JPS593721B2 - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPS593721B2 JPS593721B2 JP54139680A JP13968079A JPS593721B2 JP S593721 B2 JPS593721 B2 JP S593721B2 JP 54139680 A JP54139680 A JP 54139680A JP 13968079 A JP13968079 A JP 13968079A JP S593721 B2 JPS593721 B2 JP S593721B2
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- antireflection
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は反射防止膜殊に光学的膜厚構造がｉλ０１λｏ
・１λ０である三層反射防止膜に関する。
・１λ０である三層反射防止膜に関する。
従来より眼鏡レンズ、カメラ用レンズ等の光学系ガラス
の性能を充分発揮させるために、之等ガラス表面に光の
反射を防止可能な反射防止膜を施すことが知られており
、近年殊に可視光線の残留反射率を総じて約１％以下に
抑制可能な高性能反５ 射防止膜として、光学的膜厚構
造をｉλＯ−ｎλｏ・１λｏとした三層反射防止膜が開
発された。
の性能を充分発揮させるために、之等ガラス表面に光の
反射を防止可能な反射防止膜を施すことが知られており
、近年殊に可視光線の残留反射率を総じて約１％以下に
抑制可能な高性能反５ 射防止膜として、光学的膜厚構
造をｉλＯ−ｎλｏ・１λｏとした三層反射防止膜が開
発された。
しかして上記防止膜を構成する膜用物質は、薄膜化が容
易であること、該膜の物理化学的性質が安定で耐久性が
あること、下地ガラス又は各層間の付着性１０が良く剥
離しないこと、下地ガラスに応じた適当な屈折率を有す
ること等の諸特性が要求される所から自づと制約を受け
、公知の三層反射防止膜は、専ら最上層にＭｇＦ２を、
第二層にＺｒＯ２、ｃｅｏ２、ＴｉＯ２等を、また下地
ガラスと接する第三層に１５ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３等を
使用している。しかしながら之等各膜用物質を使用した
公知の反射防止膜は、尚その機械的強度及び化学的耐久
性に問題があり、特に５％食塩水煮沸試験による耐久性
試験の結果膜自体に著しい浸蝕が認められ、またマイク
ロピ２０ ツカース硬度計による表面硬さ試験及び砂消
ゴム使用による実用的耐久性試験においても実用上向重
大な不利を有している。本発明者らは、上記現状に鑑み
、可視領域の波長殊に約４０００〜６０００Ａの波長の
光線の残２５留反射率を約１％以下に抑制でき、しかも
優れた機械的強度及び化学的耐久性を具備し、実用上極
めて有用な新しい三層反射防止膜を得ることを目的とし
て種々研究を重ねてきた。
易であること、該膜の物理化学的性質が安定で耐久性が
あること、下地ガラス又は各層間の付着性１０が良く剥
離しないこと、下地ガラスに応じた適当な屈折率を有す
ること等の諸特性が要求される所から自づと制約を受け
、公知の三層反射防止膜は、専ら最上層にＭｇＦ２を、
第二層にＺｒＯ２、ｃｅｏ２、ＴｉＯ２等を、また下地
ガラスと接する第三層に１５ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３等を
使用している。しかしながら之等各膜用物質を使用した
公知の反射防止膜は、尚その機械的強度及び化学的耐久
性に問題があり、特に５％食塩水煮沸試験による耐久性
試験の結果膜自体に著しい浸蝕が認められ、またマイク
ロピ２０ ツカース硬度計による表面硬さ試験及び砂消
ゴム使用による実用的耐久性試験においても実用上向重
大な不利を有している。本発明者らは、上記現状に鑑み
、可視領域の波長殊に約４０００〜６０００Ａの波長の
光線の残２５留反射率を約１％以下に抑制でき、しかも
優れた機械的強度及び化学的耐久性を具備し、実用上極
