JPS5986226A - 薄板状材の洗浄装置 - Google Patents
薄板状材の洗浄装置Info
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- JPS5986226A JPS5986226A JP57197207A JP19720782A JPS5986226A JP S5986226 A JPS5986226 A JP S5986226A JP 57197207 A JP57197207 A JP 57197207A JP 19720782 A JP19720782 A JP 19720782A JP S5986226 A JPS5986226 A JP S5986226A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、半導体ウェーノーやウエーノ島の製造工程
に使用されるガラスマスクなど、薄板状材に付着したほ
こりなどの異物を除去する、薄板状材の洗浄装置に関す
る。
に使用されるガラスマスクなど、薄板状材に付着したほ
こりなどの異物を除去する、薄板状材の洗浄装置に関す
る。
従来のガラスマスクの洗浄装置は、第１図に要部を断面
図で示すようになつ°Ｃいた。（１）は半導体ウェーハ
の製造工程において、パターン形成のた′め使用される
ガラスマスク、（２）は高圧水吹付はノズルで、高圧水
（３）が供給されガラスマスクｆｉ１面に射出され、表
面を洗浄するようにしている。
図で示すようになつ°Ｃいた。（１）は半導体ウェーハ
の製造工程において、パターン形成のた′め使用される
ガラスマスク、（２）は高圧水吹付はノズルで、高圧水
（３）が供給されガラスマスクｆｉ１面に射出され、表
面を洗浄するようにしている。
上記従来の装置において、高圧水（２）には約１００気
圧の純水が供給され、吹付はノズル（２）の先端の約１
００μｍの孔から射出され、約３００Ｏｒｐｍで回転さ
れているガラスマスクｆ１＋に吹付け、吹付はノズル（
２）がガラスマスクｉｌｌの中心位置から半径方向に移
動し、表面に＋Ｊｍしている汚れを除去するようにして
いる。
圧の純水が供給され、吹付はノズル（２）の先端の約１
００μｍの孔から射出され、約３００Ｏｒｐｍで回転さ
れているガラスマスクｆ１＋に吹付け、吹付はノズル（
２）がガラスマスクｉｌｌの中心位置から半径方向に移
動し、表面に＋Ｊｍしている汚れを除去するようにして
いる。
上記従来の装置では、高圧水の吹付けによってコロナ放
電が発生し、ガラスマスクｔｌｌＮ面に形成しである金
属薄膜パターンの先端が除去される現象が生じ、マスク
洗浄回数が制限される欠点があつた。
電が発生し、ガラスマスクｔｌｌＮ面に形成しである金
属薄膜パターンの先端が除去される現象が生じ、マスク
洗浄回数が制限される欠点があつた。
また、従来のガラスマスクの洗浄装置の他の例を、第２
図に要部断面図で示す。（４）はブラシで、高速回転さ
れ、高速回転されているガラスマスク１１＋の表面に接
触し、ガラスマスクｉｌ＋の中心位置から半径方向に移
動し、ブラシの中央又は毛先部に外部から供給の純水を
潤滑剤として注水し、ガラスマスクｉ１１表面に付着し
ている汚れを除くようにしている。
図に要部断面図で示す。（４）はブラシで、高速回転さ
れ、高速回転されているガラスマスク１１＋の表面に接
触し、ガラスマスクｉｌ＋の中心位置から半径方向に移
動し、ブラシの中央又は毛先部に外部から供給の純水を
潤滑剤として注水し、ガラスマスクｉ１１表面に付着し
ている汚れを除くようにしている。
この第２図に示す従来の装置では、ブラシ（４）がガラ
スマスク（１）表面に接しているため、ブラシ（４）の
汚れなどがかえってガラスマスクｆｉｌに付着したり、
さらに、ガラスマスク（１）の金属薄膜パターンのリフ
トオフ修正箇所における蒸着金島膜のはく離等を生じる
欠点があった。
スマスク（１）表面に接しているため、ブラシ（４）の
汚れなどがかえってガラスマスクｆｉｌに付着したり、
さらに、ガラスマスク（１）の金属薄膜パターンのリフ
トオフ修正箇所における蒸着金島膜のはく離等を生じる
欠点があった。
この発明は、上記従来装置の欠点をなくするためになさ
れたもので、円筒形をなし内径側から外径側に連通ずる
無数の小すき間を有する案内体を、多数の***があけら
れた管状軸にはめ込み固着し、薄板状材の少なくとも片
側面を上記案内体の外径部に小ずき間をあけて配し、管
状軸により案内体を高速回転し、なから管状軸内に供給
する純水を案内体により吹出して薄板状月面を洗い流し
、薄板状材の表面を損傷することなく汚れを確実に除去
する、薄板状材の洗浄装置を提供することを目的として
いる。
れたもので、円筒形をなし内径側から外径側に連通ずる
無数の小すき間を有する案内体を、多数の***があけら
れた管状軸にはめ込み固着し、薄板状材の少なくとも片
側面を上記案内体の外径部に小ずき間をあけて配し、管
状軸により案内体を高速回転し、なから管状軸内に供給
する純水を案内体により吹出して薄板状月面を洗い流し
、薄板状材の表面を損傷することなく汚れを確実に除去
する、薄板状材の洗浄装置を提供することを目的として
いる。
′ｍ３図はこの発明の一実施例によるガラスマスクの洗
