JPS598318B2 - 湿式ガススクラツビング法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ガス状混合物から固体粒状物及び酸性ガスを
除去する方法に関する。

特に、本発明は、炭化水素の接触分解に用いた触媒を再
生するプロセスにおいて生成するガス混合物から固体粒
状物及び酸性ガスを除去する方法に関する。

流動接触分解プロセス系の再生器で生じるガス状混合物
は、触媒微粉を含めた固体粒状物及び硫黄酸化物の如き
酸性ガスを含有する。

か＼るガスは、生態学に対するこれらの汚染物質の有害
な影響を最少限にするために大気に放出する前にそこか
ら固体粒状物及び酸性ガスのレベルを下げるのが望まし
い。

固体粒子は、スクラッピング液が圧力下に噴霧ノズルを
経てベンチュリに入るところのジェットエゼクター型ベ
ンチュリスクラッパーでガスをスクラツビングすること
を包含する湿式スクラツビング法によってガスから除去
できることが知られている。

液体噴霧の速度によって、ベンチュリスクラツバーの室
に通風（ドラフト）が起され、そしてガス又は蒸気はス
クラッパ一本体ニ且つスクラツバーの狭窄通路を経て導
かれ、そこでスクラツビング液とガスとの緊密な混合が
起る。

一般的に言って、スクラツバー（これは、連続又は平行
した１つ以上のベンチュリ構造であってよい）の流出物
は分離器に送られ、そこで汚染液体が浄化ガスから分離
される。

また、湿式スクラツビング処理を受けるガス中に存在す
る可能性のある塩基性又は酸性汚染物を中和又は吸収す
るためにスクラツビング液に酸性又は塩基性物質を加え
ることができることも知られている。

ガス状混合物からそれらを大気に放出する前に粒状物及
び酸性ガスのレベルを下げるために多《の種類のベンチ
ュリ型湿式ガススクラッピング系が提案されたけれども
、ガス状混合物からの固体粒状物及び他の汚染物質の有
効な除去に対する特定の湿式スクラツビング系の適合性
を予言することはできないことが分った。

更に、あるガス組成物で得られたデータは他のガス組成
物に必ずしも適用することができないことも分った。

かくして、・キャリアガスの性質、固体粒状汚染物質の
性質及び寸法並びに汚染ガスの性質は、公知のベンチュ
リ湿式ガススクラツビング法のどれかによる汚染物質の
除去の効率及び操作性に影響を及ぼす因子である。

こ〜に本発明に従えば、流動接触分解系の再生器で生成
したガス状混合物においてサブミクロン寸法の粒子から
なる分解触媒を含めた固体粒子物、凝縮可能な汚染物及
び硫黄酸化物の如き酸性ガスは、ジェットエゼクター型
ベンチュリスクラッパーを用いて特定の条件下に実施さ
れる湿式ガススクラツビング法によって適当なレベルに
減少させ得ることが分った。

本発明に従えば、二酸化硫黄及び分解触媒微粉を含有し
該触媒微粉が寸法１ミクロンより下の粒子を約４０重量
％まで含むところのガス状流出物から該二酸化硫黄及び
分解触媒微粉を除去するに当り、（ａｍ記ガス状流出物
をベンチュリ構造体に導入しそしてそれを、アルカリ金
属水酸化物、水酸化アンモニウム及びアンモニアよりな
る群から選定される塩基性物質を含有し且つ約６〜約７
の範囲内のｐＨに維持した水性スクラツビング混合物の
比較的冷たい高速度流れと接触させる工程、（ｂ）前記
ベンチュリ構造体の狭窄通路を経て前記ガスとスクラツ
ビング混合物との混合物を通してその速度を増大させる
工程、（Ｃ）工程（ｂ）からの混合物をベンチュリ構造
体から回収する工程、及び（ｄ）前記の回収した混合物
を触媒微粉及び硫黄酸化物の含量が減少したガス部分及
び液体部分に分離する工程からなるガス状混合物からの
二酸化硫黄及び分解触媒微粉の除去法が提供される。