めて有用な新しい三層反射防止膜を得ることを目的とし
て種々研究を重ねてきた。
その結果最上層を構成する膜用物質として、従来この種
反射防止３０膜への利用は勿論のこと、その可能性すら
全く知られていないＳｉＯ２−ｘ（ｘは０〜０．７を示
す）を使用し且つ第三層に特定の屈折率を有する、Ｍ９
Ａｌ２Ｏ４スピネノレ系化合物を選択使用する時には、
上記目的に合致する三層反射防止膜が提供３５できるこ
とを見い出した。本発明はこの新しい知見に基づいて完
成されたものである。
反射防止３０膜への利用は勿論のこと、その可能性すら
全く知られていないＳｉＯ２−ｘ（ｘは０〜０．７を示
す）を使用し且つ第三層に特定の屈折率を有する、Ｍ９
Ａｌ２Ｏ４スピネノレ系化合物を選択使用する時には、
上記目的に合致する三層反射防止膜が提供３５できるこ
とを見い出した。本発明はこの新しい知見に基づいて完
成されたものである。
即ち本発明は、光学的膜厚構造がＴ２ｏ、丁λｏ・４・
λｏである三層反射防止膜において、最上層をＳｉＯ２
−ｘ（ｘはＯ〜０．７を示す）とし且つ下地ガラスに接
する第三層を屈折率が１．７５〜１．８８の範囲にある
Ｍ９Ａｌ２Ｏ４スピネル系化合物としたことを特徴とす
る反射防止膜に係る。
λｏである三層反射防止膜において、最上層をＳｉＯ２
−ｘ（ｘはＯ〜０．７を示す）とし且つ下地ガラスに接
する第三層を屈折率が１．７５〜１．８８の範囲にある
Ｍ９Ａｌ２Ｏ４スピネル系化合物としたことを特徴とす
る反射防止膜に係る。
本発明の反射防止膜は、従来最も優れた反射防止効果を
発現できるもののひとつとして知られているＭ９Ｆ２−
ＺｒＯ２−ＣｅＦ３と同等もしくはこれをも凌ぐ優れた
反射防止効果を奏し、しかも公知の三層反射防止膜には
見られない卓越した機械強度及び化学的耐久性を具備す
る。
発現できるもののひとつとして知られているＭ９Ｆ２−
ＺｒＯ２−ＣｅＦ３と同等もしくはこれをも凌ぐ優れた
反射防止効果を奏し、しかも公知の三層反射防止膜には
見られない卓越した機械強度及び化学的耐久性を具備す
る。
殊に本発明反射防止膜のマイクロビツカース硬度は１３
００Ｈνを上回るものであり、後述する砂消ゴム使用に
よる表面硬度試験に示す通り、公知のＭ９Ｆ２−ＺｒＯ
２−Ａｌ２Ｏ３膜がわずか１０個擦つたのみで表面に擦
傷が認められるのに対し２０回後にも実質的に擦傷は認
められない。また本発明反射防止膜は、５％食塩水煮沸
試験によつても何ら膜の浸蝕は認められず、優れた化学
的耐久性を有する。従つてこれは、直接外記に曝されま
た手指等により擦られることの多い眼鏡レンズを初めと
して、腕時計用カバーグラス、カメラ用レンズ、望遠鏡
、窓ガラス、自動車用ガラス、テレビのブラウン管、各
種計測器用カバーグラス等の光学ガラスの反射防止に極
めて有効に利用できるものである。本発明においては最
上層としてＳｉＯ２（ｘは０〜０．７を示す）を用いる
。
００Ｈνを上回るものであり、後述する砂消ゴム使用に
よる表面硬度試験に示す通り、公知のＭ９Ｆ２−ＺｒＯ
２−Ａｌ２Ｏ３膜がわずか１０個擦つたのみで表面に擦
傷が認められるのに対し２０回後にも実質的に擦傷は認
められない。また本発明反射防止膜は、５％食塩水煮沸
試験によつても何ら膜の浸蝕は認められず、優れた化学
的耐久性を有する。従つてこれは、直接外記に曝されま
た手指等により擦られることの多い眼鏡レンズを初めと
して、腕時計用カバーグラス、カメラ用レンズ、望遠鏡
、窓ガラス、自動車用ガラス、テレビのブラウン管、各
種計測器用カバーグラス等の光学ガラスの反射防止に極
めて有効に利用できるものである。本発明においては最
上層としてＳｉＯ２（ｘは０〜０．７を示す）を用いる
。
この層は通常のＳＯ２を常法に従い電子ビームや抵抗加
熱等により真空蒸着することにより容易に形成される。
ｘの値は上記蒸着の際の真空度に応じて変化し、またこ
のＸの値に応じて形成膜の屈折率自体も変化する。上記
真空度は通常の蒸着に際し利用される範囲例えば１０−
３〜１０−６トール程度とすればよく、この範囲で上記
Ｘの値を０〜０．７の範囲の適宜の値とすることができ
る。ｘの値がＯの場合即ちＳｉＯ２ではその屈折率は１
