JPS59183854A - 基体上に粉体を規則的に分布させる方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特に光学的または電気的に特殊な性質を有す
る被膜を得るため、開口を介して基体（特に、ガラス基
体）上に粉体を均一に分配する操作に関する。

基体（例えば、ガラスリボン）上にガラス上方の分配口
を介して、ガス中に懸濁させた粉体製品を連続的に分布
させる方法は、イ弗国特許第２゜１１’２７．／ＩＩ１
号から公知である。上記開口Ｇマへ　ノズルの下端であ
り、上記ノズルνはノズルの全長ＫＪつたって延び、ガ
ス中に懸濁させた粉体（粉体／ガスサスペンション）の
唯一の供給導管を分割してなる等長の複数の基本導管か
ら供給を受ける、断面がベンチーリ状のキャビティと、
ノズルの全長にわたって延び、ベンチュリ状キャビティ
に接続し、粉体／ガス混合物を均一化する乱流を作る高
圧空気を受容する。はぼ平行六面体形状の大きな均一化
チャンバとを含む。この場合、上記キャビティは、ノズ
ルの全長にわたって延び、ＧまじめＧま拡散し分配口側
で収斂する細し）通路を介して、均一化チャンバに連通
ずる。

上記ノズルは、好ましい結果を与える力（、詰り易く、
正しい機能を保持するには定期的にり１ノーニングする
必要があり、従って生産損失力（生１′る。

一方上記ノズルの分配口の長さは１．２ＳＯ−乙ｓｏｍ
ｍＫ　ｉＷ　計してあり、山数ｍのガラスリボンを処理
するには、１１〕方向へ複数のノズルを配置する必要力
；ある。従−１て、ガラスの金山にわたって均一な分布
を達成するには、使用する各ノズルを絶対Ｏｑに同一と
するか、平衡させなければならなし＼。数ｍのガラスリ
ボンの巾に等しい長さの分配口を有づ−る唯一のノズル
を配置するのが好まししχ力く、ノズルの長さを大巾に
増加すると、分布の均−竹二カ（目Ｊされ、特にガラス
上にまたら模様が生じ、言すり力（速くなる。

本発明の目的は、上記欠点を排除することにある。この
ため、本発明にもとづき数ｍの基体［１ｊ１特に〃フロ
ート方法で製造したツノ゛ラス１ノボンの全［１］を被
うことができ、詰りを生ずること力くなく、時間的、空
間的に分布の均一性力く得ら第１る方法および装置を提
案する。

数ｍの巾にわたって好ましい均一な分布を達成棉 するため、本発明に係る方法にもとづき、秘覆すべき基
体の近傍Ｋ（特に、上方に）且つ上記基体に垂直に粉体
／ガスサスペンションのフィルム状流れを形成し、上記
流れ内で上記粉体を均一に分散させ、補助ガス流れを導
入してガス／粉体混合物を均一化し、基体へ向って生成
物のフィルム状流れを加速する。

本発明の第１実施例にもとづき、連続の２つの段で均一
化および加速を行う。

本発明の第２実施例にもとづき、唯一の段で均一化およ
び加速を行う。

本発明にもとづき、更に本方法を実施するノズルを提案
する。

上記ノズルは、ノズルを貫通する開口を備えており、入
口端に分布すべき粉体および補助空気流れの供給を同時
に受ける上記開口の少くとも部分は、規則的に収斂して
いる。

第１実施例では、規則的に収斂する上記ゾーンには、独
立の導管から分配された粉体の供給を受け、同時に粉体
の分布を均一化する乱流を形成する高圧ガス流れの供給
を受ける均一化ゾーンが前置しである。

第２実施例では、上記ゾーンは一様であり、直接粉体供
給手段（例えば独立の導管）から粉体の供給を受けるが
、外部雰囲気に対して開放しており、上記ゾーンの上部
に噴射された補助ガスが、均一化を促進するとともに、
下方へ向って粉体を加速゛４る。

本発明にもとづき、粉体被覆技術を使用して、厚さがイ
；帆めで均一な被覆層を得ることができる。

この場合、埋さの変動は、粉体流量および／または被覆
厚さに関係なく／ｓ−、ｚｏ翼のオーダであり、従って
透過率の変動も１％のオーダにすぎない。

得られた被覆層は、極めて薄く、０．７μ　よりも小さ
く、ｑｏｏ〜ｇｏｏＸのオーダである。

更に」二記技術にもとづき、工業的に即ち大量にＣ光源
で照射した際に主反射波長がグざｏｎｍで主透過波長が
３７３μｍのブルーの２次干渉層を被覆したガラスシー
トを製造できる。