所望ならば、このガス部分は、それを大気に放出する前
にその露点よりも上に再加熱することができる。

本発明の１つの具体例では、分離工程から生じる液体の
一部分は、スクラツビング混合物としてベンチュリ構造
体に再循環される。

本発明の好ましい具体例は、添附図面を参照しながら以
下で説明することにする。

本発明の方法は、精油所プロセスのガス状流出物特に低
圧ガス状流出物から固体粒状物及び酸性ガスを除去する
のに好適である。

本発明の方法は、接触分解プロセスの再生器で生じるガ
ス状混合物から固体粒状物及び酸性ガスを除去するのに
特に好適である。

かＮるガス状混合物中の固形物は、サブミクロン寸法の
粒子を４０重量％まで通常約１〜約４０重量％含む可能
性がある。

これは、流動接触分解プロセス装置の再生器で生じるガ
ス状混合物の処理に特に適合する。

流動接触分解法は周知である（例えば、Ｈｙｄｒｏｃａ
ｒｂｏｎ Ｐｒｏ一ｃｅｓｓｉｎｇ， １ ９ ７ ２
年９月、第１３１〜１３８頁参照）。

分解反応の間、炭素質物質が触媒粒子上に付着し、これ
によってそれらの触媒活性を下げる。

それ故に、接触反応帯域からの一部分失活した触媒粒子
の流れを再生帯域に循環させてそこで空気の如き酸素含
有ガスの存在下での燃焼によって触媒粒子から炭素質付
着物を燃焼させることが通常の操作である。

再生は、８００〜１５００下の範囲内の温度で行なうこ
とができる。

再生を低い温度範囲即ち約８００〜１３００°Ｆで行な
うときには、再生器ガス流出物は約８〜１４モル％の一
酸化炭素（乾燥基準で）を含有する。

このガスのＣＯ含量を下げることを望むときには、ガス
をＣＯボイラー又は炉の如き燃焼帯域に送りそれによっ
てＣＯの少なくとも一部分をＣ０２に転化させることが
従来の方法である。

再生法を高い温度範囲即ち約１３００〜１５００°Ｆの
範囲内で実施したときには、再生器ガス流出物は、最初
に形成したＣＯが高温再生でＣＯ２に転化されるのでほ
ｙゼロから１２モル％のＣＯを含有する。

後者の場合では、再生器ガスは、ＣＯボイラー又は炉に
通常通されない。

多くの公知法では、接触再生は、低圧で例えば約３０ｐ
ｓｉｇ より下で行われる。

それ故に、か〜る低圧再生器のガス状流出物の出口圧も
亦低い。

更に、再生器ガスをＣＯボイラー又は炉の如き燃焼容器
で燃焼させると、燃焼容器から出るガスは、典型的には
約−０．１〜１．０ｐｓｉｇの範囲内の低い圧力を有す
る。

本発明のガス浄化法は低温又は高温再生法で得られた流
動接触分解再生器ガスに適用することができるが、この
ガスは、随意として、湿式スクラツビング処理を施す前
に後で燃焼帯域において燃焼させてもよい。

再生器流出ガス及びＣＯボイラーにおいて後で燃焼され
た再生器流出ガスの代表的な組成は次の如《である。

ＣＯボイラーから出る再生器ガス 成分 量 窒 素 ６５〜７５モル％ 酸 素 １〜 ５モル％ 二酸化炭素 １０〜１５モル％ 水蒸気 １０〜２５モル％ 成分 量 硫黄酸化物 ２ ０ 〜８ ０ ０ ｖｐｐｍ
窒素酸化物 ５０〜２００ｖｐｐｍ固体粒状物
０．０２〜１．０グレン／ＳＣＦ再生器流出物 成分 量 窒．素 ６０〜７０モル％ 酸素 ＜０．５モル％ 二酸化炭素 ６〜１０モル％ 一酸化炭素 ６〜１０モル％ 水蒸気 １０〜３０モル％ 硫黄酸化物 ２０〜８００ｖｐｐｍ窒素酸化物
０〜２０ ｖｐｐｍ固体粒状物 ０．
０４〜１．２グレン／ＳＣＦこ〜で添附図面を説明する
と、ガス状流出物は、流動接触分解再生器１から管路１
１を経て取出され、そしてＣＯボイラー２に導入されて
そこで燃焼される。

