JPS60151243A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS60151243A JPS60151243A JP674384A JP674384A JPS60151243A JP S60151243 A JPS60151243 A JP S60151243A JP 674384 A JP674384 A JP 674384A JP 674384 A JP674384 A JP 674384A JP S60151243 A JPS60151243 A JP S60151243A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/81—Constructional details of the feed line, e.g. heating, insulation, material, manifolds, filters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/86—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid by bubbling a gas through the liquid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、多孔質光フアイバ母材の製造？＝関し、更（
：詳しくは、ＪＪＯ熱反応部に供給されるガラス原料ガ
スを不飽和状態で供給管により給送する改善された光フ
アイバ母材のを遣方法ζ：関するものである。
：詳しくは、ＪＪＯ熱反応部に供給されるガラス原料ガ
スを不飽和状態で供給管により給送する改善された光フ
アイバ母材のを遣方法ζ：関するものである。
光フアイバ製造用の母材は、例えば内付けＯＶＤ法、外
付けＯＶＤ法あるいはＶＡＤ法（二より七として製造さ
れている。これらの方法は、化学反応Ｃ二よって生成し
た酸化物の蒸着のさせ方ｆ二相異があるが、いずれもガ
ラス成分としてのけい素化合物とドープ剤をガス状で加
熱反応域に供給して、８１０□その他の酸化物Ｃ二化学
的に変化させ、ガラスとして蒸着させるものである。こ
のような光フアイバ母材の製造におけるガラス原料ガス
の供給方法は、例えば５ｉＯ１４、Ｇｅ０１４ 、 Ｐ
ＯＣｌ２ その他の所定割合の混合液体塩イ巳物原料乞
、コントロールされた所定の温度直二保ち、その原料液
体中（二流竜の制御された例えば０２などのキャリアガ
スを送り込んでバブリングさせ、原料の飽和蒸気を含ん
だキャリアガスを供給導管により反応蒸着ゾーン（二導
く方法が採用されている。この原料ガス供給方法Ｃ二Ｆ
いては、原料ガスの飽和状態をより安定（＝得るため（
飄例えば供給されるキャリアガスをバブラーＬ部（二設
けた恒温熱交換器により一定の温度に加熱する方法が提
案された。このような供給方法は、原料ガスを高濃度で
反応域へ提供しつるので噴よしいよう（二思われるが、
飽和状態のＩＱ料ガスは、外気温度の微かな変動、特Ｃ
二温度低下（二より原料成分が供給管内壁に凝着して、
キャリアガス中の咋料成分ａ度を変化させ、ガラス１（
１１料各成分の安定な供給が阻害される定め、光ファイ
バｆｉｌ材の安定間−）満足し得る装造法とはいえない
ことがわかった。
付けＯＶＤ法あるいはＶＡＤ法（二より七として製造さ
れている。これらの方法は、化学反応Ｃ二よって生成し
た酸化物の蒸着のさせ方ｆ二相異があるが、いずれもガ
ラス成分としてのけい素化合物とドープ剤をガス状で加
熱反応域に供給して、８１０□その他の酸化物Ｃ二化学
的に変化させ、ガラスとして蒸着させるものである。こ
のような光フアイバ母材の製造におけるガラス原料ガス
の供給方法は、例えば５ｉＯ１４、Ｇｅ０１４ 、 Ｐ
ＯＣｌ２ その他の所定割合の混合液体塩イ巳物原料乞
、コントロールされた所定の温度直二保ち、その原料液
体中（二流竜の制御された例えば０２などのキャリアガ
スを送り込んでバブリングさせ、原料の飽和蒸気を含ん
だキャリアガスを供給導管により反応蒸着ゾーン（二導
く方法が採用されている。この原料ガス供給方法Ｃ二Ｆ
いては、原料ガスの飽和状態をより安定（＝得るため（
飄例えば供給されるキャリアガスをバブラーＬ部（二設
けた恒温熱交換器により一定の温度に加熱する方法が提
案された。このような供給方法は、原料ガスを高濃度で
反応域へ提供しつるので噴よしいよう（二思われるが、
