JPS6050676B2 - 熱エネルギ−を節約した洗びん装置 - Google Patents
熱エネルギ−を節約した洗びん装置Info
- Publication number
- JPS6050676B2 JPS6050676B2 JP2296778A JP2296778A JPS6050676B2 JP S6050676 B2 JPS6050676 B2 JP S6050676B2 JP 2296778 A JP2296778 A JP 2296778A JP 2296778 A JP2296778 A JP 2296778A JP S6050676 B2 JPS6050676 B2 JP S6050676B2
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- JP
- Japan
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- tank
- bottle
- liquid
- partition plate
- tanks
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は熱エネルギーを節約した洗びん装置に関する
ものである。
ものである。
ん機は通常、多数の洗浄もしくは侵ひん槽に区分けさ
れ、給びん機から供給された汚れたびんは、各槽間に亘
つてループ状に形成された洗びん経路に沿つて移動する
ボルトホルダーに把持されてこれら各槽間を移動する間
にきれいになり、出口側の排びん機側から送り出される
。
れ、給びん機から供給された汚れたびんは、各槽間に亘
つてループ状に形成された洗びん経路に沿つて移動する
ボルトホルダーに把持されてこれら各槽間を移動する間
にきれいになり、出口側の排びん機側から送り出される
。
すなわち、びんを予備洗浄行程、加熱行程、侵びん行
程、冷却行程、洗浄すすぎ行程、水切り行程とこの順て
移動させ、先す最も入口側にある予・備洗浄行程におい
てびんの表面に付着した大きな異物を払い落とす。
程、冷却行程、洗浄すすぎ行程、水切り行程とこの順て
移動させ、先す最も入口側にある予・備洗浄行程におい
てびんの表面に付着した大きな異物を払い落とす。
次いで加熱行程において、最初常温であつたびんが次第
に加熱されると同時に苛性液に侵されて、該ひんに強力
に付着した異物やラベルが膨じゆんを始める。そして浸
びん行程において、高温でしかも高濃度の苛性液で完全
に浸びんされる。次いで冷却行程で冷却されたびんは、
洗浄すすぎ行程において温水または清水によつて洗浄さ
れ、次いて水切り行程て水切りされてきれいになつたび
んは排びん部から搬出されるのである。このような洗び
ん作業においてびんは、例えば加熱行程においては熱を
吸収し、冷却行程においては熱を放出することになるの
であるが、ここで各槽における温度および苛性液の濃度
は夫々ほぼ一定に維持しなければならない。そのため従
来では各槽に夫々加熱器を設け、また汚れた液を排出す
る排出口と新しい液を供給する供給口、さらにラベルな
どを取出して槽内を清浄に保持する装置などを設けてい
る。しかし、従来のこの方式の場合は、加熱行程におい
て必要となる熱量はすべて外部から供給されており、冷
却行程においては冷却のための冷却水を常時補給し、熱
交換して温度の上昇した冷却水はそのまま外部に排出さ
れるため、熱エネルギーの大きな損失となつている。そ
こで本発明は上記問題点を解決し得る熱エネルギーを節
約した洗びん装置を提供するもので、以下その一実施例
を図面に基づいて説明する。
に加熱されると同時に苛性液に侵されて、該ひんに強力
に付着した異物やラベルが膨じゆんを始める。そして浸
びん行程において、高温でしかも高濃度の苛性液で完全
に浸びんされる。次いで冷却行程で冷却されたびんは、
洗浄すすぎ行程において温水または清水によつて洗浄さ
れ、次いて水切り行程て水切りされてきれいになつたび
んは排びん部から搬出されるのである。このような洗び
ん作業においてびんは、例えば加熱行程においては熱を
