JPS5951530A - Ｘｙ移動装置 - Google Patents
Ｘｙ移動装置Info
- Publication number
- JPS5951530A JPS5951530A JP58150147A JP15014783A JPS5951530A JP S5951530 A JPS5951530 A JP S5951530A JP 58150147 A JP58150147 A JP 58150147A JP 15014783 A JP15014783 A JP 15014783A JP S5951530 A JPS5951530 A JP S5951530A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- sliding
- sample table
- base
- transfer member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012840 feeding operation Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体製造装置などにおいて用いられるＸＹ
移動装置に関する。
移動装置に関する。
半導体装置、たとえｌ、Ｙステップアンドリピータや縮
小投影露光装置などは、通常、ホ１−レジス１〜を塗布
したマスク基板またはウェハ上に梁積回路パターンを光
学写真的に投影焼イ・１けするものであるが、投影焼伺
はレンズの結像範囲の制約から前記のようなマスク基板
やウェハの全面を一度に焼イ）１けすることは不ＩＩｒ
能である。そのため、上記のような装置てｔＪ°精密Ｘ
Ｙ移動台を備え、この−１−に前記マスクＪ、を板また
はウェハ髪装着してｘ、■方向の二次元の間欠送り動作
を行ないながら、集積回路パターンを前記マスク基板ま
たはウェハ上の全面に配列焼付けしている。
小投影露光装置などは、通常、ホ１−レジス１〜を塗布
したマスク基板またはウェハ上に梁積回路パターンを光
学写真的に投影焼イ・１けするものであるが、投影焼伺
はレンズの結像範囲の制約から前記のようなマスク基板
やウェハの全面を一度に焼イ）１けすることは不ＩＩｒ
能である。そのため、上記のような装置てｔＪ°精密Ｘ
Ｙ移動台を備え、この−１−に前記マスクＪ、を板また
はウェハ髪装着してｘ、■方向の二次元の間欠送り動作
を行ないながら、集積回路パターンを前記マスク基板ま
たはウェハ上の全面に配列焼付けしている。
このようなＸＹ移動台には、スルーグツ１−向上のため
その高速化が強く望まれている。−１−記装置のように
１回の送り距１１７１１が１． ＯｎＩｎ以下と短かい
場合、位置決めの高速化をはかるには可動部質量を小さ
くして加減速特性を良くすると共に、位置決め後の振動
を早く整定することが有効である。
その高速化が強く望まれている。−１−記装置のように
１回の送り距１１７１１が１． ＯｎＩｎ以下と短かい
場合、位置決めの高速化をはかるには可動部質量を小さ
くして加減速特性を良くすると共に、位置決め後の振動
を早く整定することが有効である。
本発明は、上記の点に着ＥＩ してなされたものであり
、」１記の要求を？ｉｇｔ足できる、小型で製作容易か
つ高速位置決めが可能なＸＶ移動装置を提供することを
目的とする。
、」１記の要求を？ｉｇｔ足できる、小型で製作容易か
つ高速位置決めが可能なＸＶ移動装置を提供することを
目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では、基盤１−にＸ
方向に形成しに溝内を、活動可能に形成された部分を右
するＸ移動部材と、該Ｘ移動部月の」二側にあってこれ
と一体にかつＸ軸方向と直交する如く敷設されたＹ軸ガ
イド手段と、該Ｙ軸ガイド手段と組み合ってＹ軸方向の
案内をする溝をその下面に形成した試料テーブルを具備
する如く構成したものである。
方向に形成しに溝内を、活動可能に形成された部分を右
するＸ移動部材と、該Ｘ移動部月の」二側にあってこれ
と一体にかつＸ軸方向と直交する如く敷設されたＹ軸ガ
イド手段と、該Ｙ軸ガイド手段と組み合ってＹ軸方向の
案内をする溝をその下面に形成した試料テーブルを具備
する如く構成したものである。
以下、本発明を実施例を参照して説明する。
図は、本発明の一実施例を示す図である。
ベース１には溝２が形成されており、図中Ｘ軸方向と垂
直な面内の断面形状が′１゛字形をしたＸ移動部材３が
この溝内を摺動する。Ｘ移動部材３のベース１と接触す
る部分４，５．６には高分子摺動材料が接着さ九ており
、円滑な摺動をなさしめる。慴動部４を溝２の側壁に密
着させるため、ローラ７と板バネ８からなる荷重機構が
Ｘ移動部材３に設けられており、前記側壁と対向する壁
を押している。このＸ移動部材３の１−面にはＸ軸と直
交してＹ軸ガイド９が敷設さオしている。Ｘ、Ｙ軸の両
方向に移動すべき試料テーブル】０の下面中央部にはＩ
ＩＩＩＩが形成されており、前記Ｙ軸ガイド９と組み合
一ってこの試料テーブル１０をＹ軸方向に案内する。Ｘ
軸回様、お互いが摺動する部分１２には摺動材が接、ｎ
されており、荷重機構１３によりＹ １ｌｉｌｌｌガイ
ド９との接触を保証する。試料テーブル１０の西端には
摺動部１４が形成されており、ベース１の、（、平面の
上をＸ、Ｙ軸内方向に摺動する。
直な面内の断面形状が′１゛字形をしたＸ移動部材３が
この溝内を摺動する。Ｘ移動部材３のベース１と接触す
る部分４，５．６には高分子摺動材料が接着さ九ており
、円滑な摺動をなさしめる。慴動部４を溝２の側壁に密
着させるため、ローラ７と板バネ８からなる荷重機構が
