JPS59186120A - 磁気記録フレキシブルデイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 この発明はトラッキングミスを回避できる磁気記録フレ
キシブルディスクに関する。更に詳しくは、高いトラッ
ク密度記録の可能な磁気記録フレキシブルディスクに係
る。

従来技術 磁気フレキシブルディスク記録再生装置自体に、温度変
化を抑制する機構やトラック検出の特別な回路（トラッ
クサーボ等）を設けることによって、トラッキングミス
を防止することが従来から知られている。もっとも、こ
れらの手段では記録再生装置が′ｆ１雑となるので汎用
的ではない。実際的には、基材フィルムや磁気材料に可
能な限り、熱膨張率及び湿度膨張率の小さい材料を選択
することによって、磁気フレキシブルディスクを造り、
１〜ラツキングミスを防止する手段が採られている。

しかしながら、この様な磁気フレキシブルディスクでも
高温（４０〜５０°Ｃ）及び／又は高湿（約８０％ＲＨ
）で使用すると、トラッキングミスが発生する。特に低
温（１０℃程度）ないし低湿（２０％ＲＨ程度）の条件
下で記録した磁気フレキシブルディスクは、常温（２５
℃程度）及び通常の湿度（６０％ＲＨ程度）雰囲気のも
どで再生するとトラッキングミスが発生するという欠点
があった。このトラッキングミスによって、出力エンベ
ロープの低下が起り、Ｓ／Ｎ比が悪くなるという問題は
未だ未解決である。

発明の目的 本発明者は上記の欠点を解消するため研究を重ねた結果
、ポリ−１，４−シクロヘキシレンくジメチレンテレフ
タレート）系ポリエステルよりなる２軸配向フイルムの
温度及び湿度膨張率を特定範囲に調整することによって
、寸法安定性の高いフィルムを得、これを基材として磁
気記録フレキシブルディスクを造ることによって、トラ
ッキングミスの発生を回避できることを児出し本発明に
到達した。

本発明の目的は、使用可能な雰囲気条件湿度。

湿度範囲を拡大し、高温・高湿の条件でもトラックミス
が発生しない様に改良した磁気記録フレキシブルディス
クを提供することにある。

更に、この様な温度・湿度による寸法安定性の高い磁気
記録フレキシブルディスクは、磁気記録の高密度化、就
中、トラック密度の向上を可能にするものであって、か
ようなディスクを提供することも本発明の仙の目的であ
る。

発明の構成 本発明の、酸成分の８０モル％以」二がテレフタル酸よ
り構成されたポリ−１，４−シクロヘキシレンくジメヂ
レンテレフタレ−１−）系ポリエステルからなる２軸配
向フイルムを基材とし、該フィルムの長手方向及び［１
］方向を含む而にお（プる最大の温度膨張率が９〜２５
×１い°Ｃ−１．最大の湿度膨張率がＯ〜８．０Ｘ１０
’℃（％Ｒｌ−１）　−’　、最大と最小との温度膨張
率の差がＯ〜Ｂ、０Ｘ１０４°Ｃ−１、かつ最大と最小
と湿度膨張率の差がＯ〜３０Ｘ　１０’　（％ＲＨ）−
’であるものに磁性層を塗設し、かつカレンダーロール
処理を施して表面を平滑化せしめてなる磁気記録フレキ
シブルディスクである。

この磁気記録フレキシブルディスクは、前記、ポリ−１
，４−シクロヘキシレン、ジメチレンテレフタレート系
ポリエステル２軸配向フイルム上に磁性層を塗布し乾燥
して、更に表面平滑化のためにカレンダー処理を施すこ
とによって１９られる。

３− また、ポリ−１，４−シクロヘキシレン、ジメチレンテ
レフタレート系ポリエステル２軸配向フイルムは上記の
温度・湿度膨張率の条件を満足するように、製膜条件を
適宜にコントロールすることによって製造することがで
きる。

本発明の磁気記録フレキシブルディスクは、磁性層と基
材フィルムとによって構成されている。

磁性層は磁性粉体或は金属よりなる。本発明に使用する
強磁性粉体又は金属としてはγ−Ｆθ２０３゜６含有の
γ−Ｆ１１２０３　、　Ｆｌ１３０４　、　Ｃｏ含有の
Ｆｅ２Ｏ４゜ＣｒＯ２，Ｃｏ　　Ｎｉ　　Ｐ合金、　Ｃ
ｏ　　Ｎｉ　　Ｆｅ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｎ五
合金、バリウムフェライト等、公知の強磁性体が使用で
きる。

