JPS60131502A - 金属全反射膜 - Google Patents
金属全反射膜Info
- Publication number
- JPS60131502A JPS60131502A JP58240360A JP24036083A JPS60131502A JP S60131502 A JPS60131502 A JP S60131502A JP 58240360 A JP58240360 A JP 58240360A JP 24036083 A JP24036083 A JP 24036083A JP S60131502 A JPS60131502 A JP S60131502A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- total reflection
- metal
- polarized light
- glass base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
-
- G02B1/105—
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/28—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
- G02B27/288—Filters employing polarising elements, e.g. Lyot or Solc filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｉａｉ 発明の技術分野
本発明は光スィッチ等において光の全反射を行う反射膜
に係り、特に偏光プＩＩズムに内蔵する金属全反射膜に
関する。
に係り、特に偏光プＩＩズムに内蔵する金属全反射膜に
関する。
（ｂｌ 技術の背景
ファラデー回転子を主要構成部品の一つ、とし偏光を利
用して伝送径路を切り換える光スィッチは、山勘部分の
ない非機械式光スィッチとして光信号の伝送回路系等に
組み込まれる部品であって第１図にその構成例を示す、
第１図に示した如く２個の偏光ブリズａ１および２、図
示してない電磁石′によって駆動されるツ゛アラデー回
転物質例えば’／ＩＧよりなる４５度ファラ□デー回転
子３並びに１“／２′波長板４から構成゛さ糺、また偏
光プリズム１お゛よｄｉｉよ片面゛・の半分正偽゛光介
離膜５が、他の片−゛の半分に全反射膜６が蒸着さ糺た
平行ガラス平板′７の両面に密着せしめ庭、２個ｔｙ３
＝角プリズム８′および９から□構成されて凶る。前述
の偏光分離膜５には４５度方゛向′から入射された光が
例えばＰ偏光で′返れば讃を通過せしめ、Ｓ偏光であれ
ば全反射：するとむζう線質があり、゛−゛方全反射膜
６にはｐ偏光、′Ｓ偏光を問わず全′ての光を全反射す
るとむ（う゛性質力（′ある。光スイレチ゛はこのよう
な偏光分ｗＩ膜や全反射膜を組合せ、−゛に中間に挿入
したファラ≠−−転□子番駆動する電ｉ石袋流す電流の
尚きを切り換えてフックデー回転子を通過する光を右廻
り或いは左廻りに旋光せしめることによって、１Ｎｐｕ
ｔ−を或イ！；！ ＩＮｐｊＴ−２カラ偏光プリズム１
に入射した光線を、偏光プリズム２から０υＴＰＩＩＴ
−１あるいは０ＩＩＴＰＯＴ−２へ射出するものである
。
用して伝送径路を切り換える光スィッチは、山勘部分の
ない非機械式光スィッチとして光信号の伝送回路系等に
組み込まれる部品であって第１図にその構成例を示す、
第１図に示した如く２個の偏光ブリズａ１および２、図
示してない電磁石′によって駆動されるツ゛アラデー回
転物質例えば’／ＩＧよりなる４５度ファラ□デー回転
子３並びに１“／２′波長板４から構成゛さ糺、また偏
光プリズム１お゛よｄｉｉよ片面゛・の半分正偽゛光介
離膜５が、他の片−゛の半分に全反射膜６が蒸着さ糺た
平行ガラス平板′７の両面に密着せしめ庭、２個ｔｙ３
＝角プリズム８′および９から□構成されて凶る。前述
の偏光分離膜５には４５度方゛向′から入射された光が
例えばＰ偏光で′返れば讃を通過せしめ、Ｓ偏光であれ
ば全反射：するとむζう線質があり、゛−゛方全反射膜
６にはｐ偏光、′Ｓ偏光を問わず全′ての光を全反射す
るとむ（う゛性質力（′ある。光スイレチ゛はこのよう
な偏光分ｗＩ膜や全反射膜を組合せ、−゛に中間に挿入
したファラ≠−−転□子番駆動する電ｉ石袋流す電流の
尚きを切り換えてフックデー回転子を通過する光を右廻
り或いは左廻りに旋光せしめることによって、１Ｎｐｕ
ｔ−を或イ！；！ ＩＮｐｊＴ−２カラ偏光プリズム１
に入射した光線を、偏光プリズム２から０υＴＰＩＩＴ
