JPS6045017A - 拡散炉 - Google Patents
拡散炉Info
- Publication number
- JPS6045017A JPS6045017A JP15393083A JP15393083A JPS6045017A JP S6045017 A JPS6045017 A JP S6045017A JP 15393083 A JP15393083 A JP 15393083A JP 15393083 A JP15393083 A JP 15393083A JP S6045017 A JPS6045017 A JP S6045017A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- processing tube
- processing
- inclined surfaces
- heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
この発明は、半導体装置の製造等に用いられる拡Ｉｉ＆
炉に関する。
炉に関する。
（＋：＋ ）従来技術
従来の拡ｔｉｋ、炉は、チューブホルダの筒状開口部の
内面と、これに挿入されたプロセスチューブの管面との
隙間に石英綿を詰め込んでプロセスチューブを固定して
いる。
内面と、これに挿入されたプロセスチューブの管面との
隙間に石英綿を詰め込んでプロセスチューブを固定して
いる。
しかしながら、かかる固定作業は煩わしく、また、プロ
セスチューブの取り外しに１１４テ１ｔを件うという欠
点がある。
セスチューブの取り外しに１１４テ１ｔを件うという欠
点がある。
一方、均一な温度分布を得るために、プロセスチューブ
の正確な位置決め及び炉内と外界とのシールを厳密に行
う必要があるが、従来の７１２．’ ！ｉｕ、炉は、前
述した固定手段を採る関係」二、プに１セスチ１．−ブ
の正確な位置決めや外界とのシールをＩｉｉ’ｉ、密に
１１うことが困ゲＶである。
の正確な位置決め及び炉内と外界とのシールを厳密に行
う必要があるが、従来の７１２．’ ！ｉｕ、炉は、前
述した固定手段を採る関係」二、プに１セスチ１．−ブ
の正確な位置決めや外界とのシールをＩｉｉ’ｉ、密に
１１うことが困ゲＶである。
さらに、石英綿を詰め込む作業の際に、塵埃が発生し、
′半導体装置の製造に好ましくない影響を与えるという
問題もある。
′半導体装置の製造に好ましくない影響を与えるという
問題もある。
（ハ）目的
この発明は、プロセスチューブの固定作業が容易で、且
つ、その位置決め及び炉内と外界とのソールを厳密を行
え、しかも、固定作業におりる塵埃の発生が少ないｔＬ
散炉を提供するごとをＬＪ的としている。
つ、その位置決め及び炉内と外界とのソールを厳密を行
え、しかも、固定作業におりる塵埃の発生が少ないｔＬ
散炉を提供するごとをＬＪ的としている。
（ニ）構成
この発明に係る拡ｆｌ＆炉は、輪状のハネ祠に１ｌＪｉ
；’：Ｊ！月を巻回してなる固定リングをプ目セスチ
１．−ゾに１１）；め込の、前記固定リングをリング押
さえ板でチューブホルダの開１］部（ｔ４斜面に押し当
て′ζ止めることにより、前記プロセスチューブを固定
したごとを特徴としている。
；’：Ｊ！月を巻回してなる固定リングをプ目セスチ
１．−ゾに１１）；め込の、前記固定リングをリング押
さえ板でチューブホルダの開１］部（ｔ４斜面に押し当
て′ζ止めることにより、前記プロセスチューブを固定
したごとを特徴としている。
（ボ）実施例
第１図はこの発明に係る拡散炉の一実施例の構成を略示
した説明図である。
した説明図である。
同図（ａｌは、実施例の縦断面の概略図であって、ｌは
石英等よりなるプロセスチューブ、２はヒータ、３は例
えばアルミナ等からなる均熱管であって、この均熱管３
は炉内の温度を均一にするためにプロセスチューブｌと
ヒータ２との間に設けられる。
石英等よりなるプロセスチューブ、２はヒータ、３は例
えばアルミナ等からなる均熱管であって、この均熱管３
は炉内の温度を均一にするためにプロセスチューブｌと
ヒータ２との間に設けられる。
４はプロセスチューブ１を支持するためにヒータ２の両
側に設けられるチューブホルダであり、ごのチューブボ
ルダ４の中央部分にはゾ１．Ｉレスチ〜２．−ゾＩを挿
入するための開口部４１が設けられている。
側に設けられるチューブホルダであり、ごのチューブボ
ルダ４の中央部分にはゾ１．Ｉレスチ〜２．−ゾＩを挿
入するための開口部４１が設けられている。
５はプロセスチューブｌの両端に嵌め込まれる固定リン
グである。ごの固定リング５は、同図（ｂｌにその断面
を示すように、輪状の：１イルハネ５１に断熱材として
の例えば石英綿５２を巻回し−（形成される。
グである。ごの固定リング５は、同図（ｂｌにその断面
を示すように、輪状の：１イルハネ５１に断熱材として
の例えば石英綿５２を巻回し−（形成される。
プロセスチューブ１に嵌め込まれた固定リング５は、前
記チューブホルタ４の開ｌ−１部４１の顛♀；［面４２
に当接するように配置され、さらに、チューブホルタ４
に取りつけられた押さえ板（ｉにより前記（Ｉｒ！斜面
４２に押さえつりられで止められる。
記チューブホルタ４の開ｌ−１部４１の顛♀；［面４２
に当接するように配置され、さらに、チューブホルタ４
に取りつけられた押さえ板（ｉにより前記（Ｉｒ！斜面
４２に押さえつりられで止められる。
なお、前記押さえ板６は１片、ｎｋリ−１からのＰｌ〜
のつ’ｂｌ ’Ａ’Ｊを防く働きもする。
のつ’ｂｌ ’Ａ’Ｊを防く働きもする。
このようにして固定リング５が係止されるごとにより、
プロセスチューブ１が固定される。
プロセスチューブ１が固定される。
（・＼）効果
この発明に係る拡ＩＩ＆炉は、１ｉｉｊ、ＪｉＬ、たよ
うノ、（固定リングを用いるから、プロセスチューブソ
の固定及び取り外しが大変容易（：ＬｊＪ？、。