本発明で磁性粉体と共に使用されるバインダーとしては
、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂。

反応型樹脂又はこれらの混合物である。具体的には、塩
化ビニール酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステルアクリロニトロル共重合体、アクリ
ル酸エステル塩化ビニ４− リデン共巾合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体
、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メ
タクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリ
ル酸ニスチルスチレン共重合体、ウレタンエラス１−マ
ー、ポリフッ化ビニル。

塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジェン
アクリロニトリル共重合体、ポリミアド樹脂、ポリビニ
ルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテー
トブチレート、セルロースダイアセテート、セルロース
１〜リアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロ
セルロース等）。

スヂレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂。

クロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、ア
ミノ樹脂、名神の合成ゴム系の熱可塑ｆ１樹脂およびこ
れらの混合物等が使用される。

支持体フィルム十への前記の磁性層を塗布する方法とし
ては、エアードクターコート、ブレード］−ト、エアナ
イフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロ
ール］−ト、トランスファーロールコート、グラ上アコ
−１−，キスコート。

キャスト］−ト、スプレィコート等が利用できる。

基体フィルムには磁性層を０．１〜２０μの厚さに塗布
する。本発明における基体フィルムであるポリ−１，７
１−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート系ポリ
エステルとしては、二塩基酸成分のうち８０モル％以上
がテレフタル酸より成り、グリコール成分は１，４−シ
クロヘキサンジメタツールのシスまたはトランス異性体
より選ばれたグリコールである。テレフタル酸以外の二
塩基酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、アジピ
ン酸。

セパチン酸、コハク酸、シュウ酸等の二塩基酸が例示さ
れる。好ましくは、イソフタル酸である。

本発明において用いる１、４−シクロヘキサンジメタツ
ールは、ジメチレンテレフタレートまたはテレフタル酸
の接触還元によって製造されたもの等の製造があるがい
ずれの方法で製造されたものでも支障がない。

１．４−シクロヘキサンジメタツールのシス体とトラン
ス体との比は特に制限するものではないが、シス体／ト
ランス体−４／６〜０／１０の範囲のものが好ましい。

前記ポリ−１，４−シクロヘキシレン（ジメチレンテレ
フタレ−１−）系ポリエステル中には、例えば、リン酸
、亜リン酸及びそれらのエステル等の安定剤、二酸化チ
タン、微粒子状シリカ、カオリン、炭酸カルシウム、リ
ン酸カルシウム等の艶演剤、滑剤等が含まれていても良
い。

本発明で用いられるポリ−１，４−シクロヘキシレンジ
メチレンテレフタレート系ポリエステル２軸配向フイル
ムは、フィルムの長手方向及びｌ］力方向含む面におけ
る最大の温度膨張率が９〜２５×１０’℃″１、最大の
湿度膨張率が０〜８．ＯＸ　１０’％Ｒ１−１−’、好
ましくは０〜５．０Ｘ　１０’％Ｒ１−１−’であり、
しかも最大と最小との温度膨張率の差が０〜８、ＯＸ　
１０″６°０−１、好ましくはＯ〜５．ＯＸ　１０’℃
−１：また最大と最小との湿度膨張率の差が０〜３．０
×１０４％ＲＨ−１好ましくはＯ〜２．５ｘ　１０’％
ＲＨ−’である。フィルム基材の温度・湿度膨張率がこ
の範囲を満足すると、フレキシブルディスクのトラッキ
ングミスは防止でき、広い温度・湿度範囲で７− の使用が可能になる。温度又は温度膨張率が上記に規定
した範囲を超えると、磁気記録フレキシブルディスクに
記録した雰囲気と異なった温度で再生した場合に、温度
膨張率・湿度膨張率の差によって磁気フレキシブルディ
スクの中心から伸びが異なり磁気ヘッドと記録トラック
がずれてトラッキングミスを発生する原因となる。この
結果、出力が変化して、ドロップアウトを生ずる。

現状技術では磁気記録フレキシブルディスクとして最も
一般的に用いられているポリエチレンテレフタレート系
ポリエステルフィルムでは最大の温度膨張率は約１７Ｘ
１０’℃司、温度膨張率の最大と最小の差は８Ｘ１０”
℃−１程度で、温度膨張率の面では記録再生装置の温度
膨張率とほぼ一致するものの、面内方向における温度膨
張率差によるトラムツクずれを完全に防止することはで
きない。