Ｘ移動部材３に設けられており、前記側壁と対向する壁
を押している。このＸ移動部材３の１−面にはＸ軸と直
交してＹ軸ガイド９が敷設さオしている。Ｘ、Ｙ軸の両
方向に移動すべき試料テーブル】０の下面中央部にはＩ
ＩＩＩＩが形成されており、前記Ｙ軸ガイド９と組み合
一ってこの試料テーブル１０をＹ軸方向に案内する。Ｘ
軸回様、お互いが摺動する部分１２には摺動材が接、ｎ
されており、荷重機構１３によりＹ １ｌｉｌｌｌガイ
ド９との接触を保証する。試料テーブル１０の西端には
摺動部１４が形成されており、ベース１の、（、平面の
上をＸ、Ｙ軸内方向に摺動する。
以−にのような構造とすることにより、試料テーブル］
０のｒＲ■ｊ：はベース１により支えられ、Ｘ移動部材
３に加えられることはない。そのためＸ移動部材３には
ＸＹ両軸を含む面内の強度および剛性が要求されろのみ
であり、１−ラス構造とすることも可能とな−）で非常
に軽量化することができる。
０のｒＲ■ｊ：はベース１により支えられ、Ｘ移動部材
３に加えられることはない。そのためＸ移動部材３には
ＸＹ両軸を含む面内の強度および剛性が要求されろのみ
であり、１−ラス構造とすることも可能とな−）で非常
に軽量化することができる。
駆動系（図には示されていない。）はＸ、Ｙ軸ともベー
ス１ど同じ静１１−座標系に固定され、ｘＩＩｌｌ目よ
駆動ロット１５夕介し、Ｙ軸は矩形穴を右する！ψ動栓
枠１６ベアリング１７を介して駆動する。
ス１ど同じ静１１−座標系に固定され、ｘＩＩｌｌ目よ
駆動ロット１５夕介し、Ｙ軸は矩形穴を右する！ψ動栓
枠１６ベアリング１７を介して駆動する。
〔発明のく１ノジ１！、〕
以」―説明したような構造とすることにより、Ｘ移動部
材３の質・量は一般的なで一段重ね（１シフ’ＪＳｌｊ
のものに比にｌ／；）〜１１５程度にまで小さくするこ
とができ、高速化が果たせる。またこのような構造によ
り４ノ（料テーブル′１０の高さが小さくでき、急激な
加減速時にもピッチングをイ１；しることがない。他の
長所は、Ｘ移動部材３および試料テーブル１０ともベー
スｌの」一平面を共通に摺動するため、精度を有する摺
動面の数が１つで済み、この摺動面も単純な形状をして
いるため、容易に高精度で研削加コ、により製作するこ
とができる。
材３の質・量は一般的なで一段重ね（１シフ’ＪＳｌｊ
のものに比にｌ／；）〜１１５程度にまで小さくするこ
とができ、高速化が果たせる。またこのような構造によ
り４ノ（料テーブル′１０の高さが小さくでき、急激な
加減速時にもピッチングをイ１；しることがない。他の
長所は、Ｘ移動部材３および試料テーブル１０ともベー
スｌの」一平面を共通に摺動するため、精度を有する摺
動面の数が１つで済み、この摺動面も単純な形状をして
いるため、容易に高精度で研削加コ、により製作するこ
とができる。
図面の１ｌｔｉ電）１か説明
図は、本発明の一実施例を示す図である。
Claims (1)
- １、基盤１−にＸ方向に形成した溝内を慴動可能に形成
された部分を有するＸ移動部月と、該Ｘ移動部材のＬ側
にあってこれと一体にかっＸ軸方向と直交する如く敷設
されたＹ軸ガイド手段と、該Ｙ軸ガイド手段と絹み合っ
てＹ軸方向の案内をする溝をその下面に形成した試料テ
ーブルを具備してなることを特徴とするＸＹ移動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58150147A JPS5951530A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | Ｘｙ移動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58150147A JPS5951530A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | Ｘｙ移動装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5951530A true JPS5951530A (ja) | 1984-03-26 |
Family
ID=15490518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58150147A Pending JPS5951530A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | Ｘｙ移動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5951530A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106238796A (zh) * | 2016-08-18 | 2016-12-21 | 陈泳东 | 一种用于建筑工料加工的新型刨床 |
-
1983
- 1983-08-19 JP JP58150147A patent/JPS5951530A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106238796A (zh) * | 2016-08-18 | 2016-12-21 | 陈泳东 | 一种用于建筑工料加工的新型刨床 |
| CN106238796B (zh) * | 2016-08-18 | 2018-12-11 | 林勇翔 | 一种用于建筑工料加工的新型刨床 |
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