JPS5942933A - 情報記録担体の製造方法及び製造装置 - Google Patents
情報記録担体の製造方法及び製造装置Info
- Publication number
- JPS5942933A JPS5942933A JP15255582A JP15255582A JPS5942933A JP S5942933 A JPS5942933 A JP S5942933A JP 15255582 A JP15255582 A JP 15255582A JP 15255582 A JP15255582 A JP 15255582A JP S5942933 A JPS5942933 A JP S5942933A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lacquer
- transfer mold
- radiation
- plastic substrate
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/02—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
- B29C43/021—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles characterised by the shape of the surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、放射線硬化性ラッカーを用いて、信号ピット
や案内溝のようなレリーフパターンを、転写用型からプ
ラスチック基板上に転写する情報記録担体の製造方法及
び製造装置に関する。
や案内溝のようなレリーフパターンを、転写用型からプ
ラスチック基板上に転写する情報記録担体の製造方法及
び製造装置に関する。
このような情報記録担体は一般に以下のようにして造ら
れる。信号ピッ）１−持つ原盤ないしはスタンバ−（′
ＦＭ、鋳法にエリ原盤から転写されてできた金属成形型
）の表面に薄い液体の放射線硬化性ラッカーＪＷｊ Ｔ
ｈ設け、このラッカ一層上にプラスチック基板？４１！
ぜ、次にこの基板？介して放射線例えば紫外線や電子線
、γ線を照射してラッカー全硬化させ、その後、硬化ラ
ッカ一層を基板と一緒に原盤ないしスタンバ−から剥離
する。
れる。信号ピッ）１−持つ原盤ないしはスタンバ−（′
ＦＭ、鋳法にエリ原盤から転写されてできた金属成形型
）の表面に薄い液体の放射線硬化性ラッカーＪＷｊ Ｔ
ｈ設け、このラッカ一層上にプラスチック基板？４１！
ぜ、次にこの基板？介して放射線例えば紫外線や電子線
、γ線を照射してラッカー全硬化させ、その後、硬化ラ
ッカ一層を基板と一緒に原盤ないしスタンバ−から剥離
する。
前述のプラスチック基板には一般に耐熱性や透明性の見
地からポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等
、熱可塑性樹脂が用いられている・また、放射線硬化性
ラッカーには、粘度が１００ｃｐ以下で平均分子量が高
々５００で比較的低分子量の無色透明なものが用いられ
ている。
地からポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等
、熱可塑性樹脂が用いられている・また、放射線硬化性
ラッカーには、粘度が１００ｃｐ以下で平均分子量が高
々５００で比較的低分子量の無色透明なものが用いられ
ている。
この工うにして造られた情報記録担体は、他の転写方法
例えば、射出成形方法や、コンプレッション成形方法に
Ｊ：り造られｆｃものに比べ、転写精度が優れ製造装置
も小型になる。また転写に要する時間も比較的短かいと
いう特徴をもっている。
例えば、射出成形方法や、コンプレッション成形方法に
Ｊ：り造られｆｃものに比べ、転写精度が優れ製造装置
も小型になる。また転写に要する時間も比較的短かいと
いう特徴をもっている。
しかし、この方法においては、（１）放射線硬化性ラッ
カーが硬化後、転写用型から型離れが良く、逆にプラス
チック基板とは密着性が良い工うに、いかに組成？調整
するか、（２）プラスチック基板と転写用型の間に、空
気が入いり込萱ないようにいかに全面均一に放射線硬化
性ラッカー？満たすか。
カーが硬化後、転写用型から型離れが良く、逆にプラス
チック基板とは密着性が良い工うに、いかに組成？調整
するか、（２）プラスチック基板と転写用型の間に、空
気が入いり込萱ないようにいかに全面均一に放射線硬化
性ラッカー？満たすか。
（３）放射線硬化性ラッカーの硬化膜の膜厚が厚いと基
板がそるので、いかに均一な薄い膜（膜厚１００μ以下
、好筐しくは３０μ以下）［するか、などの問題が生ず
る。
板がそるので、いかに均一な薄い膜（膜厚１００μ以下
、好筐しくは３０μ以下）［するか、などの問題が生ず
る。
上記問題点のうち製造法上の第２．第３問題点？解決す
る方法として、特開昭５３−１１６１０５（フィリップ
ス）では、空気圧でプラスチック基板全球状対称に膨ま
せ、その基板をモーターで機械的に上下させて、スタン
バ−上の放射線硬化性ラッカーを押し広げていく方法が
開示されている。
る方法として、特開昭５３−１１６１０５（フィリップ
ス）では、空気圧でプラスチック基板全球状対称に膨ま
せ、その基板をモーターで機械的に上下させて、スタン
バ−上の放射線硬化性ラッカーを押し広げていく方法が
開示されている。
しかし、この方法では装置が大型化する。放射線硬化性
ラッカ一層？所要の膜厚（３０μ以下）にすることが困
難である。また膜厚の分布むらがある、等の欠点が生ず
ることが判明した。
ラッカ一層？所要の膜厚（３０μ以下）にすることが困
難である。また膜厚の分布むらがある、等の欠点が生ず
ることが判明した。
〔発明の目的」
本発明は、従来技術の持つ上記欠点を解決する新規な製
造方法、お工び製造装置全提供することを目的とする。
造方法、お工び製造装置全提供することを目的とする。
〔発明の概要」
本発明の情報記録担体の製造方法は信号ビットや案内溝
め工うなレリーフパターンを転写用型例えば原盤ないし
スタンバ−から転写した硬化ラッカ一層をプラスチック
