JPS5988649A - パタ−ン検査装置 - Google Patents

パタ−ン検査装置

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JPS5988649A
JPS5988649A JP57199487A JP19948782A JPS5988649A JP S5988649 A JPS5988649 A JP S5988649A JP 57199487 A JP57199487 A JP 57199487A JP 19948782 A JP19948782 A JP 19948782A JP S5988649 A JPS5988649 A JP S5988649A
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JP
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image
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Application number
JP57199487A
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English (en)
Inventor
Tetsuya Ikimi
伊喜見 哲哉
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Idec Corp
Original Assignee
Idec Izumi Corp
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Publication date
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Publication of JPS5988649A publication Critical patent/JPS5988649A/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は検査対象物をビデオカメラで撮像して得た撮
像信号を処理して、検査対象物のパターン、欠陥、ある
いは異物の付着などを識別し良品、不良品の判定を行う
パターン検査装置に関する生産工程や組立工程における
良品、不良品の識別や形状、寸法、角度などの認識は生
産ラインなどの自動化にとって重要である。そこで工業
製品の欠陥などを自動的に検出するために、被検査物体
をビデオカメラなどの撮像装置で撮像して得た光学的情
報をマイクロコンピュータによって適宜処理してその被
検査物体の良・不良を判定するパターン検査装置が実用
に供されている。そのようなパターン検配装置において
は、基準物体および被検査物体の画像パターン信号をそ
れぞれ量子化してビデオメモリに記憶し、置物体のそれ
ぞれの画像パターンに基づいて被検査物体の良・不良が
判定されている。しかしながら、従来のパターン検査装
置では、画像パターン信号を2値化して、そのデータを
マイクロコンピュータに導いて判定処理を行っているた
めに、画像パターンの基準となるバックグラウンドレベ
ルをあらかじめ所定のレベル設定する必要があった。こ
のために、被検査物体の形状や表面状態あるいは、被検
査領域における照明状態によって、設定したバックグラ
ウンドレベルが実際のレベルに一致しないことが生しる
。このような不一致により、従来のパターン検査装置で
は、微小な欠陥検査が行えず、また検査ミスを誘起する
ことになり、検査精度の向上を望めない欠点を有してい
た。
また、被検査物体の画像データをマイクロコンピュータ
に取り込む場合、ビデオカメラで撮像された画像情報を
総て取り込むと被検査物体以外のハックグラウンドの情
報をも取り込むことになって処理時間が長くなるので被
検査物体画像周囲の画像データだけを取り込むようにし
ている。しかしながら従来のパターン検査装置では、被
検査領域内の規定位置に規定ワクを予め設り、その規定
ワク内に納まるように被検査物体を搬送してその規定ワ
タ枠から被検査物体画像の取込みを行っているため、搬
送された被検査物体が規定ワタ内に総て入らなかった場
合、つまり一部が規定ワクより外れたりすると被検査物
体画像を正確に取り込むことが出庫ない欠点があった。
しかもこのような装置では被検査物体を規定ワタ内に収
めるための位置ぎめ装置を搬送系に配置する必要があり
、パターン構造装置の構成が複雑化する問題があった。
この発明のL1的は、上記従来の欠点に鑑み、被検査物