浄装置の禦部を示す縦断面図である。（ｌＯ）は縦に平
行配設の１対の管状軸で、上側の周囲に多数の***（１
１）が設けられ、図示を略した下部の駆動装置により高
速回転される。θ２）は管状軸（ｌＯ）の上端をふさぐ
ふた、（＋鎖は円筒形をなし、無数の海綿状すき間を有
して内径側から外径側に連通し、ている１対のスポンジ
体で、それぞれ管状軸（１０１にはめ込み固着されてい
る。双方のスポンジ体０３）間の中間には、ガラスマス
ク１１１が小すき間（約１ｍｍ）をあけて配置されてい
る。
浄装置の禦部を示す縦断面図である。（ｌＯ）は縦に平
行配設の１対の管状軸で、上側の周囲に多数の***（１
１）が設けられ、図示を略した下部の駆動装置により高
速回転される。θ２）は管状軸（ｌＯ）の上端をふさぐ
ふた、（＋鎖は円筒形をなし、無数の海綿状すき間を有
して内径側から外径側に連通し、ている１対のスポンジ
体で、それぞれ管状軸（１０１にはめ込み固着されてい
る。双方のスポンジ体０３）間の中間には、ガラスマス
ク１１１が小すき間（約１ｍｍ）をあけて配置されてい
る。
管状軸（ｌＯ（に固着されたスホンジ体Ｑ刊を、第４図
に一部を破断した斜視図で示す。管状軸（ｌＯ）は金属
材又はテフロン材など合成樹脂材からなり、直径約５
ｍｍの***（Ｉｌｉか多１１１設けられである。管状軸
（Ｉｏｌには下方から超純水θ４）が供′給され、***
（１１）からスポンジ体（＋３１内に流動し外径側から
画状に噴出する０ 上記一実施例の装置の洗浄作用は、次のようになる。双
方の管状軸（１０１を約３０００ｒｐｍの高速回転し、
各スポンジ体帥を回転させる。これにより、高速回転す
るスポンジ体０渇の外径部から超純水（＋４）が遠心力
により噴出し、双方のスポンジ体（１３）に対し相対的
平行移動するガラスマスク［１１の両側面に当り、付着
している汚れを洗い流す。
に一部を破断した斜視図で示す。管状軸（ｌＯ）は金属
材又はテフロン材など合成樹脂材からなり、直径約５
ｍｍの***（Ｉｌｉか多１１１設けられである。管状軸
（Ｉｏｌには下方から超純水θ４）が供′給され、***
（１１）からスポンジ体（＋３１内に流動し外径側から
画状に噴出する０ 上記一実施例の装置の洗浄作用は、次のようになる。双
方の管状軸（１０１を約３０００ｒｐｍの高速回転し、
各スポンジ体帥を回転させる。これにより、高速回転す
るスポンジ体０渇の外径部から超純水（＋４）が遠心力
により噴出し、双方のスポンジ体（１３）に対し相対的
平行移動するガラスマスク［１１の両側面に当り、付着
している汚れを洗い流す。
このように、ガラスマスクｉｌ＋の全面に一様に純水（
１４ｊが当るので、従来の高圧水吹付けのように、コロ
ナ放電によるパターンの削れかなくなり、また、従来の
ブラシ（４）によるように、ガラスマスク（１）に接触
することなく、非接触であるので、汚れの再付着や金属
薄膜のはく離等の現象が生じなくなる。実使用結果によ
れば、洗浄効果は第１図の従来装置と同一であり、ガラ
スマスク（１）の寿命が延長された。
１４ｊが当るので、従来の高圧水吹付けのように、コロ
ナ放電によるパターンの削れかなくなり、また、従来の
ブラシ（４）によるように、ガラスマスク（１）に接触
することなく、非接触であるので、汚れの再付着や金属
薄膜のはく離等の現象が生じなくなる。実使用結果によ
れば、洗浄効果は第１図の従来装置と同一であり、ガラ
スマスク（１）の寿命が延長された。
なお、上記実施例では、洗浄する薄板状材としてガラス
マスク（＋）の場合を示したが、他の材質のマスクであ
ってもよく、さらに、半樽体ウェーハ、又はパターンな
どが施された薄板状材の場合にも適用できるものである
。
マスク（＋）の場合を示したが、他の材質のマスクであ
ってもよく、さらに、半樽体ウェーハ、又はパターンな
どが施された薄板状材の場合にも適用できるものである
。
また、上記実施例では洗浄液として超純水を使用した場
合を説明したが、純水、又は対象薄板状材によっては、
それに適応した洗浄液を用いてもよい。
合を説明したが、純水、又は対象薄板状材によっては、
それに適応した洗浄液を用いてもよい。
さらに、上記実施例では、ガラスマスク（１）の両面を
同時に洗浄する場合を示【７たが、片面でよい場合は、
スポンジ状体（＋＄１を一方側のみに配設した装置にし
てもよい。
同時に洗浄する場合を示【７たが、片面でよい場合は、
スポンジ状体（＋＄１を一方側のみに配設した装置にし
てもよい。
なおまた、上記実施例では、内径側がら外径側に連通ず
る無数の小ずき間を有する円筒状の案内体として、スポ
ンジ体部を用いたが、これに限らず、例えば円筒状のプ
２シを用いてもよい。
る無数の小ずき間を有する円筒状の案内体として、スポ
ンジ体部を用いたが、これに限らず、例えば円筒状のプ
２シを用いてもよい。
以上のように、この発明によれば、内径側から外径側に
連通する無数の小すき間を有する円筒状の案内体を、多
数の***があけられた管状軸にはめ込み、薄板状材の表
面に対し上記案内体の外周面を小すき間をあけて配し、
管状軸により案内体を高速回転させ、管状軸内に洗浄液
を供給し案内体の外周から噴出し薄板状材面を洗い流す
ようにしたので、薄板状材の表面を損傷することなく汚
れが除去され、ガラスマスクなどの場合は、使用寿命が
延長される効果がある。