また湿ｒｆＩ膨張率については約１１ｘ　１０″Ｇ％Ｒ
ｌ−１程度とかなり大きく湿度変化に対応したトラック
ずれは、記録再生装置の温度膨張率がＯとみなせるので
かなり大きなものとなる。一方、本発明のポリ８− −１．４−シクロヘキシレン（ジメチレンテレフタレー
ト）系ポリエステルよりなる２＠配向フイルムを用いる
ことによって、一般的に用いられているポリエチレンテ
レフタシー１〜系ポリエステルよりなる２軸配向フイル
ムよりも温度膨張及び湿度膨張に伴う１〜ラツクずれが
小さく、かつ渇ｒｆＩ膨張率の最大値と最小値との差、
湿度膨張率の最大値と最小値との差を小さくすることに
よって、トラックずれを更に小さく抑えることができ、
広い温度・湿度範囲の雰囲気での使用に全く支障がない
。

しかもこの基本フィルムは磁気記録が高密度化された磁
気記録フレキシブルディスクが得られる。

上記の膨張特性を得るためのポリ−１，４−シクロヘキ
シレン（ジメチレンテレフタレート）系ポリエステルフ
ィルムの製膜方法は、ポリエチレンテレフタレート等の
通常のポリエステルフィルムの製膜法と同様な製造法が
適用できる。例えば、■−ダイ法、インフレーション法
等によって溶融押出された未延伸フィルムを造ることが
できる。

更に、２軸方向に延伸して２軸配向フイルムとなし得る
。この時の延伸温度は、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの場合とほぼ同様の条件で実施できるが、ポリ−
１，４−シクロヘキシレン（ジメチレンテレフタレート
）系ポリエステル中のテレフタル酸含有量によりガラス
転移温度・融点が変化するので、これに対応して溶融温
度やキャスティングドラムの温度を適宜選択する必要が
ある。

延伸温度としては通常８０〜１４０℃であり、また延伸
倍率としては縦方向に３．０〜５．０倍、好ましくは３
．５〜４．５倍、横方向に３，０〜５．０倍、好ましく
は３．５〜４．５倍程度を選択する。得られた２軸配向
フイルムを１５０〜２６０℃（好ましくは１８０〜２５
０℃）で１〜１００秒熱固定することによって、本発明
の温度・湿度膨張によるトラックずれの小さいフィルム
が得られる。しかし、本発明のポリ−１，４−シクロヘ
キシレン（ジメチレンテレフタレート）系ポエステルよ
りなる２軸配向フイルムは、この様な方法で得られたも
ののみには限られない。本発明の２軸配向フイルムは、
その用途によって適宜の厚さとなし得るが、通常２５〜
１２５μ程度の範囲から選ばれる。もつとも、この厚さ
の範囲に限定されるものではない。本発明にお（ブる特
性値の測定方法は次の通りである。

（１）温度膨張率 日本自動制御ネＩＩ＃の定荷重伸び試験［１（Ｉ　Ｔ’
　Ｌ２型）を恒温恒湿槽内に置ぎ測定を行う。測定サン
プルは予め所定の条イ！［（例えば７０℃３０分）で熱
処理を施し、このサンプルを試験機に取付は温度２０℃
・湿度６０％Ｒ１−１（相対湿度）と温度４０℃・湿度
６０％Ｒ日との間での寸法変化を読取ることによって温
度膨張率を測定する。このときの原サンプル長は、５０
５　ｍｍ、サンプル巾は１／４インチである。測定時に
加える加重は５７／　１／４インチ巾当りで一定とした
。良いサンプルが得られない場合は、真空理工社製前機
械分析装置Ｔ　Ｍ　−３０００を用い測定することもで
きる。温度膨張率の最大値及び最小値の差をもとめる場
合は、Ｔ　Ｍ　−３０００を用いる。サンプルの寸法は
長さ１５ｍｍ、中５ｍｍであって、湿度１０℃・湿度０
％Ｒ１−１と温度４０℃・相対湿度Ｏ％における寸法変
化を読取ることによって、１１一 温度膨張率の最大と最小との差を知ることができる。両
者の測定法によって得られた値は完全に一致するから、
いずれの測定法でもよい。

（２）湿度膨張率 温度膨張率を求める場合と同様に日本自動制御社製の定
荷重伸び試験機を用い、温度４０℃・相対湿度９０％の
条件で予め処理を施したサンプルを取付け、温度２０℃
・相対湿度３０％と２０℃湿度７ｏ％ＲＨの間における
寸法変化を読取ることによって湿度膨張率を求める。サ
ンプルが長くとれない場合は温度膨張測定時と同様に真
空理工社製の熱機械分析装置を恒温恒室機に置き、前記
条件のもとて測定を行なった。この場合もいずれの方法
によって得られる値も完全に一致する。