もちろん別の色の干渉層も得ることができる。何故なら
ば、この場合厚さの変動が大きくても色の劣化が知覚さ
れないからである。

添付の図面を参照して、以下に本発明を説明する。

第１図および第３図に、本発明に係る粉体分配ノズル八
３の横断面図を示した。各ノズルは、粉体を被覆すべき
基体ｑの上方に基体の金山（ＳＯｃｍ〜数ｍ）にわたっ
て延びている。基体とノズルとは、相対的に並進運動を
行う。この基体グは特ニ固定のノズル八３の下方を一定
速度で流れるガラスリボンである。

各ノズル／、３は、ボデーＳから成り、このボデーには
その全高さおよび全長にわたって粉体を通過せしめる細
い開口乙が貫通している。図示の実施例では、この開口
は出口、端または下端において分配ロアで終っている。

この開口の［１］は、その高さの／／３０−／／／　Ｏ
Ｏであり、巾の変化は比較的小さく、連続的で規則的で
ある。この開［１乙には、上端から分配すべき粉体およ
び各種ガス流れが供給される。

側板２は各ノズル八３の長さ方向端部を閉鎖する。

ノズルのボデー３には更に詳細に言えば、ボデーの下部
には粉体被覆のために基体グを高温に保持したために近
傍のノズル先端が過熱されるのを防市するため、冷却機
構ざ（例えば給水回路）が設けである。

ノズルボデーｊは更に変形を防止する補強材または横梁
９を有している。

第１図に示したノズル／は開口乙が貫通する上下の２つ
のゾーン、即ち上部のいわゆる均一化ゾーン／／と、下
部のいわゆる加速ゾーン／２とを含んでいる。開口乙の
上部には、ノズルボデー３の上部壁／４’を貞通しノズ
ルの長さ方向へ規則的Ｋ（例えば、ｆｆｃｍｌ？！Ｊ隔
で）分布させた複数の導管／３を介して、一般に７次ガ
ス（例えば空気）中に懸濁させた粉体が供給される。上
記導管／３のまわりに密封は、有孔蓋ｌ乙で行う。上記
導管１３は下方へ延びて、開１」６の上部の空気箱／ご
を通過し、開口乙に接続しＣいる。この空気箱／乙には
ＩＰＯｒ８．１ｔｔタイプの多孔板から成る底部／７お
よび有孔バイブ／ざを介して、高圧空気が供給される。

この空気は、開口乙にその全長にわたって均一に導入さ
れる。

第２図に、空気箱／乙を通過して開口Ｉ乙に達した導管
１３の後部の縦断面図を示した。

７次ガス（一般に空気）中に懸濁させた粉体の噴射流は
導管／３を介して規則的な間隔を置いて高速で開口乙に
導入される。”　Ｐ　Ｏｒ　ａ　ｌ　ｔｔタイプの多孔
板／ざを通って拡散された空気によって、ゾーン／／に
はノズルの全長にわたって粉体を均一に分布させ、空気
／粉体混合物を均一化する乱流が作られ、開口乙の上記
ゾーン／／の底部を形成するＩＩｐＯｒａｌ＃板／どの
表面に場合によっては生ずる詰りか除去される。

粉体は導管／３を介して開口６に導入されて均一化空気
の作用を受けて、粉体／空気サスペンションのフィルム
状流れ、即ち薄い流れを形成する。

この流れは、ノズルの長さに等しい長さを有し、開口乙
のゾーン／／の実質的に垂直な壁１９の間をノズルの下
方へ向かって延びる。均一化空気の作用を受けて、供給
導管から離れるにつれて、即ち粉体の進行に応じて空気
／粉体温合物の均一性および開１」６内の混合物の分布
の一様性が向上される。

この場合、均一化ゾーン／／の表面をなす開口乙のλつ
の壁１９を、特に上記ゾーンの終端において僅−かに収
斂させれば有利である。かくして粉体が加速され、フィ
ルム状流れが圧縮され、その結果、均一性および分布の
一様性が更に向上する。２つの壁／９は、上記の収斂部
分の直後で僅かに拡散さセる。この順次の収斂および拡
散の結果、粉体はまず加速され、次いで減速されるので
、粉体の均一性および分布の一様性が更に改善される。

かくして、均一化ゾーン／／の端部では、粉体／空気混
合物は均一であり、開口乙の全表面に一様に分布される
。即ち、上記ゾーン／／によって、粉体を均一に分布し
た導管／３から供給される独立の噴射流に分配すること
ができる。