連通する無数の小すき間を有する円筒状の案内体を、多
数の***があけられた管状軸にはめ込み、薄板状材の表
面に対し上記案内体の外周面を小すき間をあけて配し、
管状軸により案内体を高速回転させ、管状軸内に洗浄液
を供給し案内体の外周から噴出し薄板状材面を洗い流す
ようにしたので、薄板状材の表面を損傷することなく汚
れが除去され、ガラスマスクなどの場合は、使用寿命が
延長される効果がある。
第１図は従来のガラスマスクの洗浄装置を示す要部の正
面断面図、第２図は従来の他の例のガラスマスクの洗浄
装置を示す要部の正面断面図、第３図はこの発明の一実
施例によるガラスマスクの洗浄装置を示す要部の縦断面
図、第４図は第３図のスポンジ体部を一部破断して示す
斜視図である。 図において、ｌ・・・薄板状材をなすガラスマスク、１
０・・・管状軸、１１・・・小孔、１３・・・案内体を
なすスポンジ体、１４・・・洗浄液をなす純水。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
面断面図、第２図は従来の他の例のガラスマスクの洗浄
装置を示す要部の正面断面図、第３図はこの発明の一実
施例によるガラスマスクの洗浄装置を示す要部の縦断面
図、第４図は第３図のスポンジ体部を一部破断して示す
斜視図である。 図において、ｌ・・・薄板状材をなすガラスマスク、１
０・・・管状軸、１１・・・小孔、１３・・・案内体を
なすスポンジ体、１４・・・洗浄液をなす純水。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ＋１１ 円周部に多数の小孔があけられてあり、高速
回転され内部に供給される洗浄液を上記各小孔から放射
する管状軸、及び円筒形をなし、無数の小すき間が形成
されていて互いに内径側から外径側に連通しており、上
記管状軸の外円周部にはめ込み固着されていて高速回転
され、管状軸の各小孔からの上記洗浄液を外径側から画
状に噴出する案内体を備え、この案内体の外径部に対し
小すき間をあけて薄板状材を平行に配し、この薄板状材
を案内体に相対的に平行移動させ表面の汚れを上記噴出
する洗浄液により流し落すようにした薄板状材の洗浄装
置。 （２）管状軸に案内体を固着したｌ対の組を、双方の案
内体の外径部間を間隔をあけて平行配置し、これらの案
内体間に薄板状材を両面側とも小す色間をあけて平行に
配し、両面を同時に洗浄するようにしたことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の薄板状材の洗浄装置。 （３） 案内体はスポンジ体からなることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項又は第２項記載の薄板状材の洗
浄装置。 （４）案内体はブラシ俸からなることを特徴とする特許
請求の範囲第１項又は第２項記載の薄板状材の洗浄装置
。 （６）薄板状材はガラスマスクからなり、洗浄液に純水
を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし
ｉ＠４項のいづれかの項記載の薄板状材の洗浄装置。 （６） 薄板状材は半導体ウェーノーからなり、洗浄
液に純水を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１
項ないし第４項のいづれかの項記載の薄板状材の洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197207A JPS5986226A (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 薄板状材の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197207A JPS5986226A (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 薄板状材の洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5986226A true JPS5986226A (ja) | 1984-05-18 |
| JPS6226175B2 JPS6226175B2 (ja) | 1987-06-08 |
Family
ID=16370598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57197207A Granted JPS5986226A (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 薄板状材の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5986226A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998002904A1 (en) * | 1996-07-15 | 1998-01-22 | Oliver Design, Inc. | Wafer cleaning apparatus |
