JPS59225194A - 新規不斉銅錯体ならびに同錯体を触媒とするシクロプロパンカルボン酸エステルの不斉合成法 - Google Patents

新規不斉銅錯体ならびに同錯体を触媒とするシクロプロパンカルボン酸エステルの不斉合成法

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JPS59225194A
JPS59225194A JP58099955A JP9995583A JPS59225194A JP S59225194 A JPS59225194 A JP S59225194A JP 58099955 A JP58099955 A JP 58099955A JP 9995583 A JP9995583 A JP 9995583A JP S59225194 A JPS59225194 A JP S59225194A
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顕谷 忠俊
Hiroshi Yoshihara
博 吉原
Takeo Suzukamo
鈴鴨 剛夫
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F1/00Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table
    • C07F1/005Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table without C-Metal linkages

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な不斉銅錯体に関し、さらにこの不斉銅錯
体を触媒として用いることを特徴とするシクロプロパン
カルボン酸エステル誘導体の不斉合成法に関する。
さらに詳しくは、本発明は一般式(11(式中、R1は
アルキル基またはベンジル基である。R2は2−アルコ
キシフェニル基または2−アルコキシ−5−アルキルフ
ェニル基である。Xlおよびx2はいずれも水素11A
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基のいずれであり、隣接するxl  e x2でベンゾ
基を形成することもできる。) で示される不斉銅錯体に一般式(5) %式%(5) (式中、R1はアリール基、アラIレキlし基、アルキ
ル基のいずれかである。) で示されるモノ置換ヒドラジンを作用させて得られる新
規不斉銅錯体に関し、さらにはこの新規不斉銅錯体を触
媒としC用いることを特徴とする一般式(2) (式中、A、 B 、 P 、Qはいずれも水素原子、
アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基
、ハロゲン原子を有するアルキル基、ハロゲン原子を有
するアルケニル基のいずれかである。。たたし、A=p
かっB=Qでない。) で示されるプロカイラルオレフィンと、ジアゾ酢酸エス
テルとを反応させて、対応するシクロフロパンカルボン
酸エステルを不斉合成する方法に関する。
ある種の光学活性シクロプロパンカルボン酸誘導体は、
医農薬中間体として重要な物質である。たとえば…−2
.2−ジメチルー5−(2−メチル−1−プロペニル)
シクロプロパンカルボン酸(菊酸)は、除虫菊エキスの
成分として天然界に存在し、また合成ピレスロイド系殺
虫剤の原料として工業的にも生産されている。また、2
.2−ジメチル−3−(2,2−ジクロロビニルまたは
、2.2−ジブロモビニル)−シクロプロパンカルボン
酸は、同殺虫剤中間体として〈旧−菊酸以りに有効なこ
ともしられている。2.2−ジメチル−5−(2,2,
2−トリクロロエチルまたは2.2.2−1−リブロモ
エチル)−シクロプロパンカルボン酸は、前記化合物の
前駆体となりうる。さらに、(−)−1−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸は、チェナマイシン型抗
生物質のジペプチダーゼ阻害剤の構成成分として開発さ
れている(特開昭55−40669号公報および同55
−51028号公報参照)。
合成的手法ζ0より光学活性シクロプロパンカルボン酸
類を得るには、二つの方法が考えられる。一つは、一旦
製造したラセミ体を光学分割する方法であり、いま一つ
は、直接不斉合成する方法である。後者は、光学活性体