体の位置がビデオカメラの視野内にある限り、その位置
が何処であっても画像データを正確に取り込むことが出
来、しかも被検査物体の良・不良を高精度に判定するこ
とが出来るパターン検査装置を提供することである。
この発明間、要約すれば、画像パターンを、その量子化
レヘ、ルを画像の濃淡に応じた複数レベルに設定して、
ビデオメモリに記憶するA/D変換手段と、そのビデオ
メモリを走査して各画素の濃淡レベル差からバックグラ
ウンドレベルを求める手段と、求めたバックグラウンド
レベルと各画素のレベルとを基準点からX、Y方向に順
に比較し、バンクグラウンドレベルより大きいレベルの
画素座標点から被検査物体画素周囲の走査ウィンドウを
求める手段と、を備え、前記走査ウィンドウ内を走査し
て1qられる画素パターンから被検査物体の良・不良判
定を行うことを特徴とする。
以下、この発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図はこの実施例のパターン検査装置を示すブロック
図である。同図において、lおよび2はそれぞれ、CP
UI、CPU2を示す。CPUIは主に画像パターンを
量子化してビデオメモリ5に記憶する処理およびその画
像をモニタCRT7に表示する処理を行う。CPU2は
ビデオメモリ5に記憶された量子化データに基づき、被
検査物体の画像バクーンの判定処理、自動調光処理およ
び出力装置8へのデータ送出処理を行う。ビデオカメラ
3は被検査領域に固定配置され、基準物体および被検査
物体を撮像し、その撮像信号をAl1)変換器4に出力
する。この被検査領域は生産う・インの被検査物体搬送
系、例えばコンベアベル1−」二の所定個所に相当する
。また、この被検査領域内のビデオカメラ3の視野は照
明装置10によって照明されている。照明装置10出先
七tガ士量俟芸表益峯占≦士の照明光量はCPU2の指
示に基づき調光装置9によって調光される。調光装置9
はたとえば、トライアックなどの無接点スイッチを用い
た周知の回路で構成されている。CPU1により量子化
されたデータはD/A変換器6により表示信号に変換さ
れ、モニタCRT7に送出される。ビデオメモリ5は、
たとえば第2図に示すように画素数240(垂直)X3
20(水平)×6ビツト(1画素)の容量のメモリから
なる。
ビデオメモリ5の各ビット(bo〜b5)のメモリ領域
は基準物体および被検査物体の画像パターン信号をそれ
ぞれ量子化したデータを記憶する記により、たとえばモ
ノクロ画像入力に対して64階調の白黒濃淡画像情報を
記憶することができる。ここで、CPU 1によってビ
デオメモリ5に記憶処理された、画像パターンをD/A
変換したときの濃淡レベル波形の一例を第3図に示す。
画像パターンの量子化レベルパターン各画素ごとに64
レベルの範囲り内で画像の濃淡に応じた濃淡レベルに変
換されている。この変換によって形成された濃淡レベル
波形■(はモニタCR17画面上で、たとえば白黒の濃
淡の違いで現れる。そして、この濃淡レベル波形Hはビ
デオカメラ3によって捉えられた被検査物体の画像情報
に刻応し、下方の水平領域は被検査領域により決まるバ
ックグラウンドに対応している。バンクグラウンドレベ
ルB、G、L(以下このレベルをB、G、Lという。)
は後述のハックグラウンドレベル設定処理によってノイ
ズ成分nを考慮して、上記水平領域のレベルKによりレ
ベルnだけ上方のレベルに設定される。B、G、Lより
上方の濃淡Lノヘル波形部分は、被検査物体の画像情@
(以下、この情報をワ、−クレベルという。)に対応す
る。
CPU2に含まれるメモリは、第4図に示すメモリエリ
アを有する。第4図において、メモリエリアM1にはバ
ンクグラウンドレベル設定処理に必要な濃淡比率ρが記
憶され、設定したB、G。
1、はメモリエリアM2に記憶される。メモリエリアM
3.M4にはそれぞれ、前記ワーク1ノベルの最大値W
Mおよび平均値WAが記憶される。メモリエリアM5に
は後述の自動調光処理に必要な調光判定レベルの最大値
Wmとその許容幅αが記憶され、また、メモリエリアM
6には調光判定レベルの平均値Waとその許容幅βが記
憶されている。メモリエリアM7には第5図に示すよう
に、ビデオカメラ3の視野Cにより決まる座標系の座標
値xMIN、yMIN、xMAX、yMaXが記憶され
、この座標系の大きさはビデオカメラ3の視野C内で任
意に設定される。また、メモリエリアM8には後述の走
査ウィンドウWの画素座標点xi、yL、x2.y2が
記憶されている。メモリ、エリアM9〜M12ば、調光
判定レベルW m 。
Waおよび許容幅α、βで決まる判定範囲内にワークレ
ベルの最大値WM、平均値WAが入っていないときそれ
