JPS6011028B2 - 新規4−(ポリアルコキシ−フエニル)−2−ピロリドンの製法 - Google Patents
新規4−(ポリアルコキシ−フエニル)−2−ピロリドンの製法Info
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- JPS6011028B2 JPS6011028B2 JP50034220A JP3422075A JPS6011028B2 JP S6011028 B2 JPS6011028 B2 JP S6011028B2 JP 50034220 A JP50034220 A JP 50034220A JP 3422075 A JP3422075 A JP 3422075A JP S6011028 B2 JPS6011028 B2 JP S6011028B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式1:
〔式中:R,とR2とは同じものであるか又は異なるも
のであり、1個以上のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
カルボキシアミド基又は場合により置換されているアミ
ノ基により置換されている1乳固までのC原子を有する
炭化水素基又は1〜5個のC原子を有するアルキル基を
表わすか、又はR,とR2とが共同で1〜3個のC原子
を有するアルキレン基を表わし、R3は水素原子又はメ
トキシ基を表わし、R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基又はアシル基を表わし、×は酸素原子又は硫黄原
子を表わす〕のラセミ及び光学活性4−(ポリアルコキ
シ−フエニル)一2−ピロリドンの製法に関する。
のであり、1個以上のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カ
ルボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
カルボキシアミド基又は場合により置換されているアミ
ノ基により置換されている1乳固までのC原子を有する
炭化水素基又は1〜5個のC原子を有するアルキル基を
表わすか、又はR,とR2とが共同で1〜3個のC原子
を有するアルキレン基を表わし、R3は水素原子又はメ
トキシ基を表わし、R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基又はアシル基を表わし、×は酸素原子又は硫黄原
子を表わす〕のラセミ及び光学活性4−(ポリアルコキ
シ−フエニル)一2−ピロリドンの製法に関する。
一般式1の化合物は不斉炭素原子を有し、従ってラセミ
化合物としても又光学的対掌体としても存在することが
出来る。
化合物としても又光学的対掌体としても存在することが
出来る。
炭化水素基R,及びR2としては、1〜18個の炭素原
子を有する飽和及び不飽和、直鏡及び有枝鎖のアルキル
基、又更に有利に3〜7個の炭素原子を有するシクロア
ルキル基及びシクロアルキル−アルキル基並びに有利に
6〜1M固の炭素原子を有するアリール基及びアラルキ
ル基が該当する。
子を有する飽和及び不飽和、直鏡及び有枝鎖のアルキル
基、又更に有利に3〜7個の炭素原子を有するシクロア
ルキル基及びシクロアルキル−アルキル基並びに有利に
6〜1M固の炭素原子を有するアリール基及びアラルキ
ル基が該当する。
適当なアルキル基は例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ィソプロピル基、ブチル基、ィソブチル基、第三
ブチル基、ベンチル基、2−メチルブチル基、2・2−
ジメチルプロピル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、/ニル基、1・2−ジメチルヘプチル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基及びステアリル基である
。アルキル基は不飽和のものであることも出来、例えば
ビニル基、1ープロベニル基、2−ブロベニル基、2−
プロピニル基、3ーメチル−2−プロベニル基等である
ことも出釆る。有利に1〜5個のC原子を有するアルキ
ル基は、例えばハロゲン原子、特に弗素原子、塩素原子
及び臭素原子により1以上の置換をされていることも出
釆る。ハロゲン置換アルキル基の例は、2ークロルェチ
ル基、3ークロルプロピル基、4ーブロムブチル基、ジ
フルオルメチル基、トリフルオルメチル基、1・1・2
ートリフルオルー2−クロルェチル基、3・3・3−ト
リフルオルプロピル基、2・2・3・3・3ーベンタフ
ルオルブロピル基、1・1・1・3・3・3−へキサフ
ルオルー2−プロピル基である。アルキル基の置換分と
しては更に、ヒドロキシ基、カルボキシ基及び、それぞ
れ1〜5個のC原子を含有することの出来るアルコキシ
基も該当し、それら置換分で置換されたァルキル基の例
は例えば、2ーヒドロキシェチル基又は3ーヒドロキシ
プロピル基、カルボキシメチル基又はカルポキシェチル
基、ェトキシメチル基、ィソプロポキシメチル基、2ー
メトキシェチル基、2一ィソプロポキシヱチル基、2ー
ブトキシェチル基、2ーィソブトキシェチル基、3ーベ
ントキシプロピル基である。1〜5個のC原子を有する
アルキル基の主として末端位に位置する置換分としては
更に、アルコキシ基中に1〜5個のC原子を有するアル
コキシカルボニル基及びカルボキシアミド基が該当し、
後者の場合窒素原子は有利に1〜5個のC原子を有する
ァルキル基により1又は2置換されていることが出釆る
か又は4員〜7員環の成分である。
ル基、ィソプロピル基、ブチル基、ィソブチル基、第三
ブチル基、ベンチル基、2−メチルブチル基、2・2−
ジメチルプロピル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、/ニル基、1・2−ジメチルヘプチル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基及びステアリル基である
。アルキル基は不飽和のものであることも出来、例えば
ビニル基、1ープロベニル基、2−ブロベニル基、2−
プロピニル基、3ーメチル−2−プロベニル基等である
ことも出釆る。有利に1〜5個のC原子を有するアルキ
ル基は、例えばハロゲン原子、特に弗素原子、塩素原子
及び臭素原子により1以上の置換をされていることも出
釆る。ハロゲン置換アルキル基の例は、2ークロルェチ
ル基、3ークロルプロピル基、4ーブロムブチル基、ジ
フルオルメチル基、トリフルオルメチル基、1・1・2
ートリフルオルー2−クロルェチル基、3・3・3−ト
リフルオルプロピル基、2・2・3・3・3ーベンタフ
ルオルブロピル基、1・1・1・3・3・3−へキサフ
ルオルー2−プロピル基である。アルキル基の置換分と
しては更に、ヒドロキシ基、カルボキシ基及び、それぞ
れ1〜5個のC原子を含有することの出来るアルコキシ
基も該当し、それら置換分で置換されたァルキル基の例
は例えば、2ーヒドロキシェチル基又は3ーヒドロキシ
プロピル基、カルボキシメチル基又はカルポキシェチル
基、ェトキシメチル基、ィソプロポキシメチル基、2ー
メトキシェチル基、2一ィソプロポキシヱチル基、2ー
ブトキシェチル基、2ーィソブトキシェチル基、3ーベ
ントキシプロピル基である。1〜5個のC原子を有する
アルキル基の主として末端位に位置する置換分としては
更に、アルコキシ基中に1〜5個のC原子を有するアル
コキシカルボニル基及びカルボキシアミド基が該当し、
後者の場合窒素原子は有利に1〜5個のC原子を有する
ァルキル基により1又は2置換されていることが出釆る
か又は4員〜7員環の成分である。
アルコキシカルボニル基及びカルボキシアミド基の例は
、ェトキシカルボニルメチル基、2ーフトキシカルボニ
ルエチル基、ジヱチルアミノカルボニルメチル基、2−
ジェチルアミノカルボニルェチル基、2ーピロリジ/カ
ルボニルェチル基、ピベラジノカルボニルメチル基等で
ある。1〜5個のC原子を有するアルキル基は末端位に
おいてアミ/基で置換されていることも出来、その場合
窒素原子は場合により有利に1〜5個のC原子を有する
アルキル基により1又は2置換されていることが出来る
か又は4員〜7員環の成分である。
、ェトキシカルボニルメチル基、2ーフトキシカルボニ
ルエチル基、ジヱチルアミノカルボニルメチル基、2−
ジェチルアミノカルボニルェチル基、2ーピロリジ/カ
ルボニルェチル基、ピベラジノカルボニルメチル基等で
ある。1〜5個のC原子を有するアルキル基は末端位に
おいてアミ/基で置換されていることも出来、その場合
窒素原子は場合により有利に1〜5個のC原子を有する
アルキル基により1又は2置換されていることが出来る
か又は4員〜7員環の成分である。
N置換ァルキル基の例は、アミノメチル基、2−メチル
アミノェチル基、2−ジメチルアミノェチル基、2−ジ
ェチルアミノェチル基、3−ジメチルアミノプロピル基
、3ーェチルメチルアミノプロピル基、ピロリジノ基、
ピベリジノ基、N−メチルピベラジノ基、ヘキサメチレ
ンィミノ基等である。一般式1の化合物中でR,及び/
又はR2がシクロアルキル基ないしシクロァルキルーア
