる第２の開閉弁５を介して、エアシリンダーとベロー
ズ等による定量機能をもった引き戻し手段６を配管接続
する。さらに第１の逆止弁７を介して第１の開閉弁２と
フォトレジスト吐出口１との中間にフォトレジストの引
き戻し手段６を主吐出手段４と並列に配管接続し、また
、主吐出手段４に第２の逆止弁８を介してフォトレジス
ト吸引口９を設け、該吸引口９をフォトレジスト貯蔵容
器１０に接続する。
本発明によるフォトレジスト吐出装置の動作について説
明する。まず、主吐出手段４と引き戻し手段６の吐出動
作及び第１の開閉弁２と第２の開閉弁５の開動作を同時
に行い、主吐出手段４からフォトレジストをフィルター
３を通してフォトレジスト吐出口１に供給する。次に、
一定時間経過後又は主吐出手段４及び引き腐し手段６の
復帰行程動作の終了後、主吐出手段４の吸引動作及び第
１の開閉弁２と第２の開閉弁５の閉動作を同時に行い、
主吐出手段４により容器１０よりフォトレジストを吸い
上ける。一定時間経過後又は主吐出手段４の吸引行程動
作の終了後、引き戻し手段６の吸引動作を行い第１の開
閉弁２からフォトレジスト吐出口１までの小さく閉ざさ
れた空間内のフォトレジストを逆止弁７を介して引き戻
すものである。
明する。まず、主吐出手段４と引き戻し手段６の吐出動
作及び第１の開閉弁２と第２の開閉弁５の開動作を同時
に行い、主吐出手段４からフォトレジストをフィルター
３を通してフォトレジスト吐出口１に供給する。次に、
一定時間経過後又は主吐出手段４及び引き腐し手段６の
復帰行程動作の終了後、主吐出手段４の吸引動作及び第
１の開閉弁２と第２の開閉弁５の閉動作を同時に行い、
主吐出手段４により容器１０よりフォトレジストを吸い
上ける。一定時間経過後又は主吐出手段４の吸引行程動
作の終了後、引き戻し手段６の吸引動作を行い第１の開
閉弁２からフォトレジスト吐出口１までの小さく閉ざさ
れた空間内のフォトレジストを逆止弁７を介して引き戻
すものである。
したがって、本発明によれば、フォトレジストは主吐出
手段４より吐出された後にフィルター３を通過してフォ
トレジスト吐出口に供給されるから、塵埃を含まない清
浄なレジストを供給できる。
手段４より吐出された後にフィルター３を通過してフォ
トレジスト吐出口に供給されるから、塵埃を含まない清
浄なレジストを供給できる。
一方、第１の開閉弁２を閉じることにより形成される第
１の開閉弁２から吐出口１までの小さく閉ざされた空間
より逆止弁７を介し引き戻し手段６によシフオドレジス
トの引き戻しを行うため、安定した引き戻し量が確保で
きる。
１の開閉弁２から吐出口１までの小さく閉ざされた空間
より逆止弁７を介し引き戻し手段６によシフオドレジス
トの引き戻しを行うため、安定した引き戻し量が確保で
きる。
以上説明したように、本発明にょシ良好なフォトレジス
ト吐出装置を提供でき、半導体素子製造工程に多大な効
果をもたらすものである。
ト吐出装置を提供でき、半導体素子製造工程に多大な効
果をもたらすものである。
図は本発明の一実施例を示す構成図である。
Claims (1)
- （１）フォトレジスト吐出口に第１の開閉弁を介してフ
ォトレジストの主吐出手段を配管接続するとともに、該
フォトレジスト吐出口に第１の逆止弁を介してフォトレ
ジストの引き戻し手段を主吐出手段と並列に配管接続し
、主吐出手段に第２の逆止弁を介してフォトレジスト吸
引口を設け、さらに主吐出手段と第１の開閉弁との中間
にフォトレジスト用フィルターを設置し、かつ第２の開
閉弁を介して該フィルターに引き戻し手段を配管接続し
たことを特徴とするフォトレジスト吐出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17077183A JPS6062121A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | フオトレジスト吐出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17077183A JPS6062121A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | フオトレジスト吐出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6062121A true JPS6062121A (ja) | 1985-04-10 |
| JPH0145974B2 JPH0145974B2 (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=15911067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17077183A Granted JPS6062121A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | フオトレジスト吐出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6062121A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988002281A1 (en) * | 1986-10-03 | 1988-04-07 | Nordson Corporation | Method and apparatus for precisely discharging small quantities of liquid |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4935435A (ja) * | 1972-08-09 | 1974-04-02 | ||
| JPS5898641U (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-05 | 凸版印刷株式会社 | レジスト供給装置 |
-
1983
- 1983-09-16 JP JP17077183A patent/JPS6062121A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4935435A (ja) * | 1972-08-09 | 1974-04-02 | ||
| JPS5898641U (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-05 | 凸版印刷株式会社 | レジスト供給装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988002281A1 (en) * | 1986-10-03 | 1988-04-07 | Nordson Corporation | Method and apparatus for precisely discharging small quantities of liquid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0145974B2 (ja) | 1989-10-05 |
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