の取得という点では前者よりはるかに効率的にはりうる
。特に、不斉金属錯体を触媒とする不斉合成法は、酵素
を利用する不斉反応と同様に工業的に重要である。
し 本発明者らはすでに、菊酸の不斉合成法ついて検討を加
えた結果、不斉な配位子を有する銅錯体(Cu(L )
n)  の存在下、2.5−ジメflL、−2,4−へ
キサジエンと、ジアゾ酢酸エステルとを反応させること
を特徴とする光学活性菊酸エステルの製造法を見出して
いる(特開昭48−28457号公報参照)。
また、本発明者らは、前記一般式(1)で示される不斉
銅錯体が丘記不斉合成の触媒として特に有効であること
を見出している。(特開M 2−25755号公報参照
)。
さらに本発明者らは、前記一般式(11の不斉銅錯体は
、菊酸エステルに限らず、シクロプロパンカルボン酸エ
ステル一般の不斉合成にも有効であることも見出してい
る。(特開昭50−160241号公報参照)。
プロカイラルなオレフィン(一般式(2))は光学活性
なシクロプロパンカルボン酸エステル(一般式(8)お
よび(41)4−考える。
1 (式中A、B、P、Qは前述のとおりである。) 「プロカイラル」なる術語については、たとえば中崎昌
雄著「分子のかたちと対称」(南江堂(東京)、196
.9年発行)参照。
ところで、本不斉力ルベノイド反応を工業的に実施する
場合、次の問題があった。周知の如く、ジアゾ酢酸エス
テルは爆発性の物質である。反応系内における本物質の
濃度はできるだけ小さく抑える必要がある。実際、ジア
ゾ酢酸エステルは、オレフィンと触媒との混合物中に、
ゆっくりと滴下されるのが常である。ジアゾ化合物の分
解は、窒素ガスの発生により確認できる。さらに触媒と
なる銅錯体は、ジアゾ化合物に対して、鋭敏に作用する
様、あらかじめ活性化しておく必要がある。
従来、前記一般式(1)の銅錯体の活性化に対して次の
方法がとられていた。すなわち、銅錯体、オレフィンお
よび少猷のジアゾ酢酸エステルよりなる混合物を、窒素
がスの発生が認められるまで加熱(通常70〜80℃)
する方法である。一旦活性化された銅錯体は、より低温
でもジアゾ酢酸エステルを分解する能力を有する。
しかしながら、この加熱活性化法は、実際の反応操作と
してはあまりにも煩雑であり、しかも、少量とはいえ、
ジアゾ酢酸エステルを一時的に分解することは、危険を
伴うものであった。
特に、低沸点のオレフィンあるいは低沸点の溶媒を用い
る場合には加熱操作自身実施不可能であった。前記一般
式(1)の銅錯体のより確実な活性化法が求められる由
縁である。
本発明者らは、を記現実的問題を解決すべく、努力を重
ねた結果、次の知見を得るに至った。すなわち、一般式
(1)で示される2価の銅を含む不斉銅錯体に、前記一
般式(5)で示されるモノ置換ヒドラジンを作用させて
得られる1価の銅を含む新規不斉銅錯体は、ジアゾ酢酸
エステルの接触分解能力に関し、前者よりはるかに高活
性であることを見出したのである。
ここで得られる新規不斉銅錯体の構造は定かではないが
、例えば一般式(6)か考えられる。
銅(I)錯体の配位数4は、3.配位性のシッフ塩基お
よび2連記位性のジアゼンR,NH=NkIによって満
足されている。ちなみにヒドラジン類と2価の1jj4
機銅塩との反応では、ジアゼンー銅(I)錯体か生成す
ることが報告されている。
(J、Ant、Chem、Soc、、 92 、428
 (1970)およびA(:counts Chem、
Res、 4 、193 (1971)参照)。
口 (R,N−NH)0.5 (式中、”+ * R2+ x、、 x2. :F;ヨ
ヒRtはMiJ述のとおりである。) すなわち、本発明の上限とするところは、前記一般式(
1)で示される不斉銅錯体に、前記一般式(5)で示さ
れるモノ置換ヒドラジンを作用させて得られる新規不斉
銅錯体であり、さらには、この新規不斉銅錯体を触媒と
して用いることにより、前記一般式(2)で示されるプ
ロカイラルオレフィンと、ジアゾ酢酸エステルとを反応
させて、対応するシクロプロパンカルボン酸エステルを
不斉合成する方法である。
以下に本発明についてさらに詳しく説明する。
前記一般式(1)において、艮1 、XlおよびXlに
おけるアルキル基としては、例えはメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イ“ノブチル、2−ブ
チル、【−ブチル。
オクチルなどの炭素数1〜8のアルキル基が挙げられる
が、炭素c!i、1〜4の低級アルキル基が適当である