ＣＯボイラーから出る燃焼した再生器ガスは、約−０．
０φｐｓｉｇの圧力（この圧力は、広範囲には約−０．
１〜１．０ｐｓｉｇの範囲内であってよい）及び約６０
０’Ｆの温度（この温度は約２００〜１０００’Ｆの範
囲内であってよい）である。

ＣＯボイラーのガス状流出物は二酸化炭素、酸素、二酸
化硫黄、三酸化硫黄、窒素、凝縮性物質及び固体粒状物
（これは、主として、流動接触分解プロセス間に用いら
れる分解触媒微粉である）を含む。

分解に用いられる通常の触媒は、シリカ、無定形若しく
は結晶質（ゼオライト）シリカーアルミナ、シリカージ
ルコニア、シリカーマグネシア等の如きけい質物質を含
む。

ガス状流出物中の触媒粒子の約１〜４０重量％は寸法が
１ミクロンより下である。

凝縮性物質は、温度及び圧力の標準条件下に固体として
又は液体としてガス状流出物から凝縮するガス状流出物
（水蒸気を除いて）中の成分、例えば硫酸塩及びＨ２Ｓ
Ｏ４の如き無機物質並びに炭化水素特性を持つ有機物質
のどれかである。

ガス状のＣＯボイラー流出物は、管路１３を経て取出さ
れ、そして冷却のために管路２７を経て導入される水を
吹付けられる。

水処理したガス（こ〜で、約１ ５ ５’Ｆの温度にあ
る）は管路１５を経てベンチュリスクラッパ−３に導入
され、そこでそれは管路２３で導かれてベンチュリスク
ラッパ−３に噴入されろ水性スクラツビング混合物の流
れと接触する。

この場合に、ＣＯボイラーとベンチュリスクラツバーと
の間では中間的な圧縮は行われない。

水処理したガスは、約２０〜８０ｆｔ／秒好まし《は約
４０〜５０ｆｔ／秒の速度でベンチュリスクラツバーに
導入される。

スクラツピング混合物は、スクラツビング混合物２０〜
１２０ガロン対ガス１ ０ ０ ０ ｆｔ”の比率好ま
しくはスクラツビング混合物４０〜８０ガロン対ガス１
０００ｆｔ３の比率でベンチュリスクラツバーに導入さ
れる。

また、スクラツビング混合物は、水中への固体粒子の所
望の閉じ込めを補助するために流入する水処理済みのガ
スの温度よりも冷たい温度でベンチュリスクラツバーに
導入される。

望まし《は、ベンチュリスクラツバーに注入されるスク
ラツビング混合物は、流入する水処理済みガスよりも約
５〜５０’Ｆ好ましくは約１０°Ｆ冷たい。

スクラツビング混合物は、６〜７好ましくは約６．５〜
７以下の範囲内のｐＨに維持されることが必須である。

ｐＨの正確な制御は、ガスから除去される硫黄酸化物の
程度を決定し、そして特に工業的装置の連続操作として
実施するときの系の操作性に影響を及ぼす。

ｐＨは、望まれないＣ０２吸収を最少限にするために７
よりも高くないように維持されなければならない。

ｐＨを制御するために、水性スクラツビング混合物に塩
基性物質が添加される。

塩基性物質は、例えば、アルカリ金属水酸化物、アンモ
ニア又は水酸化アンモニウムであってよい。

本発明の好ましい具体例では、スクラツビング混合物の
ｐＨ制御のための塩基性物質として水酸化ナトリウムが
用いられる。

スクラツビング混合物と流入するガス状混合物との接触
は、塩基性物質との反応によってガスから硫黄酸化物を
除去する。

スクラツビングされたガス及びスクラツビング混合物は
ベンチュリスクラツバー・の狭窄流路を流れ、これによ
ってガスとスクラツビング混合物との混合物の速度が増
大され、しかして普通の態様で固体粒子上で水が冷却さ
れて凝縮する。