．４６となりまたｘの値が０．７の場合即ちＳｉＯｌ．
３ではその屈折率は約１．５２となる。上記Ｘの値が０
．７を越える場合は、最上層の屈折率が大きくなりすぎ
、所期の反射防止能を有する膜の形成が困難となる。本
発明において第二層とする物質は公知の各種のもの例え
ばＣｅＯ２，ｚｒＯ２、安定化ジルコニア等をいずれも
使用できる。
熱等により真空蒸着することにより容易に形成される。
ｘの値は上記蒸着の際の真空度に応じて変化し、またこ
のＸの値に応じて形成膜の屈折率自体も変化する。上記
真空度は通常の蒸着に際し利用される範囲例えば１０−
３〜１０−６トール程度とすればよく、この範囲で上記
Ｘの値を０〜０．７の範囲の適宜の値とすることができ
る。ｘの値がＯの場合即ちＳｉＯ２ではその屈折率は１
．４６となりまたｘの値が０．７の場合即ちＳｉＯｌ．
３ではその屈折率は約１．５２となる。上記Ｘの値が０
．７を越える場合は、最上層の屈折率が大きくなりすぎ
、所期の反射防止能を有する膜の形成が困難となる。本
発明において第二層とする物質は公知の各種のもの例え
ばＣｅＯ２，ｚｒＯ２、安定化ジルコニア等をいずれも
使用できる。
該第二層は通常好ましくは屈折率が２．０〜２．２程度
とするのがよい。また安定化ジルコニアは、例えばＺｒ
Ｏ２に適当量のＣａＯ，Ｍ９Ｏ，Ｙ２Ｏ，等の安定剤を
添加し置換型固醇体を形成させたものであり、これは約
１０００〜１１００℃で生ずる単斜晶系から正方晶系へ
の転移に伴う急激な体積変化を防止できる所から膜用物
質として有利に使用できる。
とするのがよい。また安定化ジルコニアは、例えばＺｒ
Ｏ２に適当量のＣａＯ，Ｍ９Ｏ，Ｙ２Ｏ，等の安定剤を
添加し置換型固醇体を形成させたものであり、これは約
１０００〜１１００℃で生ずる単斜晶系から正方晶系へ
の転移に伴う急激な体積変化を防止できる所から膜用物
質として有利に使用できる。
安定化剤の添加量は任意であるが、通常ＣａＯを８〜２
５モル％、Ｍｆ！０を１４〜２３モル％及びΣρ３を約
１０モル％添加するのがよく、これにより屈折率約２，
０の安定化ジルコニ》を収得できる。上記第二層の形成
方法も亦常法に従えばよく例えば１０−３〜１０−６ト
ール程度の真空下に、電子ビーム加熱や抵抗加熱等によ
り蒸着する方法によればよい。また本発明において下地
ガラスと接する第三層としては、屈折率が１．７５〜１
．８８の範囲にあるＭ９Ａｌ２Ｏ３スピネル系化合物を
用いることが重要である。
５モル％、Ｍｆ！０を１４〜２３モル％及びΣρ３を約
１０モル％添加するのがよく、これにより屈折率約２，
０の安定化ジルコニ》を収得できる。上記第二層の形成
方法も亦常法に従えばよく例えば１０−３〜１０−６ト
ール程度の真空下に、電子ビーム加熱や抵抗加熱等によ
り蒸着する方法によればよい。また本発明において下地
ガラスと接する第三層としては、屈折率が１．７５〜１
．８８の範囲にあるＭ９Ａｌ２Ｏ３スピネル系化合物を
用いることが重要である。
殊にこの第三層の屈折率は、最上層とするＳｉＯ２Ｘと
関連して、得られる反射防止膜の反射防止特性に重大な
影響を与え、これが上記範囲を外れる場合は、可視領域
全般に亘る広範囲波長の光を均一且つ良好に反射防止す
ることが困難となる。また上記第三層を形成させる材料
は、その物理化学的安定性は勿論のこと、下地ガラスと
の付着性を考慮して選択されたものであり、これにはＭ
９Ａ！２０４スピネル（屈折率１．７５）、該スピネル
とＭ９Ｏとの固溶体及び之等スピネル及び固溶体形成時
の焼結温度を低下させるためにＴｉＯ２ｚｎＯ，ｓｎＯ
２，Ｂ２Ｏ３，ｃａＯ等の添加剤を添加した材料が包含
される。Ｍ９Ａｌ２Ｏ４−Ｍ９Ｏ固洛体は、Ｍ９Ｏの添
加量（固溶量）を増加させるに従いその屈折率が大きく
なり、ＭｆｌＡ！２０４１モルに対し通常Ｍ９Ｏを約８
モルまで添加した固溶体が本発明の第三層として好適に
使用できる。またＴｉＯ２，ＳｎＯ２等の添加剤の使用
はスピネル又は固溶体の焼結温度を低下させ、蒸着材料
として好適な高焼結度を有し緻密な体積膨張の少ない材
料を提供できる利点があると共に、之等の添加により材
料の屈折率を調整することができる。之等添加剤は通常