飽和状態のＩＱ料ガスは、外気温度の微かな変動、特Ｃ
二温度低下（二より原料成分が供給管内壁に凝着して、
キャリアガス中の咋料成分ａ度を変化させ、ガラス１（
１１料各成分の安定な供給が阻害される定め、光ファイ
バｆｉｌ材の安定間−）満足し得る装造法とはいえない
ことがわかった。
本発明者らは、このような実状に鑑み、ガラス原料ガス
の上記欠点？解消し得る供給方法について研究馨屯ねた
結果、従来の技術概念として定着している燃焼又は加水
分解させる反応域への供給ガラス原料ガスの飽和蒸気乞
、積極的に不飽和状態のガスシニ変えて送り込むとき、
上記欠陥が効果めて安定ｇ二製造しつるばかりでな（、
高い反応変換率が得られること乞見出した。
の上記欠点？解消し得る供給方法について研究馨屯ねた
結果、従来の技術概念として定着している燃焼又は加水
分解させる反応域への供給ガラス原料ガスの飽和蒸気乞
、積極的に不飽和状態のガスシニ変えて送り込むとき、
上記欠陥が効果めて安定ｇ二製造しつるばかりでな（、
高い反応変換率が得られること乞見出した。
′１″なわち、本発明は、光フアイバ母材の製造におい
て、火炎、加水分解反応域Ｃ二導入されるガラス原料ガ
スを不飽和状態で供給することを特徴とする光フアイバ
母材の製造方法を提供する。
て、火炎、加水分解反応域Ｃ二導入されるガラス原料ガ
スを不飽和状態で供給することを特徴とする光フアイバ
母材の製造方法を提供する。
本発明の方法（二おいて、光フアイバ母材の製造ζ二用
いられるガラス原料は、揮発性けい素化合物及びドープ
剤としてのゲルマニウム、りん、はう素などのハロゲン
化物の混合物であって、混合ガス流として反応系に提供
される。かかるガラス原料は、予定された屈折率のガラ
スを形成させるたに収容され、恒温槽中で所定の温度に
保持される。
いられるガラス原料は、揮発性けい素化合物及びドープ
剤としてのゲルマニウム、りん、はう素などのハロゲン
化物の混合物であって、混合ガス流として反応系に提供
される。かかるガラス原料は、予定された屈折率のガラ
スを形成させるたに収容され、恒温槽中で所定の温度に
保持される。
この容器（＝は、その底部近傍に開口するキャリアガス
導入管及び頂部（二開口する原料ガス供給管が配設され
ており、流量制御されたキャリアガスは、上記導入管の
下端開口から原料液中ｔバブリングしながら共聴キ上万
Ｃ二浮上し、その間Ｃ二恒温槽温度１１ｉｆｆける原料
成分の飽和蒸気が形成されて供給管から反応部シニ給送
される。このようなガラス原料ガス供給方法では、ガラ
ス原料はキャリアガス中に実″賀的（二飽和状態の蒸気
として含有される。
導入管及び頂部（二開口する原料ガス供給管が配設され
ており、流量制御されたキャリアガスは、上記導入管の
下端開口から原料液中ｔバブリングしながら共聴キ上万
Ｃ二浮上し、その間Ｃ二恒温槽温度１１ｉｆｆける原料
成分の飽和蒸気が形成されて供給管から反応部シニ給送
される。このようなガラス原料ガス供給方法では、ガラ
ス原料はキャリアガス中に実″賀的（二飽和状態の蒸気
として含有される。
本発明は、このようζ二して調製されるガラス原料飽和
ガスを積極的に不飽和の状態Ｃ二調整することが特徴的
である。その調製はどのような方法を採用してもよいが
、例えば原料供給管を全体Ｉ：わにってバブリング温度
より高温で加熱し、原料の凝縮蒸気圧ン高めることＣ二
より飽和度を下げる方法、あるいはガス供給管のできる
だけ手前の部分に流に制御された別の不活性希釈ガスを
混合し飽和Ｉｆ′Ｊ２ｒ−下げる方法などが実用上有利
Ｃ二採用できる。
ガスを積極的に不飽和の状態Ｃ二調整することが特徴的
である。その調製はどのような方法を採用してもよいが
、例えば原料供給管を全体Ｉ：わにってバブリング温度
より高温で加熱し、原料の凝縮蒸気圧ン高めることＣ二
より飽和度を下げる方法、あるいはガス供給管のできる
だけ手前の部分に流に制御された別の不活性希釈ガスを
混合し飽和Ｉｆ′Ｊ２ｒ−下げる方法などが実用上有利
Ｃ二採用できる。
通常、ガラス原料ガスの飽和度φは次式で表わされる。
ＦｏＰｓｔＴ＋
上記の式中、φは飽和度、Ｆｓ は原料蒸気の流量、Ｆ
ｏはキャリアガス流量、ＰｓｔＴ＋は温度Ｔｌ二おける
原料の飽和蒸気圧を示す。
ｏはキャリアガス流量、ＰｓｔＴ＋は温度Ｔｌ二おける
原料の飽和蒸気圧を示す。
本発明の方法に３いては、供給管中のガラス原料ガスの
飽和度乞１未満Ｃ二することが京要であって、０．３〜
０．９、好ましくは０．５〜０．８の吻囲に調整するこ