k2における2−アルコキシフェニル基および2−アル
コキシ−5−アルキルフェニル基としては、アルコキシ
基としてメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ、・ノプ
ロポキシ、ブトキシ、【−ブトキシ、オクチルオキシな
どの炭素数1〜8のアルコキシ基が適当であり、またア
ルキル基として、メチル、エチル、プロピル、インプロ
ピル、ブチル、【−ブチルなどの炭素数1〜4の低級ア
ルキル基が適当である。さらに具体的には、2−アルコ
キシフェニル基トしては2−メトキシフェニル、2−エ
トキシフェニル、2−プロポキシフェニル、2−インプ
ロポキシフェニル、2−ブトキシフェニル、2−L−ブ
トキシフェニル、2−オクチルオキシフェニルなどが好
適であり、2−アルコキシ−5−アルキルフェニル基と
しては2−メトキシ−5−メチルフェニル、2−ブトキ
シ−5−メチルフェニル、5−メチル−2−オクチルオ
キシフェニル、5−1−ブチIレー2−メトキシフェニ
ル、2−ブトキシ−5−【−ブチルフェニル、5−【−
ブチル−2−オクチルオキシフェニルなどが好J1発で
ある。
XlおよびX2におけるハロゲン原子としては塩素原子
および臭素原子を挙げることができる。
XlおよびX2におけるアルコキシ基としては炭素数1
〜8のアルコキシ基が挙げられるが、メトキシ、エトキ
シ、プロポギシ、インプロポキシ、ブトキシ、【−ブト
キシなどの炭素数1〜4の低級アルコキシ基、4が適当
である。
前記一般式(5)において、R−におけるアリール基と
してはフヱニル基を、アラルキル基としてはベンジル基
を各々具体例として挙げることができる。またアルキル
基としては炭素数1〜8のアルキル基、具体的イこはメ
チル。
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル。
【−ブチルtlどの炭素数1〜4の低級アルキル基を挙
けることができる。
前記一般式(2)で表わされるプロカイラルなオレフィ
ンとしては、例えば1−オクテン、スチレン、4−クロ
ロ−1−ブテンなどの1−置換エチレン誘導体、例、え
はインブチレン、工 1.1−ジフェニル2チレン、α−メチルスチレンなど
の1.1−ジ置換エチレン誘導体、例えば劃−4−オク
テン、【−β−メチルスチレン、【−スチルベンなどの
トランス−1゜2−ジ置換エチレン誘導体、例えばc−
2−ペンテン、C−2−ヘプテン、C−β−メチルスチ
レンなどのシス−1,2−ジ置換エチレン誘導体、例え
ば2−メチル−2−ブテン、2−メチIレー1−フェニ
ルーt−プロペン、2.5−ジメチル−2,4−へキサ
ジエン、1.1−ジクロロ−4−メチル−1,3−ペン
タジェン、1,1.1−)リクロロー4−メチルー3−
ペンテン、t 、 ]、 、 1− トリブロモ−4−
メチル−3−ペンテンなどの1゜1.2−トリ置換エチ
レン誘導体、2.8−ジメチル−2−ペンテン、2−メ
チル−8−フェニル−2−ブテンなどの1.1.2.2
−テトラ置換エチレン誘導体などを例示することができ
る。
前記一般式(1)で示される不斉銅錯体は、一般式(7
) (式中、R1、R2、xlおよびx2は前述のとおりで
ある。) p表わされる不斉シッフ塩基と、適当な第二銅塩との反
応によって製造することができる(特公昭5B−489
55号公報参照)。
一般式(7)の不斉シッフ塩基としては、具体的に以下
のものをあげることができ、そのfR)あるいはfS1
体のいずれを用いてもよい。すなわち、N−サリチリデ
ン−2−アミノ−1゜1−ジ(2−メトキシフェニル)
−3−フェニル−1−プロパツール、N−サリチリデン
−2−アミノ−1,1−ジ(2−インプロポキシフェニ
ル)−8−フェニル−1−プロパノ−IへN−サリチリ
デン−2−アミノ−1゜1−ジ(2−ブトキシ−3−t
−ブチルフェニル)−8−フェニーレー1−プロパツー
ル、N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジ(2−
ブトキシ−3−t−ブチルフェニル)−1−プロパツー
ル、N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジ(5−
1−ブチル−2−tり−y−ルオキシフェニル)−S−
フェニル−1−プロパツール N−サリチリデン−2−
アミノ−1,1−ジ(5−【−ブチル−2−オクチルオ
キシフェニル)−1−7’ロバノール、N−(8−メト
キシサリチリデン)−2−アミノ−1,1−ジ(2−ブ