スピネル又は固溶体１モルに対し０．１モル以下の量で
添加でき、この範囲で屈折率１．７５〜１．８８の範囲
の所望の蒸着材料を提供できる。尚、第三層とする材料
としてＡ′２０３亀ＵＡｌ２Ｏ４一Ａｌ２Ｏ３固溶体等
を使用する場合には、反射防止効果が大巾に低下するの
で、本発明においては、前記以外の材料は使用し得ない
。上記第三層とする材料の製造法及び膜形成は、いずれ
も通常の方法に従い行ない得る。
関連して、得られる反射防止膜の反射防止特性に重大な
影響を与え、これが上記範囲を外れる場合は、可視領域
全般に亘る広範囲波長の光を均一且つ良好に反射防止す
ることが困難となる。また上記第三層を形成させる材料
は、その物理化学的安定性は勿論のこと、下地ガラスと
の付着性を考慮して選択されたものであり、これにはＭ
９Ａ！２０４スピネル（屈折率１．７５）、該スピネル
とＭ９Ｏとの固溶体及び之等スピネル及び固溶体形成時
の焼結温度を低下させるためにＴｉＯ２ｚｎＯ，ｓｎＯ
２，Ｂ２Ｏ３，ｃａＯ等の添加剤を添加した材料が包含
される。Ｍ９Ａｌ２Ｏ４−Ｍ９Ｏ固洛体は、Ｍ９Ｏの添
加量（固溶量）を増加させるに従いその屈折率が大きく
なり、ＭｆｌＡ！２０４１モルに対し通常Ｍ９Ｏを約８
モルまで添加した固溶体が本発明の第三層として好適に
使用できる。またＴｉＯ２，ＳｎＯ２等の添加剤の使用
はスピネル又は固溶体の焼結温度を低下させ、蒸着材料
として好適な高焼結度を有し緻密な体積膨張の少ない材
料を提供できる利点があると共に、之等の添加により材
料の屈折率を調整することができる。之等添加剤は通常
スピネル又は固溶体１モルに対し０．１モル以下の量で
添加でき、この範囲で屈折率１．７５〜１．８８の範囲
の所望の蒸着材料を提供できる。尚、第三層とする材料
としてＡ′２０３亀ＵＡｌ２Ｏ４一Ａｌ２Ｏ３固溶体等
を使用する場合には、反射防止効果が大巾に低下するの
で、本発明においては、前記以外の材料は使用し得ない
。上記第三層とする材料の製造法及び膜形成は、いずれ
も通常の方法に従い行ない得る。
例えばＡｌ源とする水酸化アルミニウム及びＭＩ源とす
る塩基性炭酸マグネシウムの所定量又は更に上記各添加
剤の所望量を秤量後湿式混合し約１０００℃で２〜３時
間仮焼後、得られる粉末を錠剤成型機で約１トン／粛の
成型圧下にプレス成型し、約１３００〜１５００℃の温
度で１０時間程度焼成し最後に１７００℃前後で５−６
時間本焼成することにより材料を製造できる。また第三
層の形成は、常法に従い上記の如くして得られる材料を
、下地ガラスの耐熱温度以下通常３５０℃以下の温度下
に１０− ３ 〜１０− ６トール程度の真空下に電子
加熱ビームを利用して真空蒸着させることにより容易に
行ない得る。本発明の反射防止膜は各種の光学系ガラス
例えば眼鏡ガラス等に容易に安定してしかも再現性良く
蒸着できるものである。
る塩基性炭酸マグネシウムの所定量又は更に上記各添加
剤の所望量を秤量後湿式混合し約１０００℃で２〜３時
間仮焼後、得られる粉末を錠剤成型機で約１トン／粛の
成型圧下にプレス成型し、約１３００〜１５００℃の温
度で１０時間程度焼成し最後に１７００℃前後で５−６
時間本焼成することにより材料を製造できる。また第三
層の形成は、常法に従い上記の如くして得られる材料を
、下地ガラスの耐熱温度以下通常３５０℃以下の温度下
に１０− ３ 〜１０− ６トール程度の真空下に電子
加熱ビームを利用して真空蒸着させることにより容易に
行ない得る。本発明の反射防止膜は各種の光学系ガラス
例えば眼鏡ガラス等に容易に安定してしかも再現性良く
蒸着できるものである。
下地ガラスの材質は特に制限はないが、通常屈折率が１
．５〜 １．７程度の各種の光学ガラスとするのが好ま
しい。また本発明反射防止膜を構成する各層の膜厚は、
例えば光電式膜厚計を利用して容易にｉλｏ−ｉλ０−
・Ｔλ０に調節でき、各膜間及び下地ガラスとの密着性
は極めて良好であり、剥離のおそれはない。以下本発明
を更に詳しく説明するため実施例を挙げる。
．５〜 １．７程度の各種の光学ガラスとするのが好ま
しい。また本発明反射防止膜を構成する各層の膜厚は、