ルキル基を表わす場合には、これらは有利に3〜7個の
C原子を含有する。
アミノェチル基、2−ジメチルアミノェチル基、2−ジ
ェチルアミノェチル基、3−ジメチルアミノプロピル基
、3ーェチルメチルアミノプロピル基、ピロリジノ基、
ピベリジノ基、N−メチルピベラジノ基、ヘキサメチレ
ンィミノ基等である。一般式1の化合物中でR,及び/
又はR2がシクロアルキル基ないしシクロァルキルーア
ルキル基を表わす場合には、これらは有利に3〜7個の
C原子を含有する。
有利にはシクロブロピル基、シクロプロピルメチル基、
シクロベンチル基及びシクロヘキシル基であ・る。R,
及び/又はR2がアリール基又はアラルキル基を表わす
場合には、特にフェニル基及びペンジル基が該当する。
R2がメチル基を表わす一般式1の化合物が有利である
。
シクロベンチル基及びシクロヘキシル基であ・る。R,
及び/又はR2がアリール基又はアラルキル基を表わす
場合には、特にフェニル基及びペンジル基が該当する。
R2がメチル基を表わす一般式1の化合物が有利である
。
基R4としては水素原子の他になお低級アルキル基、例
えばメチル基及びエチル基、更にアリール基、特にフェ
ニル基、又は低級アシル基、例えばアセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基及びピバロィル基が該当する。
えばメチル基及びエチル基、更にアリール基、特にフェ
ニル基、又は低級アシル基、例えばアセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基及びピバロィル基が該当する。
一般式1のラセミ及び光学活性化合物は神経精神病に対
する価値の高い薬剤である。
する価値の高い薬剤である。
この新規化合物は中枢抑制性、アポモルフイン桔抗性及
び抗有害受容性の作用を有し、従ってクロールブロマジ
ンとある程度の類似性を有する(文献:モダーン プロ
ブレムス オブ フアーマコサイカイアト リ (
Modern Problems ofPha
rmacopsychiatry)、5巻、33〜44
頁:ジャンセン(Ja船sen)P.A.Yへ“ケミカ
ル アンドフアーマコロジカルクラシフイケーシヨン
オブ ノイロレプテイツクス(Chemical a
ndPharmacologicaI Cla
ssincation ofNemolept
ics)”、Bo戊nD.P.等により編集、S.Ka
r袋r出版所、バーゼル、ミュンヘン、パリ、ニューヨ
ーク(1970))。しかし他方本発明による化合物は
クロ−ルブロマジンと異なって、反射障害がより少なく
、抑欝及び麻疹性がより少なく又生体アミンの影響の仕
方が異なる。すなわち例えば4−(3・4一ジメトキシ
ーフェニル)−2−ピロリドンのバスビタール睡眠時間
延長作用はクロールプロマジンのそれの約1/20であ
る。本発明による新規化合物は作用が速やかに現われ、
又急性毒性が少ないことですぐれている。新規化合物の
有利な性質は予知し得なかったものである。それという
のも出願人の実験で示された様に、相応するp−ないい
まm−1置換フェニルー2ーピロリドンの作用領域は異
なるか又は僅かな作用しか有さないからである。例えば
日本特許明細書第7016692号‘こ記述されている
4−(4ークロルフェニル)−2ーピロリドンは鎖塵作
用を有する。置換されていないフェニル−2−ピロリド
ンの作用は非常に僅少である。本発明による化合物は上
記の作用を有するために製剤の形で種々の神経的及び精
神的障害の治療のために、特に錐体外路症候の少ない神
経弛緩剤として、使用することが出来る。
び抗有害受容性の作用を有し、従ってクロールブロマジ
ンとある程度の類似性を有する(文献:モダーン プロ
ブレムス オブ フアーマコサイカイアト リ (
Modern Problems ofPha
rmacopsychiatry)、5巻、33〜44
頁:ジャンセン(Ja船sen)P.A.Yへ“ケミカ
ル アンドフアーマコロジカルクラシフイケーシヨン
オブ ノイロレプテイツクス(Chemical a
ndPharmacologicaI Cla
ssincation ofNemolept
ics)”、Bo戊nD.P.等により編集、S.Ka
r袋r出版所、バーゼル、ミュンヘン、パリ、ニューヨ
ーク(1970))。しかし他方本発明による化合物は
クロ−ルブロマジンと異なって、反射障害がより少なく
、抑欝及び麻疹性がより少なく又生体アミンの影響の仕
方が異なる。すなわち例えば4−(3・4一ジメトキシ
ーフェニル)−2−ピロリドンのバスビタール睡眠時間
延長作用はクロールプロマジンのそれの約1/20であ
る。本発明による新規化合物は作用が速やかに現われ、
又急性毒性が少ないことですぐれている。新規化合物の
有利な性質は予知し得なかったものである。それという
のも出願人の実験で示された様に、相応するp−ないい
まm−1置換フェニルー2ーピロリドンの作用領域は異
なるか又は僅かな作用しか有さないからである。例えば
日本特許明細書第7016692号‘こ記述されている
4−(4ークロルフェニル)−2ーピロリドンは鎖塵作
用を有する。置換されていないフェニル−2−ピロリド
ンの作用は非常に僅少である。本発明による化合物は上
記の作用を有するために製剤の形で種々の神経的及び精
神的障害の治療のために、特に錐体外路症候の少ない神
経弛緩剤として、使用することが出来る。
2製剤の製造は、経腸又は非経口的投与
のために常用の担体物質、例えば水、アルコ−ル、ゼラ
チン、アラビャゴム、乳糖、澱粉、ステアリン酸マグネ
シウム、タルク、植物性油、ポリアルキレングリコール
等を使用して行われる。製剤は錠剤、3カプセル、糖衣
錠剤、坐薬として固体形状で又は溶液、懸濁液又は乳濁
液として液体形状であることが出来る。経口投与の場合
には経口投与単位当り1〜20雌、有利には5〜1肋9
の作用物質を含有する。1日当りの投与量は1〜50の
9、有利には103〜30の9(経口)である。
のために常用の担体物質、例えば水、アルコ−ル、ゼラ
チン、アラビャゴム、乳糖、澱粉、ステアリン酸マグネ
シウム、タルク、植物性油、ポリアルキレングリコール
等を使用して行われる。製剤は錠剤、3カプセル、糖衣
錠剤、坐薬として固体形状で又は溶液、懸濁液又は乳濁
液として液体形状であることが出来る。経口投与の場合
には経口投与単位当り1〜20雌、有利には5〜1肋9
の作用物質を含有する。1日当りの投与量は1〜50の
9、有利には103〜30の9(経口)である。
非経口投与の場合には投与単位当り0.05〜10倣、
有利には0.1〜5の2の作用物質を含有する。
有利には0.1〜5の2の作用物質を含有する。
1日当りの投与量は0.1〜20の夕、有利には0.2
〜5脚(静脈内又は筋肉内)である。
〜5脚(静脈内又は筋肉内)である。
4一般式1の新規4−(ポリァルコキシ
ーフェニル)−2−ピロリドンは自体公知のやり方で以
下の方法を行うことにより製造することが出来る:‘a
1一般式ロ:〔式中:R,′及びR2′はR,及びR2
か又は水素原子を表わし、R8は上記のものを表わし、
Rは有利に低級ァルキル基を表わす〕の4一(置換フェ
ニル)一2ーピロリドンー3−カルボン酸アルキルェス
テルを鹸化し、脱カルボキシル化するか、又は‘b}
一般式m: 〔式中:R,′、R2′、R3及びRは上記のものを表
わす〕の3−(置換フェニル)−4−ァミノ−酪酸ァル
キルェステル又はその酸付加塩をアルコールの分離を伴
いながら環化するか、又は‘c〕一般式W:〔式中:R
,′、R2′及びR3は上記のものを表わす〕の3−(
置換フェニル)−4ーァミノー酪酸又はその酸付加塩を
水の分離を伴いながら環化し、又‘a}、‘b)又は【
c}で得られた化合物中で場合により遊離ヒドロキシ基
(OR,′又はOR2′)をアルキル化又はアリール化
し、場合によりィミ/基(NH)をアルキル化、アリー
ル化又はアシル化し、及び場合によりカルボニル酸素を
硫黄と置換する。
ーフェニル)−2−ピロリドンは自体公知のやり方で以
下の方法を行うことにより製造することが出来る:‘a
1一般式ロ:〔式中:R,′及びR2′はR,及びR2
か又は水素原子を表わし、R8は上記のものを表わし、
Rは有利に低級ァルキル基を表わす〕の4一(置換フェ
ニル)一2ーピロリドンー3−カルボン酸アルキルェス
テルを鹸化し、脱カルボキシル化するか、又は‘b}
一般式m: 〔式中:R,′、R2′、R3及びRは上記のものを表
わす〕の3−(置換フェニル)−4−ァミノ−酪酸ァル
キルェステル又はその酸付加塩をアルコールの分離を伴
いながら環化するか、又は‘c〕一般式W:〔式中:R
,′、R2′及びR3は上記のものを表わす〕の3−(
置換フェニル)−4ーァミノー酪酸又はその酸付加塩を
水の分離を伴いながら環化し、又‘a}、‘b)又は【
c}で得られた化合物中で場合により遊離ヒドロキシ基
(OR,′又はOR2′)をアルキル化又はアリール化
し、場合によりィミ/基(NH)をアルキル化、アリー
ル化又はアシル化し、及び場合によりカルボニル酸素を
硫黄と置換する。
又光学活性化合物のラセミ型が生成した場合には、場合
によりこれをラセミ分割する。一般式1の化合物の製造
のためには公知法を利用する。
によりこれをラセミ分割する。一般式1の化合物の製造
のためには公知法を利用する。
方法{a}による鹸化は含水アルカリを用いて、有利に
