JPS601711B2 - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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JPS601711B2
JPS601711B2 JP54111767A JP11176779A JPS601711B2 JP S601711 B2 JPS601711 B2 JP S601711B2 JP 54111767 A JP54111767 A JP 54111767A JP 11176779 A JP11176779 A JP 11176779A JP S601711 B2 JPS601711 B2 JP S601711B2
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JP
Japan
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data line
memory
data
transistor
preamplifier
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Expired
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JP54111767A
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JPS5534396A (en
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清男 伊藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/025Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体メモリにおけるメモリアレーの構成に関
するものである。
従来1ケのトランジスタで1ビットを構成するメモリ、
たとえばMOS(Meね1一〇幻de−Semicon
d肌tor)メモリでは第1図、第2図のような回路が
採用されていた。
すなわち第1図において、たとえばメモリセルMCoを
読み出す場合には、ワード線Woと、他のデータ線Do
に属するダミーワード線DW,に同時にパルスを印加し
、メモリセルMCoとDM,からの読み出し信号として
、2本のデータ線Do,Do に現われる微少な差動信
号出力を、プリァンプPへのセット信号Setをオンに
することによってプリアンプPんを動作させて増幅し、
Doつ Do のいずれか一方のデータ線に現われた電
圧を検出して情報“1”,“0”を弁別していた。ここ
で差敷信号出力が発生する理由は以下の通りである。ダ
ミールDM,の容量Coに記憶されている亀圧は、メモ
リセルCoに記憶されている情報“1”,“0”に対応
した電圧のほぼ中間に設定されるから、ダミーセルの読
み出しによりデータ線に現われる電圧はメモリセルの“
1”,“0”読み出・しによるデータ線電圧のほぼ中間
となる。従って、この中間値と“1”,“0”出力との
差が極性の異なる差動信号出力となる。
第2図は第1図に示す回路を複数個(例えばここでは6
4ケ)は1チップ内に実装してBIメモリを構成した場
合の幾何学的配置を考慮した回路を示す図である。
図中白丸印がメモリセル、黒丸印がダミーセルである。
たとえば、前記のようにしてデータ線Doに現われた信
号を外部に取り出すには、アドレス信号へによってトラ
ンジスタQoをオンにして、データDo の信号をメイ
ンアンプMAに入力して増幅し、データ出力Doutと
して、チップ外にとり出す。さてこのような構成での欠
点は次の点に要約される。すなわち■データ線Do,D
oに現われた差動の信号の片方のみをメインアンプMA
で増幅することになるので高速性の点で劣る。■片方の
信号をとり出すためにDo,Doの電気的不平衡が生じ
やすく誤動作の原因となる。■電気的特性を平衡させる
べきデータ線Do,Do が、チップ内で幾何学的に近
接してないために、Do,Do に不平衡雑音が結合し
やすく、プリアンプをオンにした場合に誤動作の原因と
なる。これらの欠点により、高速にして、高安定なLS
Iメモリの設計には従来限界があった。本発明の一つの
目的は、プリアンプとメインアンプ間で、コモンデータ
線にはいる同相ノイズを除去できる増幅回路を提供する
ことにある。本発明の一つの目的は、プリアンプの単一
出力を入力とする差動〆ィンアンプを用いる場合のよう
に、基準電圧を必要としない読出し回路を提供すること
にある。本発明の一つの目的は、簡単な回路で高速動作
が可能なメモリの読出回路を提供することにある。
このために、本発明の−実施例は、ダイナミック・ラン
ダム・アクセス・メモリの謙出し回路において、プリセ
ンス・アンプの相補出力をカラム・スイッチを介して、
差敷のメインアンプに供給することにより、高速かつ低
雑音の動作を可能としたものである。
以下実施例で詳細に説明する。
第3図は、その回路例を示すものである。
すなわち差動読み出し信号が現われるデータ線Do,D
oを図中のように近接して平行に配置し、かつワード線
(Wo〜W63,DWo,DW.)の各々1本とDo,
Do の交点の中で,一方の交点のみにメモリセルを接
続する。あるメモリセル(たとえばMC63)読み出す
場合には「 そのセルが接続されていないデータ線(D
o)に接続されているダミーセル(DMo)を同時に読
み出して「データ線Do,0oに現われた差動電圧をプ
リアンプPAoで有効に利用する。またプリアンプPA
oで増幅された差動信号は、デコーダの出力であるアド
レス信号Aoの印加によってトランジスタQoQo ,
を通り差敷のアンプMAに入力し〜再び髪動で増幅され
る。このように本発明では、第2図の場合とはまったく