| EP0914216A1 (en) * | 1995-10-13 | 1999-05-12 | Ontrak Systems, Inc. | Method and apparatus for chemical delivery through the brush |
| US6230753B1 (en) | 1996-07-15 | 2001-05-15 | Lam Research Corporation | Wafer cleaning apparatus |
| EP1107290A2 (en) * | 1999-12-03 | 2001-06-13 | LAM Research Corporation | Wafer scrubbing brush core |
| US6247197B1 (en) | 1998-07-09 | 2001-06-19 | Lam Research Corporation | Brush interflow distributor |
| EP1698404A1 (en) * | 2003-12-26 | 2006-09-06 | Aion Co., Ltd. | Core for washing sponge roller |
-
1982
- 1982-11-08 JP JP57197207A patent/JPS5986226A/ja active Granted
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0914216A4 (ja) * | 1995-10-13 | 1999-05-12 | ||
| EP1046433A1 (en) * | 1995-10-13 | 2000-10-25 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for chemical delivery through the brush |
| EP0914216A1 (en) * | 1995-10-13 | 1999-05-12 | Ontrak Systems, Inc. | Method and apparatus for chemical delivery through the brush |
| US6230753B1 (en) | 1996-07-15 | 2001-05-15 | Lam Research Corporation | Wafer cleaning apparatus |
| US5875507A (en) * | 1996-07-15 | 1999-03-02 | Oliver Design, Inc. | Wafer cleaning apparatus |
| US6143089A (en) * | 1996-07-15 | 2000-11-07 | Lam Research Corporation | Method of cleaning semiconductor wafers and other substrates |
| WO1998002904A1 (en) * | 1996-07-15 | 1998-01-22 | Oliver Design, Inc. | Wafer cleaning apparatus |
| US6345404B1 (en) | 1996-07-15 | 2002-02-12 | Lam Research Corporation | Wafer cleaning apparatus |
| US6247197B1 (en) | 1998-07-09 | 2001-06-19 | Lam Research Corporation | Brush interflow distributor |
| US6464796B2 (en) * | 1998-07-09 | 2002-10-15 | Lam Research Corporation | Methods for applying fluid through a brush interflow distributor |
| EP1107290A2 (en) * | 1999-12-03 | 2001-06-13 | LAM Research Corporation | Wafer scrubbing brush core |
| EP1107290A3 (en) * | 1999-12-03 | 2003-04-02 | LAM Research Corporation | Wafer scrubbing brush core |
| EP1698404A1 (en) * | 2003-12-26 | 2006-09-06 | Aion Co., Ltd. | Core for washing sponge roller |
| EP1698404A4 (en) * | 2003-12-26 | 2012-05-16 | Aion Co Ltd | CORE FOR WASHING A SPONGE ROLL |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6226175B2 (ja) | 1987-06-08 |
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