ぞれオンになるフラグFM、FA。
FM′、FA′である。メモリエリアMi3は画像パタ
ーンに基づいて被検査物体の良・不良を判定するために
必要な特徴ファクターデータを記憶する。
上記のように構成されたパターン検査装置において、ビ
デオカメラ3によって撮像された画像パターンはへ/D
変換器4によってデジタル画像化され、さらにCPUI
による画面走査により全画素に対して画像パターンの量
子化が行われる。そして、第3図に例示した濃淡レベル
波形のように、その画像パターンの量子化レベルを画像
の濃淡に応じた複数レベルに設定してビデオメモリ5に
記憶して画像パターン記憶処理が行われる。
以下、この実施例のパターン検査装置の動作を説明する
第6図はこのパターン検査装置の画像入力処理動作を示
すフローチャートである。この画像入力処理動作におい
て、ステップn1(以下、ステップniを単にn iと
いう。)から03までのハックグラウンドレベル設定処
理がこの発明におけるバックグラウンドレベルを求める
手段に対応している。、nllこて、A/D変換してビ
デオメモリ5に記憶されカニ画像バクーンを、濃淡レベ
ル範囲りの下限から(第3図参照)順に全画素に対して
走査する。112で、今回走査した濃淡レベルでの濃淡
比率を測定し、且つその測定濃淡比率とあらかじめ設定
し、カニm淡比率ρとを比較する(n2)。
たとえば、濃淡レベル波形Hの下方を黒領域、上方を白
領域とすると、濃淡比率ρは所定のレベルにおける黒領
域と白領域との割合として設定され、その値はビデオカ
メラ3の視野C1被検査物体の大きさなどを考慮して決
定される。そこで、たとえば、第3図において濃淡レベ
ル波形Hの水平領域のレベルKにおいてその濃淡レベル
が濃淡比率ρより大きくなるとしたならば、レベルによ
りノイズ成分り上にあるレベルB、G、Lをバンクグラ
ウンドし・ベルして決定する(n3)。なお、各レベル
での濃淡比率は、特に濃淡レベル波形の水平領域では、
濃淡レベルがバラついているために、統計的手法により
算出される。このようにしてバックグラウンドレベルが
設定されると、レベルB、G、Lより上のレベルからワ
ークレベルが求められる(n4)。また、このとき、ワ
ークレベルの最大値WMおよび平均値WAも求められ、
それぞれ前記メモリエリアM3.M4に記憶される(n
5)。この平均値WAは最大値WMとB。
G、1.との平均で求められる。これらの最大値WMお
よび平均値WAは後述の自動調光処理のためのデータに
用いられる。上記のように、B、G。
Lは画像パターンの濃淡に応じて自動的に設定されるの
で被検査物体の形状や表面状態あるいは照明状態が変化
しても、つねに、実際の画像パターンに対応した基準レ
ベルを得ることができる。したがって、画像パターンの
微小な相違を検出することができ、また、検査ミスなど
もなくなり検査精度が著しく向上する。
次に、CP U 2により行われるn6以下の処理につ
いて説明する。ここでは、被検査物体画像周囲の走査ウ
ィンドウの設定処理(n6〜n9)t:jよび表示処理
(nlO−n13)を実行する。以下の設定処理(n6
〜n9)がこの発明の走査ウィンドウを求める手段に対
応する。
走査ウィンドウの設定は、パターン検査に要する時間を
短縮する利点がある。走査ウィンドウの設定により走査
範囲が狭くなり、その分処理の対象となるデータ個数(
画素数)が著しく少なくなるからである。
第5図に示すように、走査ウィンドウWは、ビデオカメ
ラ3の視野Cにある被検査物体たとえばカプセルSの画
像周囲に、X、Y座標系により設定される。そして、こ
の走査ウィンドウは、前述のバックグラウンドレベル設
定処理で求めたB。
G、Lと各画素のレベルとを視野Cの座標系の基準点0
からX、Y方向に順に比較し、B、G、Lより大きいレ
ベルの複数の画素座標点から求められる。
この走査ウィンドウWの各画素座標点xl、y1、x2
.y2のアドレスを決めるためのサブルーチンを第7図
ないし第10図に示す。すなわち、n6〜n9の処理は
それぞれ第7図〜10図のフローチャートで示される。
n6においては走査ウィンドウWの左ワタの画素座標点
x1のアドレス決定処理が行われる。n60にて、まず
基準点0の座標(xMIN、yMIN)が初期設定され
、続いてビデオメモリ5より各画素座標点(x、y)に
対応した濃淡レベルデータ(以下、このデータをPix
elという。
)が取り出される(n61)。そして、このPixel
とB、C,、Lとの比較が行われ、前者が後者より小さ
いときY方向に順に画素座標点が移行し、yMAXに達
したときの次のX座標に移行する(n62〜n66)*