ベンチュリスクラツバーの全流出物即ちガスと液体との
混合物の少なくとも一部分は、ベンチュリスクラツバー
から管路１７を経て取出され、そして分離器ドラム４の
底部に存．在する可能性のある液体のＶベル（添附図面
ではＬで示される）よりも上で分離器ドラム４に導入さ
れる。

ＣＯボイラーからの流出圧と分離容器からの流出圧との
間でのガスの圧力降下は、水柱約１ｆｔ以下好ましくは
水柱約２ｉｎ以下に保たれなければならない。

何故ならば、ベンチュリスクラツバーに入るガスは低圧
ガスであるからである。

本発明の方法は、スクラツバーから分離容器を経て煙突
までガスを移動させるために系でガス圧縮器を用いる必
要性を排除する。

分離器ドラムでは、ベンチュリスクラツバー流出物の非
凝縮性ガス部分は、上方に流れ、そして煙突１９を経て
それを大気に排出する前にその露点よりも上に予熱され
る。

望ましくは、予熱は、ガス部分の温度を約５〜７５′Ｆ
程上昇させそして好ましくはその温度を約３０°Ｆ程上
昇させるような態様で実施され、そして管路３５を経て
熱ガスを浄化ガスの上流流れに注入することによって達
成することができる。

熱ガスはガス加熱器５の流出物であってよいが、このガ
ス加熱器には管路３１を経て燃料ガス及び管路３３を経
て空気が導入される。

汚染された液体スクラツビング混合物は、分離器ドラム
４の底部（液体ホールドアップ帯域）に液相な形成する
。

これは、懸濁固形物（触媒）及び溶存固形物例えば硫酸
ナ｝ ＩＪウム、亜硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム
並びにＨ２ＳＯ４の如き凝縮性液体汚染物を含有する。

分離器ドラムの液体ホールドアップ帯域に管路２５を経
て補給水を導入することができる。

また、分離器ドラムの液体ホールドアップ帯域には、ス
クラツビング混合物のｐＨを所望レベルに維持するため
に管路２９を経て塩基性物質（好ましい具体例では約３
０°Ｂｅ’の水酸化ナトリウムである）を導入すること
もできる。

分離器ドラム内に存在する液体部分の少なくとも一部分
は管路２１を経て引出される。

所望ならば、熱交換器（図示せず）の如き慣用手段によ
って所望温度に冷却された前記液体流出物の少なくとも
一部分は、スクラツビング混合物として管路２３を経て
ベンチュリスクラッパ−３に再循環される。

別法として、分離器ドラムに導入する代わりに又は分離
器ドラムに導入する他に、再循環管に補給水酸化ナトリ
ウムを加えることができよう。

分離器ドラムの液体流出物の他の部分はプロセスから取
出され、そして所望ならば、それを投棄処分に対して好
適にするために濃縮、固形分の除去及び廃水の処理の如
き更にの処理を施すことができる。

次の実施例は、本発明の方法を例示するために提供され
る。

実施例 １ 接触分解触媒再生器のガス状流出物から接触分解触媒微
粉並びにＨ２ＳＯ４及び（ＮＨ４）ｚｓ０４の如き凝縮
性物質を除去するための本発明の方法の効率を例示する
ために、流動接触分解プロセス装置の再生器で生成した
ガスをジェットエゼクター型ベンチュリスクラッパーで
スクラッピングした。

試験で用いた特定のベンチュリスクラツバーは、１ ２
ｉｎ Ｋｏｅｒｔｒｏｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製
モデル７０１０ジェットエゼクター型スクラツバーであ
った。