トキシ−5−t −7’チルフエニル)−8−フェニル
−1−プロパノールなどである。
不斉シッフ塩基(7)は、一般式(8)で表わされる不
斉アミノアルコールと一般式(9)で表わされるザリチ
リアルデヒド誘導体との反応により製造される。
(式中、R+  + R2e XI オヨびx2は前述
のとおりである。) サリチルアルデヒド誘導体(9)としては、たとえば次
のような化合物を例示することができる。
すなわち、サリチルアルデヒド、0−バニリン、3−エ
トキシサリチルアルデヒド、3゜5−ジブロモサリチル
アルデヒド、5−クロロサリチルアルデヒド、3−ニト
ロサリチルアルデヒド、3−イソプロピル−6−メチル
ザリチルアルデヒド、2−ヒドロキシ−1−ナフトアル
デヒド、1−ヒドロキシ−2−ナフトアルデヒドなどで
ある。
本発明に係る新規不斉銅錯体は、前記一般式(1)の不
斉銅錯体と前記工船式(5)のモノ置換ヒドラジンとの
反応によって製造することができる。
本反応は、通常は溶媒中で実施され、室温で80分以円
に完結する。モノ置換ヒドラジン(5)の使用量は、銅
錯体(1)に含まれる銅に対して0.5当量で十分であ
る。
溶媒としては、銅錯体(1)とモノ置換ヒドラジン(5
)の画体合物を溶媒するものがよい。具体的には、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、塩化メチ
レン、塩化エチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭
化水素またはこれらの溶媒よりなる混合本反応では、反
応系内に酸化剤たとえば酸素が存在することはさけるべ
きである。生成する銅(I)を含む新規不斉錯体は酸素
によって容易に酸化されるからである。
次に、一般式(21のプロ力イラルオレフ(ンとジアゾ
酢酸エステルとの反応によるシクロプロパンカルボン酸
エステル(前記一般式(81および(4))の不斉合成
法について説明する。
本反応においては、一般式(1)の不斉銅錯体と一般式
(5)のモノ置換ヒドラジンとを前記の方法により作用
させて得られる新規不斉銅錯体を触媒として用いる。こ
の際、触媒となる新規不斉銅錯体を特に単離する必要は
ない。
具体的には、前記の方法により、あらかじめ溶媒を用い
て調製した触媒溶液に当該オレフィンを溶解した後、ジ
アゾ酢酸エステルを滴下する方法がとられる。また別途
の方法として、当該オレフィンと溶媒の混合物中あるい
は、オレフィン単独中で一般式(1)の不斉銅錯体と一
般式(5)のモノ置換ヒドラジンとを作用させて得られ
る触媒5液に、ジアゾ酢酸エステルを滴下する方法をと
ることもできる。
いずれの場合においても一般式(1)の不斉銅錯体の使
用量はジアゾ酢酸エステルに対して0.01〜0.00
01当1tが適当である。
反応温度は0℃以L1用いる溶媒の沸点以下かり能であ
るが、通常はocがら50Cまでの間が適当である。
生成する光学活性シクロプロパンカルボン酸エステル(
一般式(3)および(4すは、通常の方法たとえば蒸留
によって単離できる。
本反応の原料化合物として用いるジアゾ酢酸エステルは
一般式N2CHCOORで示されるが、置換基罠として
は、j…常メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
′ブチル、t−ブチルなどの低級アルキル基が用いられ
る。
生成物である前記一般式(3)および(4)のシクロプ
ロパンカルボン酸エステルについては、一般式(2)の
オレフィンに対するアルコキシカルボニルカルベンのシ
クロ付加体であり、特に説明を要しない。
特に工業的に重要な化合物とその原料となるオレフィン
を示せは次のとおりである。
2.2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エステル(
インブチレン)、菊酸エステル(2,5−ジメチル−2
,4−ヘキザジエン)、2.2−ジメチル−3−(2,
2−ジクロロビニル)シクロプロパンカルボン酸エステ
ル(1,1−ジクロロ−4−メチル−1,3−ペンタジ
ェン)および2,2−ジメチル°−3(2,2,2)ジ
クロロエチル)シクロプロパンカルボン酸エステル(1
,1,1−トリクロロ−4−メチル−3−ペンテン)で
ある。
す、下に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明はもちろんこれらに限定されるものではない