吸収し、冷却行程においては熱を放出することになるの
であるが、ここで各槽における温度および苛性液の濃度
は夫々ほぼ一定に維持しなければならない。そのため従
来では各槽に夫々加熱器を設け、また汚れた液を排出す
る排出口と新しい液を供給する供給口、さらにラベルな
どを取出して槽内を清浄に保持する装置などを設けてい
る。しかし、従来のこの方式の場合は、加熱行程におい
て必要となる熱量はすべて外部から供給されており、冷
却行程においては冷却のための冷却水を常時補給し、熱
交換して温度の上昇した冷却水はそのまま外部に排出さ
れるため、熱エネルギーの大きな損失となつている。そ
こで本発明は上記問題点を解決し得る熱エネルギーを節
約した洗びん装置を提供するもので、以下その一実施例
を図面に基づいて説明する。
１は一対の側板２間に支持された多数のスプロケットホ
ィールで、該スプロケットホィール１間にループ状に形
成されチエン駆動される洗びん経路３は複数の槽間に亘
る。
ィールで、該スプロケットホィール１間にループ状に形
成されチエン駆動される洗びん経路３は複数の槽間に亘
る。
すなわち洗びん経路３は無端状体に多数のボトルホルダ
ー（図示せず）を取付けることにより構成され、一端の
給びん部４において給びん機からびんが供給され、他端
の排びん部５においてびんが排出される。両側板２の底
部間には底板６が取付けられ、この底板６から立設され
且つ両側板２に一体化される状態で前記給びん部４側か
ら順に、一端外板７、第１区画板８、第２区画板９、第
３区画板１０、第４区画板１１、第５区画板１２、第６
区画板１３、第７区画板１４、第８区画板１５、第９区
画板１６、他端外板１７が設けられる。前記一端外板７
と第１区画板８とによりスクリーンネットコンベヤ１８
を有する受槽１９が形成され、この受槽１９内の液は第
１ポンプ２０を有する配管２１を介してスプレー装置２
２に送られ、以つて当該部が予備洗浄行程囚となる。な
お受槽１９の余乗液はオーバーフロー液２３として排出
される。第１区画板８と第２区画板９との間に第１槽２
４が形成され、その中間には下方流通可能な槽液環流用
の第１仕切板２５が設けられ、また余剰液は第１区画板
８をオーバーフローして受槽１９に流れる。
ー（図示せず）を取付けることにより構成され、一端の
給びん部４において給びん機からびんが供給され、他端
の排びん部５においてびんが排出される。両側板２の底
部間には底板６が取付けられ、この底板６から立設され
且つ両側板２に一体化される状態で前記給びん部４側か
ら順に、一端外板７、第１区画板８、第２区画板９、第
３区画板１０、第４区画板１１、第５区画板１２、第６
区画板１３、第７区画板１４、第８区画板１５、第９区
画板１６、他端外板１７が設けられる。前記一端外板７
と第１区画板８とによりスクリーンネットコンベヤ１８
を有する受槽１９が形成され、この受槽１９内の液は第
１ポンプ２０を有する配管２１を介してスプレー装置２
２に送られ、以つて当該部が予備洗浄行程囚となる。な
お受槽１９の余乗液はオーバーフロー液２３として排出
される。第１区画板８と第２区画板９との間に第１槽２
４が形成され、その中間には下方流通可能な槽液環流用
の第１仕切板２５が設けられ、また余剰液は第１区画板
８をオーバーフローして受槽１９に流れる。
第２区画板９と第３区画板１０との間に第２槽２６が形
成され、その中間には下方流通可能な第２仕切板２７が
設けられ、また余剰液は第２区画板９の上部に設けた冷
液排出槽２８にオーバーフローし、さらに新たな液は第
３区画板１０の上部に設けた温液供給槽２９からオーバ
ーフローする。第３区画板１０と第４区画板１１との間
に第３槽３０が形成され、この第３槽３０と前記第１、
第２槽２４，２６とが加熱行程（Ｂ）となる。第４区画
板１１と第５区画板１２との間に第４槽３１が、第５区
画板１２と第６区画板１３との間に第５槽３２が形成さ
れ、これらが浸びん行程（Ｃ）となる。第６区画板１３
と第７区画板１４との間に第６槽３３が形成され、その