水混和性の溶剤中、例えばアルコール例えばエタノール
中、テトラヒドロフラン中又はジオキサン中で約60〜
15000の温度において、有利には沸点において行わ
れる。‘a’による脱カルボキシルはカルボン酸を約1
60〜280午0に加熱することにより行われる。有利
に真空中で加熱する。C02の分離を場合により高沸点
の不活性溶剤の存在下、例えばジフェニルェーテル又は
キノリン中で行うことも出来る。方法{b}による環化
は有機溶剤、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゾ
ール、トルオール、キシロール等の中で約50〜150
午Cに加熱してアルコール分離を伴いながら行われる。
水混和性の溶剤中、例えばアルコール例えばエタノール
中、テトラヒドロフラン中又はジオキサン中で約60〜
15000の温度において、有利には沸点において行わ
れる。‘a’による脱カルボキシルはカルボン酸を約1
60〜280午0に加熱することにより行われる。有利
に真空中で加熱する。C02の分離を場合により高沸点
の不活性溶剤の存在下、例えばジフェニルェーテル又は
キノリン中で行うことも出来る。方法{b}による環化
は有機溶剤、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゾ
ール、トルオール、キシロール等の中で約50〜150
午Cに加熱してアルコール分離を伴いながら行われる。
塩、例えば一般式mのアミノ酸ェステルの塩酸塩から出
発する場合には、第三塩基の存在下で加熱する。第三塩
基としてはトリアルキルアミン、例えばトリェチルアミ
ン及びトリブチルアミンが該当するが、例えばNーメチ
ルモルホリン、ジヱチルシクロヘキシルアミン、ピリジ
ン等も適する。{c}による方法では約160〜280
qoの温度において水分鱗を伴いながら塚化が行われる
。
発する場合には、第三塩基の存在下で加熱する。第三塩
基としてはトリアルキルアミン、例えばトリェチルアミ
ン及びトリブチルアミンが該当するが、例えばNーメチ
ルモルホリン、ジヱチルシクロヘキシルアミン、ピリジ
ン等も適する。{c}による方法では約160〜280
qoの温度において水分鱗を伴いながら塚化が行われる
。
分離した水を容易に除去出来る様に、又空気中の酸素の
流入が阻止される様に、真空中で作業するのが有利であ
る。相当する酸付加塩から出発する場合には、{b}の
場合と同様に第三塩基の存在下で加熱する。‘a}、‘
bー又は{dによって得られた、R,′又はR2′が水
素原子を表わす化合物は、引続いて○−アルキル化を行
うことにより一般式1の最終生成物に変換しなければな
らない。アルキル化は有利に相当するR,一なし、しR
2−ハロゲン化物又は−トシラートを用いて自体公知の
方法で行われる。ハロゲン化物としては塩化物、臭化物
及び沃化物が適する。アルキル化を行うためにはヒドロ
キシ化合物を例えば極性溶剤中に溶かし、塩基の存在下
でアルキル化剤と共に30〜150qoの温度に加熱す
る。塩基としては例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウ
ム、アルカリアルコラート例えばナトリウムェチラート
、カリウム−ブチラート及びカリウム−第三一ブチラー
トが適する。適性溶剤としてはジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ケトン例えばアセトン及びメチルイソブチルケトン
、並びにアルコール例えばエタノール、プタノール及び
第三一ブタノールが該当する。ィミノ基のアルキル化、
アリール化又はアシル化も同様に公知法で行われる。
流入が阻止される様に、真空中で作業するのが有利であ
る。相当する酸付加塩から出発する場合には、{b}の
場合と同様に第三塩基の存在下で加熱する。‘a}、‘
bー又は{dによって得られた、R,′又はR2′が水
素原子を表わす化合物は、引続いて○−アルキル化を行
うことにより一般式1の最終生成物に変換しなければな
らない。アルキル化は有利に相当するR,一なし、しR
2−ハロゲン化物又は−トシラートを用いて自体公知の
方法で行われる。ハロゲン化物としては塩化物、臭化物
及び沃化物が適する。アルキル化を行うためにはヒドロ
キシ化合物を例えば極性溶剤中に溶かし、塩基の存在下
でアルキル化剤と共に30〜150qoの温度に加熱す
る。塩基としては例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウ
ム、アルカリアルコラート例えばナトリウムェチラート
、カリウム−ブチラート及びカリウム−第三一ブチラー
トが適する。適性溶剤としてはジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ケトン例えばアセトン及びメチルイソブチルケトン
、並びにアルコール例えばエタノール、プタノール及び
第三一ブタノールが該当する。ィミノ基のアルキル化、
アリール化又はアシル化も同様に公知法で行われる。
すなわちィミノ化合物(R4=H)を極性溶剤中に溶か
し、塩形成剤の存在下でハロゲン化アルキル、ハロゲン
化アリール又はハロゲン化アシルと共に約40〜150
qoに加熱する。極性溶剤としてはジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ケトン例えばアセトン及びメチルイソブチルケ
トン、並びにアルコール例えばエタノール及びブタ/ー
ルを、使用することが出来る。適当な塩形成剤は例えば
水素化ナトリウム、炭酸カリウム、アルカリアルコラー
ト例えばナトリウムェチラート、カリウム−第三一ブチ
ラート等である。ハロゲンアリール、例えばヨードベン
ゾールとの反応は溶剤なしでも、有利に銅粉末の存在下
で、行うことが出来る。カルボニル酸素の硫黄との置換
は、この種の化合物のために文献に記述されているのと
同じ方法で行われる(J.W.シエーレン(Schee
ren)、P.日.J.オームス(0hms)、R.J
.F.ニヴアード(Nivard)、シンテシス(S肌
thesis)1973王149〜151頁)。この目
的のためには溶剤又は溶剤混合物中で多硫化物例えば五
硫化燐を塩基の存在下で使用するのが適する。反応に懸
濁液中で行うことも出来る。適当な溶剤ないいま懸濁剤
は例えばアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーナル、グリコールジメチルェーテルである。塩基
としては炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等が適する
。反応は30〜1200Cにおいて3〜24時間後に終
了する。式0、m及びWの出発化合物も同様に公知法に
より、例えば下記の方法で製造することが出来る。
し、塩形成剤の存在下でハロゲン化アルキル、ハロゲン
化アリール又はハロゲン化アシルと共に約40〜150
qoに加熱する。極性溶剤としてはジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ケトン例えばアセトン及びメチルイソブチルケ
トン、並びにアルコール例えばエタノール及びブタ/ー
ルを、使用することが出来る。適当な塩形成剤は例えば
水素化ナトリウム、炭酸カリウム、アルカリアルコラー
ト例えばナトリウムェチラート、カリウム−第三一ブチ
ラート等である。ハロゲンアリール、例えばヨードベン
ゾールとの反応は溶剤なしでも、有利に銅粉末の存在下
で、行うことが出来る。カルボニル酸素の硫黄との置換
は、この種の化合物のために文献に記述されているのと
同じ方法で行われる(J.W.シエーレン(Schee
ren)、P.日.J.オームス(0hms)、R.J
.F.ニヴアード(Nivard)、シンテシス(S肌
thesis)1973王149〜151頁)。この目
的のためには溶剤又は溶剤混合物中で多硫化物例えば五
硫化燐を塩基の存在下で使用するのが適する。反応に懸
濁液中で行うことも出来る。適当な溶剤ないいま懸濁剤
は例えばアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーナル、グリコールジメチルェーテルである。塩基
としては炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等が適する
。反応は30〜1200Cにおいて3〜24時間後に終
了する。式0、m及びWの出発化合物も同様に公知法に
より、例えば下記の方法で製造することが出来る。
R,′、R2′、R3により置換されているペンズアル
デヒドから出発し、マロン酸ジアルキルェステルと反応
させて相当するペンザルーマロン酸ジアルキルェステル
を製造する。
デヒドから出発し、マロン酸ジアルキルェステルと反応
させて相当するペンザルーマロン酸ジアルキルェステル
を製造する。
置換ペンザルーマロン酸ジアルキルェステルをテトラメ
チルグアニジンの存在下でニトロメタンと反応させて1
一(置換フェニル)一2−ニトロエチルマロン酸ジアル
キルェステルを生成させ、引続いてラネーニツケルを使
用して加圧水素添加することにより一般式0の4一(置
換フェニル)−2ーピロリドン−3−カルボン酸アルキ
ルヱステルを生成させることが出来る。一般式mの3−