とが実用的である。この範囲の飽和度４二調整するＣ二
は、例えば希釈ガスの混合の場合には、キャリアガス量
ζ二対し、希釈ガス’ｖｏ、ｉへ２．３倍、好ましくは
０．４へ２．０倍の範囲量割合で混合すればよく、また
原料ガス供給管を加熱する場合Ｉ畷よ、通常、恒温槽で
与えられる原料ガス温度より１〜２０℃、好ましくは５
〜１５℃高い温度範囲（二加熱される。その供給管の加
熱は、管に電気ヒーターを取付けたり、熱風を吹き付け
てもよいし、ジャケット管乞用いて加熱流体により行う
こともできる。好まし、い飽和度の範囲は０．４〜０．
８である。
飽和度乞１未満Ｃ二することが京要であって、０．３〜
０．９、好ましくは０．５〜０．８の吻囲に調整するこ
とが実用的である。この範囲の飽和度４二調整するＣ二
は、例えば希釈ガスの混合の場合には、キャリアガス量
ζ二対し、希釈ガス’ｖｏ、ｉへ２．３倍、好ましくは
０．４へ２．０倍の範囲量割合で混合すればよく、また
原料ガス供給管を加熱する場合Ｉ畷よ、通常、恒温槽で
与えられる原料ガス温度より１〜２０℃、好ましくは５
〜１５℃高い温度範囲（二加熱される。その供給管の加
熱は、管に電気ヒーターを取付けたり、熱風を吹き付け
てもよいし、ジャケット管乞用いて加熱流体により行う
こともできる。好まし、い飽和度の範囲は０．４〜０．
８である。
供給管内のガラス原料ガスの飽和度を、上記の如き不飽
和状態ｌ二保つときは、原料ガス成分の供給管内壁への
凝縮はなく、高度Ｃ二安定化されたガラス原料成分ガス
流が得られ、所望の光フアイバ母材を安定且つ高変換効
率で製造することができる。
和状態ｌ二保つときは、原料ガス成分の供給管内壁への
凝縮はなく、高度Ｃ二安定化されたガラス原料成分ガス
流が得られ、所望の光フアイバ母材を安定且つ高変換効
率で製造することができる。
次に、添付図面ば二より、本発明の方法Ｙ更（二詳しく
説明する。
説明する。
第１図に、光フアイバ母材製造（二Ｓける従来のガラス
原料ガスの供給状態の概要を示す図であり、第２図及び
第３図は、本発明の方法の異なる好適供給状態の概要乞
それぞれ示す図である。
原料ガスの供給状態の概要を示す図であり、第２図及び
第３図は、本発明の方法の異なる好適供給状態の概要乞
それぞれ示す図である。
図において、１はキャリアガス流量制御器、２給
はガラス原料、６はガラス原料供容器、４は恒温槽、５
はガス供給管、６は反応部、７は供給管５に巻永つけら
れたヒーター、８は希釈ガス流量制御器である。供給方
法では、第１図に示すような従来のガラス原料はキャリ
アガスをバブリングすることｇ二より飽和蒸気となって
反応部へ導かれるが、外気温度の微かな変動、特Ｃ′−
／ｇＡ度低下（二よりガラス原料が供給管内壁（：凝縮
する等の不都合のためＣ岨京料の供給量が不安定となる
欠点がある。
はガス供給管、６は反応部、７は供給管５に巻永つけら
れたヒーター、８は希釈ガス流量制御器である。供給方
法では、第１図に示すような従来のガラス原料はキャリ
アガスをバブリングすることｇ二より飽和蒸気となって
反応部へ導かれるが、外気温度の微かな変動、特Ｃ′−
／ｇＡ度低下（二よりガラス原料が供給管内壁（：凝縮
する等の不都合のためＣ岨京料の供給量が不安定となる
欠点がある。
これに対し、第２図及び第３図Ｃ二示す本発明の方法Ｃ
二よれば、そのような不都合は全くなく、ガラス原料ガ
スを長時間Ｃ二わたり安定（二供給でき、より均質な多
孔質光フアイバ母材が得られる。
二よれば、そのような不都合は全くなく、ガラス原料ガ
スを長時間Ｃ二わたり安定（二供給でき、より均質な多
孔質光フアイバ母材が得られる。
次Ｃ：実施例を挙げて説明する。
実施例
第２図（二示した方法に従って、原料供給管５奢電気ヒ
ーター７で加熱しながらガラス原料ガスを反応部６に供
給［７、多孔質光ファイバ母Ｈｗ製造した。
ーター７で加熱しながらガラス原料ガスを反応部６に供
給［７、多孔質光ファイバ母Ｈｗ製造した。
操作条件は次のとおりである。
原料 ５ｉｌ１４
キャリアガス ０２
＊ヤ！１７；＃スｆｆｌ！ ２００〜１０００ｃｅ／ｍ
ｉｎ恒温槽温度 ４０℃ 電気ヒーター設定温度 ４８℃ 飽和度（φ） ０．４４ キヤリアガス中の飽和原料ガスは、そのまま反応部へ安
定Ｃ二供給され、その供給効率（＝実Ｕ（給財／理論供
給量）はどの時点Ｃ二チレ）でも実質的（１１００％で
あつ定。この安定な高供給精ＩＷ（二よＩＪ極めて安定
な光フアイバ母材の形成力；（辱られた。