中間には下方流通可能な第３仕切板３４が設けられ、ま
た余剰液は第６区画板１３の上部に設けた温液排出槽３
５にオーバーフローし、さらに新たな液は第７区画板１
４の上部に設けた冷液供給槽３６からオーバーフローす
る。
成され、その中間には下方流通可能な第２仕切板２７が
設けられ、また余剰液は第２区画板９の上部に設けた冷
液排出槽２８にオーバーフローし、さらに新たな液は第
３区画板１０の上部に設けた温液供給槽２９からオーバ
ーフローする。第３区画板１０と第４区画板１１との間
に第３槽３０が形成され、この第３槽３０と前記第１、
第２槽２４，２６とが加熱行程（Ｂ）となる。第４区画
板１１と第５区画板１２との間に第４槽３１が、第５区
画板１２と第６区画板１３との間に第５槽３２が形成さ
れ、これらが浸びん行程（Ｃ）となる。第６区画板１３
と第７区画板１４との間に第６槽３３が形成され、その
中間には下方流通可能な第３仕切板３４が設けられ、ま
た余剰液は第６区画板１３の上部に設けた温液排出槽３
５にオーバーフローし、さらに新たな液は第７区画板１
４の上部に設けた冷液供給槽３６からオーバーフローす
る。
第７区画板１４と第８区画板１５との間に第７槽３７が
形成され、その中間には下方流通可能な第４仕切板３８
が設けられ、また余剰液は第７区画板１４の中間に設け
た余剰液槽３９にオーバーフローし、さらに新たな液は
第８区画板１５の上部に設けた留槽４０からオーバーフ
ローする。
形成され、その中間には下方流通可能な第４仕切板３８
が設けられ、また余剰液は第７区画板１４の中間に設け
た余剰液槽３９にオーバーフローし、さらに新たな液は
第８区画板１５の上部に設けた留槽４０からオーバーフ
ローする。
前記第６、第７槽３３，３７が冷却行程（９）となる。
前記第８区画板１５と第９区画板１６との間に第８槽４
１が形成され、この第８槽４１内の液は第２ポンプ４２
を有する配管４３を介して温水による洗浄用スプレー装
置４４に送られる。第９区画板１６と他端外板１７との
間に第９槽が形成され、この第９槽４５内の液は第３ポ
ンプ４６を有する配管４７を介してすすぎ用スプレー装
置４８に送られる。４９は新たな供給水によるすすぎ用
スプレー装置を示す。
前記第８区画板１５と第９区画板１６との間に第８槽４
１が形成され、この第８槽４１内の液は第２ポンプ４２
を有する配管４３を介して温水による洗浄用スプレー装
置４４に送られる。第９区画板１６と他端外板１７との
間に第９槽が形成され、この第９槽４５内の液は第３ポ
ンプ４６を有する配管４７を介してすすぎ用スプレー装
置４８に送られる。４９は新たな供給水によるすすぎ用
スプレー装置を示す。
第８、第９槽４１，４５が洗浄すすぎ行程（Ｅ）となり
、またその下手が水切り行程（Ｆ）となる。前記温液排
出槽３５と温液供給槽２９とは温液輸送管５０で連通し
、また冷液排出槽２８と冷液供給槽３６とは冷液輸送管
５１て連通する。
、またその下手が水切り行程（Ｆ）となる。前記温液排
出槽３５と温液供給槽２９とは温液輸送管５０で連通し
、また冷液排出槽２８と冷液供給槽３６とは冷液輸送管
５１て連通する。
なお、冷液輸送管５１には、液面差を解消するための第
４ポンプ５２と、汚物除去のためのストレート５３とが
設けられる。前記余剰受槽３９からの排出管５４中には
第５ポンプ５５が設けられ、またこの排出管５４は、第
１槽２４における第１仕切板２５と第２区画板９との間
の上方に開口する。前記底板６の下方に二重底板５６を
設け、両者９，５６に廃熱流路５７を形成している。こ
の廃熱流路５７には他の設備、例えばビール醸造で生じ
た廃熱５８を供給して加熱もしくは保温に利用し、節エ
ネルギーをはかる。なお廃熱流路５７は仕切板５９によ
りジグザグ状に形成される。６＊“０は前記廃熱５８の
排出口である。
４ポンプ５２と、汚物除去のためのストレート５３とが
設けられる。前記余剰受槽３９からの排出管５４中には
第５ポンプ５５が設けられ、またこの排出管５４は、第
１槽２４における第１仕切板２５と第２区画板９との間
の上方に開口する。前記底板６の下方に二重底板５６を