(置換フェニル)−4−アミノ−酪酸アルキルェステル
を製造するためには、ベンザルーマロン酸ジェステルを
含水アルコール中で60qCへの加熱下でシアン化カリ
ウムと反応させることによりその二重結合にHCNを付
加し、同時にカルブアルコキシ基を分離し、更にシアノ
化合物を二酸化白金の存在下で加圧下で水素添加する。
チルグアニジンの存在下でニトロメタンと反応させて1
一(置換フェニル)一2−ニトロエチルマロン酸ジアル
キルェステルを生成させ、引続いてラネーニツケルを使
用して加圧水素添加することにより一般式0の4一(置
換フェニル)−2ーピロリドン−3−カルボン酸アルキ
ルヱステルを生成させることが出来る。一般式mの3−
(置換フェニル)−4−アミノ−酪酸アルキルェステル
を製造するためには、ベンザルーマロン酸ジェステルを
含水アルコール中で60qCへの加熱下でシアン化カリ
ウムと反応させることによりその二重結合にHCNを付
加し、同時にカルブアルコキシ基を分離し、更にシアノ
化合物を二酸化白金の存在下で加圧下で水素添加する。
HCN付加を沸騰熱下で行う場合には、一般式Nの相当
する酪酸が生成する。式0、m及びWの化合物を製造す
るための置換ペンズアルデヒドの反応は下記の反応図に
より示される:以下にこれらの方法を詳述する。
する酪酸が生成する。式0、m及びWの化合物を製造す
るための置換ペンズアルデヒドの反応は下記の反応図に
より示される:以下にこれらの方法を詳述する。
下記において常法による精製処理というのは記載の溶剤
での抽出、飽和食塩水での有機相の洗浄、無水硫酸カル
シウム上での乾燥及び40〜45q0の格温度における
真空中での蒸発濃縮である。
での抽出、飽和食塩水での有機相の洗浄、無水硫酸カル
シウム上での乾燥及び40〜45q0の格温度における
真空中での蒸発濃縮である。
酸又は苛性アルカリ溶液での洗浄の如き有機相の付加的
の処理は特別に記述される。記載の収率値は最適の値で
はない。
の処理は特別に記述される。記載の収率値は最適の値で
はない。
最適の値を出すための実験が行われたのではない。温度
は。
は。
Cで記載されている。粗生成物と記載されている物質は
少なくとも2システムの薄層クロマトグラフィーにより
又赤外線スペクトルを用いて試験され十分な純度である
ことが示された。
少なくとも2システムの薄層クロマトグラフィーにより
又赤外線スペクトルを用いて試験され十分な純度である
ことが示された。
すべて他の物質は分析級である(C−、H−、N−定量
:赤外線−、紫外線−及び核磁気共鳴スペクトル:薄層
クロマトグラフィー;一部滴定及びガスクロマトグラフ
ィ‐)。コフラーバンク(Koflerbank)で測
定された融点の後に、再結晶のために使用された溶剤が
( )内に記載されている。溶剤の記載には下記の省略
記号を使用する:DMF ジメチルホルムアミドEE
酢酸エチル DIP ジイソプロピルエーテル W水 AcOH 氷酢酸 BZI ベンゾール 一般式ロの化合物は例えば以下の様にして製造すること
が出来る:風 ペンザルーマロン酸ジェチルェステル相
当する置換ペンジルアルデヒド1モルをベンゾール1そ
中のマロン酸ジェチルェステル(1モル)160夕、氷
酢酸30羽及びピベリジン3の‘と共に水滴分離器に水
1モルが分離されるまで加熱する。
:赤外線−、紫外線−及び核磁気共鳴スペクトル:薄層
クロマトグラフィー;一部滴定及びガスクロマトグラフ
ィ‐)。コフラーバンク(Koflerbank)で測
定された融点の後に、再結晶のために使用された溶剤が
( )内に記載されている。溶剤の記載には下記の省略
記号を使用する:DMF ジメチルホルムアミドEE
酢酸エチル DIP ジイソプロピルエーテル W水 AcOH 氷酢酸 BZI ベンゾール 一般式ロの化合物は例えば以下の様にして製造すること
が出来る:風 ペンザルーマロン酸ジェチルェステル相
当する置換ペンジルアルデヒド1モルをベンゾール1そ
中のマロン酸ジェチルェステル(1モル)160夕、氷
酢酸30羽及びピベリジン3の‘と共に水滴分離器に水
1モルが分離されるまで加熱する。
ベンゾール溶液を常法で精製処理をする。文献中にまだ
記載されていない3−イソブトキシー4ーメトキシーベ
ンズアルデヒドは以下の様にして製造される:3ーヒド
ロキシ−4−メトキシーベンズアルデヒド(710ミリ
モル)1082をエタノール250の‘中の水酸化カリ
ウム(723ミリモル)40.5夕及び臭化ィソブチル
(875ミリモル)120夕と共に縄拝しながら2曲時
間沸騰加熱する。
記載されていない3−イソブトキシー4ーメトキシーベ
ンズアルデヒドは以下の様にして製造される:3ーヒド
ロキシ−4−メトキシーベンズアルデヒド(710ミリ
モル)1082をエタノール250の‘中の水酸化カリ
ウム(723ミリモル)40.5夕及び臭化ィソブチル
(875ミリモル)120夕と共に縄拝しながら2曲時
間沸騰加熱する。
真空中でアルコールを蒸留除去した後で残澄を常法で酢
酸ェステルで精製処理するがその場合付加的に2規定の
苛性ソーダ溶液で洗浄する。アルカリ性抽出物を酸性化
することにより出発物質35夕を回収する。3−ィソプ
トキシ−4−メトキシーベンズアルデヒドの収量は80
夕である。
酸ェステルで精製処理するがその場合付加的に2規定の
苛性ソーダ溶液で洗浄する。アルカリ性抽出物を酸性化
することにより出発物質35夕を回収する。3−ィソプ
トキシ−4−メトキシーベンズアルデヒドの収量は80
夕である。
融点:7び(ヘプタン)下記の表中にいくつかの化合物
の収率及び沸点ないし鷲艦点が記載されている。
の収率及び沸点ないし鷲艦点が記載されている。
A)
‐だ)DO=薄層‐フロマトグラフィ−
1Rニラ赤外線スペクトル
{B’ 1一(置換フェニル)−2ーニトロェチル−マ
ロン酸ジェチルヱステル相当するペンザルマロン酸ジェ
チルェステル(A項参照)500ミリモルをニトロメタ
ン250地中に溶かし、燈拝しながら00においてテト
ラメチルグアニジン12.7の【と混合する。
ロン酸ジェチルヱステル相当するペンザルマロン酸ジェ
チルェステル(A項参照)500ミリモルをニトロメタ
ン250地中に溶かし、燈拝しながら00においてテト
ラメチルグアニジン12.7の【と混合する。
発熱反応が減衰した後でなお1錨時間室温において鷹拝
する。反応混合物を常法で酢酸ェステルで精製処理する
が、付加的に2規定の塩酸で洗浄する。例Bb及び敗の
ために必要なァセトキシーメトキシ−ペンザルーマロン
ェステルは下記の様に製造される:(3ーヒドロキシー
4ーメトキシーベンザル)ーマロン酸ジェチルェステル
(510ミリモル)(Ae参照)150夕をピリジン4
50の‘中に溶かし、氷冷下で無水酢酸(604ミリモ
ル)57奴を滴加する。
する。反応混合物を常法で酢酸ェステルで精製処理する
が、付加的に2規定の塩酸で洗浄する。例Bb及び敗の
ために必要なァセトキシーメトキシ−ペンザルーマロン
ェステルは下記の様に製造される:(3ーヒドロキシー
4ーメトキシーベンザル)ーマロン酸ジェチルェステル
(510ミリモル)(Ae参照)150夕をピリジン4
50の‘中に溶かし、氷冷下で無水酢酸(604ミリモ
ル)57奴を滴加する。
室温において1斑時間放置した後で真空中でピリジンを
除去する。酢酸ェステルで常法による精製処理をするこ
とにより(3−アセトキシー4ーメトキシ−ペンザル)
ーマロン酸ジェチルェステル163夕(理論値の95%
)を得る。融点:75〜77o(ジィソプロピルェープ
ル)。同様にして(4ーヒドロキシ−3ーメトキシーベ
ンザル)−マロン酸塩(Af参照)を相当する4ーアセ
トキシー3−メトキシ−化合物にアセチル化する。
除去する。酢酸ェステルで常法による精製処理をするこ
とにより(3−アセトキシー4ーメトキシ−ペンザル)
ーマロン酸ジェチルェステル163夕(理論値の95%
)を得る。融点:75〜77o(ジィソプロピルェープ
ル)。同様にして(4ーヒドロキシ−3ーメトキシーベ
ンザル)−マロン酸塩(Af参照)を相当する4ーアセ
トキシー3−メトキシ−化合物にアセチル化する。
収率:95%。融点:51o(ジイソプロピルェーテル
一石油エーテル)。B) ‘C)4−(置換フェニル)−2−ピロリドン−3−カ
ルボン酸−エチルェステル(0)相当する1−フェニル
−2ーニトローエチルーマロン酸ジェチルェステル30
0ミリモルをメタノール700私中に溶かし、ラネーニ
ッケル約10夕を用い60o及び95気圧において水素
3モルが受容されるまで水素添加する。
一石油エーテル)。B) ‘C)4−(置換フェニル)−2−ピロリドン−3−カ
ルボン酸−エチルェステル(0)相当する1−フェニル
−2ーニトローエチルーマロン酸ジェチルェステル30
0ミリモルをメタノール700私中に溶かし、ラネーニ
ッケル約10夕を用い60o及び95気圧において水素
3モルが受容されるまで水素添加する。
引続いて触媒を猿則し、真空中で濃縮し、油状残澄を再
結晶する。C) 一般式mの化合物は例えば下記の方法で製造することが
出来る:血 3一(置換フェニル)−3−シアノーブロ
ピオン酸−エチルェステル相当するペンザルーマロンェ
ステル(A項参照)100ミリモルをエタノール180
凧【中で水25必中のシアン化カリウム(100ミリモ
ル)6.5夕の溶液と混合し、60oにおいて7時間加
熱する。