基板上に設けた情報記録担体の製造方法において、転写
用型の表面中心部に放射線硬化性ラッカー材料を載置し
、周端？気密シールしたプラスチック基板全球状対称に
空気圧で変型さぞつつ転写用型に圧接して放射線硬化性
ラッカー材料をプラスチック基板と転写用型との間隙に
おいて圧延する工程、該ラッカ一層を均一に押圧しラッ
カ一層の膜厚を調整した状態で放射線照射ＶＣよシラツ
カ−）＠’ｘ硬化する工程、および硬化されたラッカ一
層が密着したプラスチック基板全転写用型から剥離する
工程からなることを特徴とするものである。
め工うなレリーフパターンを転写用型例えば原盤ないし
スタンバ−から転写した硬化ラッカ一層をプラスチック
基板上に設けた情報記録担体の製造方法において、転写
用型の表面中心部に放射線硬化性ラッカー材料を載置し
、周端？気密シールしたプラスチック基板全球状対称に
空気圧で変型さぞつつ転写用型に圧接して放射線硬化性
ラッカー材料をプラスチック基板と転写用型との間隙に
おいて圧延する工程、該ラッカ一層を均一に押圧しラッ
カ一層の膜厚を調整した状態で放射線照射ＶＣよシラツ
カ−）＠’ｘ硬化する工程、および硬化されたラッカ一
層が密着したプラスチック基板全転写用型から剥離する
工程からなることを特徴とするものである。
本発明に用いられる放射線としてはγ線、電子線、紫外
線等が可能である。
線等が可能である。
本発明に用いられる放射線硬化型ラッカーとしては、不
飽和結合ｔｔつモノマーが、王に、低分子モノ、ジ、ト
リ又はテトラアクリル酸エステルが使用される。紫外線
で硬化させる場合には、増感剤としてベンゾインイソブ
チルエーテルなどが添加される。
飽和結合ｔｔつモノマーが、王に、低分子モノ、ジ、ト
リ又はテトラアクリル酸エステルが使用される。紫外線
で硬化させる場合には、増感剤としてベンゾインイソブ
チルエーテルなどが添加される。
葦た本発明の情報記録担体の製造装置は、気体流入孔を
備え、プラスチック基板と共に気密室を形成し、さらに
少なくともその１部が放射線透過性材料で構成される本
体と、該本体内部に気体圧入［Ｊ：す摺動可能となる工
うに配設されたプラスチック基板と、気密室への気体圧
入にエフ摺動する該グラスチック基板と所定間隙をもっ
て対向するよう配設された転写用型と、放射線照射手段
と牙具備したこと全特徴とするものである。
備え、プラスチック基板と共に気密室を形成し、さらに
少なくともその１部が放射線透過性材料で構成される本
体と、該本体内部に気体圧入［Ｊ：す摺動可能となる工
うに配設されたプラスチック基板と、気密室への気体圧
入にエフ摺動する該グラスチック基板と所定間隙をもっ
て対向するよう配設された転写用型と、放射線照射手段
と牙具備したこと全特徴とするものである。
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第１〜３図は、本発明の装置？用いて情報記録担体？製
造する方法を工程順に示したものである。
造する方法を工程順に示したものである。
図中１は円筒状の気密容器本体であり、その内部に周端
に気密シール部材３を設けたプラスチック基板２全配置
する。かかる気密シール部材としては、Ｏリング付きの
リングが好１しく、さらに、プラスチック基板との取り
はずしが自由にできるようにすると良い。本体１の開口
端には、信号ビット、案内溝などのレリーフパターンが
形成されている原盤、スタンパ−等の転写用型６を配置
し、その表面中心部に放射線硬化性ラッカー材料５を載
置する０次いで本体に設けられた気体流入孔４がら空気
などの気体を圧入してプラスチック基板を空気圧９Ｖｃ
工ク湾曲させながら下方に摺動させ、ラッカ一層を圧延
する。（第１図） 放射線硬化性ラッカ一層が圧延され所要の均一な膜厚と
なったら、本体に取りつけられている放射線透過用窓８
を通して紫外線のような放射線１０を照射し、ラッカ一
層を硬化させる。（第２図）次いで、硬化したラッカ一
層とグラスチック基板全転写用型から剥離することに、
Ｃり情報記録担体が得られる。
に気密シール部材３を設けたプラスチック基板２全配置
する。かかる気密シール部材としては、Ｏリング付きの
リングが好１しく、さらに、プラスチック基板との取り
はずしが自由にできるようにすると良い。本体１の開口
端には、信号ビット、案内溝などのレリーフパターンが
形成されている原盤、スタンパ−等の転写用型６を配置
し、その表面中心部に放射線硬化性ラッカー材料５を載
置する０次いで本体に設けられた気体流入孔４がら空気
などの気体を圧入してプラスチック基板を空気圧９Ｖｃ
工ク湾曲させながら下方に摺動させ、ラッカ一層を圧延
する。（第１図） 放射線硬化性ラッカ一層が圧延され所要の均一な膜厚と
なったら、本体に取りつけられている放射線透過用窓８
を通して紫外線のような放射線１０を照射し、ラッカ一
層を硬化させる。（第２図）次いで、硬化したラッカ一
層とグラスチック基板全転写用型から剥離することに、
Ｃり情報記録担体が得られる。
第１図〜第３図は本発明を工程順に説明するための概略
図でおり、第１図は圧延１相、第２図は硬化工程、第３
図は剥離工程を示す図である・１・・・・・・本体、２
・・・・・・プラスチック基板、４・・・・・・気体流
入孔、５・・・・・・放射線硬化性ラッカー材料、５・
・・・・・転写用型、７・・・・・・気体流出孔。 代理人 タＰ理士 則 近 憲 佑（ほか１名）第
１ 図 １２図 ＩＫ 第 ３ 図 ）
図でおり、第１図は圧延１相、第２図は硬化工程、第３
図は剥離工程を示す図である・１・・・・・・本体、２
・・・・・・プラスチック基板、４・・・・・・気体流
入孔、５・・・・・・放射線硬化性ラッカー材料、５・
・・・・・転写用型、７・・・・・・気体流出孔。 代理人 タＰ理士 則 近 憲 佑（ほか１名）第
１ 図 １２図 ＩＫ 第 ３ 図 ）
Claims (2)
- （１）信号ピットや案内溝の工つなレリーフパターン？
転写用型から転写し几硬化ラッカ一層全プラスチック基
板上に設けた情報記録担体の製造方法において、転写用
型の表面中心部に放射線硬化性ラッカー材料を載置し、
周端を気密シールしたプラスチック基板を球状対称に空
気圧で変型させつつ転写用型に圧接して放射線硬化性ラ