この種のスクラツバーは、ガス流れをスクラツビングし
圧縮するのに大量の高圧（４０〜１２０ｐｓｉｇ）水流
れを必要とする。

水性スクラツビング混合物のｐＨを制御するのに水酸化
ナトリウムを用いた。

１０００〜３０００実ｆｔ３／分（ＡＣＦＭ）の再生器
ガス状流出物を処理する操作条件及び結果を第１表に要
約する。

第１表に要約した一連の実験では、水による予備処理な
しにガスをジェットエゼクター型ベンチュリに導入した
。

第 １ 表 実 験 ＡＢＣＤＥＦＧ流入ガス速度
、ＡＣＦＭ １８３０ １４８０ １４１
０ １０４０ ２０５０ ２２３０ ２７２０
流入温度、’Ｆ ７５０ ７
３５ ７００ ６２０ ７６５ ＮＡ
ＮＡ流出温度、’Ｆ １１０
１１０ １０９ １０５ １１９
１１０ １１７三角ヘッド、水柱ｉｎ
１．７ １．３ ２．８ Ｎ
Ａ ＮＡ ＮＡ ２−０スクラ″７グ混
合物速度’ ５６ ５５ ５３
５３ ５２ ５８ ５８ｇｐ
ｍ スクラ″″グ混合物圧’ ５６ ５６
５２ ５２ ５０ ９０
９０ｐｓｉｇ スクラ７／＜ −”％の７クラ″″″ ＮＡ
９２ ９８ ９４ １０４
８０ ８０ング混合物、下 スクラ″ゝ一力゛ら′）″″クラ″：／ １１２
１０６ １１０ １０６ １２３
ＮＡ ＮＡビング混合物、Ｔ スクラツビング混合物 ｐＨ ５．６
５．０ ６．２ ７．５ ６．０
８．１ ８．１触媒の量、グレン／ＳＣＦ 入口 ０．２６４ ０
．２６４ ０．２７９ ０．２７９ ０．６
０７ ＮＡ Ｏ．２４６出口
０．００５ ０．０１１ ０．００４
０．００６ ０．００５ ０．００５ ０．０
２６効率 ９８．２ ９５
．８ ９８．３ ９７．８ ９９．２
− − ８９．３凝縮物の量、グレン／ＳＣＦ 入口 ０．２０２ ０．
２０２ ０．１２４ ０．１２４ ０．３５２
０．２６９ ０．０５６出口
０．０１８ ０．０２５ ０．０１３ ０
．０１０ ０．００７ ０．００４ ０．００３
効率 ９１．２ ８７．８
８９．６ ９２．３ ９８．０ ９
８．５ ９４．９ＮＡ一人手せず ＡＣＦＭ一実際のｆｔ ”／分 ＳＣＦ一標準ｆｔ３ ＧＰＭ−ガロン／分 これらの実験では、Ｓ０２除去効率を測定する試みを行
わなかった。

実験Ｃ及びＥでは、ｐＨは本発明のｐＨ範囲内に維持さ
れた。

例２ 他の組の実験では、流動接触分解プロセス装置の再生容
器で生じたガスをＣＯボイラーで燃焼させた。

その後に、このＣＯボイラーから出るガスの流れをジェ
ットエゼクター型ベンチュリスクラツバーでスクラツビ
ングした。

これらの実験で用いた特定のベンチュリスクラツバーは
、ｉｏｉｎＫｏｅｒｔｒｏｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏ
ｎ製モデ＃ ７ ０１０ジェットエゼクター型スクラツ
バーであった。