−１あるいは０ＩＩＴＰＯＴ−２へ射出するものである
。
かかる光スイフチにおいて偏光プリズムに組み込まれる
偏光分離膜や全反射膜は、可能な限り光の損失の少ない
ことが要求される。
偏光分離膜や全反射膜は、可能な限り光の損失の少ない
ことが要求される。
（Ｃ） 従来技術と問題点
上記のような用途に使用する全反射膜として光通信に用
いられる波長帯に対して高い反射率を示す銅をガラス基
板の表面に蒸着した金属全反射膜が用いられている。し
かし従来の金属全反射膜において４５度の角度から入射
した光に対する反射率は、Ｐ偏光に対しては８２％以下
、Ｓ偏光に対しては９０％以下で、銅単層の←のそれぞ
れの偏光に対する反射率９７．８％、９８．’４％に比
較して極めて低い値を示している。
いられる波長帯に対して高い反射率を示す銅をガラス基
板の表面に蒸着した金属全反射膜が用いられている。し
かし従来の金属全反射膜において４５度の角度から入射
した光に対する反射率は、Ｐ偏光に対しては８２％以下
、Ｓ偏光に対しては９０％以下で、銅単層の←のそれぞ
れの偏光に対する反射率９７．８％、９８．’４％に比
較して極めて低い値を示している。
その原因として銅はガラ友基板との密着性が低いために
、銅とガラス基板との間に中間層として密着性の向上に
有９）Ｊとされるクロム、タングステン、ニッケル等の
金属を蒸着しているが、銅層による反射率は中間層の厚
さに大きく依存する。しかるに従来の金属全反射膜は密
着性の安定性を考慮して５０Å以上の中間層を設けてお
り、密着性の安定性を考慮することによって本来の高い
反射率を有効に活用できないという問題があった。
、銅とガラス基板との間に中間層として密着性の向上に
有９）Ｊとされるクロム、タングステン、ニッケル等の
金属を蒸着しているが、銅層による反射率は中間層の厚
さに大きく依存する。しかるに従来の金属全反射膜は密
着性の安定性を考慮して５０Å以上の中間層を設けてお
り、密着性の安定性を考慮することによって本来の高い
反射率を有効に活用できないという問題があった。
（ｄｌ 発明の目的
゛ 本発明の目的はガラス基板と金属膜の密着性が高く
、且つ反射率の高い金属全反射膜を提供することにある
。
、且つ反射率の高い金属全反射膜を提供することにある
。
（ｅｌ 発明の構成
そしてこの目的はガラス基板の片面に金属の膜を被着し
てなる金属全反射膜において、ガラス基板と金属膜との
間に形成する中間層の厚さを、５二５０人としたことで
達成している。
てなる金属全反射膜において、ガラス基板と金属膜との
間に形成する中間層の厚さを、５二５０人としたことで
達成している。
ｉｎ 発明の実施例
以下添付図により本発明の詳細な説明する。
第２図は本発明の一実施例を示した断面図であり、図に
おいて１１はガラス基板、１２は中間層、１３は金属反
射膜、１４は保護膜を表す。
おいて１１はガラス基板、１２は中間層、１３は金属反
射膜、１４は保護膜を表す。
まず洗浄したガラス基板１１に５〜１００人の範囲で厚
さを変えてクロム層を蒸着し各種の中間層１２を形成す
る。続いて金属４射１１１１３として銅を蒸着・した後
、腐食を防止するた、めに保護膜１４を金属反射膜１３
の上に蒸着し金属全没、射膜を得る。 。
さを変えてクロム層を蒸着し各種の中間層１２を形成す
る。続いて金属４射１１１１３として銅を蒸着・した後
、腐食を防止するた、めに保護膜１４を金属反射膜１３
の上に蒸着し金属全没、射膜を得る。 。
第３図はかくして得た各種の中間層１２をを有する金属
全反射膜に、波長が１．３μ鋤のレーザ光線を４５度の
角度から照射したときの反射率を測定し、中間層の厚さ
と反射率の関係を表した図で３図によればクロム層の膜
厚を１０人にした場合の反射率は、Ｐ偏光に対しては９
４．８％、Ｓ偏光に対しては９７．２％で銅単層の場合
のそれぞれの偏光に対する反射率９７．８％、９８．４
％に匹敵する。
全反射膜に、波長が１．３μ鋤のレーザ光線を４５度の
角度から照射したときの反射率を測定し、中間層の厚さ
と反射率の関係を表した図で３図によればクロム層の膜
厚を１０人にした場合の反射率は、Ｐ偏光に対しては９
４．８％、Ｓ偏光に対しては９７．２％で銅単層の場合
のそれぞれの偏光に対する反射率９７．８％、９８．４
％に匹敵する。
一方密着性についても前述の実施例で得た各種の中間層
１２を有する金属全反射膜について、金属反射膜１３に
粘着テープを貼着した後引き剥が亥１剥離テストを行い
、中間層としてクロム層が５入行着していればガラス基
板と金属膜との密着性が大幅に向上し、１０人付着して
いれば十分実用に耐えられることが確認された。