例えば光電式膜厚計を利用して容易にｉλｏ−ｉλ０−
・Ｔλ０に調節でき、各膜間及び下地ガラスとの密着性
は極めて良好であり、剥離のおそれはない。以下本発明
を更に詳しく説明するため実施例を挙げる。
実施例 １
下地ガラスとして屈折率１．５２３のガラスレンズを用
いる。
いる。
第三層として水酸化アルミニウムと塩基性炭酸マグネシ
ウム（Ｍ９２４％含有）とをＭｇ：Ａｌ＝１：２（原子
比）となるように秤量後湿式混合し１０００℃で２時間
仮焼後錠剤成型機で１トン／ＣＴ７Ｌ圧下にプレス成型
し、１４００℃で１０時間焼成次いで１７００℃で５時
間焼成して得たＭ９Ａｌ２Ｏ４ペレツト（屈折率１．７
５）を用いる。まず下地ガラスを蒸着槽に装着し、槽内
を排気する。
ウム（Ｍ９２４％含有）とをＭｇ：Ａｌ＝１：２（原子
比）となるように秤量後湿式混合し１０００℃で２時間
仮焼後錠剤成型機で１トン／ＣＴ７Ｌ圧下にプレス成型
し、１４００℃で１０時間焼成次いで１７００℃で５時
間焼成して得たＭ９Ａｌ２Ｏ４ペレツト（屈折率１．７
５）を用いる。まず下地ガラスを蒸着槽に装着し、槽内
を排気する。
排気中下地ガラスは、マイクロヒータ及びハロゲンラン
プの輻射加熱により加熱する。槽内真空度が５×１０−
５トールとなり、下地ガラス温度が３００℃になつた段
階で、上記で調整したＭＩＡｌ２Ｏ４の蒸着を開始し、
光電式膜厚計により膜厚が１λ０になつた時点で蒸着を
終了する。次いで同様にして第二層とするＣｅＯ２（屈
折率：２．０８）を１λｏ蒸着し最後にＳｉＯ，−ｘを
リークバルブを開き真空度５ＸＩ０−４トールとしてＴ
λｏ蒸着する。蒸着された最上層はＳｉＯｌ．４，５で
あつた。各層の蒸着はいずれも電子ビーム加熱方式に従
つた。かくして本発明の反射防止膜を収得する。比較例
１第一層がＭｆｌＦ２、第二層がＺｒＯ２及び第三層
がＡｌ２Ｏ３であるＩλｏ−Ｉλｏ−＋λ０三層反射防
止膜を、上記実施例１と同様にして作成する。
プの輻射加熱により加熱する。槽内真空度が５×１０−
５トールとなり、下地ガラス温度が３００℃になつた段
階で、上記で調整したＭＩＡｌ２Ｏ４の蒸着を開始し、
光電式膜厚計により膜厚が１λ０になつた時点で蒸着を
終了する。次いで同様にして第二層とするＣｅＯ２（屈
折率：２．０８）を１λｏ蒸着し最後にＳｉＯ，−ｘを
リークバルブを開き真空度５ＸＩ０−４トールとしてＴ
λｏ蒸着する。蒸着された最上層はＳｉＯｌ．４，５で
あつた。各層の蒸着はいずれも電子ビーム加熱方式に従
つた。かくして本発明の反射防止膜を収得する。比較例
１第一層がＭｆｌＦ２、第二層がＺｒＯ２及び第三層
がＡｌ２Ｏ３であるＩλｏ−Ｉλｏ−＋λ０三層反射防
止膜を、上記実施例１と同様にして作成する。
尚ＭＩＦ２の蒸着は抵抗加熱により２×１０−５ トー
ルの真空下に行ない、ＺｒＯ２及びＡｌ２Ｏ３は電子ビ
ーム加熱により２×１０−５トールの真空下に行なつた
。比較例 ２ 第三層とするＡｌ２Ｏ３に代えＣｅＦ３を２×１０トー
ルの真空下に抵抗加熱により蒸着する以外は比較例１．
と同様にして、ＭｆｌＦ２− ＺｒＯ２−ＣｅＦ３三層
反射防止膜を作成する。
ルの真空下に行ない、ＺｒＯ２及びＡｌ２Ｏ３は電子ビ
ーム加熱により２×１０−５トールの真空下に行なつた
。比較例 ２ 第三層とするＡｌ２Ｏ３に代えＣｅＦ３を２×１０トー
ルの真空下に抵抗加熱により蒸着する以外は比較例１．
と同様にして、ＭｆｌＦ２− ＺｒＯ２−ＣｅＦ３三層
反射防止膜を作成する。
上記実施例及び比較例で得た各反射防止膜につき次の試
験を行なつた。
験を行なつた。
Ｉ 分光特性試験
各反射防止膜に３５００−７０００Λの波長を有する光
線を照射し、その分光反射率＝を測定した。
線を照射し、その分光反射率＝を測定した。
結果を第１図に示す。曲線Ａ，Ｂ及びＣは、夫々実施例
１、比較例１及び比較例２で得られた反射防止膜につい
ての結果である。第１図より本発明の反射防止膜は、公
知の反射防止膜と同等又はこれをも凌ぐ優れた反射防止
作用を発揮することが判る。
１、比較例１及び比較例２で得られた反射防止膜につい
ての結果である。第１図より本発明の反射防止膜は、公
知の反射防止膜と同等又はこれをも凌ぐ優れた反射防止