 PixelがB、 G、 Lより大きいときまたは両
者が一致したとき、そのときのX座標がXlとして記憶
される(n68)。全画素に対してxlが決定されない
ときは(n66)、エラーコードがセットされ(n67
)、エラー処理に移る。
走査ウィンドウWの右ワタの画素座標点x2のアドレス
決定処理はn7にて行われる。この処理では、視野Cの
右ワクの座標(xMAX、yMIN)が初期設定される
(n 70)。また前記n62と同様に、Pixelと
B、G、Lとの比較が行われ(n72)、前者が後者よ
り大きいときまたはそれらが一致しているとき、そのと
きのX座標がx2となる。pixelがB、G、Lより
小さいときは、Y方向に順に画素座標点が移行し、yM
AXに達したとき次のX座標に移行する(n71、n7
3〜n76)、この場合、xMAXからxlまでpix
elは取り出される。xlまで比較しても一致しないと
きはエラー処理に移る(n77)。
走査ウィンドウWの上ワクの画素座標点y1のアドレス
決定処理はn8にて行われる。この処理では、座標(X
I、yMIN)が初期設定される(n80)、前記のn
62.n72と同様に、PixelとB、G、Lとの比
較が行われ(n82)、前者が後者より小さいならばX
方向に順に画素座標点が移行し、X2に達したときつぎ
のY座標に移行する(n81.n83〜n86) 。P
ixelとB、G、Lとが一致したとき、または前者が
後者より大きくなったとき、そのときのY座標がylと
して記憶される(n88)。yMINか9yMAXまで
比較しても一致しないときはエラー処理に移る(n87
)。
走査ウィンドウWの下ワタの画素座標点y2のアドレス
決定処理はn9にて行われる。この処理では、座標(x
L  yMIN)が初期設定される(n90)、前記の
n62.n72.’n82と同様に、pixelとB、
G、Lとの比較が行われ(’n92)、前者が後者より
小さいならばX方向にxlからx2に順に画素座標点が
移行し、x2に達したとき次のY座標に移行する(n9
1.n93〜n96)、PixelとB、G、Lとが一
致したとき、または前者が後者より大きくなったとき、
そのときのY座標がy2として記憶される(n98)。
yMAXからylまで比較しても一致しないときはエラ
ー処理に移る(n97)、。
上記の処理(n6〜n9)によって、第5図に示したカ
プセルSの外形を囲む四角のワクの四隅の画素座標点が
求められ、走査ウィンドウWが設定される。このように
走査ウィンドウがビデオカメラ3の視野内にある被検査
物体の周囲に自動的に設定されるので、その視野内に被
検査物体がどのような方向に向いていてもよく、被検査
物体を視野内の一定位置に配置するための位置決め装置
などを搬送系に設けなくて済む。そして、nl。
〜ri l 3の処理において、走査ウィンドウWの四
辺のワタ線がモニタCRT7の画面に描画される。すな
わち、画素座標(xl’yl)から(X I Y2)ま
で線描きされて左ワタが表示され(n 10)、同様に
(x2yl)から(x2y2)まで右ワタが表示され(
nil)、また、(xlyl)から(x2yl)まで上
ワク、(x 1 y 2)から(x 2 y 2)まで
下りりがそれぞれ表示される(n12.n13)。こう
して走査ウィンドウWが設定されると、次にパターン検
査処理動作に移る次に、このパターン検査装置における
パターン検査処理動作を説明する。
第11図はこのパターン検査処理動作を示すフローチャ
ートである。以下の処理中、n20〜n24、n30〜
n33はCPUIによって行われる。まず、n20にて
基準物体の画像(以下、この画像をマスター画像という
。)データがビデオメモリ5の記憶領域VMIに記憶さ
れているが、否か判断される。マスター画像が記憶され
ていないときはn30以下のマスター設定処理が実行さ
れる。なお、この指示は図示しない操作パネルに配置し
たマスター設定スイッチ(図示せず)により行われる。
このマスター設定スイッチがオンもこされると、CPU
I内のメモリのマスター設定フラグ(図示せず)がオン
になり、マスター設定処理実行に移る(n 30)。マ
スター設定時には、そのときビデオカメラ3で撮像され
得られた映像信号がA/D変換器4でA/D変換された
後(n31)、その映像データが記憶領域VMIに記憶
される。基準物体全体の画像データの記憶が終了したな
らば(n33)、再びn20に戻る。    ゛に記の
マスター設定処理でマスター画像データが記憶領域VM
Iに記憶されているならばn21以下の被検査物体の判
定処理に移る。n21では、前記の04とn5の処理と
同じく、ワークレベルの測定?)最大値WM、平均値W