（３）トラッキングずれテスト（温度変化）トラッキン
グずれテストとしては次の様な方法を用る。磁性層を塗
布し、カレンダーロールを施してディスク状に打法いた
磁気記録フレキシブルディスクを潤度１５℃湿度６０％
ＲＨで記録し、そのときの最大出力と磁気シートの出力
エンベロープ１２− を測定する。次に雰囲気温度を４０’Ｃ湿度６０％Ｒｌ
−１になる様に維持して、その温度における最大出力と
出力エンベロープを調べ、１５℃湿度６０％Ｒｌ−１の
時の出力■ンベロープと４０℃湿度６０％Ｒ１−１のど
きの出力エンベロープを比較して、１〜ラツキングの状
態を判定する。この差が小さいほど、優れたトラッキン
グ特性を有している。この差が３６ｂ以上になると、１
〜ラツキングが悪く、評価としては×であり、３ｄｂ以
内のものは○として評価した。

（４）トラッキングずれテスト（湿度変化）前項と同様
に温度２５℃・相対湿度２０％の雰囲気で記録し、更に
雰囲気条件を２５℃・相対湿度７０％に保持し、２５℃
・相対湿度２０％のときと２５℃相対湿度７０％の出力
エンベロープを比較する。前項と同様にトラッキングの
良好性を評価づる。評価方法は３項と同様である。

実施例 次に、実施例により本発明を具体的に説明する。

実施例１〜４及び比較例１〜２ 二塩基酸成分として、テレフタル酸を８５モル％。

イソフタル酸を１５モル％、グリコール成分として１．
４−シクロヘキサンジメタツールを用い、触媒として酸
化チタン０．０５モル％とをオートクレーブに入れ、撹
拌下で加熱してエステル交換し、次いで重縮合して、１
，４−シクロヘキサンジメタツールとテレフタル酸及び
イソフタル酸よりなるポリ−１，４−シクロヘキシレン
、ジメチレンテレフタレート系ポリエステルを得た。

一方、テレフタルＭ１００モル％、１，４−シクロヘキ
サンジメタツール１００モル％よりなるポリシクロヘキ
シレン−１，４−ジメチレンテレフタレートも同様にし
て重合を行った。比較例として、ポリエチレンテレフタ
レートを常法により重合した。

この２種のポリエステルを３００℃で溶融押出し、１０
５０μの未延伸フィルムを得た。次いで、９０〜１２０
℃にて縦方向に３．３〜３．７倍、１００〜１３０°Ｃ
で横方向に３．４〜３．８倍延伸し、更に２００〜２４
０℃において１０〜３０秒間熱固定して、厚み７５μの
製膜条件の異なった２軸配向フイルムを得た。この様に
して得られた２軸配向フイルムに下記組成の磁性塗布液
を５μの厚さに塗布した。

（磁性塗布液） ７”　　Ｆｅ　２０３　　　　　　　　　　　　　　　
２００ｆｉ　１４　部塩化ビニールー酢酸ビニル共重合
樹脂 （ｔＪｃｃ製■△Ｇ　＋−１）　　　　　　　　３０重
量部ポリウレタン（日本ポリウレタン 工業製ＰＰ−８８＞　　　　　　　　　２０重回部イソ
シアネー１〜化合物（日本ポリウレタン工業製］ロネー
ト１−］Ｌ　）　　　　４０重置部カーボン（平均サイ
ズ０．５μφ）　　　　２０ｆｆｉｆｆｉ部ジメチルシ
ロキサン　　　　　　　　　　２重量部トルエン　　　
　　　　　　　　　　　７０重量部メチルエチルケトン
　　　　　　　　　７０重量部シクロヘキサノン　　　
　　　　　　　７０重量部上記塗判を充分に混合撹拌し
、ポリシクロヘキシレン−１，４−ジメチレンテレフタ
レートフィルム士に塗布し、次いでカレンダーロール処
理を施した。この侵、外径２０　Ｃｍで内径３，８Ｃｔ
ｎの磁気記録フレキシブルディスクに切抜き、記録再生
装置に１５− より配録再生操作を行った。シートレコーダーは３６０
γｐｍで回転し、磁気ヘッドの位置はディスクの中心よ
り８　ｃｍとした。トラックの中は３００μ、ヘッドの
材質はフェライトであった。磁気記録フレキシブルディ
スクには１ＭＨｚの信号を所定の条件で記録し、所定の
条件で再生して、出力エンベロープの差を測定した。こ
の磁気記録フレキシブルディスクの１５℃、　６０％Ｒ
Ｈの条件及び２５℃。