実施例1 (艮)−N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジ(
2−ブトキシ−3−t−ブチルフェニル)−3−フェニ
ル−1−−/’ロバノールの銅錯体〔一般式(1)に8
いて1(l=ベンジル+ R2−2−ブトキシ−3−L
−ブチルフェニル、 X 1 =X2−水素原子に相当
する。〔α’)6411+890’、(CO,LO+ 
 )ルエン)、0.14y)を窒素がスでt!へ和させ
た無水トルエン10#I/lこ溶解させた後、反応器内
を窒素がスで置換した。旋光度は”541! −+ 1
.25°(l cm )であった。ここへ、フェニルヒ
ドラジン10■(銅−原子に対し0.5当絹)を掛;押
下20℃で加えた。
反応液は5分以内に青緑色から淡黄色に変化した。溶液
の旋光度はQs<60.038°(Icy)であった。
L記方法で間装した新規不斉銅錯体の溶液の化学的性質
は次のようであった。
(11h記溶液にジアゾ酢酸エチルのトルエン溶液(4
0%、 o、a r 、  i、t ミリモル)を20
℃で加えると直ちに窒素がス24ゴが発生した。
(2)  一方、に記法黄色の溶液を大気中に放置して
おくと、徐々に緑色に変化しtこ。
−週間後の旋光度はαa4g+ 1.01°(1,渭)
であった。
実施例2 実施例1と全く同じ操作をフェニルヒドラジンt o 
yrr’iの代りに【−ブチルヒドラジン8 rrvt
 (銅−原子に対し0.5当量)を用いて行なった。得
られた淡黄色の溶液の旋光度はαr、u −0,011
’ (1crn)であった。またこの溶液1こジアゾ酢
酸エチル(1,L 2 Fを加えると、l+:4 +f
fJ的に定)i14的l工窒素ガス(24Ml)が発生
した。
実施例3 (R)−N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジ(
2−ブトキシ−3−t−ブチルフェニル)−3−フェ°
ニル−1−フaパノールの銅錯体(実施例1.2と同じ
錯体、0.40?、 0.28ミリモル)をトルエン5
0 mlに溶解させ、反応器内の雰囲気を窒素ガスで十
装置8+シた。ここへインブチレンがス(14f ) 
V40 Cテ餡Milするまで溶解させ、さら゛にフェ
ニルヒドラジンのトルエン溶液0.8tni(10%、
0.28ミリモル)を加えた。溶液の色は、紅色から黄
色に変化した。
蒸留によって精製したジアゾ酢酸エチルのトルエン溶液
40.or(ジアゾ酢酸エチル16.15F、141.
7ミリモル)を、攪拌下40℃で7時間かけてγに1下
したつこの間インブチレンがス(s8y)の吹込みは、
滴下終了まで続けた。窒素がスの発生は滴下と同時に観
察され、滴下終了時には略定損的な窒素がス(8,4e
)が発生した。反応混合物を約80℃まで昇温して、過
剰のインブチレンを追い出して得られる生成物(to5
.2V)をガスクロマトグラフィーで分析した。2.2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルエステルの
含晴ハ15.7%(16,52)であり、ジアゾ酢峻エ
チルエステルに対する収率は82.0%であった。減圧
蒸留(沸点80℃/ 5 Q *wHf)で単離した前
記エステルは、〔α’]、+105.6゜(C=2.0
. クロロホルム)を示した。光学的に純粋なエステル
の比旋光度を〔α〕0−ト120°とすると、得られた
製品の光学純度は88.2%と計算される。
実施例4 実施例8において、フェニルヒドラジンの代わりに、(
−ブチルヒドラジン(10%トルエン溶液0.24 m
l、0.28ミリモル)を用いた以外は、実施例8と全
く同様に反応させた。得られた生成物(105,2F)
を分析した結果、2.2−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸エチルエステルの含量は15.3%(16,11
)であり、ジアゾ酢酸エチルエステルに対する収率は8
0.0%であった。
減圧蒸留で単離した前記エステルは比旋光度〔α)、+
104.4°(C=2.0.クロロホルム)を示した。
光学純度は、87.0%と計算される。
実施例5 (艮)−N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジ(
5−1ブチル−2−オクチルオキシフェニル)−1−7
”ロバノールの銅錯体〔一般式(1)において、R1=
メチル、R2=5−t−ブチル−2−オクチルオキシフ
ェニル、X、=X2=水素原子に相当する。0.28?