Do,Do の電気的平衡度は何ら阻害されることはな
い。第4図は、Do,Do の電気的平衡度を保つたま
までのメモリセル(8ビット)の接続法の概略図である
。図中a,b,cはDo,Doにそれぞれ1ケおき、2
ケおき、4ケおきにメモリセルを接続する方法である。
第5図a、第6図はシリコンゲートプロセスを用いて第
4図b,cを実現するレイアウト例である。第5図bは
第5図aのAA′部の断面図である。図中、ポリシリコ
ンで形成された記憶容量形成電極cpは、第1図のよう
な、メモリセル内の記憶量Coを形成するためのもので
ある。400,410はシリコン基板600内に形成さ
れ、トランジスタQを形成するためのドレィンとソース
(又はソースとドレイン)であり420は410‘こ対
して、Coを形成するためのドレイン(又はソース)で
ある。
記憶容量形成電極Cpおよびワード線W斑, W59等
はポリシリコンで形成され、データ線D,等はアルミニ
ウムで形成されている。データ線D,等とワード線W5
9等は絶縁膜200により分離されている。1 00は
データ線Do,Do 等と拡散膜400とのコンタクト
部である。
記憶容量Coの形成は、N−チャネルMOSでは、cp
に高電圧を加えると、その直下に形成されるチャネルと
cp間の容量がCoとなる。
第5図を用いて動作を簡単に説明すると、ワード線たと
えばW6oにパルス電圧を印加するとトランジスタQ(
第1図MCo内のQに相当)はオンとなり、Coの記憶
電圧はデータ線Doの容量とCoで分圧された形でDo
に電圧が現われることになる。一方、これと対になるデ
ータ線Doには、トランジスタQが存在しないから、出
力は現われない。Doに現われる出力は、前述したよう
にダミーセル(図中省略)からの出力だけとなる。なお
第5図から明らかなようにDoとD,におけるコンタク
ト部の拡散層間の距離を中間にAI配線が存在するため
に「大にできる。そのためDo,D,間のパンチスルー
が避けられる利点もある。さらに第3図の他の利点はプ
リアンプPAoのレイアウトが従来に比べ容易となるこ
とである。すなわち従来の第貴図、第2図では、互いに
一直線上にレイアウトされているDo,町o の中間に
、メモリセルよりもはるかに占有面積大でしかも回路構
成の複雑なPへをレイアウトしなければならず、データ
線のピッチを考えるとこれはきわめて困難であった。し
かし第3図では、データ線のピッチ方向に対して、従釆
のほぼ2倍のレイアウト上の面積的余裕がでてくるので
、レイアウトがきわめて容易となる。またプリアンプP
Aoの配置は第3図のようにMA側でもよいし、あるい
はDo,Do 上の他機(W63側)でもよい。
W63側にPへを配置すると第3図のごとき、片端にの
みレイアウトの比較的困難な制御回路(Pへ,Qoなど
)が集中することはなくなる。場合によってはプリアン
プをデータ線上のMA側とW63側とで交互に配贋する
こともできる。このように本発明によればレイアウトの
自由度を大幅に増すことができる。また第5図、第6図
では、ワード線がポリSiの例であるが、ワード線がA
Iの場合にも同様にレイアウト可能で、またAIゲート
の場合にも同機である。
また本例では1ケのトランジスタで1ビットを構成する
例であったが、データ対線から葦動に信号を取り出すた
めに、ワード線との2多う点の一方にのみメモリセルを
接続し、かつダミーセルを利用した第3図、第4図の考
え方を応用すれば、すべてのメモリBIに適用できるこ
とは明らかである。
第8図において、CD、ADはデータの書込み、議出し
のための共通のデータ線である。以上から高速、高安定
動作のメモリは1が実現できることになる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は1ケのトランジスタで1ビットを構成
する従来のメモリ構成、第3図はデータ対線の片側から
だけ読み出し信号が出力する本発明の実施例、第4図は
メモリセルの結線法、第5図、第6図はSiゲートを例
にしたレイアウトの実施例である。 Do,Do ,D,…データ線、Wo・”W63・”ワ
ード線、DWo,DW.・・・ダミーセ′レのワード線
、MC。 ,MC.・・・メモリセル、DMo,DM.・・・ダミ
ーセル、Co・・・記憶容量、Qメモリセル内トランジ
スタ、WD…ワードドライバ、Q〇,Q。〜Q3…デー
タ線選択用トランジスタ、へ〜A63・・・アドレス信
号、PAo〜PA63・・・プリアンプ、MA・・・メ
インアンプ、Set・・・セット信号、CP・・・Co
形成用電極。第1図第2図 第3図 第4図 第6図 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 複数のメモリセルが結合された第1データ線と、複
    数のメモリセルが結合されかつ上記第1データ線と対に
    された第2データ線と、上記第1データ線に基準電位を
    与える手段と、上記第2データ線に結合されメモリセル
    から与えられた電位と上記基準電位との比較に応じて一
    対の相補出力を形成するプリアンプと、上記プリアンプ
    の出力が供給されるメインアンプとを備えてなるコンデ
    ンサと1つのトランジスタからなる半導体メモリであっ
    て、上記メインアンプは上記相補出力を受ける一対の入
    力を持つ差動型アンプから構成されてなることを特徴と
    する半導体メモリ。 2 上記第1及び第2のデータ線は、隣り合う列に平行
    して配置されてなることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項に記載の半導体メモリ。
JP54111767A 1979-09-03 1979-09-03 半導体メモリ Expired JPS601711B2 (ja)

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