設け、両者９，５６に廃熱流路５７を形成している。こ
の廃熱流路５７には他の設備、例えばビール醸造で生じ
た廃熱５８を供給して加熱もしくは保温に利用し、節エ
ネルギーをはかる。なお廃熱流路５７は仕切板５９によ
りジグザグ状に形成される。６＊“０は前記廃熱５８の
排出口である。
上記の洗びん機において、各槽における温度と苛性濃度
は次表の通じである。この表１かられかるように、第２
槽２６と第６槽３３とは苛性濃度が３％と同じであり、
また温度は６５はＣと７０℃で５℃の差がある。
は次表の通じである。この表１かられかるように、第２
槽２６と第６槽３３とは苛性濃度が３％と同じであり、
また温度は６５はＣと７０℃で５℃の差がある。
しかも第２槽２６においては低温のびんとの熱交換によ
り６５第Ｃより低い温度の苛性液へと移行し、また第６
槽３３においては高温のびんとの熱交換により７０′Ｃ
より高い温度の苛性液へと移行している。したがつて第
２槽２６の低い温度の苛性液を冷液排出槽２８にオーバ
ーフローさせ、これを第４ポンプ５２とストレーナ５３
を有する冷液輸送管５１を介して冷液供給槽３６に輸送
し、ここから第６槽３３にオーバーフローさせることに
より、高くなりがちな苛性液に低温苛性液を混入させる
ことになり当該第６槽３３の苛性液温度を７０℃近くに
制御し得る。また第６槽３３の高い温度の苛性液を温液
排出槽３５にオーバーフローさせ、これを温液輸送管５
０を介して温液供給槽２９に輸送し、ここから第２槽２
６にオーバーフローさせることにより、低くなりがちな
苛性液に高温苛性液を混入させることになり、当該第２
槽２６の苛性液温度を６５゜Ｃ近くに制御し得る。これ
らのことにより、第１槽２４から第２槽２６へ移動する
びんの吸熱は６５゜Ｃ−５５゜Ｃ＝１０′Ｃ１一方、第
５槽３２から第６槽３３へ移動するびんの放熱は８００
Ｃ−７００Ｃ＝１０′Ｃとなり、夫々１０′Ｃに相当す
る分の熱交換が行なわれることから、熱平衛（バランス
）を保つことができる。このように第６槽３３て従来排
出していた高温の液を第２槽２６に送ることにより、該
第２槽２６の加熱量を従来より大巾に少なくでき、加熱
器を小さくできる。なお第２槽２６に設けた第２仕切板
２７はひんのガイドの役目をすると同時に、第６槽３３
から受入れた高温度液を上方から下方に導びいたのち上
方へと環流させ、熱を槽内に均等に配分させることにな
る。第６槽３３に設けた第８仕切板３４も同様の作用を
成す。なお、第２、第６槽２６，３３における液の環流
は、びんの移動方向に対向させて行なわれる。第１槽２
４と第７槽３７との温水（加熱水）についても苛性濃度
０％であることから同様のことが言えるが、実施例では
他の場合を示している。すなわち、より高い温度の第７
槽３７の温水を従来のように排出しないで余剰受槽３９
にオーバーフローさせ、これを第５ポンプ５５を有する
排出管５４を介して第１槽２４へ上方から供給し、エネ
ルギーの節約を行なつている。これにより第１槽２４の
加熱量を従来より少なくでき、加熱器の容量を小さくで
きる。また第７槽３７よりクリーンな温水が送られてく
るので、第１槽２４は長く汚れないで清浄が保持される
利点もある。第１槽２４の汚れた温水は従来排出してい
たが、本発明によると、第１区画板８をオーバーフロー
させて受槽１９に貯め、これをスプレー装置２２から噴
射させることにより、従来、常温で行なわれていた予洗
を、予熱洗浄し得ることになる。
り６５第Ｃより低い温度の苛性液へと移行し、また第６
槽３３においては高温のびんとの熱交換により７０′Ｃ
より高い温度の苛性液へと移行している。したがつて第
２槽２６の低い温度の苛性液を冷液排出槽２８にオーバ
ーフローさせ、これを第４ポンプ５２とストレーナ５３
を有する冷液輸送管５１を介して冷液供給槽３６に輸送
し、ここから第６槽３３にオーバーフローさせることに
より、高くなりがちな苛性液に低温苛性液を混入させる
ことになり当該第６槽３３の苛性液温度を７０℃近くに
制御し得る。また第６槽３３の高い温度の苛性液を温液