作用を発揮することが判る。
表面硬度試験
明石製作所製マイクロビツカース硬度計を用い、各反射
防止膜の表面硬度を測定する。
防止膜の表面硬度を測定する。
試験は荷重１００９、１５秒間ビツカース硬度圧下に５
回行なつた。得られた５回の平均硬度（Ｈν）を下記第
１表に示す。上記第１表より本発明反射防止膜は、公知
のそれに比し極めて優れた表面硬度を有することが明ら
かである。
回行なつた。得られた５回の平均硬度（Ｈν）を下記第
１表に示す。上記第１表より本発明反射防止膜は、公知
のそれに比し極めて優れた表面硬度を有することが明ら
かである。
耐久性試験
各反射防止膜の耐久性を、タイプ用砂消ゴム（（５２６
６１ＳＴＸＥＩｙｒＬＥＲ−ＲＡＳＯｒ，ＧＥＲＩＶＡ
ＮＹ）を用い、各膜の巾５〜６詣、長さ１０〜２０ｍ７
！Ｌを繰り返し擦り所定回数繰り返し擦つた後の表面擦
傷の程度を肉眼で判断し、下記基準により評価する。
６１ＳＴＸＥＩｙｒＬＥＲ−ＲＡＳＯｒ，ＧＥＲＩＶＡ
ＮＹ）を用い、各膜の巾５〜６詣、長さ１０〜２０ｍ７
！Ｌを繰り返し擦り所定回数繰り返し擦つた後の表面擦
傷の程度を肉眼で判断し、下記基準により評価する。
上記第２表より本発明反射防止膜は、その耐久性におい
て、公知のそれに比し極めて優れていることが明らかで
ある。
て、公知のそれに比し極めて優れていることが明らかで
ある。
実施例 ２〜５
第三層として水酸化アルミニウム及び塩基性炭酸マグネ
シウムをＡｌ２Ｏ，：ＭｇＯ（モル比が所定の比率とな
るよう夫々秤量後実施例１と同様にして作成した各種の
Ｍ９Ａｌ２Ｏ４−Ｍ９Ｏ固溶体又はこれに更にＴｉＯ２
の１０モル％を添加して作成した固溶体を用い、第二層
としてＣｅＯ２，ｚｒＯ２又は安定化ジルコニアを用い
、また最上層とするＳＳｌＯ，の蒸着を１Ｘ１０−３〜
１×１０−６トールの条件下に行なつて（下記所定のＳ
ｉＯ２−Ｘを有する蒸着膜を形成させる）、実施例１と
同様にして下記実施例２〜５の各反射防止膜を得る。
シウムをＡｌ２Ｏ，：ＭｇＯ（モル比が所定の比率とな
るよう夫々秤量後実施例１と同様にして作成した各種の
Ｍ９Ａｌ２Ｏ４−Ｍ９Ｏ固溶体又はこれに更にＴｉＯ２
の１０モル％を添加して作成した固溶体を用い、第二層
としてＣｅＯ２，ｚｒＯ２又は安定化ジルコニアを用い
、また最上層とするＳＳｌＯ，の蒸着を１Ｘ１０−３〜
１×１０−６トールの条件下に行なつて（下記所定のＳ
ｉＯ２−Ｘを有する蒸着膜を形成させる）、実施例１と
同様にして下記実施例２〜５の各反射防止膜を得る。
実施例 ２最上層 ＳｉＯｌ．６（屈折率１．５）
蒸着条件：４Ｘ１０−５トール真空下
第二層 ＺｒＯ２（屈折率２．０５）
第三層 Ｍｆ！Ａ２２Ｏ４−ＭｆｌＯ（屈折率１．８）
Ａノ，０３：Ｍ９Ｏｌ：９（モル比）実施例 ３ 最上層 ＳｉＯｌ．，（屈折率１．５） 蒸着条件：４Ｘ１０″′５トール真空下 第二層 安定化ジルコニア（屈折率２．０３）第三層
ＭｌＡｌ２Ｏ４→ＵＯ（屈折率１．７９）Ａｌ２Ｏ３：
Ｍ９Ｏ＝２：８（モル比）尚安定化ジルコニアはＺｒＯ
２に、炭酸カルシウムを該ＺｒＯ２に対してＣａＯとし
て８モル％添加し、よく混合後１０００〜１３００℃で
５〜１０時間仮焼し、錠剤成型機で１トン／ＣＴｌで成
型したペレツトを１４００℃で５〜１０時間焼成して作
成した。
Ａノ，０３：Ｍ９Ｏｌ：９（モル比）実施例 ３ 最上層 ＳｉＯｌ．，（屈折率１．５） 蒸着条件：４Ｘ１０″′５トール真空下 第二層 安定化ジルコニア（屈折率２．０３）第三層
ＭｌＡｌ２Ｏ４→ＵＯ（屈折率１．７９）Ａｌ２Ｏ３：
Ｍ９Ｏ＝２：８（モル比）尚安定化ジルコニアはＺｒＯ
２に、炭酸カルシウムを該ＺｒＯ２に対してＣａＯとし
て８モル％添加し、よく混合後１０００〜１３００℃で
５〜１０時間仮焼し、錠剤成型機で１トン／ＣＴｌで成
型したペレツトを１４００℃で５〜１０時間焼成して作
成した。
実施例 ４
最上層 ＳｌＯｌ．８（屈折率１．４８）蒸着条件：２
〜３×１０−４トール真空下第二層 ＺｒＯ２（屈折率
２．０５） 第三層 Ｍ９Ａｌ２Ｏ４−Ｍ９Ｏ−ＴｉＯ２（屈折率１
．８８）Ａｌ２Ｏ３：Ｍ９Ｏ：ＴｉＯ２＝１：１：０．