結晶する。C) 一般式mの化合物は例えば下記の方法で製造することが
出来る:血 3一(置換フェニル)−3−シアノーブロ
ピオン酸−エチルェステル相当するペンザルーマロンェ
ステル(A項参照)100ミリモルをエタノール180
凧【中で水25必中のシアン化カリウム(100ミリモ
ル)6.5夕の溶液と混合し、60oにおいて7時間加
熱する。
室温において1曲時間放置した後で真空中で溶剤を除去
し、残澄を常法で酢酸ヱステルにより精製処理するが、
その際1規定の苛性ソーダ溶液での抽出処理も包含され
る。苛性ソーダ溶液抽出物を場合により酸性化すること
により相当する3ーフヱニルー2ーシアノープロピオン
酸−エチルェステルを得ることが出来る。D) {E’ 3一(置換フェニル)−4ーアミノー酪酸−エ
チルェステル−塩酸塩(m)3ーフェニルー3−シアノ
ープロピオン酸エチルヱステル50ミリモルを氷酢酸6
0奴【中で酸化白金1夕を触媒とし室温及び100気圧
において水素2モルが受容されるまで水素添加し、触媒
を吸引猿過し、2規定の合メタノール塩酸25泌を添加
した後で真空中で小容量に蒸発濃縮する。
し、残澄を常法で酢酸ヱステルにより精製処理するが、
その際1規定の苛性ソーダ溶液での抽出処理も包含され
る。苛性ソーダ溶液抽出物を場合により酸性化すること
により相当する3ーフヱニルー2ーシアノープロピオン
酸−エチルェステルを得ることが出来る。D) {E’ 3一(置換フェニル)−4ーアミノー酪酸−エ
チルェステル−塩酸塩(m)3ーフェニルー3−シアノ
ープロピオン酸エチルヱステル50ミリモルを氷酢酸6
0奴【中で酸化白金1夕を触媒とし室温及び100気圧
において水素2モルが受容されるまで水素添加し、触媒
を吸引猿過し、2規定の合メタノール塩酸25泌を添加
した後で真空中で小容量に蒸発濃縮する。
E〉
一般式Wの化合物は以下の様にして製造することが出来
る:側 3−(置換フヱニル)−3−シアノープロピオ
ン酸相当する置換ペンザルマロンェステル(A項参照)
をD項に記載と同じ量比及び同じ反応時間ではあるが沸
騰熱下でシアン化カリウムと反応させることにより、3
一(置換フェニル)一3ーシアノープロピオン酸を得る
。
る:側 3−(置換フヱニル)−3−シアノープロピオ
ン酸相当する置換ペンザルマロンェステル(A項参照)
をD項に記載と同じ量比及び同じ反応時間ではあるが沸
騰熱下でシアン化カリウムと反応させることにより、3
一(置換フェニル)一3ーシアノープロピオン酸を得る
。
これは溶剤を蒸発除去し、残澄を水中に入れ、酢酸ェス
テルで洗浄し、含水相を酸性化することにより単離され
、結晶化により精製される。F) G)3−(置換フェニル)−4−アミノー酪酸一塩酸塩
(W)3−(置換フェニル)一3ーシアノ−プロピオン
酸(F項参照)100ミリモルを氷酢酸200必中で濃
塩酸9.5の‘を添加し二酸化白金3夕を触媒とし室温
及び10疎気圧において水素2モルが受容されるまで水
素添加する。
テルで洗浄し、含水相を酸性化することにより単離され
、結晶化により精製される。F) G)3−(置換フェニル)−4−アミノー酪酸一塩酸塩
(W)3−(置換フェニル)一3ーシアノ−プロピオン
酸(F項参照)100ミリモルを氷酢酸200必中で濃
塩酸9.5の‘を添加し二酸化白金3夕を触媒とし室温
及び10疎気圧において水素2モルが受容されるまで水
素添加する。
触媒を櫨別し、真空中で蒸発濃縮する。大抵は油状の浅
漬を縞鼠化することにより3−(置換フェニル)−4‐
アミノー酪酸−塩酸塩を得る。G) 例1 4一(置換フェニル)−2ーピロリドン 4一(置換フェニル)−2−ピロリドン−3−カルボン
酸エチルェステル(C項による)50ミリモルをエタノ
ール200の‘及び1規定の苛性ソーダ溶液60机【と
共に1時間沸騰加熱する。
漬を縞鼠化することにより3−(置換フェニル)−4‐
アミノー酪酸−塩酸塩を得る。G) 例1 4一(置換フェニル)−2ーピロリドン 4一(置換フェニル)−2−ピロリドン−3−カルボン
酸エチルェステル(C項による)50ミリモルをエタノ
ール200の‘及び1規定の苛性ソーダ溶液60机【と
共に1時間沸騰加熱する。
真空中で溶剤を蒸留除去した後で残澄を酢酸ヱステル中
にとり、場合により幾分かの苛性ソーダ溶液を添加して
水で抽出する。含水相を食塩飽和させた後5規定の塩酸
で4一(置換フェニル)−2ーピロリドンー3−カルボ
ン酸を沈殿させる。冷糧下でいまらく放置した後で吸引
猿過し、小量の氷水で洗浄する。C02発生が終了する
まで真空中で200qoに加熱することによりピロリド
ンーカルボン酸の脱カルボキシルが行われる。残澄を場
合によりカーボンを添加して再結晶させる。米)桂酸ゲ
ル上でク:コマトグラフイ−(Bzl「AcOH 日2
0.10:10:1).同時に4−ァセトキシ基を鹸化
(la)4一(3・4一ジメトキシーフエニル)一2−
ピロリドン。
にとり、場合により幾分かの苛性ソーダ溶液を添加して
水で抽出する。含水相を食塩飽和させた後5規定の塩酸
で4一(置換フェニル)−2ーピロリドンー3−カルボ
ン酸を沈殿させる。冷糧下でいまらく放置した後で吸引
猿過し、小量の氷水で洗浄する。C02発生が終了する
まで真空中で200qoに加熱することによりピロリド
ンーカルボン酸の脱カルボキシルが行われる。残澄を場
合によりカーボンを添加して再結晶させる。米)桂酸ゲ
ル上でク:コマトグラフイ−(Bzl「AcOH 日2
0.10:10:1).同時に4−ァセトキシ基を鹸化
(la)4一(3・4一ジメトキシーフエニル)一2−
ピロリドン。
(lb)4一(3−ヒドロキシ−4−メトキシーフエニ
ル)一2−ピロリドン。
ル)一2−ピロリドン。
(lc)4一(4ーヒドロキシー3ーメトキシーフエニ
ル)−2−ピロリドン。
ル)−2−ピロリドン。
(ld)4一(2・3・4−トリメトキシーフエニル)
−2−ピロリドン。
−2−ピロリドン。
(le)4一(3・4・6ートリメトキシーフエニル)
−2ーピロリドン。
−2ーピロリドン。
例2
4−(置換フヱニル)一2−ピロリドン
方法 1
3−(置換フェニル)−4−アミノー酪酸−エチルェス
テルー塩酸塩10ミリモルをジメチルホルムアミド15
の‘中に溶かし、トリェチルアミン(10ミリモル)1
.4叫と混合し、7030において6時間加熱する。
テルー塩酸塩10ミリモルをジメチルホルムアミド15
の‘中に溶かし、トリェチルアミン(10ミリモル)1
.4叫と混合し、7030において6時間加熱する。
真空中で蒸発濃縮した後で常法で酢酸ェステルにより精
製処理をする。方法 0 ベンゾール50地中の3一(置換フェニル)−4ーアミ
ノー酪酸ーェチルェステルー塩酸塩10ミリモルとトリ
エチルアミン(10ミリモル)1.4泌とを蝿拝しなが
らニンヒドリン反応が陰性になるまで沸騰加熱し、常法
で精製処理する。
製処理をする。方法 0 ベンゾール50地中の3一(置換フェニル)−4ーアミ
ノー酪酸ーェチルェステルー塩酸塩10ミリモルとトリ
エチルアミン(10ミリモル)1.4泌とを蝿拝しなが
らニンヒドリン反応が陰性になるまで沸騰加熱し、常法
で精製処理する。
(彼)4一(3・4−ジメトキシーフエニル)−2−ピ
ロリドン。
ロリドン。
(が)4−(3・4ーメチレンジオキシーフェニル)−
2−ピロリドン。
2−ピロリドン。
(次)4−(3・4ーエチレンジオキシーフエニル)一
2−ピロリドン。
2−ピロリドン。
(2d)4一(3ーイソブトキシ−4ーメトキシー.フ
エニル)一2−ピロリドン。
エニル)一2−ピロリドン。
*(彼)4−(4ーヒドロキシー3ーメトキ
シーフエニル)−2ーピロリドン。(a)4一(3・4
・5ートリメトキシーフエニル)一2ーピロリドン。
シーフエニル)−2ーピロリドン。(a)4一(3・4
・5ートリメトキシーフエニル)一2ーピロリドン。
例3
4一(3・4一ジメトキシーフエニル)一2ーピロリド
ン4ーアミノー3一(3・4−ジメトキシーフエニル)
−酪酸−塩酸塩2.76夕をエタノール12の【中のト
リェチルアミン(10ミリモル)1.4の‘と混合し、
引続いてニンヒドリンでの点滴試験により遊離アミノ酸
が検出され得なくなるまで真空(0.4〜0.6側Hg
)中で200〜210午0において加熱する。
ン4ーアミノー3一(3・4−ジメトキシーフエニル)
−酪酸−塩酸塩2.76夕をエタノール12の【中のト
リェチルアミン(10ミリモル)1.4の‘と混合し、
引続いてニンヒドリンでの点滴試験により遊離アミノ酸
が検出され得なくなるまで真空(0.4〜0.6側Hg
)中で200〜210午0において加熱する。
残澄を酢酸ェステルで常法により精製処理することによ
り4−(3・4一ジメトキシーフエニル)−2−ピロリ
ドン1.26夕(理論値の57%)が得られる。融点:
120oo(水)。例4 4一(アルコキシーメトキシーフヱニル)一2ーピロリ
ドン方法 A 4−(ヒドロキシーアルコキシーフエニル)一2−ピロ
リドン10ミリモルをジメチルホルムアミド5の【中に
溶かし、氷冷下で50%の水素化ナトリウムーパラフィ
ン油−懸濁液(10.5ミリモル)500の9と混合し
、蝿拝しながら徐々に60午0に加熱する。
り4−(3・4一ジメトキシーフエニル)−2−ピロリ
ドン1.26夕(理論値の57%)が得られる。融点:
120oo(水)。例4 4一(アルコキシーメトキシーフヱニル)一2ーピロリ