排出槽３５にオーバーフローさせ、これを温液輸送管５
０を介して温液供給槽２９に輸送し、ここから第２槽２
６にオーバーフローさせることにより、低くなりがちな
苛性液に高温苛性液を混入させることになり、当該第２
槽２６の苛性液温度を６５゜Ｃ近くに制御し得る。これ
らのことにより、第１槽２４から第２槽２６へ移動する
びんの吸熱は６５゜Ｃ−５５゜Ｃ＝１０′Ｃ１一方、第
５槽３２から第６槽３３へ移動するびんの放熱は８００
Ｃ−７００Ｃ＝１０′Ｃとなり、夫々１０′Ｃに相当す
る分の熱交換が行なわれることから、熱平衛（バランス
）を保つことができる。このように第６槽３３て従来排
出していた高温の液を第２槽２６に送ることにより、該
第２槽２６の加熱量を従来より大巾に少なくでき、加熱
器を小さくできる。なお第２槽２６に設けた第２仕切板
２７はひんのガイドの役目をすると同時に、第６槽３３
から受入れた高温度液を上方から下方に導びいたのち上
方へと環流させ、熱を槽内に均等に配分させることにな
る。第６槽３３に設けた第８仕切板３４も同様の作用を
成す。なお、第２、第６槽２６，３３における液の環流
は、びんの移動方向に対向させて行なわれる。第１槽２
４と第７槽３７との温水（加熱水）についても苛性濃度
０％であることから同様のことが言えるが、実施例では
他の場合を示している。すなわち、より高い温度の第７
槽３７の温水を従来のように排出しないで余剰受槽３９
にオーバーフローさせ、これを第５ポンプ５５を有する
排出管５４を介して第１槽２４へ上方から供給し、エネ
ルギーの節約を行なつている。これにより第１槽２４の
加熱量を従来より少なくでき、加熱器の容量を小さくで
きる。また第７槽３７よりクリーンな温水が送られてく
るので、第１槽２４は長く汚れないで清浄が保持される
利点もある。第１槽２４の汚れた温水は従来排出してい
たが、本発明によると、第１区画板８をオーバーフロー
させて受槽１９に貯め、これをスプレー装置２２から噴
射させることにより、従来、常温で行なわれていた予洗
を、予熱洗浄し得ることになる。
なお第１槽２４と第７槽３７に仕切板２５，３８を設け
ることは、第２仕切板２７や第３仕切板３４と同様の作
用を期待するためてある。なお苛性液や温水の流動とし
て排出槽２８，３５ならびに供給槽２９，３６さらには
余剰液槽３９、留槽４０などでオーバーフロー形式を採
用したの・は、液または温水を槽巾に均一に行きわたら
せて分配させるためと、「びん」に付着して隣接する槽
に移行しようとする付着液の量を少なくするためてある
。以上述べたごとく本発明によれば、「びん」が）給び
ん部４側の大きな槽２４，２６，３２，３３から小さな
槽２８，２９，３５，３６の上を通つて隣接する排びん
部５側の大きな槽２６，３０，３３，３７内に送り込ま
れる際に、その「びん」からたれた滴が上記の小さな槽
２８，２９，３５，３６内に落ちるものである。
ることは、第２仕切板２７や第３仕切板３４と同様の作
用を期待するためてある。なお苛性液や温水の流動とし
て排出槽２８，３５ならびに供給槽２９，３６さらには
余剰液槽３９、留槽４０などでオーバーフロー形式を採
用したの・は、液または温水を槽巾に均一に行きわたら
せて分配させるためと、「びん」に付着して隣接する槽
に移行しようとする付着液の量を少なくするためてある
。以上述べたごとく本発明によれば、「びん」が）給び
ん部４側の大きな槽２４，２６，３２，３３から小さな
槽２８，２９，３５，３６の上を通つて隣接する排びん
部５側の大きな槽２６，３０，３３，３７内に送り込ま
れる際に、その「びん」からたれた滴が上記の小さな槽
２８，２９，３５，３６内に落ちるものである。
したがつて給びん部４側の大きな槽２４，２６，３２，
３３内の液と排びん部５側の大きな槽２６，３０，３３
，３７の液とがまざりにくく、苛性液の濃度が低下させ
られたり、温水が冷却されたりしにくいものである。ま
た輸送される「びん」に液が付着して排びん部５に向か
つて隣接する槽にその付着液が移行しようとするが、大
きな槽１９，２４，２６，３０〜３３，３７，４０，４
