JPS60117416A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はオーディオ・ビデオ用磁気テープ等の磁気記録
媒体およびその製造方法に係り、特に金属薄膜を磁性層
として備えてなる磁気記録媒体おレフタレート、ポリア
ミド等の非磁性基体上にγ−Ｆ＋４０ａ、　Ｆｅ３Ｏ４
、Ｃｏ　Ｉｒ　Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ・Ｆｅ３Ｏ４等の酸化
鉄系磁性粉末、ＣｒＯ＋等の磁性粉末あるいは合金磁性
粉末を塩化ビニール酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブ
タジェン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等
の有機バインダー中に分散したものを塗布し乾燥させた
塗布形磁気記録媒体が広く使用されてきている。

一方、近年、磁気記録再生装置は、小型化、高密度化の
傾向にあり、高密度記録への要求の高まシとともに、強
磁性金属薄膜を磁性層とする金属薄膜形磁気記録媒体が
提案され、実用化への努力が種々性われており、一部商
品化されている。

この金属薄膜形磁気記録媒体は、蒸着法の場合、例えば
供給リールから送られるポリエステル、ポリイミド等の
プラスチック製基体を支持体で支持し一定方向に移動さ
せながら巻取リール側に巻き取る一方、移動中の基体に
、蒸発源から蒸発したＦｅ、　Ｃｏ、　Ｎｉ等の金属或
いはこれらの適宜な合金の粒子蒸気流を放射して磁性層
を形成することにより製造される。

その構造は、第１図に示すように、基体１に直接磁性層
２が形成された２層構造である。なお、この磁気記録媒
体において磁性層２の結晶柱３が傾斜していることは、
抗磁力を高める効果があり、詳しくは米国特許第３３４
２６３２号公報に記載されている。このように傾斜結晶
柱とするためには、前記粒子蒸気流を基体１に対して斜
めに放射すればよく、その入射角を大きくする程抗磁力
が高められる。

〔背景技術の問題点〕

ところで、上記磁気記録媒体は、磁性層２の基体１に対
する付着強度が問題とされる。この付着強度は粒子蒸気
流の基体１に対する入射角を小さくする程、すなわち、
垂直結晶柱とすれば最も強いものとなるが上述のごとく
抗磁力の効果と相反するという欠点があった。

そこで、第２図に示すように基体１と磁性層２との間に
非磁性金属よシなる下地層４を設けた媒体が提供された
。この下地層４は、例えばＡ℃、Ｔｉ等の非磁性金属を
垂直放射で蒸着したものであり、磁性層２と基体１との
つなぎの役割を果す。

しかしながら、上記下地層４を形成する従来媒体では、
非磁性金属を蒸着した後、更に強磁性金属を蒸着しなけ
れば々らず、その製造工程が煩雑化するとともに、非磁
性金属および金属性磁性材を材料として用いなければな
らない。

また、磁性金属粒子の割合を変えて下地層を蒸着する方
法も開示されているが、上記と同様の問題があった。

〔発明の目的〕

本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、基体に非磁
性層および磁性層を形成する工程を簡素化し、かつ、磁
性層と基体との付着強度も高い磁気記録媒体およびその
製造方法を提供することを目的とする。

〔発明の概要〕

すなわち、本発明は、非磁性層としての下地層には磁性
層と同一の金属を用い、下地層の形成段階では例えば酸
素ガスを導入することにより用いる金属の磁性を低下さ
せたものである。

　５− 〔発明の実施例〕 以下本発明を図示の実施例について具体的に説明する。

第３図は本発明の第１実施例に係る磁気記録媒体を示す
構成図であり、第４図はその製造工程を説明するだめの
説明図である。

先ず、第３図において符号５は本発明に係る磁気記録媒
体であり、この記録媒体５け基体６と磁性層７との間に
前記磁性層７を成す金属性磁性材と同−又は同等の磁性
材が非磁性化された非磁性層としての下地層８を介装し
たものである。前記磁性層７に用いる磁性材としては、
Ｆｅｓ　Ｃｏ、　Ｎｉ等の金属、あるいはＦｅ　−ｃｏ
、　Ｆｅ　−Ｎｉ　、　Ｃｏ−Ｎｉ。