ドン方法 A 4−(ヒドロキシーアルコキシーフエニル)一2−ピロ
リドン10ミリモルをジメチルホルムアミド5の【中に
溶かし、氷冷下で50%の水素化ナトリウムーパラフィ
ン油−懸濁液(10.5ミリモル)500の9と混合し
、蝿拝しながら徐々に60午0に加熱する。
水素発生が終了した後で、ジメチルホルムアミド3必中
の相当するRーハロゲン化物11ミリモル及び沃化ナト
リウム100の9を0℃において添加し、燈拝しながら
100qoにおいて3時間加熱する。引続いて溶剤を真
空中で蒸留除去し、残澄を常法で酢酸ェステルで精製処
理するがその場合2規定の苛性ソーダ溶液での抽出も行
う。方法 B ・ 4一(ヒドロキシーアルコキシーフエニル)−2ーピロ
リドン10ミリモル、相当するハロゲン化物11ミリモ
ル及び炭酸カリウム(10.5ミリモル)1.45夕を
アセトン30の【中で燭拝しながら3報時間沸騰加熱す
る。
の相当するRーハロゲン化物11ミリモル及び沃化ナト
リウム100の9を0℃において添加し、燈拝しながら
100qoにおいて3時間加熱する。引続いて溶剤を真
空中で蒸留除去し、残澄を常法で酢酸ェステルで精製処
理するがその場合2規定の苛性ソーダ溶液での抽出も行
う。方法 B ・ 4一(ヒドロキシーアルコキシーフエニル)−2ーピロ
リドン10ミリモル、相当するハロゲン化物11ミリモ
ル及び炭酸カリウム(10.5ミリモル)1.45夕を
アセトン30の【中で燭拝しながら3報時間沸騰加熱す
る。
無機塩を吸引櫨過し、真空下で蒸発濃縮した後で残留し
た残溝を方法Aの場合と同様に精製処理する。方法 C 4一(ヒドロキシーアルコキシーフエニル)一2ーピロ
リドン10ミリモルをブタノール中の0.5規定のナト
リウムブチラート溶液22の上中に溶かし、相当するハ
ロゲン化物11ミリモルと一緒に燈拝しながら1の時間
沸騰加熱する。
た残溝を方法Aの場合と同様に精製処理する。方法 C 4一(ヒドロキシーアルコキシーフエニル)一2ーピロ
リドン10ミリモルをブタノール中の0.5規定のナト
リウムブチラート溶液22の上中に溶かし、相当するハ
ロゲン化物11ミリモルと一緒に燈拝しながら1の時間
沸騰加熱する。
精製処理は方法Aの場合と同様に行う。*)DMロの代
りにへキサメチル燐酸トリァミドを使用米米)R−ハロ
ゲン化物の代りにトンラードを使用**〕K)Si02
上でクロマトクラフイ−,OH2022川アセトン(1
:1)の・りにへキサメチル隣酸ト}ァミドを使用由)
方法A.しかし出発物質として4−L3,4−ンヒドロ
キシーフェニル)−2−ピoリドンを使用(傘)4一(
3−エトキシ−4−メトキシーフエニル)一2ーピロリ
ドン。
りにへキサメチル燐酸トリァミドを使用米米)R−ハロ
ゲン化物の代りにトンラードを使用**〕K)Si02
上でクロマトクラフイ−,OH2022川アセトン(1
:1)の・りにへキサメチル隣酸ト}ァミドを使用由)
方法A.しかし出発物質として4−L3,4−ンヒドロ
キシーフェニル)−2−ピoリドンを使用(傘)4一(
3−エトキシ−4−メトキシーフエニル)一2ーピロリ
ドン。
(少)4−(3−プロポキシ−4−メトキシーフヱニル
)−2−ピ。
)−2−ピ。
リドン。(心)4−(3ーブトキシー4ーメトキシーフ
エニル)−2−ピロリドン。
エニル)−2−ピロリドン。
(4d)4−(3ーヘキシルオキシ−4−メトキシーフ
エニル)−2−ピロリドン。
エニル)−2−ピロリドン。
(唯)4−(3−イソプロポキシ−4−メトキシーフエ
ニル)−2ーピ。
ニル)−2ーピ。
リドン。(4f)4−(3一〔1ーメチループロポキシ
〕−4−メトキシーフエニル)−2−ピロリドン。
〕−4−メトキシーフエニル)−2−ピロリドン。
(略)4‐(3−イソブトキシ−4ーメトキシーフエニ
ル)一2ーピロリドン。(仙)4一(3ーアリルオキシ
−4−メトキシ−フエニル)−2ーピロリドン。
ル)一2ーピロリドン。(仙)4一(3ーアリルオキシ
−4−メトキシ−フエニル)−2ーピロリドン。
(4i)4−(3一〔3ーメチルー2ープテニルオキシ
〕一4ーメトキシーフエニル)−2−ピロリドン。
〕一4ーメトキシーフエニル)−2−ピロリドン。
(4k)4一(3ーメトキシメトキシー4ーメトキシー
フエニル)一2ーピロリドン。
フエニル)一2ーピロリドン。
(41)4−(3ージエチルアミノカルボニルメトキシ
ー4−メトキシーフエニル)一2ーピロリドン。
ー4−メトキシーフエニル)一2ーピロリドン。
(4m) 4−(3−〔2ーヒドロキシエトキシ〕−4
−メトキシーフエニル)−2ーピロリドン。
−メトキシーフエニル)−2ーピロリドン。
(4n)4一(3一〔2・2・2−トリフルオルエトキ
シ〕−4一メトキキシーフエニル)−2ーピロリドン。
シ〕−4一メトキキシーフエニル)−2ーピロリドン。
(少)4一(3−ペンジルオキシー4ーメトキシーフエ
ニル)一2ーピロリドン。(4p)4−(3−フエノキ
シー4ーメトキシーフエニル)−2−ピロリドン。
ニル)一2ーピロリドン。(4p)4−(3−フエノキ
シー4ーメトキシーフエニル)−2−ピロリドン。
(4q)4−(3ーメトキシー4ーエトキシーフエニル
)一2−ピ。
)一2−ピ。
リドン。(4r)4一(3−メトキシ−4−ブトキシー
フエニル)一2−ピロリドン。
フエニル)一2−ピロリドン。
(低)4−(3ーメトキシ−4−ジエチルアミノカルボ
ニルメトキシーフエニル)−2−ピロリドソ。
ニルメトキシーフエニル)−2−ピロリドソ。
(傘′)4−(3ーデシルオキシ−4−メトキシフエニ
ル)一2−ピロリドン。
ル)一2−ピロリドン。
(4b′)4−(3ーオクタデシルオキシ一4ーメトキ
シフエニル)一2−ピ。
シフエニル)一2−ピ。
リドン。(心′) 4一(3一(2−メチルブチル)−
オキシー4−メトキシフエニル)−2−ピロリドン。
オキシー4−メトキシフエニル)−2−ピロリドン。
(4が)4一(3−ネオベンチルオキシ−4ーメトキシ
フエニル)−2−ピロリドン。(蛤′) 4一(3ーイ
ソベンチルオキシ−4−メトキシフエニル)−2ーピロ
リドン。
フエニル)−2−ピロリドン。(蛤′) 4一(3ーイ
ソベンチルオキシ−4−メトキシフエニル)−2ーピロ
リドン。
(4r)4−(3一(2ープロピニル)−オキシ−2夕
4−メトキシフエニル)−2−ピロリドン。
4−メトキシフエニル)−2−ピロリドン。
(唆′)4一(3−シアノメチルオキシー4−メトキシ
フヱニル)−2−ピロリドン。(仇′)4一(3−シク
ロブチルオキシ−4−メトキシフエニル)一2ーピロリ
ドン。
フヱニル)−2−ピロリドン。(仇′)4一(3−シク
ロブチルオキシ−4−メトキシフエニル)一2ーピロリ
ドン。
30Qi′)4−(3ーシクoベンチルオキシ−4ーメ
トキシフエニル)一2ーピロリドン。
トキシフエニル)一2ーピロリドン。
QK)4−(3−シクロヘキシルオキシ−4−メトキシ
フエニル)一2−ピロリドン。
フエニル)一2−ピロリドン。
(41′) 4一(3−(3一メチルシクロベンチル)
3タ ーオキシ−4−メトキシフエニル)一2ーピロリ
ドン。
3タ ーオキシ−4−メトキシフエニル)一2ーピロリ
ドン。
(4m′)4−(3一(2一メチルシクロベンチル)ー
オキシー4ーメトキシフエニル)一2ーピロリドン。
オキシー4ーメトキシフエニル)一2ーピロリドン。
刈りn′)4‐(3−テトラヒドロチエニルー4ーメト
キシフエニル)−2ーピ。
キシフエニル)−2ーピ。
リドン。(心′) 4−(3−(3ーテトラヒドロフリ
ル)−オキシー4ーメトキシフエニル)一2ーピロリド
ン。
ル)−オキシー4ーメトキシフエニル)一2ーピロリド
ン。
(4p′)4−(3−シクロプロピルメチルオキシ−4
ーメトキシフエニル)−2−ピロリドン。
ーメトキシフエニル)−2−ピロリドン。
(4q′)4−(3ーシクロベンチルメチルオキシー4
ーメトキシフエニル)一2ーピロリドン。(4r′)4
一(3−〔2ーオキサーシクロベンチルオキシ〕一4ー
メトキシーフエニル)一2ーピロリドン。(低′)4−
(3ーメタリルオキシー4ーメトキシーフエニル)一2
−ピロリドン。
ーメトキシフエニル)一2ーピロリドン。(4r′)4
一(3−〔2ーオキサーシクロベンチルオキシ〕一4ー
メトキシーフエニル)一2ーピロリドン。(低′)4−
(3ーメタリルオキシー4ーメトキシーフエニル)一2
−ピロリドン。
Qt′)4−(4−プロピニルオキシ−3−メトキシー
フエニル)一2−ピロリドン。
フエニル)一2−ピロリドン。
(4u′)4一′(4−シクロベンチルオキシ−3−メ
トキシーフエニル)−2−ピロリドン。
トキシーフエニル)−2−ピロリドン。
(4v′)4一(314ージーエトキシーフエニル)−
2−ピロリドン。
2−ピロリドン。
QW)4一(3・4ージーイソブトキシーフエニル)一
2ーピロリドン。
2ーピロリドン。
化合物4v′及び4w′を製造するための出発物質(4
一〔3・4−ジヒドロキシーフエニル〕一2ーピロリド
ン)はジメチルェーテルlaから以下の様にして製造さ
れる。
一〔3・4−ジヒドロキシーフエニル〕一2ーピロリド
ン)はジメチルェーテルlaから以下の様にして製造さ
れる。
4−(3・4一ジメトキシーフエニル)一2−ピロリド
ン(20ミリモル)4.75夕を塩化メチレン130地
中に溶かし、湿気を遮断し蝿拝しながら塩化メチレン4
0の‘中に溶かした三臭化棚素(44ミリモル)11.