粉体は、次いで加速ゾーン／２に入る。特に、基体が高
速で移動する場合に、短時間で基体ｔの完全な被覆をイ
テい、基体上に粉体を良好に耐着させ、粉体がノズル下
端の分配ロアから放射された時点と粉体が基体に接触す
る時点との間の粉体の飛散を防止するため、ノズル出口
において、少くとも７０〜／’！；ｍ／Ｓの落下速度を
粉体に与えることが肝要である。一方、基体グ上の粉体
の反応には高温が必要であるので、基体を過度に冷却し
ないことが肝要であり、従って粉体の担体ガスの流量は
制限しなければならない。

例えばＤＢＴＯ（酸化ジブチルスズ）またはＤＢＴＦ　
（ニア）化ジブチルスズ）のタイプの有機金属化合物の
粒径２０μｍ以下の粉体を基体上に噴射し、熱作用によ
り上記化合物を金属酸化物（特約 に、酸化スズ）Ｋ分解して、特殊な光学点性質および／
または電気的性質を有する被膜を形成する場合、ガラス
に対する粉体の衝突速度を７３〜３５ｍ７ｓとするのが
有利である。

第１図のノズル／の場合、フィルム状流れに含、２０に
よって行われ、他方ではノズルの全長にわたって混合物
流れの側面に高速の補助空気を噴射することによって行
われる。

詰りを生じ、粉体／空気混合物の均一性および分布の一
様性を低下する恐れのある乱流を避けるため、一定の加
速度が得られるよう収斂度を規則的とするのが有利であ
る。即ち、２つの壁２０は中心面に対して角度Ｓ０をな
し、巾約ｌｌｍｍの、即ち加速ゾーン人「−１の巾の／
／３〜／／Ｉｔの巾の分配口を端部に形成する平担な壁
とする。

第１図のノズル／の場合、高圧補助空気はバイブ２２を
介してキャビティ、！／Ｋｍ入する。各キャビティは、
ノズルの全長にわたって延びるスリット状ＩＦＪ　「１
２３およびラブリンス状間隙２りを介して、加速ゾーン
／２の入口の近傍で開口乙（Ｃ並置した側部チャンバ、
２夕に連通している。各側部チャンバ２Ｓは、均一化ゾ
ーン／／の末端の拡張部分の端部の近傍に設けた細いス
リット２乙を介して開口乙に連通しており、従って粉体
／担体がサスペンションの流れの各側面に、混合物を加
速する高速の補助空気を導入できる。

上記補助空気によって与えられる加速度は、開口乙の規
則的収斂性によって助成される。

細い開口２３およびラブリンス状間Ｖａ２１１によって
補助も気の供給が制限されるので、開口ご内には全長に
わたって一様な空気量が噴射される。

第３図にノズル３の別の実施例を示した。この場合均一
化ゾーンと加速ゾーンとが区別されておらず、粉体／ガ
スサスペンションを供給する導管／３の入口は、密封さ
れていない。事実、このノズルの上部には、開口乙に全
長にわたって粉体を導入できるすべての手段で供給を行
うことができる。

供給導管／３は、先行例と同様、複数の噴射流を形成す
るようノズルの全長にわたって配置できるが、先行例と
は異なり、密封手段を介することなく開口乙の入口に単
に設置することもできる。上記導管１３は固定できるが
、例えば僅かな振幅（例えば２つの導管／３の間の平均
間ｆｉｌｌ）だけノズルの長さ方向へ往復運動できるよ
う設置できる。

粉体は、ノズル上端から分配ロアまで一様に収斂する開
口６内を落下する。分配ロアのレベルにおける開口乙の
巾は、ノズル入口の巾の約／／３〜／／Ｉｔである。例
えば、開口乙の巾はノズル上端において約／’；ｍｍで
あり、分配口のレベルでは１ｍｍであり、開口乙を形成
する平担な壁は、中心面に対してｊｏの角度をなす。

開口乙の両側の２つの７ズルボデ一半部は、中空であり
、それぞれ高圧空気の一連のキャビティ３１を形成する
。キャビテイ列はそれぞれパイプ３２を介して空気源に
接続してあり、各キャビティは、”　Ｐ　Ｏｒ　ａ　ｌ
　ｕタイプの多孔質材料または放出口から成る通路３３
を有する横梁９を形成する隔壁によって、隣接のキャビ
ティに対して離隔されており、従って各列の最後のキャ
ビティ３１の出口には、全長にわたって一定の流量が得
られる。

キャビティ３１の各列の圧搾空気は、空気噴射流を開［
］乙の壁に対して接線方向へ向けるより、更に詳細に言
えば上記ＭＫ対して７°以下の角度をなずよう形成した
リップ３！；、３ｔを有する較正せる縦方向噴射口３１
１を介して、開口６内に噴射され、従って噴射流は壁に
沿って流れる。