ッカー材料をプラスチック基板と転写用型との間隙にお
いて圧延する工程、該ラッカ一層を均一に押圧しラッカ
ー°層の膜厚を調整した状態で放射線照射に工クラッカ
一層を硬化する工程、お工び硬化されたラッカ一層が密
着したプラスチック基板を転写用型から剥離する工程か
らなることを特徴とする情報記録担体の製造方法。 - （２）気体流入孔を備え、プラスチック基板と共に気密
室を形成し、さらに少なくともその１部が放射線透過性
材料で構成される本体と、該本体内部に気体圧入にエフ
摺動可能となるように配設されたプラスチック基板と、
気密室への気体圧入によジ摺動する該プラスチック基板
と所定間隙をもって対向するよう配設された転写用型と
、放射線照射手段とを具備したことを特徴とする情報記
録担体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15255582A JPS5942933A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 情報記録担体の製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15255582A JPS5942933A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 情報記録担体の製造方法及び製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942933A true JPS5942933A (ja) | 1984-03-09 |
Family
ID=15543023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15255582A Pending JPS5942933A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 情報記録担体の製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942933A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61137246A (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-24 | Hitachi Ltd | 情報記録担体複製方法及びその装置 |
| JPS63158168A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-01 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 溝つき基板の製造方法 |
| WO1994023927A1 (de) * | 1993-04-21 | 1994-10-27 | Möbius + Ruppert | Vorrichtung zur herstellung eines grossflächigen kunststoffgegenstandes geringer wanddicke |
| WO1997005608A1 (en) * | 1995-07-27 | 1997-02-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method and apparatus for making an optical information record |
| EP0960019A1 (en) * | 1997-02-14 | 1999-12-01 | Physical Optics Corporation | Method of making replicas and compositions for use therewith |
| JP2009199686A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Ricoh Co Ltd | 転写基板製造方法 |
| JP2010175934A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Sony Corp | 光学素子の製造装置、光学素子の製造方法、光学素子及び撮像装置 |
| US8128856B2 (en) * | 1995-11-15 | 2012-03-06 | Regents Of The University Of Minnesota | Release surfaces, particularly for use in nanoimprint lithography |
-
1982
- 1982-09-03 JP JP15255582A patent/JPS5942933A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP0960019A1 (en) * | 1997-02-14 | 1999-12-01 | Physical Optics Corporation | Method of making replicas and compositions for use therewith |
| EP0960019A4 (en) * | 1997-02-14 | 2004-08-04 | Physical Optics Corp | METHOD FOR PRODUCING REPLICAS AND COMPOSITIONS USED THEREFOR |
| JP2009199686A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Ricoh Co Ltd | 転写基板製造方法 |
| JP2010175934A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Sony Corp | 光学素子の製造装置、光学素子の製造方法、光学素子及び撮像装置 |
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