02と−80℃において一滴ずつ混合する。
ン(20ミリモル)4.75夕を塩化メチレン130地
中に溶かし、湿気を遮断し蝿拝しながら塩化メチレン4
0の‘中に溶かした三臭化棚素(44ミリモル)11.
02と−80℃において一滴ずつ混合する。
一晩の間に室温に昇温させ、水中に注入し、結晶沈殿物
を吸引濃過する。含水相を食塩で飽和した後で酢酸ェス
テルで抽出する。酢酸ェステル抽出物を蒸発濃縮し、銭
澄を結晶沈殿物と一緒に水から再結晶させる。融点20
9〜215qoの4一(314ージヒドロキシーフエニ
ル)一2ーピロリドン3.35夕を得る。例5 1一層襖−4一(3・4ージメトキシーフヱニル)−2
−ピロリドン【a) 4−(3・4−ジメトキシーフエ
ニル)−1−メチル−2−ピロリドン4−(3・4一ジ
メトキシーフエニル)旧ムーピロリドン(10ミリモル
)2.21夕をジメチルホルムアミド5必中に溶かし、
氷冷下に50%の水素化ナトリウムーパラフィン−懸濁
液(11ミリモル)530の9と混合し、燈拝しながら
徐々に6び0に加熱する。
を吸引濃過する。含水相を食塩で飽和した後で酢酸ェス
テルで抽出する。酢酸ェステル抽出物を蒸発濃縮し、銭
澄を結晶沈殿物と一緒に水から再結晶させる。融点20
9〜215qoの4一(314ージヒドロキシーフエニ
ル)一2ーピロリドン3.35夕を得る。例5 1一層襖−4一(3・4ージメトキシーフヱニル)−2
−ピロリドン【a) 4−(3・4−ジメトキシーフエ
ニル)−1−メチル−2−ピロリドン4−(3・4一ジ
メトキシーフエニル)旧ムーピロリドン(10ミリモル
)2.21夕をジメチルホルムアミド5必中に溶かし、
氷冷下に50%の水素化ナトリウムーパラフィン−懸濁
液(11ミリモル)530の9と混合し、燈拝しながら
徐々に6び0に加熱する。
水素発生が終了した後でジメチルホルムアミド5必中の
沃化メチル(11ミリモル)1.56夕を0℃において
滴加し、15分間50℃に加熱する。引続いて水中に注
入し、酢酸ェステルで常法により精製処理する。収量:
4−(3・4一ジメトキシーフェニル)−1ーメチルー
2ーピ0リドン1.3夕(理論値の55%)。
沃化メチル(11ミリモル)1.56夕を0℃において
滴加し、15分間50℃に加熱する。引続いて水中に注
入し、酢酸ェステルで常法により精製処理する。収量:
4−(3・4一ジメトキシーフェニル)−1ーメチルー
2ーピ0リドン1.3夕(理論値の55%)。
融点:69℃(ジィソプロピルェーテル)。
(b} 1ーアセチルー4−(3・4−ジメトキシーフ
エニル)一2ーピロリドン沃化メチルの代りに塩化アセ
チル(11ミリモル)0.86夕を使用して{a)項と
同機に作業し、1ーアセチルー4一(3・4一ジメトキ
シーフエニル)−2−ピロリドンを得る。
エニル)一2ーピロリドン沃化メチルの代りに塩化アセ
チル(11ミリモル)0.86夕を使用して{a)項と
同機に作業し、1ーアセチルー4一(3・4一ジメトキ
シーフエニル)−2−ピロリドンを得る。
収量:1.4夕(理論値の53%)。
融点:13yo(エタノール)。
【c)4−(3・4一ジメトキシーフエニル)−1−フ
エニルー2ーピロリドン4一(3・4−ジメトキシーフ
エニル)一2−ピロリドン(10ミリモル)2.21夕
、ヨードベンゾール(17ミリモル)3.5夕、炭酸カ
リウム(10.4ミリモル)1.44夕及び銅粉末10
0m9を180℃において2時間加熱する。
エニルー2ーピロリドン4一(3・4−ジメトキシーフ
エニル)一2−ピロリドン(10ミリモル)2.21夕
、ヨードベンゾール(17ミリモル)3.5夕、炭酸カ
リウム(10.4ミリモル)1.44夕及び銅粉末10
0m9を180℃において2時間加熱する。
酢酸ェステルで常法による精製処理を行い、4−(3・
4一ジメトキシーフエニル)−1ーフエニル−2−ピロ
リドン2.2夕(理論値の74%)を得る。融点:10
4℃(酢酸ェステル/ジィソプロピルェーブル)。【d
)4一(3・4−ジメトキシーフエニル)−2−ピ。
4一ジメトキシーフエニル)−1ーフエニル−2−ピロ
リドン2.2夕(理論値の74%)を得る。融点:10
4℃(酢酸ェステル/ジィソプロピルェーブル)。【d
)4一(3・4−ジメトキシーフエニル)−2−ピ。
リドンー1ーアセトアミド溶剤としてへキサメチル燐酸
トリアミド5Mを使用する他は(母)と同機に作業して
、4一(3・4一ジメトキシーフエニル)−2ーピロリ
ドンのNa塩を製造し、クロルァセトアミド(10ミリ
モル)0.処夕と0℃において混合し、70〜90℃に
おいて4時間加熱し、冷却し、水で稀釈し、酢酸ェステ
ルで常法により精製処理をし、その場合に2規定の苛性
ソーダ溶液での抽出処理も包含する。
トリアミド5Mを使用する他は(母)と同機に作業して
、4一(3・4一ジメトキシーフエニル)−2ーピロリ
ドンのNa塩を製造し、クロルァセトアミド(10ミリ
モル)0.処夕と0℃において混合し、70〜90℃に
おいて4時間加熱し、冷却し、水で稀釈し、酢酸ェステ
ルで常法により精製処理をし、その場合に2規定の苛性
ソーダ溶液での抽出処理も包含する。
収量:0.64夕(理論値の23%)
融点:1620(エタノール/DIP)。
例6
4−(3・4一ジメトキシーフエニル)ーピ0リジンー
2−チオン4一(3・4一ジメトキシーフエニル)一2
ーピロリドン(9ミリモル)1.灘夕と五硫化燐(5.
4ミリモル)5.4夕とをアセトニトリル9の【とグリ
コールジメチルェーテル9の‘との混合物中に懸濁させ
る。
2−チオン4一(3・4一ジメトキシーフエニル)一2
ーピロリドン(9ミリモル)1.灘夕と五硫化燐(5.