Aの決定を行うワークサーチが実行される。そして、こ
のワークサーチで得られたデータによって、前記のn6
〜n9における走査ウィンドウの設定処理が実行される
(n2211゜走査ウィンドウが設定されると、前記の
nlO〜n13によって、モニタCRT7の画面に表示
される。そして、設定された走査ウィンドウ内で走査を
して、映像信号のA/D変換が行われ(n23)、その
画像データはビデオメモリ5の記憶領域VM2に記憶さ
れる(n24)。このように被検査物体の画像パターン
の撮像データの取込みは、ビデオカメラ3の視野より狭
い走査ウィンドウ内だけを走査して行われるので、短時
間でデ・−夕取込みを行なえるとともに、取り込んだデ
ータ個数が少なくなるためにその処理に必要な時間を大
幅に短縮することが出来る。
被検査物体に関しての画像データが記憶領域■M2に記
憶されると、n25〜n29の判定処理がCPU2によ
り実行される。n、 25では、被検査物体の形状や表
面状態に固有の特徴として現れる面積、重心、角度など
の特徴ファクターが記憶領域VM2のデータから描出さ
れる。なお、単に、“7スタ一画像との照合を行う場合
には、このような特徴ファクターの描出は行われない。
続いて、n26にて画像パターンの判定が行われる。こ
の判定は、ファクター別に記憶領域VMIとVM2との
画像データを比較して、全ての特徴ファクターを考慮し
て総合的に行われる。判定を行うまでの処理中において
は、より正確な結果を得るために、B、G、Lやファク
ター補正等、諸元データの修正が繰り返され、両画像デ
ータの比較は相対的且つ総合的に行われる。判定を終え
ると、その判定結果に基づき、出力装置8に良品処理ま
たは、不良品処理命令が送出される(n27〜n29)
以」−のようにして、B、G、Lを自動的に且つ1M通
な値に求めることが出来、またそのB、G。
1、を基準にして被検査物体の周囲に自動的にウィンド
ウを設定することが出来る。
この装置をたとえば、電子部品のチップ状部品の端子形
成検査に使用したときのモニタ画像例を第12図に示す
。第12図(A)は、チップ状部品11の−・部」二面
を示す。モニタCRT7画面では、部品本体は黒色で表
示され、また、そのチップ状部品11の端子面12a、
12b、12c。
12dおよび表面の印刷文字15は白色で表示される。
第12図(A)において2点鎖線13で示しノこ境界で
の濃淡レベルは同図(B)のようになる。同図(B)で
1点鎖線14はB、G、Lを、上段と下段の濃淡レベル
16は端子面12C,12dを、また、中段の二つの濃
淡レベル17は印刷文字15をそれぞれ表している。
上述のように第6図の処理(nl−n3)で各画素の濃
淡レベル差から正確なり、G、Lが求められ、そのB、
G、Lを基準として被検査物体の画像データがビデオメ
モリ5に格納されるので、・  ビデオカメラ3で捉え
た原画像パターンが保有される。したがって、前記n2
6の処理において、必要に応じて原画像パターンの画像
データを2値化、あるいは多値化することによって特徴
ファクターの描出処理などを自由に行うことができる。
すなわち、所望のデータが得られないときは再度原画像
パターンの画像データを処理して所望のデータをCP 
U 2により加工することが可能となり、検査精度を向
上させることが出来る。
次に、このパターン検査装置における自動調光処理動作
を第13図のフローチャー1・にしたが、つい説明する
この自動調光処理は前記のnlからn5までのバックグ
ラウンドレベル設定処理時およびワークレベル測定処理
時に割り込みルーチンとして実行される6n40にて、
前記第3図に示したように、ワークレベルの最大値Wm
と平均値Waおよびそれらの許容幅α、βがあらかじめ
初期設定される。これらの値は基準物体に対し最適な照
明状態を設定したときに得られる濃淡レベル波形力〜ら
決められる。n41とn42において、最大値Wmと許
容幅αとで決まる最大値範囲内にn5で求めたワークレ
ベルの最大値WMが入ってし)るか否め・判断される。
最大値WMがその最大値範囲の」二限より越えていると
き、また、下限より下にあるときはそれぞれフラグFM
、FM′がオンになる(n、43.n45)。続いて、
n44とn46において平均値Waと許容幅βとで決ま
る平均値範囲内n5で求めたワークレベルの平均値WA
が入っているか否か判断される。平均値WAがその平均
値範囲の上限より越えているとき、また、下限より下に
あるときはそれぞれフラグFA、FAがオンになる(n
47.n49) 6そして、n48にて、フラグFA’
、FM′がともにオンになっているか否か判断され、そ
れらが双方オンになっているときはCPU2の指示によ
って照明装fllOによる詔明の光量を増加させるよう
に開光装置9が作動する(n51)。また、フラグFA
′、FM′がともにオンできないときは、n50に移り
、フラグFA、FMがともにオンになっているか否か判
断される。フラグFA、FMが双方オンになっていると
きはCPU2の指示によって照明装置10による照明の
光量を減少させるように調光装置9が作動する(n52
)。このように、ワークレベルの最大値WMおよび平均
値WAが設定した最大値範囲および平均値範囲の上限を
それぞれ越えている場合と、最大値範囲および平均値範
囲の下限よりそれぞれ下にある場合においてだけ照明光
量の調整が行われる。したがって、単に最大値の比較だ
けで光量調整を行う場合に比べ、ワークレベルのピーク
に被検査物体の欠陥などが現れたときに過照明状態を検
出することができる。また、最大値が低い場合でもワー
クレベルの平均が低いときにのみ照明光量の増加が行わ
れるので、過照明状恕を防止できる。
以上のように、この発明によれば、画像パターンをその
量子化レベルを画像の濃淡に応じた複数レベルに設定し
てビデオメモリに記憶し、そのビデオメモリを走査して
各画素の濃淡レベル差からハックグラウンドレベルを求
めるようにしたので、実際の画像パターンに応じた基準
レベルによってつねに高精度にパターン検査を行なえる
とともに、基準レベルが実際の画像パターンに応じて最
適な値に設定されるため、走査ウィンドウを正確にもと
めることが出来る。しかも被検査物体がビデオメモリの
視野内のどの位置にあっても、走査ウィンドウがその被
検査物体の周囲に正確に設定されるので、画像データ取
込みのための位置決め装置を必要とせず、パターン検査
装置の構成が簡単になる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例であるパターン検査装置を示
すブロック図、第2図は同パターン検査装置のビデオメ
モリ5の記憶領域を示す図、第3図は同パターン検査装
置の画像データ処理動作を説明するための濃淡レベル波
形図、第4図は同パターン検査装置のCPU2に含まれ
るメモリの記憶領域を示す図、第5図は同パターン検査
装置の走査ウィンドウ設定処理を説明するための図、第
6図は同パターン検査装置の画像入力処理動作を示すフ
ローチャート、第7図ないし第10図は同パターン検査
装置の走査ウィンドウ設定処理動作を示すフローチャー
ト、第11図は同パターン検査装置のパターン検査処理
動作を示すフローチャート、第12図は同パターン検査
装置による被検査物体のモニタ画像例を示す図、第13
図は同パターン検査装置の自動調光処理動作を示すフロ
ーチャー1・である。 3−−ビデオカメラ、4−A / D変換器、5−ビデ
オメモリ、C−−(ビデス”カメラ)の視野、W−走査
ウィントウ。 出願人   和泉電気株式会社 代理人   弁理士 小森久夫 第2図 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11基準物体および被検査物体の画像パターン信号を
    それぞれ量子化してビデオメモリに記憶し、置物体のそ
    れぞれの画像パターンに基づいて被検査物体の良・不良
    を判定するようにしたパターン検査装置において、 前記画像パターンをその量子化レベルを画像の濃淡に応
    じた複数レベルに設定して前記ビデオメモリに記憶する
    A/D変換手段と、前記ビデオメモリを走査して各画素
    の濃淡レベル差からバックグラウンドレベルを求める手
    段と〜求めたバックグラウンドレベルと各画素のレベル
    とを基準点からx、Y方向に順に比較し、バックグラウ
    ンドレベルより大きいレベルの画素座標点から被検査物
    体画像周囲の走査ウィンドウを求める手段と、を備え、
    前記走査ウィンドウ内を走査して得られる画像パターン
    から被検査物体の良・不良判定を行うことを特徴とする
    パターン検査装置。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04345645A (ja) * 1991-05-22 1992-12-01 Idemitsu Petrochem Co Ltd 自動車用インストルメントパネル
WO1997002466A1 (de) * 1995-06-30 1997-01-23 Siemens Aktiengesellschaft Optischer abstandssensor

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