Ｆｅ　−Ｃｏ−Ｎｉ、　Ｆｅ　−Ｒｈ、　Ｆｅ−Ｃｕ、
　Ｃｏ−Ｃｕ、　Ｃｏ　−Ａｕ、　Ｃｏ　−Ｙ、　Ｃｏ
　−Ｌａ、　Ｃｏ−Ｐｒ、　Ｃｏ　−Ｇｄ、　Ｃｏ−８
ｍ。

Ｃｏ　−Ｐｔ、　Ｎｉ　−Ｃｕ、　Ｍｎ−Ｂ１．　Ｍｎ
　−８ｂ、　Ｍｎ　−Ａ、ｌｉ、　Ｆｅ−Ｃｒ、　Ｃｏ
−Ｃｒ、　Ｎｉ　−Ｏｒ、　Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、　Ｎｉ
　−Ｃｏ　−Ｃｒ等の強磁性合金である。また、その結
晶柱は基体６に対して傾斜している。一方、前記下地層
８の結晶柱１０は基体６に対して垂直である。また、こ
の下地層８の素材および前記磁性層７の素　６− 材は上記に列挙したもののうち異種を用いてもよい。さ
らに、基体５の素材としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三酢
酸セルロース、ポリエチレンナフタレートのようなプラ
スチックベースが好マしい。

次に、上記のような記録媒体５の製造方法を説明する。

第４図において、基体６は２つの支持体１１．１１に支
持され、かつ図示しない供給巻取手段によって図中矢視
方向に移動されるように々っている。

この支持体１１．１１間の基体に対向してるっぽ１２が
設けられている。このるっは１２には金属性磁性材１３
が図示せぬ加熱装置によって加熱蒸発されて蒸発流１３
ａとされる。この磁性材１３としては、上記した単一の
金属あるいは合金である。また、前記るつぼ１２は支持
体１１．１１間の基体６に対して前記蒸発流１３ａが垂
直に放射される位置Ａから所定角度変位した位置ＢＫ移
動できるようになっており、これにょシ、前記蒸発流１
３ａは基体６に対しである入射角度で放射することも可
能である。勿論、るつは１２は固定し、基体６側をるつ
ぼ１２に対して向きを変化できるようにしてもよい。

一方、るつぼ１２の近傍には、磁性材１３を非磁性化し
た状態で蒸着することのできる例えば酸素ガス１４を放
つガス放射器１５が設けられている。

上記のような構成において、前記磁性層７および下地層
８を形成する方法は、先ず、るつぼ１２をＡ位置に設定
し、走行中の基体６に対して磁性材１３の蒸発流１３ａ
を垂直に蒸発（放射）させる。

この第１の蒸着工程と同時にガス放射器１５から酸素ガ
ス１４を基体６　Ｋ向けて送シ込む。これにより、蒸発
流１３ａは酸化され、非磁性体とガって基体６に蒸着さ
れる。こうして、基体６には非磁性層としての下地層８
が形成される 次に、下地層８が形成された基体６の走行方向を逆転す
るとともに、るつぼ１２をＢ位置に変位させ、上記と同
様の蒸着を行う。このとき、酸素ガス１４の放出は停止
する。これにより、蒸着流は磁性層７として形成される
。

こうして形成された記録媒体５は、磁性層７の結晶柱９
を斜めに形成しても、下地層８の対基体６間の付着力、
および同下地層８の対磁性層７間の付着力によって、磁
性層７と基体６との付着強度が、磁性層７の結晶柱９を
垂直に形成した場合と同一のものとなる。

次表は、コバルトｃｏを７５係、ニッケルＮｉを２５係
含む合金を金属性磁性材１３として用い、下地層８の厚
みｔおよび酸素ガス１４の毎分供給量Ｖを所定の条件に
設定して、磁性層７の付着強度を試験した結果を示す。

この付着強度は、記録媒体５に加える荷重を徐々に増加
して、磁性層７が損傷する時の荷重を測定したものであ
る。なお、荷重を加える部材は、０．５Ｒの焼入れした
鉄製針である。