１，４５および小さな槽２８，２９，３５，３６のうち
の所定のものを、その中の液が給びん部４に向かつて隣
接する槽内にオーバーフロー可能に構成してあることか
ら、付着液の移行を少なくすることができ、液の補充量
を減少させることができるものである。また加熱工程（
Ｂ）の小さな槽２８内の比較的温度の低い液をポンプ５
２によつて冷却工程（Ｄ）の小さな槽３６内の比較的温
度の高い液に混入させることにより、その比較的温度の
高い液が所定以上に高温になるのを防止することができ
、また逆に冷却工程１）の小さな槽３５内の比較的温度
の高い液を温液輸送管５０によつて加熱工程（Ｂ）の小
さな槽２９内に混入させることにより、比較的温度の低
い液が所定以下に低温になるのを防止できるものである
。さらに装置全体として熱エネルギーを節約することが
できるものである。
３３内の液と排びん部５側の大きな槽２６，３０，３３
，３７の液とがまざりにくく、苛性液の濃度が低下させ
られたり、温水が冷却されたりしにくいものである。ま
た輸送される「びん」に液が付着して排びん部５に向か
つて隣接する槽にその付着液が移行しようとするが、大
きな槽１９，２４，２６，３０〜３３，３７，４０，４
１，４５および小さな槽２８，２９，３５，３６のうち
の所定のものを、その中の液が給びん部４に向かつて隣
接する槽内にオーバーフロー可能に構成してあることか
ら、付着液の移行を少なくすることができ、液の補充量
を減少させることができるものである。また加熱工程（
Ｂ）の小さな槽２８内の比較的温度の低い液をポンプ５
２によつて冷却工程（Ｄ）の小さな槽３６内の比較的温
度の高い液に混入させることにより、その比較的温度の
高い液が所定以上に高温になるのを防止することができ
、また逆に冷却工程１）の小さな槽３５内の比較的温度
の高い液を温液輸送管５０によつて加熱工程（Ｂ）の小
さな槽２９内に混入させることにより、比較的温度の低
い液が所定以下に低温になるのを防止できるものである
。さらに装置全体として熱エネルギーを節約することが
できるものである。
図面は本発明の一実施例を示し、第１図は縦断面図、第
２図は廃熱流路部の横断面図である。 ３・・・・・・洗びん経路、４・・・・・・給びん部、
５・・・・・・排びん部、６・・・・・・底板、７・・
・・・・一側外板、９〜１６・・・・区画板、１７・・
・・・・他側外板、１９，２４，２６，３０，３１，３
２，３３，３７，４０，４１，４５・・・・・・槽、２
２・・・・スプレー装置、２５，２７，３４，３８・・
・・・・仕切板、２８・・・・・・冷液排出槽、２９・
・・・・・温液供給槽、３５・・・・・・温液排出槽、
３６・・・・・・冷液供給槽、３９・・・・・・余剰受
槽、４０・・・・・留槽、５０・・・・・・温液輸送管
、５１・・・・・・冷液輸送管、５４・・・・・・排出
管、５７・・・・・・排熱流路。
２図は廃熱流路部の横断面図である。 ３・・・・・・洗びん経路、４・・・・・・給びん部、
５・・・・・・排びん部、６・・・・・・底板、７・・
・・・・一側外板、９〜１６・・・・区画板、１７・・
・・・・他側外板、１９，２４，２６，３０，３１，３
２，３３，３７，４０，４１，４５・・・・・・槽、２
２・・・・スプレー装置、２５，２７，３４，３８・・
・・・・仕切板、２８・・・・・・冷液排出槽、２９・
・・・・・温液供給槽、３５・・・・・・温液排出槽、
３６・・・・・・冷液供給槽、３９・・・・・・余剰受
槽、４０・・・・・留槽、５０・・・・・・温液輸送管
、５１・・・・・・冷液輸送管、５４・・・・・・排出
管、５７・・・・・・排熱流路。
Claims (1)
- １ 給びん部４から排びん部５までの間に、多数の区画
板７〜１７で予備洗浄行程（Ａ）、加熱工程（Ｂ）、浸
びん工程（Ｃ）、冷却工程（Ｄ）、洗浄すすぎ工程（Ｅ
）および水切り工程（Ｆ）をそれぞれ構成する１または
２以上の大きな槽１９，２４，２６，３０〜３３，３７
，４０，４１，４５を形成し、加熱工程（Ｂ）および冷
却工程（Ｄ）の大きな槽２６，３０，３３，３７の上部