水性スクラツビング混合物のｐＨを制御するのに水酸化
ナトリウムを用いた。

ＣＯボイラーは背圧の制限を受けて作動するので、低圧
ガスを圧縮するスクラツバーの能力は系における送風機
又はファンの必要性を排除する。

操作条件及び結果を第２表に要約する。

この組の実験では、ガスは、それをジェットエゼクター
型ヘンチュリに導入する前に，水と接触して冷却された
。

第 ２ 表 実験 ＨＩＪＫＬＭＮＯＰ Ｑ ガス速度、 ７６７ ８１０ ８８０
８９０ ８９７ ８５５ ７５０ ７５３
７００ ６３５ＡＣＦＭ，スク ラッパ一人口 （１０“゜） 急冷帯域の流入 １５４ １７５ １７７ １
７３ １８８ １７１ １８０ １３９ １
４０ １３７温度、下 急冷水速度、 ４．０ ４．０ １８．０
７．０ ７．０ ７．０ ７．０
７．０ ７．０ ７．ＯＧＰＭ スクラツバーの １３０ １３７ １２０ １
２５ １３０ １３０ １３０．５ １１８
１１６ １０８流入温度、下 流入圧、Ｈ２０ −１．８ −１．４ −１．９
−２．０ −２．０ −２．０ −１．６
−１．５ −１．５ −１．４スクラツビング
５３ ５２ ７２ ７５ ７６
７５ ３６ ３６ ３４ ３２混
合物速度、 ＧＰＭ スクラツビング ６９ ６４ ８２
８４ ８５ ８８ ４８ ４８
４８ ５０混合物速度、 ＧＰＭ／１ ｏ ｏ ｏ ＡＣＦ 分離器流出ガス １２７ １２７ １０４ １
０６ １２９ １２８ １３０．５ １１９
１１８ １１１温度、下 スクラツバーへ １２７ １２６ １００
１０５ １２９ １２８ １３０．５ １２９
１０６ １０６のスクラツビン グ混合物の温度、 下 分離器ドラムへ − １０７ １１１
１３０．５ １３０ １３０．５ １１９
１１８ １０９のスクラツビン グ混合物の温度、 下 スクラツバーへ ５．５ ５．７ ６．０
６．８ ６．７ ６．７ ６．５
６．９ ７．４ ８．０のスクラツビン グ混合物のｐＨ スクラッパーノ ０．５９ ０．５９ ０．８
０．８ ０．８ ０．８ ０．４９
０．４９ ０．４９ ０．４９ズルオリフイス 寸法、ｉｎ ノズル圧、 １１０ １１０ １００
１００ １００ １００ １２５
１２５ １００ １００ｐｓｉｇ 実験 ＨＩ ＪＫＬＭＮＯＰＱ 流入試料： 触媒の量、グ．０４４８ ．０６９３ ．０６７４ ．
０５９７ ．０６２４ ．０４２７ ．０３７９ ．０
５１２．０４２２ ．０３７７レン／ＳＣＦ 無機凝縮性物、．０１９６ ．０１３５ ．０１５６
．０１７３ ．０１８１ ．０１３３ ．００９４ ．
０１５１ ．Ｑ１３６ ．０１５６グレｙ／Ｓ Ｃ Ｆ 有機凝縮性物、．０１８９ ．００５４ ．００５３
．００７４ ．００６３ ．００５９ ．０１１９ ．
００８５ ．００５１ ．００３８グレン：／ＳＣＦ 全粒状物、グ．０８３３ ．０８８２ ．０３８３ ．
０８４４ ．０３６８ ．０６１９ ．０５９２ ．０
７４８ ．０６０９ ．０５７１レン／ＳＣＦ ｓｏ２含量、 ４６５ ６３０ ５８８ −
５５４ ５６０ ６０７ ５４０ ３６０
３４１ｗｐｐｍ 流出試料： 触媒の量、グ．００３９ ．００３５ ．００１８ ．
００２４ ．００４４ ．００２８ ．００２１ ．０
０３７ ．００２０ ．００４３レン／ＳＣＦ 無機凝縮性戦．００８０ ．００５４ ．００３４ ．
００２４ ．００５９ ．００３５ ．００４１ ．０
０４０ ．００３２ ．００２８グレン内ＣＦ 有機凝縮性物，．００６０ ．００２２ ．００２９
．００２０ ．００２３ ．００３５ ．００７０ ．
００５５ ．００１５ ．００３５グレ７／Ｓ ＣＦ 全粒状物、グ．０１７９ ．０１１１ ．００８１ ．
００６３ ．０１２６ ．００９３ ．０１３２ ．０
１３２ ．００６７ ．０１０６レン／ＳＣＦ ＳＯ２含量、 なし ４．４ ２．２ なし
なし ４．３ ４．３ なし なし なし
ｗｐｐｍ 第２表のデータから分るように、実験Ｈ及び■は本発明
のｐＨ範囲内よりも低いｐＨで、そして実験Ｐ及びＱは
高いｐＨで行われた。