、0.15ミリモル〕を2.5−ジメチル−2,4−へ
キサジエン16.58F(1501ミリモル)に溶解さ
せた。溶液に窒素がスを吹込み、反応器内を窒素置換し
た後、フェニルヒドラジン24■(0,22ミリモル)
を添加しノこ。次にジアゾ酢酸エチル(蒸留品、浴温4
0℃/la+Hf 、8.55F、75ミリモル)オよ
び2.5−ジメチル−2,4−へキサジエン(16,5
8r、150.8ミリモ11/ ) ヨ#) /、(る
混合物を40℃で5.5時間かけて滴下した。反応液は
滴下開始後徐々に緑色から赤褐色に変化した。窒素がス
の発生(計1.84)は、滴下開始と同時に進行し、何
ら加熱の要はなかった。
菊酸エチルエステルの生成量をがスクロで定量すると、
9.95 Fであり、ジアゾ酢酸エチルに対する収率は
67.7%であワた。
反応混合物より2.5−ジメチル−2゜4−へキサジン
(沸点51°/80轄Hr)を留去した後、菊酸エチル
(沸点59°脅10.5WM )を単離した。シス/ト
ランス=48.7151.8 、 fZD+18.26
°(neat 、 Idm )であった。菊酸エチルを
アルカリ加水分解し、得られた菊酸を菊酸クロライドと
なし、(−1−1−2−オクタツールと反応させ生成す
るジアステレオマーエステルをがスクロ(キャピラリー
カラム)で分析した。
…−シス体、40.50%;(−)−シス体。
8.27%;…−トランス体、44.27%;(刊−ト
ランス体、697%;シス体のe、e。
(対掌体過剰率)は71.1%、トランス体のe、e、
は72.8形と計算できる。
実施例6 (S)−N−サリチリデン−2−アミノ−1,1−ジ(
5−1、ブチル−2〜オクチルオキシフエニル)−8−
−yエニlレーl−プロパツールの銅錯体〔一般式(1
1においてR1=ベンジルe R2= 5  L−ブチ
ル−2−オクチルオキシフェニル、X1=X2=水素原
子に相当する。0.7Of、0.42ミリモル〕をトル
エン50trttおよび2−メチル−2−ブテン84f
(485,7ミリモル)に溶解させた。ここへ、ベンジ
ルヒドラジンのトルエン溶液(10%) 0.60 m
l(0,49ミリモル)を加えると、溶液は青緑色から
橙黄色に変化した。さらに、ジアゾ酢酸エチル(28,
88F、209.5ミリモル)のトルエン溶液59.7
9を30℃で10時間かけて滴下した。窒素がスの発生
は、滴下と同時に始まり、滴下終了と共に完了した。(
全量5.01 2.2.3−)リメチルシクロプロパンカルボン酸エチ
ル(沸点105℃/100w5tlf)の生成量は、が
スクロ分析によると、22、9 fであり、ジアゾ酢酸
エチルに対する収率は、700%であった。蒸留で単離
したサンプルは、シス/トランス比=79/21 、 
αD−44,7°(neat 、ldm)を示した。
上記エステルを0、g当量のアルカリを用いて加水分解
した。回収した未反応のエステル(6%)は、シス体の
みであり、α0−58.0°(neat、ldm)を示
した。同時に得られたカルボン酸(92%)ハ〔α〕0
−636°(C1,8,クロロホルム)を示した。
L記シス−エステルをふtこたびアルカリで加水分解し
て得られたシス−2,2,8−トリメチルシクロプロパ
ンカルボン酸は、(α’)D−69,31°(C2,3
,クロロホルム)を示した。光学活性2 、2 、3−
 ) IJメチルシクロプロパンカルボン酸については
Agr、Biol、Chem、、 87.2285(1
978)参照。
手続補正書(自発) 昭和59年9月30日 1 事件の表示 昭和58年 持r[願第 99955  刊2 発明の
名称 新規不斉銅錯体ならびに同錯体を触媒とするシクロプロ
パンカルボン酸エステルの不斉合成法3 袖IFをする
者 !J■件との関係   特’u l・出−1人任 所 
 大阪山東区北浜5丁目15番地名称 (209)住友
化学工業株式会社代表者  土 方    武 4代理人 住 所  大阪市東区北浜5丁口15番地住友化学工業
株式会社内 氏名 弁理士(8597)諸石光烈 TF、LtOf+1220−3404 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ′ 補正の内容 ) 明細書第20頁第13行の1溶媒」を「溶解」とす
る。
(2)  同書第80頁第1行のI’71.1%」をr
66.1%」とする。
(8)  同書第82頁第4行の次に、以下のとおり加
入するう 「実施例7 (R)−N−(サリチリデン)−2−アミノ−1,1−
ジ(2−ブトキシ一番−t−プチルフェニル)−3−フ
ェニル−1−プロパツール=キエ中−口を匹=ヱの銅錯
体〔一般式(1)にわいて、R1=ベンジル、R2=2
−ブトキシ−3−t−ブチルフェニル、X1=x2=水
素原子ニ相当スル。0.121.0.08ミリモル〕を
2.5−ジメチル−2゜4−へキサジエン17.6 f
 (160ミリモル)に溶解させた。反応器内を十分に
窒素置換した後、メチルヒドラジン8,7■(0,08
ミリモル)を添加した。
次にジアゾ酢酸t−ブチル5.68F (40ミリモル)および2.5−ジメチル−2,4−ヘ
キサジエン4.4f(40ミリモル)よりなる混合物を
50℃で4時間かけて滴下した。
反応液は滴下開始後、徐々に緑色から赤褐色に変化した
。窒素ガスの発生(計0.96t)は、滴下開始と同時
に進行し、何ら加熱の要はなかった。
生成した菊酸t−ブチルをガスクロで定量すると、6.