２０％ＲＨときのエンベロープは０．２　ｄＢ以下であ
った。

ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレ
ート系ポリエステルを種々に製膜条件を変化させたもの
について、温度・湿度膨張率及びトラックずれテストを
行い、その結果を第１表に示した。

　１６− 以上の結果から明らかな通り、温湿度膨張率が適当範囲
のものは実施例１〜６で示したようにトラッキングミス
が改善されており、高温高湿雰囲気において磁気ディス
クの記録再生等の使用が可能であることが判る。これに
対し、比較例１〜３においてはトラッキングミスが発生
している。このように本発明のディスクは高トラツク密
度のフレキシブルディスクとして工業的価値が高いもの
であることが判った。

発明の効果 本発明の磁気記録フレキシブルディスクは、特定のポリ
エステル、即ちポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチ
レンテレフタレートを主成分として、長手方向と幅方向
にバランスするように２軸延伸を施したものを基材とし
、このポリエステルフィルムの表面に磁性層を設けたた
ものである。基材フィルムが、所定の温度膨張率と湿度
膨張率とを備えた場合には、磁気ディスクとしてトラッ
ク密度を高めても、トラッキングミスが生じないので、
高密度記録が可能となる利点を備えている。更に、この
磁気ディスクは、記録と再生との温度・湿度条件が相違
してもトラッキングミスがないという利点も備えている
。従って、本発明のフレキシブルディスクは、雰囲気の
変化に耐えられる、適用範囲の広いものである。

特許出願人　帝　人　株　式　会　社 手続補正書 昭和５８年８　月７θ日 特許庁長官殿 １、事件の表示 特願昭　５８　−６００４１　　　号 ２　発明の名称 磁気記録フレキシブルディスク ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 大阪市東区南本町１丁目１１番地 （３００）帝人株式会社 代表者岡本佐四部 明細書の「特許請求の範囲」及び「発明の詳細な説明」
の欄 ６　補正の内容 （１）明細書第１頁の特許請求の範囲を別紙の通り訂正
する。

（２）同第４頁９行に、「９〜２５」とあるを「９〜３
５」に訂正する。

（３）　　同第４頁１０行に、［（チＲＨ）ｊとあるを
［係ＲＨ−’　Ｊに訂正する。

（４）同第４頁１２〜１３行に、［０〜３０Ｘ１０’（
チＲＴ（）−”Ｊとあるを「０〜３．ＯＸ　１０−’％
ＲＨ″″１．１に訂正する。

（５）　　同第８頁１１行に、「９〜２５」とあるな「
９〜３５Ｘ１０　　℃　、好ましくは９〜２５」に訂正
する。

ｅ）　　同第１８頁第１表を、別紙の表に訂正する。

以上 ２− 別紙 ２、特許請求の範囲 ポリエステルフィルム基材に磁性層を設け、かつ表面を
平滑化処理してなる磁気記録ディスクにおいて、ポリエ
ステルフィルムが実質的にポリ−１，４−シクロヘキシ
レンジメチレンテレフタレートからなる二軸配向フィル
ムであり、核フィルムの長手方向及び幅方向を含む面で
の最大の温度膨張率が９〜３５Ｘ１０　　℃　、最大の
湿度膨張率が０〜８，０ＸＩＯＲＨ、最大と最小との温
度膨張率の差が０〜８．０×１０　℃　、及び最大と最
小との湿度膨張率の差がＯ〜３．ＯＸ　１０−６壬ＲＩ
（”であることを特徴とする磁気記録フレキシブルディ
スク。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ポリエステルフィルム基材に磁性層を設け、かつ表面を
   平滑化処理してなる磁気記録ディスクにおいて、ポリエ
   ステルフィルムが実質的にポリ＝１．４−シクロヘキシ
   レンジメチレンチレフタレ−１〜からなる二軸配向フィ
   ルムであり、該フィルムの長手方向及び幅方向を含む面
   での最大の温度膨張率が９〜２５ｘ　１０″Ｇ　℃−１
   ，最大の湿度膨張率がＯ〜８．Ｏｘ　１０’　Ｒｌ−４
   −＋　、最大と最小との温度膨張率の差がＯ〜８．ＯＸ
   　１０”−℃”　、及び最大と最小との湿度膨張率の差
   が１〜３．ＯＸ　１０’％Ｒトヒ１であることを特徴と
   する磁気記録フレキシブルディスク。