１モル比）実施例 ５ 最上層 ＳｉＯｌ．８帽折率１．４８） ２〜３Ｘ１０−４トール真空下 第二層 ＣｅＯ２（屈折率２．０８） 第三層 ＭｌＡｌ２Ｏ４−Ｍｆ！Ｏ（屈折率１．７８）
Ａｌ２Ｏ３：Ｍ９Ｏ＝３：７（モル比）上記各実施例２
〜５で得た反射防止膜に種々の波長の光線を照射し、そ
の分光反射率（イ）を測定した結果を第２図に示す。
〜３×１０−４トール真空下第二層 ＺｒＯ２（屈折率
２．０５） 第三層 Ｍ９Ａｌ２Ｏ４−Ｍ９Ｏ−ＴｉＯ２（屈折率１
．８８）Ａｌ２Ｏ３：Ｍ９Ｏ：ＴｉＯ２＝１：１：０．
１モル比）実施例 ５ 最上層 ＳｉＯｌ．８帽折率１．４８） ２〜３Ｘ１０−４トール真空下 第二層 ＣｅＯ２（屈折率２．０８） 第三層 ＭｌＡｌ２Ｏ４−Ｍｆ！Ｏ（屈折率１．７８）
Ａｌ２Ｏ３：Ｍ９Ｏ＝３：７（モル比）上記各実施例２
〜５で得た反射防止膜に種々の波長の光線を照射し、そ
の分光反射率（イ）を測定した結果を第２図に示す。
曲線Ｄ，Ｅ，Ｆ及びＧは実施例２〜５の結果を夫々示す
。第２図から明らか．な如く、得られた反射防止膜は優
れた高能率反射防止膜であつた。また表面硬度、耐久性
及び食塩水煮沸試験の結果、いずれも略々実施例１の反
射防止膜と同等の効果を発揮し、公知の反射防止膜に比
し、極めて優れた機械的強度及び耐久性を有するもので
あつた。比較例 ３ 実施例１と同様にして得たＭｇＡｌ２Ｏ４ペレット１モ
ルに水酸化アルミニウム０．２モルを加え、湿式混合し
、１０００℃で２時間仮焼後、錠剤成型機で１トン／Ｃ
ＴＩＩの加圧下にプレス成型し、１４００℃で１０時間
焼成し、次いで１７００℃で５時間焼成することにより
、Ｍ９Ａｌ２Ｏ４−Ａ２２Ｏ３固浩体のペレツトを得る
。
。第２図から明らか．な如く、得られた反射防止膜は優
れた高能率反射防止膜であつた。また表面硬度、耐久性
及び食塩水煮沸試験の結果、いずれも略々実施例１の反
射防止膜と同等の効果を発揮し、公知の反射防止膜に比
し、極めて優れた機械的強度及び耐久性を有するもので
あつた。比較例 ３ 実施例１と同様にして得たＭｇＡｌ２Ｏ４ペレット１モ
ルに水酸化アルミニウム０．２モルを加え、湿式混合し
、１０００℃で２時間仮焼後、錠剤成型機で１トン／Ｃ
ＴＩＩの加圧下にプレス成型し、１４００℃で１０時間
焼成し、次いで１７００℃で５時間焼成することにより
、Ｍ９Ａｌ２Ｏ４−Ａ２２Ｏ３固浩体のペレツトを得る
。
該固洛体は、ＭｇＡｌ２ｌモルに対しＡｌ２Ｏ３Ｏ．ｌ
モルの割合で構成されている。かくして得られたＭ９Ａ
ｌ２Ｏ４−Ａｌ２Ｏ３固溶体ぺレツト（屈折率１．７４
）を第三層の材料とし、ＺｒＯ２を第二層の材料とし、
ＳｉＯ２を最上層の材料として、実施例１と同様にして
屈折率１．５２３のガラスレンズに順次蒸着を行なう。
得られた反射防止膜に３５００〜７０００λの波長を有
する光線を照射し、その分光反射率（４）を測定した。
モルの割合で構成されている。かくして得られたＭ９Ａ
ｌ２Ｏ４−Ａｌ２Ｏ３固溶体ぺレツト（屈折率１．７４
）を第三層の材料とし、ＺｒＯ２を第二層の材料とし、
ＳｉＯ２を最上層の材料として、実施例１と同様にして
屈折率１．５２３のガラスレンズに順次蒸着を行なう。
得られた反射防止膜に３５００〜７０００λの波長を有
する光線を照射し、その分光反射率（４）を測定した。
結果は、第３図に曲線Ｈとして示す通りである。尚、第
３図には、比較の為、実施例１の結果を曲線Ａとして併
せて示す。第３図に示す結果から明らかな如く、第三層
としてＭｆ！Ａｌ２Ｏ４に代えてＭ９Ａ′２０４−Ａノ
，ｑ固溶体｛を使用する場合には、反射防止効果が大巾
に低下する。
３図には、比較の為、実施例１の結果を曲線Ａとして併
せて示す。第３図に示す結果から明らかな如く、第三層
としてＭｆ！Ａｌ２Ｏ４に代えてＭ９Ａ′２０４−Ａノ
，ｑ固溶体｛を使用する場合には、反射防止効果が大巾
に低下する。
第１図、第２図及び第３図は、本発明実施例品及び比較
品の反射特性を示すグラフである。
品の反射特性を示すグラフである。
Claims (1)
- １ 光学的膜厚構造が（１／４）λ＿０・（１／２）λ
＿０・（１／４）λ＿０である三層反射防止膜において
、（ｉ）最上層をＳｉＯ＿２＿−＿ｘ（ｘは０〜０．７