45fであり、ジアゾ酢酸t−ブチルに対する収率は7
2%であった。
反応混合物より2.5−ジメチル−2,4−へキサジエ
ンを留去した後、÷菊酸t−ブチル(沸点82”C/ 
0.5 vm )を単離した。
シス/トランス=24/76、αD+5.40(nea
t 、 ldm )でアッタ。
菊酸t−ブチルをp−トルエンスルホン酸を用いて加水
分解し、得られた菊酸を(+)−2−オクチルエステル
としてガスクロ分析した。
(+)−シス、15.8%:(ハ)−シス、5.8%;
(+)−トランス、69.4%ニー−トランス。
9.5%であった。
e、e (対掌体過剰率)はシス体、45%ニドランス
体、76%と計算される。
実施例8 (S”)−N−(サリチリデン)−2−アミノ−1,1
−ジ(2−ブトキシ−3−t−プチルフェニル)−4−
メチル−1−ペンタノールの銅錯体〔一般式(1)にお
いて、R1=イソブチル、Rz、=2−ブトキシ−5−
1−ブチルフェニル、Xs = X2 =水素原子に相
当する。0.28 Q、 0.20ミリモル〕を1.1
.1−トリクロロ−4−メチル−8−ペンテン82.1
9(171ミリモル)に溶解させた。反応器内を十分に
窒素置換した後、フェニルヒドラジン21.6q(0,
20ミリモル)を添加した。
次にジアゾ酢酸エチル2.289(20モリモル)およ
び上記オレフィン5.60g(80ミリモル)よりなる
混合物を80°Cで6時間かけて滴下したつ 反応液は滴下開始後、徐々に黄色から赤褐色に変化した
。窒素ガスの発生(計0.44t)は、滴下開始と同時
に進行し、何ら加熱の要はなかった。
生成した2、2−ジメチル−3−(2゜2.2−トリク
ロロエチル)−シクロプロパンカルボン酸エチルをガス
クロで定量スると、2.78Qであり、ジアゾ酢酸エチ
ルに対する収率は50%であった。
反応混合物より過剰のオレフィンを留去した後、生成物
であるエチルエステルを単離した(沸点90°C/−0
,5tma’) 、。
シス/トランス−88/12(ガスクロ分析による)。
2.2−ジメチル−3−(2,2,2−トリクロロエチ
ル)シクロプロパンカルボン酸エチルを苛性カリで、加
水分解し、2゜2−ジメチル−3−(2,2−ジクロロ
ビニル)シクロプロパンカルボン酸を得た。
このものを(+1−2−オクチルエステルとしてガスク
ロ分析した。
(+)−シス、88.6%:H−シス、8.9%: (
+) −トランス、7.5%;(ハ)−トランス。
5.0%であった。
e、e、(対掌体過剰率)はシス体、91%ニドランス
体、20%と計算される。
実施例9 (R) −N−(8−エトキシサリチリデン)−2−ア
ミノル1.1−ジ(2−イソプロポキシフェニル)−8
−フェニル−1−プロパツールの銅錯体〔一般式(1)
において、R1=ベンジル、Rg=2−イソプロポキシ
フェニル、X1=8−エトキシ、x2=水素原子に相当
する。0.81f、0.22ミリモル〕をスチレン10
.0f(96ミリモル)に溶解させた。反応器内を十分
に窒素置換した後、フェニルヒドラジン2B、8v(0
,22ミリモル)を添加した。
次にジアゾ酢酸エチル5.0f(44ミリモルおよびス
チレン10.0f(96ミリモル)よりなる混合物を4
0°Cで5時間かけて滴下した。
反応液は滴下開始後、徐々に緑色から赤褐色に変化した
つ窒素ガスの発生(計1.Ot)は、滴下開始と同時に
進行し、何ら加熱の要はなかった。
生成した2−フェニルシクロプロパンカルボン酸エチル
をガスクロで定量すると、6.26gであり、ジアゾ酢
酸エチルに対する収率は75%であった。
反応混合物より過剰のスチレンを留去した後、生成物で
あるエチルエステルを単離した(沸点85°C/ 0.