うノ、（固定リングを用いるから、プロセスチューブソ
の固定及び取り外しが大変容易（：ＬｊＪ？、。
また、固定リングはブ１−１セス・Ｊ−、、、−’〕の
丁（曲に及びチューブボルダの開１−Ｊ ｆｉｌ ｂ：
二し、かり密着４゛るから、炉内と外界とのシールが密
に行われる。しまたがって、この発明によれは、拡（１
に炉の（！ｌ！１度分布をより均一にすることができる
。
丁（曲に及びチューブボルダの開１−Ｊ ｆｉｌ ｂ：
二し、かり密着４゛るから、炉内と外界とのシールが密
に行われる。しまたがって、この発明によれは、拡（１
に炉の（！ｌ！１度分布をより均一にすることができる
。
さらに、この発明に係る拡１１＆炉は、従来のようなプ
ロセスチューブの脱着時に石英綿が敗らばるごとかなく
、塵埃の発生が少ないので、塵埃をり１［（うクリンル
ーム等での使用に適している。
ロセスチューブの脱着時に石英綿が敗らばるごとかなく
、塵埃の発生が少ないので、塵埃をり１［（うクリンル
ーム等での使用に適している。
第１図はこの発明に係る拡散炉の一実施例の構成を略示
した説明図である。 ｌ・・・プロセスチューブ、２・・・ヒータ、３・・・
均熱管、４・・・チューブボルダ、５・・・固定リング
、６・・・押さえ（）シ。 特許出願人 ローム株式会社 代理人 弁理士 大 西 孝 治 ６６ 第１ト２１ （ａ） １ （ｂ）
した説明図である。 ｌ・・・プロセスチューブ、２・・・ヒータ、３・・・
均熱管、４・・・チューブボルダ、５・・・固定リング
、６・・・押さえ（）シ。 特許出願人 ローム株式会社 代理人 弁理士 大 西 孝 治 ６６ 第１ト２１ （ａ） １ （ｂ）
Claims (1)
- （１）輪状のバネ月に断熱月を巻回してなる固定リング
をプロセスチューブに嵌め込み、前記固定リングをリン
グ押さえ板でチューブホルダの開口部傾斜面に押し当て
て止めることにより、前記プロセスチューブを固定した
ことを特徴とする拡散炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15393083A JPS6045017A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | 拡散炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15393083A JPS6045017A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | 拡散炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6045017A true JPS6045017A (ja) | 1985-03-11 |
| JPH0158650B2 JPH0158650B2 (ja) | 1989-12-13 |
Family
ID=15573185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15393083A Granted JPS6045017A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | 拡散炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6045017A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62115712A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-27 | Nec Kyushu Ltd | 拡散炉装置 |
| JPS6385321U (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-03 | ||
| JPH02257612A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-18 | Fujitsu Ltd | 熱処理炉 |
| JPH03207600A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-10 | Citizen Watch Co Ltd | 順送りプレス抜金型 |
-
1983
- 1983-08-22 JP JP15393083A patent/JPS6045017A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62115712A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-27 | Nec Kyushu Ltd | 拡散炉装置 |
| JPS6385321U (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-03 | ||
| JPH0340414Y2 (ja) * | 1986-11-20 | 1991-08-26 | ||
| JPH02257612A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-18 | Fujitsu Ltd | 熱処理炉 |
| JPH03207600A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-10 | Citizen Watch Co Ltd | 順送りプレス抜金型 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0158650B2 (ja) | 1989-12-13 |
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