4ミリモル)5.4夕とをアセトニトリル9の【とグリ
コールジメチルェーテル9の‘との混合物中に懸濁させ
る。
室温において蝿拝しながら炭酸水素ナトリウム(18ミ
リモル)1.4夕を小量ずつ添加する。1.母音間の間
後燈拝する中に懸濁液ははじめて溶液に移行し、その後
間もなく所望の4−(3・4一ジメトキシーフエニル)
−ピロリジン−2ーチオンが晶出する。
リモル)1.4夕を小量ずつ添加する。1.母音間の間
後燈拝する中に懸濁液ははじめて溶液に移行し、その後
間もなく所望の4−(3・4一ジメトキシーフエニル)
−ピロリジン−2ーチオンが晶出する。
氷水中に注入し、吸引猿過する。収量:1.57(理論
値の78%)。
値の78%)。
融点:151〜15〆0(ェタノ−ル)。
同様にして、
4−(3ーイソブトキシー4ーメトキシーフエ「ニル)
ーピロリジン−2ーチオン(段)及び 4−(3ーシクロベンチルオキシー4ーメトキシーフヱ
ニル)ーピロリジン−2ーチオン(敬)。
ーピロリジン−2ーチオン(段)及び 4−(3ーシクロベンチルオキシー4ーメトキシーフヱ
ニル)ーピロリジン−2ーチオン(敬)。
が製造される。
例7
4一(3・4−ジメトキシーフエニル)一2ーピ。
リドン 20雌乳
糖 65.5の9とう
もろこし澱粉 32.2倣ポリー
N−ビニルピロリドン 2.0倣ステア
リン酸マグネシウム 0.3のo120
.0雌を相互に均質に混合し、前もって顎粒状化するこ
となく120の9重量の割線付き錠剤に圧搾する。
糖 65.5の9とう
もろこし澱粉 32.2倣ポリー
N−ビニルピロリドン 2.0倣ステア
リン酸マグネシウム 0.3のo120
.0雌を相互に均質に混合し、前もって顎粒状化するこ
となく120の9重量の割線付き錠剤に圧搾する。
例8例7と同機の方法で、
4一(3−シクロベンチルオキシ一4−メトキシーフエ
ニル)−2ーピロリドン 5紬乳 糖
105柵とうもろこし澱粉
8のoステアリン酸マグネシウ
ム 0.5の9アエロシル(Aeros
il) 0.5の9タルク
1.0の9120.0
の9を最終重量120の9の錠剤に圧搾する。
ニル)−2ーピロリドン 5紬乳 糖
105柵とうもろこし澱粉
8のoステアリン酸マグネシウ
ム 0.5の9アエロシル(Aeros
il) 0.5の9タルク
1.0の9120.0
の9を最終重量120の9の錠剤に圧搾する。
例9
4一(3−イソブチルオキシ−4ーメトキシーフェニル
)一2ーピロリドン5のoをヒマシ油/安息香酸ペンジ
ル(4:6)2の【中に溶かす。
)一2ーピロリドン5のoをヒマシ油/安息香酸ペンジ
ル(4:6)2の【中に溶かす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1及びR_2は同じものか又は異なるもの
であり、1個以上のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カル
ボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カ
ルボキシアミド基又は置換されていてもよいアミノ基に
より置換されている18個までの炭素原子を有する炭化
水素又は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
すか、又はR_1とR_2とが共同で1〜3個の炭素原
子を有するアルキレン基を表わし、R_3は水素原子又
はメトキシ基を表わし、R_4は水素原子を表わし、X
は酸素原子を表わす〕のラセミ又は光学活性4−(ポリ
アルコキシ−フエニル)−2−ピロリドンを製造するに
当り、一般式II:▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1、R_2及びR_3は上記のものを表わ
し、Rは低級アルキル基を表わす〕の4−(置換フエニ
ル)−2−ピロリドン−3−カルボン酸アルキルエステ
ルを自体公知の方法で鹸化し、脱カルボキシルを行い、
又光学活性化合物のラセミ型が生成した場合には、これ
を場合によりラセミ分割することを特徴とする4−(ポ
リアルコキシ−フエニル)−2−ピロリドンの製法。 2 一般式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1及びR_2は同じものか又は異なるもの
であり、1個以上のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カル
ボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カ
ルボキシアミド基又は置換されていてもよいアミノ基に
より置換されている18個までの炭素原子を有する炭化
水素基又は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表
わすか、又はR_1とR_2とが共同で1〜3個の炭素
原子を有するアルキレン基を表わし、R_3は水素原子
又はメトキシ基を表わし、R_4は水素原子を表わし、
Xは酸素原子を表わす〕のラセミ又は光学活性4−(ポ
リアルコキシ−フエニル)−2−ピロリドンを製造する
に当り、一般式II:▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_3は上記のものを表わし、Rは低級アルキ
ル基を表わす〕の4−(置換フエニル)−2−ピロリド
ン−3−カルボン酸アルキルエステルを自体公知の方法
で鹸化し、脱カルボキシルを行い、次いで遊離ヒドロキ
シ基をアルキル化又はアリール化し、又光学活性化合物
のラセミ型が生成した場合には、これを場合によりラセ
ミ分割することを特徴とする4−(ポリアルコキシ−フ
エニル)−2−ピロリドンの製法。 3 一般式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1及びR_2は同じものか又は異なるもの
であり、1個以上のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カル
ボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カ
ルボキシアミド基又は置換されていてもよいアミノ基に
より置換されている18個までの炭素原子を有する炭化
水素基又は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表
わすか、又はR_1とR_2とが共同で1〜3個の炭素
原子を有するアルキレン基を表わし、R_3は水素原子
又はメトキシ基を表わし、R_4はアルキル基、アリー
ル基又はアシル基を表わし、Xは酸素原子を表わす〕の
ラセミ又は光学活性4−(ポリアルコキシ−フエニル)
−2−ピロリドンを製造するに当り、一般式II:▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1、R_2及びR_3は上記のものを表わ
し、Rは低級アルキルを表わす〕の4−(置換フエニル
)−2−ピロリドン−3−カルボン酸アルキルエステル
を自体公知の方法で鹸化し、脱カルボキシルを行い、次
いでイミノ基(NH)をアルキル化、アリール化又はア
シル化し、又光学活性化合物のラセミ型が生成した場合
には、これを場合によりラセミ分割することを特徴とす
る4−(ポリアルコキシ−フエニル)−2−ピロリドン
の製法。 4 一般式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1及びR_2は同じものか又は異なるもの
であり、1個以上のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カル
ボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カ
ルボキシアミド基又は置換されていてもよいアミノ基に
より置換されている18個までの炭素原子を有する炭化
水素基又は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表
わすか、又はR_1とR_2とが共同で1〜3個の炭素
原子を有するアルキレン基を表わし、R_3は水素原子
又はメトキシ基を表わし、R_4は水素原子を表わし、
Xは硫黄原子を表わす〕のラセミ又は光学活性4−(ポ
リアルコキシ−フエニル)−2−ピロリドンを製造する
に当り、一般式II:▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1、R_2及びR_3は上記のものを表わ
し、Rは低級アルキル基を表わす〕の4−(置換フエニ
ル)−2−ピロリドン−3−カルボン酸アルキルエステ
ルを自体公知の方法で鹸化し、脱カルボキシルを行い、
次いでカルボニル酸素を硫黄と置換し、又光学活性化合
物のラセミ型が生成した場合には、これを場合によりラ
セミ分割することを特徴とする4−(ポリアルコキシ−
フエニル)−2−ピロリドンの製法。 5 一般式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1及びR_2は同じものか又は異なるもの
であり、1個以上のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カル
ボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カ
ルボキシアミド基又は置換されていてもよいアミノ基に
より置換されている18個までの炭素原子を有する炭化
水素基又は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表
わすか、又はR_1とR_2とが共同で1〜3個の炭素
原子を有するアルキレン基を表わし、R_3は水素原子
又はメトキシ基を表わし、R_4はアルキル基、アリー
ル基又はアシル基を表わし、Xは硫黄原子を表わす〕の
ラセミ又は光学活性4−(ポリアルコキシ−フエニル)
−2−ピロリドンを製造するに当り、一般式II:▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1、R_2及びR_3は上記のものを表わ
し、Rは低級アルキル基を表わす〕の4−(置換フエニ
ル)−2−ピロリドン−3−カルボン酸アルキルエステ
ルを自体公知の方法で鹸化し、脱カルボキシルを行い、
次いでイミノ基(NH)をアルキル化、アリール化又は
アシル化し、更にカルボニル酸素を硫黄と置換し、又光
学活性化合物のラセミ型が生成した場合には、これを場
合によりラセミ分割することを特徴とする4−(ポリア
ルコキシ−フエニル)−2−ピロリドンの製法。 6 一般式I: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1及びR_2は同じものか又は異なるもの
であり、1個以上のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カル
ボキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カ
ルボキシアミド基又は置換されていてもよいアミノ基に
より置換されている18個までの炭素原子を有する炭化
水素又は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
すか、又はR_1とR_2とが共同で1〜3個の炭素原
子を有するアルキレン基を表わし、R_3は水素原子又
はメトキシ基を表わし、R_4は水素原子を表わし、X
は酸素原子を表わす〕のラセミ又は光学活性4−(ポリ
アルコキシ−フエニル)−2−ピロリドンを製造するに
当り、一般式III:▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中:R_1、R_2及びR_3は上記のものを表わ
し、Rは水素原子又は低級アルキル基を表わす〕の3−
(置換フエニル)−4−アミノ−酪酸又はそのアルキル
エステル又はその酸付加塩をROH(Rは上記のものを
表わす)の分離を伴いながら環化し、又光学活性化合物
のラセミ型が生成した場合には、これを場合によりラセ
ミ分割することを特徴とする4−(ポリアルコキシ−フ
エニル)−2−ピロリドンの製法。
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