１２を有する金属全反射膜について、金属反射膜１３に
粘着テープを貼着した後引き剥が亥１剥離テストを行い
、中間層としてクロム層が５入行着していればガラス基
板と金属膜との密着性が大幅に向上し、１０人付着して
いれば十分実用に耐えられることが確認された。
（荀 発明の効果 １
以上述べたように本発明によれば、ガラス基板と金属膜
の密着性が高く、且つ反射率の高い金属全反射膜を提供
することができる。
の密着性が高く、且つ反射率の高い金属全反射膜を提供
することができる。
第１図は光スィッチの構成例、第２図は本発明の一実施
例を示した断面図、第３図はクロム層の膜厚と金属堅射
膜の反射率との関係を実測値で表した図でやる。 図において１１はガラス基板、１２は中間層、１３は金
−反射膜、１４は保護膜を表す。 １ 第 １ 図 軍２図 第３ 図 ０６０１０゜ ｃ、膜厚＜Ａ）
例を示した断面図、第３図はクロム層の膜厚と金属堅射
膜の反射率との関係を実測値で表した図でやる。 図において１１はガラス基板、１２は中間層、１３は金
−反射膜、１４は保護膜を表す。 １ 第 １ 図 軍２図 第３ 図 ０６０１０゜ ｃ、膜厚＜Ａ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）ガラス基板の片面に金属の膜を被着してなる金属全
反射膜において、ガラ妥基板と金属膜との間に形成する
中間層の厚さを、５〜５０人と′したことを特−とする
金属全反射膜。 ２、特許請求の範囲第１項記載の金属全反射膜において
、金属膜の上に腐食防止用の保護膜を設けたことを特徴
とする金属全反射膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58240360A JPS60131502A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 金属全反射膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58240360A JPS60131502A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 金属全反射膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60131502A true JPS60131502A (ja) | 1985-07-13 |
Family
ID=17058328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58240360A Pending JPS60131502A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 金属全反射膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60131502A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04324021A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-13 | Noritz Corp | ガス燃焼器の燃焼制御装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5166841A (ja) * | 1974-08-16 | 1976-06-09 | Massachusetts Inst Technology | Tomeinanetsuhanshakyo |
-
1983
- 1983-12-20 JP JP58240360A patent/JPS60131502A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5166841A (ja) * | 1974-08-16 | 1976-06-09 | Massachusetts Inst Technology | Tomeinanetsuhanshakyo |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04324021A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-13 | Noritz Corp | ガス燃焼器の燃焼制御装置 |
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