ｉｎ恒温槽温度 ４０℃ 電気ヒーター設定温度 ４８℃ 飽和度（φ） ０．４４ キヤリアガス中の飽和原料ガスは、そのまま反応部へ安
定Ｃ二供給され、その供給効率（＝実Ｕ（給財／理論供
給量）はどの時点Ｃ二チレ）でも実質的（１１００％で
あつ定。この安定な高供給精ＩＷ（二よＩＪ極めて安定
な光フアイバ母材の形成力；（辱られた。
上記から明らかなようＣ二、本発明Ｑ〕方法ｔよ、特に
ガラス１９料としてドープ剤その他の成分を含ｉｔ場合
Ｃニ一層有効であることがわかる。
ガラス１９料としてドープ剤その他の成分を含ｉｔ場合
Ｃニ一層有効であることがわかる。
第１図は、光ファイバ母材製造Ｃ二お（する従来のガラ
ス原料ガスの供給状態を示す概要図−Ｃ，第２図及び第
３図は本発明の方法の同様の概要図で、異なる態様のも
のである。 図中の符号 １・・・キャリアガス流量制御器、 ２・・・ガラス原料液、 ６・・・ガラス原料容器、４
・・・恒温槽、 ５・・・ガス供給配管、６・・・反応
部、 ７・・・加熱器、 ８・・・希釈ガス流量制御器。 特許出願人 信越化学工業株式会社
ス原料ガスの供給状態を示す概要図−Ｃ，第２図及び第
３図は本発明の方法の同様の概要図で、異なる態様のも
のである。 図中の符号 １・・・キャリアガス流量制御器、 ２・・・ガラス原料液、 ６・・・ガラス原料容器、４
・・・恒温槽、 ５・・・ガス供給配管、６・・・反応
部、 ７・・・加熱器、 ８・・・希釈ガス流量制御器。 特許出願人 信越化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 光ファイバ母けの製造Ｃ：３いて、火炎、加水分
解反応域に導入されるガラス原料ガスを不飽和状態で供
給することを特徴とする光フアイバ母材の製造方法。 ２、 ガラス原料ガスの不飽和状態が、不活性希釈ガス
の混合（二よって形成される特許請求の範囲第１項記載
の方法。 ３、 ガラス原料ガスの不飽和状態が加熱昇温Ｃ二よっ
て形成される特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59006743A JPH0657615B2 (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59006743A JPH0657615B2 (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60151243A true JPS60151243A (ja) | 1985-08-09 |
| JPH0657615B2 JPH0657615B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=11646684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59006743A Expired - Lifetime JPH0657615B2 (ja) | 1984-01-18 | 1984-01-18 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0657615B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5734032A (en) * | 1980-08-04 | 1982-02-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Apparatus for feeding raw material of glass |
-
1984
- 1984-01-18 JP JP59006743A patent/JPH0657615B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5734032A (en) * | 1980-08-04 | 1982-02-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Apparatus for feeding raw material of glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0657615B2 (ja) | 1994-08-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |