JPS5986917A - 表面波装置 - Google Patents
表面波装置Info
- Publication number
- JPS5986917A JPS5986917A JP19842182A JP19842182A JPS5986917A JP S5986917 A JPS5986917 A JP S5986917A JP 19842182 A JP19842182 A JP 19842182A JP 19842182 A JP19842182 A JP 19842182A JP S5986917 A JPS5986917 A JP S5986917A
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- JP
- Japan
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- surface wave
- substrate
- reflector
- thin film
- grooves
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- Granted
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は表向波装置に関し、より詳しくは、無機質感光
性基板を露光および現像処理して無機質感光性基板の表
面を伝播する弾性表面波の反射器を形成するようにした
弾性表面波装置に関するものである。
性基板を露光および現像処理して無機質感光性基板の表
面を伝播する弾性表面波の反射器を形成するようにした
弾性表面波装置に関するものである。
従来技術
圧電物質の表面にすだれ状電極を有する弾性表面波（以
下、単に表面波と記す。）装置は、ＶＨＦ、ＵＨＦ領域
において、構造が簡単で、小形、低損失であるという利
点を有する優れた電気通信回路装置であり、その実用化
が極めて有望視されている。
下、単に表面波と記す。）装置は、ＶＨＦ、ＵＨＦ領域
において、構造が簡単で、小形、低損失であるという利
点を有する優れた電気通信回路装置であり、その実用化
が極めて有望視されている。
従来より、この種の表面波装置としては、たとえば第１
図に示すように、水晶あるいはＬｉＮｂＯ３のような圧
電結晶基板１１の表面上に表面波送・受波用すだ孔状電
極１−２を形成し、その両側に表面波反射器１３．１４
を形成したものが一般に知られている。
図に示すように、水晶あるいはＬｉＮｂＯ３のような圧
電結晶基板１１の表面上に表面波送・受波用すだ孔状電
極１−２を形成し、その両側に表面波反射器１３．１４
を形成したものが一般に知られている。
上記表面波反射器１３．１４は圧電結晶基板１１の表面
に周期的に溝を設けたり、金属もしくは誘電体の格子状
薄膜を周期的に付着することにより、上記圧電結晶基板
１１の表面上で音響インピーダンスを周期的に変化させ
て、表面波の反射を行う。
に周期的に溝を設けたり、金属もしくは誘電体の格子状
薄膜を周期的に付着することにより、上記圧電結晶基板
１１の表面上で音響インピーダンスを周期的に変化させ
て、表面波の反射を行う。
圧電結晶基板１１０表面に上記のような溝を設けるには
、イオンエツチング等の装置を用いて選択的に上記圧電
結晶基板１１の表面を削って得ている。このようにして
圧電結晶基板１１に溝を形成するには大規模なイオンエ
ツチングＮＨが必要で、しかも、このイオンエツチング
処理に多大の時間を費やすという欠点を有する。さらに
、溝を形成する工程は、すだれ状電極１２の形成工程と
異なるため、二度の微細パターン炸裂工程における目合
せ誤差により、すだｎ状電極１２と反射器１３．１４の
相対位置ずれが発生する。従って損失が増大して共振特
性が劣化し好しくない。
、イオンエツチング等の装置を用いて選択的に上記圧電
結晶基板１１の表面を削って得ている。このようにして
圧電結晶基板１１に溝を形成するには大規模なイオンエ
ツチングＮＨが必要で、しかも、このイオンエツチング
処理に多大の時間を費やすという欠点を有する。さらに
、溝を形成する工程は、すだれ状電極１２の形成工程と
異なるため、二度の微細パターン炸裂工程における目合
せ誤差により、すだｎ状電極１２と反射器１３．１４の
相対位置ずれが発生する。従って損失が増大して共振特
性が劣化し好しくない。
一方、誘電体の格子形被膜による表面波反射器１３．１
４は、通常、良好な反射効率を得るため、密度、もしく
は弾性定数が、基板材料と大幅に異なる薄膜材料を選択
し、これを真空蒸着もしくはスパッタリングで成膜し、
その後、フォトエツチングの手法で所望の格子状にエツ
チングして形成する。この場合も、上記の溝形の表面波
反射器と同様、表面波反射器１３．１４はすだれ状電極
１２と形成工程を異にすることから発生する欠点を有す
る。
４は、通常、良好な反射効率を得るため、密度、もしく
は弾性定数が、基板材料と大幅に異なる薄膜材料を選択
し、これを真空蒸着もしくはスパッタリングで成膜し、
その後、フォトエツチングの手法で所望の格子状にエツ
チングして形成する。この場合も、上記の溝形の表面波
反射器と同様、表面波反射器１３．１４はすだれ状電極
１２と形成工程を異にすることから発生する欠点を有す
る。
さらに、ＬｉＮｂ Ｏ３のように圧電性の大きい基板に
対しては、表面波反射器１３．１４に金属薄膜が用いら
れる。しかしながら、Ｌｉ Ｎｂ Ｏ３は温度安定度が
悪く、これを用いた弾性波装置は実用性に欠ける問題が
あった。
対しては、表面波反射器１３．１４に金属薄膜が用いら
れる。しかしながら、Ｌｉ Ｎｂ Ｏ３は温度安定度が
悪く、これを用いた弾性波装置は実用性に欠ける問題が
あった。
発明の目的
本発明は上記事情に蓋みてなさくしたものであって、そ
の目的は、１質服光性基板を露光および現像処理して表
面波の反射用の溝を形成することにより、表面波反射器
の形成を容易にし、表面波装置の製造の部屋化と特性の
向上を図ることである。
の目的は、１質服光性基板を露光および現像処理して表
面波の反射用の溝を形成することにより、表面波反射器
の形成を容易にし、表面波装置の製造の部屋化と特性の
向上を図ることである。
発明の要旨
このため、本発明は、平板状の無機質感光性基板の主面
の一部に圧電薄膜と、少くとも一組のインターディジタ
ル電極を形成する一方、上記圧電薄膜の両側の無機質感
光性基板を露光および現像処理して互いにほぼ平行する
複数本の溝からなる表面波反射器を形成したことを特徴
としている。
の一部に圧電薄膜と、少くとも一組のインターディジタ
ル電極を形成する一方、上記圧電薄膜の両側の無機質感
光性基板を露光および現像処理して互いにほぼ平行する
複数本の溝からなる表面波反射器を形成したことを特徴
としている。
実施例
以下、添付図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第２図において、２１は無機質感光性基板、２２は１ｆ
ｆｆｉ薄膜、２３は表面波送・受波用のすだれ状のイン
ターディジタル電極、２４．２５は表面波反射器である
。
ｆｆｉ薄膜、２３は表面波送・受波用のすだれ状のイン
ターディジタル電極、２４．２５は表面波反射器である
。
上記無機質感光性基板２１は、たとえば、感光性のガラ
スからなり、露光するとその部分が変色し、変色部分が
弗化水素酸等の現像液に溶けやすくなる。
スからなり、露光するとその部分が変色し、変色部分が
弗化水素酸等の現像液に溶けやすくなる。
上記無機質感光ｉ生基板２１は長方形状を有し、その一
方の主面の中央部に、Ｚｎ ＯもしくはＡＪＮ等の圧電
材料からなる四角形状の圧電薄膜２２を形成し、その上
にインターディジタル電極２３をフォトエツチングある
いはマスク蒸着等により形成している。
方の主面の中央部に、Ｚｎ ＯもしくはＡＪＮ等の圧電
材料からなる四角形状の圧電薄膜２２を形成し、その上
にインターディジタル電極２３をフォトエツチングある
いはマスク蒸着等により形成している。
上記インターディジタル電極２３は複数のフィンガー電
極２６．２６．・・・を平行に形成し、これらフィンガ
ー電ｇ２６，２６．・・・を一つおきに接続して、無機
質感光性基板２１に形成した引出電極２７ａおよび２７
ｂに夫々引き出している。
極２６．２６．・・・を平行に形成し、これらフィンガ
ー電ｇ２６，２６．・・・を一つおきに接続して、無機
質感光性基板２１に形成した引出電極２７ａおよび２７
ｂに夫々引き出している。
上記圧電薄膜２２の両側の無機質感光性基板２１には、
該無機質感光性基板２１を後述するように露光および現
像処理して、上記インターディジタル電極２３のフィン
ガ電極２６．２６．・・・に平行する複数本の溝２８．
２８．・・・からなる表面波反射器２４．２５を夫々形
成している。
該無機質感光性基板２１を後述するように露光および現
像処理して、上記インターディジタル電極２３のフィン
ガ電極２６．２６．・・・に平行する複数本の溝２８．
２８．・・・からなる表面波反射器２４．２５を夫々形
成している。
上記表面波反射器２４．２５を構成する溝２８゜２８、
・・・の巾およびピッチは、通常、数ミクロンのオーダ
であるが、これらは、表面波装置の設定周波数により定
まり、上記インターディジタル電極２３のフィンガ電極
２６．２６ 、・・・の巾やピッチに概略合わせる。
・・・の巾およびピッチは、通常、数ミクロンのオーダ
であるが、これらは、表面波装置の設定周波数により定
まり、上記インターディジタル電極２３のフィンガ電極
２６．２６ 、・・・の巾やピッチに概略合わせる。
上記表面波反射器２４．２５の溝２８ 、２８ 。
・・・は次のようにして形成することができる。
先ず、第３図（ａ）に示すよブに、第２図の表面波装置
の無機質感光性基板２１となる感光性ガラス基板３１を
用意し、この感光性ガラス基板３１の波 表面反射器２４．２５の溝２８，２８．・・・の形成、
へ 位ｉＡに、第３図（ｂｌに示すように、紫外線３２を投
射して露光する。
の無機質感光性基板２１となる感光性ガラス基板３１を
用意し、この感光性ガラス基板３１の波 表面反射器２４．２５の溝２８，２８．・・・の形成、
へ 位ｉＡに、第３図（ｂｌに示すように、紫外線３２を投
射して露光する。
この露光に際しては、たとえば、インターディジタル電
極２３の形成時に、反射器２４．２５の領域の溝２８以
外の部分に、同時に金属薄膜を形成させ、その余興薄膜
をマスクとして溝２８の部分を露光すれば、インターデ
ィジタル遇極２３と溝２８との目あわせは問題なくでき
る。
極２３の形成時に、反射器２４．２５の領域の溝２８以
外の部分に、同時に金属薄膜を形成させ、その余興薄膜
をマスクとして溝２８の部分を露光すれば、インターデ
ィジタル遇極２３と溝２８との目あわせは問題なくでき
る。
上記のように、紫外線３２が投射されると、感光性ガラ
ス〃：板３１はその部分が変色する。
ス〃：板３１はその部分が変色する。
次いで、上記感光１生ガラス基、仮３１を弗化水素酸等
の現像液に浸漬すると、感光性ガラス基板３１の変色部
分か溶解し、第３図（Ｃ）に示すように、溝２８．２８
．・・・が形成される。
の現像液に浸漬すると、感光性ガラス基板３１の変色部
分か溶解し、第３図（Ｃ）に示すように、溝２８．２８
．・・・が形成される。
このようにすれば、フォトレジストを使用することなく
、感光性ガラス基板３１に、直接、表面波反射器２４．
２５を形成することができる。上記溝２８，２８．・・
・の深さも、紫外線等の光の露光量を調節することによ
って、簡単に調整することができる。
、感光性ガラス基板３１に、直接、表面波反射器２４．
２５を形成することができる。上記溝２８，２８．・・
・の深さも、紫外線等の光の露光量を調節することによ
って、簡単に調整することができる。
本発明は、第２図の電極構造を有する表面波装置に限定
されず、他の゛電極構造を有する表面波装置に広く適用
可能である。
されず、他の゛電極構造を有する表面波装置に広く適用
可能である。
たとえば、インターディジタル電極２３は、圧岨薄摸２
２と無機質感光性基板２１との間に形成されていてもよ
い。
２と無機質感光性基板２１との間に形成されていてもよ
い。
また、圧電薄膜２２は溝２８を含む基板２１の全面にわ
たって付着していてもよい。
たって付着していてもよい。
発明の効果
以上、詳述したことからも明らかなように、本発明は、
無機質感光性基板を使用して表面波装置の表面波の反射
器の溝を形成するようにしたから、無１？Ａ質感光性基
板自体をぼ光および現像処理して反射器の溝を形成する
ことができ、反射器の形成がきわめて容易となる。
無機質感光性基板を使用して表面波装置の表面波の反射
器の溝を形成するようにしたから、無１？Ａ質感光性基
板自体をぼ光および現像処理して反射器の溝を形成する
ことができ、反射器の形成がきわめて容易となる。
また、弾機質感光性基板は表面弾性波の減衰定数が小さ
く、高局波域での伝播ロスが小さい表面波装置を得るこ
とができる。
く、高局波域での伝播ロスが小さい表面波装置を得るこ
とができる。
第１図は従来の表面波装置の斜視図、第２スは本発明に
係る表面波装置の一実施例の斜視図、第３図（ａ）、第
３図（ｂ）および第３図ｔｃ＋は夫々第２図の表面波装
置の反射器の形成工程の説明図である。 ２１・・・無機質感光性基板、２２・・・圧電薄膜、２
３・・・インターディジタル電’（Ｊ ２４ 、２５
・・・反射器、２８・・・溝、３１・・・感光性ガラス
基板、３２・・・紫外線。
係る表面波装置の一実施例の斜視図、第３図（ａ）、第
３図（ｂ）および第３図ｔｃ＋は夫々第２図の表面波装
置の反射器の形成工程の説明図である。 ２１・・・無機質感光性基板、２２・・・圧電薄膜、２
３・・・インターディジタル電’（Ｊ ２４ 、２５
・・・反射器、２８・・・溝、３１・・・感光性ガラス
基板、３２・・・紫外線。
Claims (1)
- （１）平板状の無機質感光性基板の土面に圧電薄膜と、
少くとも一組のインターディジタル電極を形成する一方
、上記無機質感光性基板の主面を露光およびａ（Ｒ１処
理して互いにほぼ平行する腹数本の溝からなる表面波反
射器を形成したことを特徴とする表面波装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19842182A JPS5986917A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 表面波装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19842182A JPS5986917A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 表面波装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5986917A true JPS5986917A (ja) | 1984-05-19 |
| JPH0318367B2 JPH0318367B2 (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=16390823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19842182A Granted JPS5986917A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 表面波装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5986917A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5684437A (en) * | 1994-03-25 | 1997-11-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | End face reflection type surface wave resonator |
| JP2007301642A (ja) * | 2006-05-09 | 2007-11-22 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | クラウニングロ−ルの溝加工方法 |
-
1982
- 1982-11-11 JP JP19842182A patent/JPS5986917A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5684437A (en) * | 1994-03-25 | 1997-11-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | End face reflection type surface wave resonator |
| JP2007301642A (ja) * | 2006-05-09 | 2007-11-22 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | クラウニングロ−ルの溝加工方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0318367B2 (ja) | 1991-03-12 |
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