5箪)。
シス/トランス=80/70(ガスクロ分析による)。
αD+72.8° (睨at 、 tdm)。
上記エステルを苛性ソーダで加水分解し2−フェニルシ
クロプロパンカルボン酸を得た。
沸点125℃/ 0.5 vtm 、 Cα〕、+89
.2゜(旦5.2.クロロホルム)、。
実施例10 (R)−N−(2−ヒドロキシ−1−ナフチルメ−チ7
レン)−2−アミ ノー1.1−ジ(2−イソプロポキ
シフェニル)−8−フェニル−1−プロパツールの銅錯
体〔一般式(1)において、R1=ベンジル、R2=2
−イソプロポキシフェニル、Xi、X2=5.6−ベン
ゾに相当する。0.62g、0.44ミリモル〕を1−
オクテン11.2g(100ミリモル)に溶解させた。
反応器内を十分に窒素置換した後、フェニルヒドラジン
47.5岬(0,44ミリモル)を添加した。
次にジアゾ酢酸エチル5.0f(44ミリモル)および
1−オクテン11.2(100ミリモル)よりなる混合
物を50°Cで5時間かけて滴下した。
反応液は滴下開始後、徐々に黄色から赤褐色に変化した
う窒素ガスの発生(計1.1t)は、滴下開始と同時に
進行し、何ら加熱の要はなかった。
生成シた2−へキシルシクロプロパンカルボン酸エチル
をガスクロで定量すると、5.05Fであり、ジアゾ酢
酸エチルに対する収率は58%であった。
反応混合物より過剰の1−オクテンを留去した後、生成
物であるエチルエステルを単離した(沸点88℃/ 0
.5 m )。
シス/トランス=34/66(ガスクロ分析による)、
aD千26.4° (neat 、 ldm)、。
上記エステルを苛性ソーダで加水分解し2−へキシルシ
クロプロパンカルボン酸を得た。
沸点110°C/ 0.5閣、〔σ〕ゎ十86.2(工
5.0、クロロホルム)。 」 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 +11 一般式 (式中、klはアルキル基またはベンジル基である。R
    2は2−アルコキシフェニル基または2−アルコキシ−
    5−アルキルフェニル基である。Xlおよびx2はいず
    れも水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
    基、ニトロ基のいずれかであり、隣接するX、、X2で
    ベンゾ基を形成することもできる。) で示される不斉銅錯体に、一般式 %式% (式中、Rsはアリ−l上基、アラルキル基、アルキル
    基のいずれかである。) で示されるモノ置換ヒドラジンを作用させて得られる新
    規不斉銅錯体。 (2)一般式 %式% (式中、A、B、P、Qはいずれも水素原子、アルキル
    基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、ハロゲ
    ン原子を有するアルキル基、ハロゲン原子を有するアル
    ケニル基のいずれかである。ただし、A=PかつB=Q
    でない。) で示されるプロカイラルオレフィンと、ジアゾ酢酸エス
    テルとを反応させて、対応するシクロプロパンカルボン
    酸エステルを不斉合成する方法において、一般式 (式中、R1はアルキル基またはベンジlし基である。 R2は2−アルコキシフェニル基または2−アルコキシ
    −5−アルキルフェニル基である。xlおよびx2はい
    ずれも水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
    シ基、ニトロ基のいずレカテアリ、隣接するXl 、X
    2でベンゾ基を形成することもできる。) で示される不斉銅錯体に、一般式 %式% (式中、R3はアリール基、アラルキル基。 アルキル基のいずれかである。) で示されるモノ置換ヒドラジンを作用させて得られる新
    規不斉銅錯体を触媒として用いることを特徴とする不斉
    合成法。
JP58099955A 1983-06-03 1983-06-03 新規不斉銅錯体ならびに同錯体を触媒とするシクロプロパンカルボン酸エステルの不斉合成法 Granted JPS59225194A (ja)

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