これらの短期間実験のデータは本法を広範囲のｐＨ値に
わたって実施することができることを示すようであるけ
れども、工業規模プロセスの如き連続操作の操作性につ
いてはｐＨを６〜７に維持するのが必要であることが分
った。

それよりも高いｐＨ値では、水性スクラツビング混合物
でのＣ０２吸収は、苛性消費の増加並びに望ましくない
炭酸塩の形成なもたらす。

低いｐＨ操作は、装置の腐食速度の増大をもたらすので
望まれない。

【図面の簡単な説明】

添附図面は本発明の１つの具体例の概略流れ図であって
、主要部は次の参照数字によって示される。 １：触媒再生器、２：ＣＯボイラー、３：ベンチュリス
クラツバー、４：分離器ドラム、５：ガス加熱器。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 二酸化硫黄及び分解触媒微粉を含有し且つ該触媒微
   粉が寸法１ミクロンよりも下の粒子を約４０重量％まで
   含むところのガス状流出物から二酸化硫黄及び分解触媒
   微粉を除去するに当り、（ａ） 前記ガス状流出物を
   ベンチュリ構造体に導入しそしてそれを、アルカリ金属
   水酸化物、水酸化アンモニウム及びアンモニアよりなる
   群から選定される塩基性物質を含有ししかも約６〜約７
   の範囲内のｐＨに維持された水性スクラッピング混合物
   の比較的冷たい高速度流れと接触させる工程、 （ｂ） 前記のガスとスクラツバー混合物との混合物
   を前記ペンチュリ構造体の狭窄通路を通してその速度を
   高める工程、 （Ｃ） 工程（ｂ）からの混合物をベンチュリ構造体
   から回収する工程、及び （ｄ） 前記の回収した混合物を触媒微粉及び二酸化
   硫黄含量が減少されたガス部分及び液体部分に分離する
   工程、 からなるガス状流出物からの二酸化硫黄及び分解触媒微
   粉除去法。 ２ 触媒微粉の１〜４０重量％が寸法１ミクロンより下
   であることからなる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 塩基性物質が水酸化ナトリウムであることからなる
   特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ 分離した液体部分の一部分をガスースクラツビング
   混合物接触工程（ａ）に再循環させることからなる特許
   請求の範囲第１項記載の方法。 ５ ガス状流出物を工程（ａ）のベンチュリ構造体の導
   入前に水と接触させることからなる特許請求の範囲第１
   項記載の方法。 ６ ガス状流出物を水予備処理工程なしに工ｉａ）のベ
   ンチュリ構造体に導入することからなる特許請求の範囲
   第１項記載の方法。 ７ 工程（ｄ）で得たガス状部分をその露点よりも上に
   予熱することからなる特許請求の範囲第１項記載の方法
   。 ８ ガス状流出物が接触分解プロセスの再生帯域で生成
   したガス状混合物であることからなる特許請求の範囲第
   １項記載の方法。 ９ ガス状流出物が接触分解プロセスの再生帯域の流出
   物を燃焼帯域で燃焼させることによって生成したガス状
   混合物であることからなる特許請求の範囲第１項記載の
   方法。 １０ 水性スクラツビング混合物の高速度流れがベン
   チュリ構造体へのガス状流出物の導入温度よりも約５〜
   約５０°Ｆ冷たいことからなる特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 １１ 触媒微粉がげい質物質を含むことからなる特許
   請求の範囲第１項記載の方法。 １２ 触媒微粉が無定性又は結晶質シリカーアルミナ
   或いはそれらの混合物を含むことからなる特許請求の範
   囲第１項記載の方法。