の給びん部４側の区画板９，１０，１３，１４に小さな
槽２８，２９，３５，３６を形成し、上記の大きな槽１
９，２４，２６，３０〜３３，３７，４０，４１，４５
および小さな槽２８，２９，３５，３６のうちの所定の
ものを、その中の液が給びん部４に向かつて隣接する槽
内にオーバフロー可能に構成し、上記外側の小さな槽２
８，３６どうしを連通させる冷液輸送管５１を設けると
共に該冷液輸送管５１にポンプ５２を介在させ、且つ上
記内側の小さな槽２９，３５どうしを連通させる温液輸
送管５０を設けたことを特徴とする熱エネルギーを節約
した洗びん装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2296778A JPS6050676B2 (ja) | 1978-02-28 | 1978-02-28 | 熱エネルギ−を節約した洗びん装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2296778A JPS6050676B2 (ja) | 1978-02-28 | 1978-02-28 | 熱エネルギ−を節約した洗びん装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54115564A JPS54115564A (en) | 1979-09-08 |
| JPS6050676B2 true JPS6050676B2 (ja) | 1985-11-09 |
Family
ID=12097342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2296778A Expired JPS6050676B2 (ja) | 1978-02-28 | 1978-02-28 | 熱エネルギ−を節約した洗びん装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6050676B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2924961C2 (de) * | 1979-06-21 | 1986-12-04 | Holstein Und Kappert Gmbh, 4600 Dortmund | Verfahren und Vorrichtung zur Reduzierung von Reinigungsmittelverschleppung in Reinigungsmaschinen |
| DE3207225A1 (de) * | 1982-03-01 | 1983-09-08 | Seitz Enzinger Noll Maschinenbau Ag, 6800 Mannheim | Verfahren zum vermindern der in das abwasser gelangenden schadstoffmenge aus gefaessreinigungsmaschinen und gefaessreinigungsmaschine zur durchfuehrung des verfahrens |
| JPS5926488A (ja) * | 1982-08-03 | 1984-02-10 | 三菱重工業株式会社 | 洗びん機 |
| AR245021A1 (es) * | 1990-08-08 | 1993-12-30 | Urcola Antonio Maria | Mejoras en maquinas lavadoras de botellas o envases similares. |
-
1978
- 1978-02-28 JP JP2296778A patent/JPS6050676B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54115564A (en) | 1979-09-08 |
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