を示す）とし、且つ（ｉｉ）下地ガラスに接する第三層
を（ａ）ＭｇＡｌ＿２Ｏ＿４スピネル、（ｂ）該スピネ
ルにＭｇＡｌ＿２Ｏ＿４１モルに対しＭｇＯ＿８モル以
下を固溶させた固溶体、又は（ｃ）該スピネルにＭｇＡ
ｌ＿２Ｏ＿４１モルに対しＭｇＯ＿８モル以下とＴｉＯ
＿２、ＺｎＯ、ＳｎＯ＿２、Ｂ＿２Ｏ＿３及びＣａＯの
少なくとも１種０．１モル以下とを固溶させた固溶体で
あつて、屈折率が１．７５〜１．８８の範囲にあるＭｇ
Ａｌ＿２Ｏ＿４スピネル系化合物としたことを特徴とす
る反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54139680A JPS593721B2 (ja) | 1979-10-29 | 1979-10-29 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54139680A JPS593721B2 (ja) | 1979-10-29 | 1979-10-29 | 反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5664302A JPS5664302A (en) | 1981-06-01 |
| JPS593721B2 true JPS593721B2 (ja) | 1984-01-25 |
Family
ID=15250916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54139680A Expired JPS593721B2 (ja) | 1979-10-29 | 1979-10-29 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593721B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0686313B2 (ja) * | 1988-03-01 | 1994-11-02 | 日本板硝子株式会社 | 電子線着色防止ガラス |
| CN105084778B (zh) * | 2014-05-05 | 2018-02-16 | 福建新福兴玻璃有限公司 | 一种绿色低辐射镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN105082670B (zh) * | 2014-05-05 | 2017-04-05 | 福州新福兴玻璃有限公司 | 一种绿色遮阳型镀膜玻璃及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4917542A (ja) * | 1972-04-20 | 1974-02-16 | ||
| JPS5150748A (en) * | 1974-10-28 | 1976-05-04 | Minolta Camera Kk | Sankashirikonmakuo kooteingushitapurasuchitsukuseikogakubuhin oyobi sonoseizohoho |
-
1979
- 1979-10-29 JP JP54139680A patent/JPS593721B2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4917542A (ja) * | 1972-04-20 | 1974-02-16 | ||
| JPS5150748A (en) * | 1974-10-28 | 1976-05-04 | Minolta Camera Kk | Sankashirikonmakuo kooteingushitapurasuchitsukuseikogakubuhin oyobi sonoseizohoho |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5664302A (en) | 1981-06-01 |
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