ｃ以下余白） ＝　９− 第１表 上記第１表によれば、Ｃｏ−Ｎｉ合金がほとんど酸化さ
れる酸素供給量のとき（例えば２５０ｃｃ前後）磁性層
７の付着強度が大きくなることが判明した。

なお、下地層８のＣｏ　−Ｎ　ｉ合金の大部分を酸化す
ることによって磁性層７の影響を無くすことができた。

このときの下地層８の飽和磁束密度は、磁性層７のそれ
に対して１０％以下であった。

また、第２表はアルミニウムＡｌを非磁性層として蒸着
した従来の記録媒体の付着強度を測定したものである。

第２表 以上によれば、明らかに本発明による磁気記録媒体５の
磁性層７の付着強度が強いことが判る。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、金属性磁性材料を
非磁性化するだめのガス雰囲気中で行う付着工程と、上
記雰囲気にしない条件で行う付着工程とにより磁気記録
媒体を形成したので、磁性層の結晶柱を垂直に構成した
記録媒体と同様の基体に対する磁性層の不着強度が得ら
れるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は従来の磁気記録媒体を示す構成図
、第３図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体を示す
構成図、第４図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体
の製造方法を説明するだめの説明図である。 ５・−磁気記録媒体、 ６・・・基体、 ７・・・磁性層、 ８・・・下地層（非磁性層） ９．１０・・・結晶柱、 １４・・・酸素ガス。 第１図 一ゝ−１ 第３図 を−−５ 一＼−６ 第２図 ど〜」 第４図 手　続　補　正　書　く自発） 昭和５８年特許願第２２４８６５号 図面（第４図） ７、補正の内容　別紙の通り １、明細書第７ページ９行目から第９ページ２行目迄に
「第４図において、・・・磁性層７として形成される。 」とあるを以下の文に訂正する。 ［第４図において、基体６はクーリングキャンと呼ばれ
る支持体１１に支持され、かつ図示しない供給手段によ
って図中矢視方向Ａ又はＢの方向に移動されるようにな
っている。この支持体１１上の基体に対しで、るつぼ１
２及び１３が設けられている。このるつぼには、金属材
料（例えばＣ０−Ｎｉ合金等）が図示せぬ加熱装置によ
って加熱蒸発されて蒸発流１４とされる。 上記のような構成において、前記磁性層７及び下地層８
を形成する方法は、先ずＢ方向に基体６を移動させて、
るつは１３で蒸着を行なう。このとき酸素ガス１５を同
時に送り込む。これにより蒸発流は酸化されて非磁性体
となって基体６に蒸着される。こうして基体６には非磁
性層としての下地層８が形成される。次に、下地層８が
形成された基体６の走行方向を六方向にすると共に、る
つぼ１２によって上記と同様の蒸着を行なう。こ１− のとき、酸素ガスは磁性体層として最適条件となるよう
な量を１６の０２ガス供給装置によって送り込むか、又
は酸、化ガスなしで蒸着する。これにより磁性層７が形
成される。」 ２、明細書の第１２ページ１０行目の「１４・・・酸素
ガス。」を削除する。 以　上 ２− 第４図

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜形成法によ
   シ基体に磁性層を形成する工程を有する磁気記録媒体の
   製造方法において、金属性磁性材の磁性層を形成する第
   １の付着工程と、前記基体のして磁性層とする第２の付
   着工程とを具備したことを特徴とする磁気記録媒体の製
   造方法。
2. （２）基体に金属性磁性材から成る磁性層を形成した磁
   気記録媒体において、前記基体と磁性層とことを特徴と
   する磁気記録媒体。
3. （３）前記第１の付着工程は、前記磁性材の粒子流を基
   体に対して垂直に導入するようにしたことを特徴とする
   特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体の製造方法
   。
4. （４）前記非磁性層は少なくとも１００Ａ以上形成され
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項および第３項
   のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
5. （５）前記非磁性層は飽和磁束密度が磁性層の飽和磁束
   密度に対して１０係以下になるように非磁性化されるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項、第３項および第
   ４項のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。