各噴射口３’ｌの下部リップ３Ｓは、開口乙の側壁３７
の壁のほぼ丸い上線から成り、一方上部すノブ３６はλ
キャビティ３／の蓋を形成するプレート３ざの端部の丸
い下線から成る。上記線は、リップ３３の形状に対して
補完の形状を有し、高圧空気噴射流を壁に対して接線方
向へ向けるより下方へ延びている。

噴射口３グの較正は、開口乙の壁に対して垂直な方向へ
プレート３ｇを摺動させることによって行う。

空気は、導管／３または同様の供給手段の出口における
粉体の速度よりも高い速度で噴射口３ＩＩから噴射され
る。混合物の加速度を増加し、ノズルの全長にわたって
噴射された空気流の分布の一様化を促進するため、上記
速度を音速とするのが有利である。

導管１３の端部は噴射口３ｔＩと面一である。噴射され
た空気は、導管／３の間から開口６内に大気を引込む。

この噴射空気および、引込まれた空気は、開口乙の壁に
粉体が堆積するのを防止し、ノズル上端から粉体が流出
するのを抑制する。開口６は大気に通じているので、粉
体の供給方法を変更しても、ノズル自体は何等の影響も
受けない。特に導管１３の間隔を変更でき、別の供給手
段を選択できる。例えば、第３図の如く被覆すべき基体
ｔの上方にノズル３を設置した場合、開口乙の上方で回
転する突起を有し、縦方向へ交互のブラッシング作用て
、充填せる粉体を送出するドラムを使用できる。

ノズルの上述の２つの実施例へ３の場合、ノズルボデー
の下端は、分配ロアから供給される粉体カーテンのまわ
りに大気を引込んで流量の一様化に有害な乱流の形成を
防止するため、細い流線形状を有する。引込んだ大気は
、基体上に均一な堆積を得るのに役立つ。

上記ノズルボデ一端部には、更に防熱手段が設けである
。

上述のノズルの場合、開口６内に空気を噴射して粉体の
均一化およびまたは加速を行なったが、所望であれば別
のガス（例えば、窒素）を噴射することもできる。

ノズル３は、開口乙の上端が直接大気に連通しているノ
ズルである。制御雰囲気下または特殊なガス雰囲気下で
作業を行いたい場合はもちろん、上記ノズルの上端は、
所望のガスを充填した雰囲気制御チャンバに取付ける。

上述の説明では、ノズル／、３は被覆すべき基体の上方
に垂直に設置すると述べた。ここで使用した用語〃上、
下、垂直、水平、ｅｔｃ〃は、単なる例として挙げたこ
の特殊な構成に関するものである。

事実、ノズル／、３は各種の位置を取ることができる。

即ち、ノズルは被覆すべき基体の５上方または下方に、
完全に垂直にまたは垂直面に対して傾斜させて設置でき
、例えば、基体が垂直である場合は、水平Ｋまたはほぼ
水平ＫＮ状Ｋｖ装できる。

表現〃上、下、垂直、水平、ｅｔｃ〃は、ノズルの位置
に依存して使用する。すべての場合、供給導管／３は、
粉体／ガスサスペンションのタンクがら来る７つまたは
複数の同様の基体導管を分割して構成でき、あるいは、
粉体を充填したホッパの下に設けであって連続的に粉体
の供給を受け、粉体を希釈し、高圧空気を加えて粉体に
速度を与えるＵ１出器から構成できる。

上述の装置は、所望の基体（例えばガラス、金属、水利
、紙、ｅｔｃ）に各種粉末（有機金属化合物、プラスチ
ック材料、塗料、ワニス、インキ、ピグメント、ｅｔｃ
）を分散させることができる。

特殊な光学性を有する層をガラスを被覆する場合、各種
金属（スズ、インジウム、チタン、クロム。

鉄、フパル）　、　ｅｔＣ）ベースの粉体（例えば、酸
化ジブチルスズ、ニア）化ジブチルスズ、金属のアセチ
ルアセトン酸塩、　ｅｔｃ　）を分布させることができ
る。

本装置は、最大ｌｏ−ｚｏｍ／ｍｉｎの高速で流れる基
体に被覆できるような性能を有する。この効率は、溶液
噴霧法またはｃ　、Ｖ、　Ｄ　（化学的蒸着法）の効率
よりも大きい。もちろん、７つの基体に被覆するのに複
数のノズルを使用すれば、性能を更に向上できる。

更に、こ６・っ種のノズルを使用すれば、別の方［を使
用する場合よりも材料消費量を減少できる。

即ち、基体／ｍ２当りの粉体消費量は、ｌｏｇよりも少
なく、層厚が／！；００〜２ｏｏｏＡの場合、一般に３
ｇである。

本方法および本装置によって、極めて薄（、厚さの変動
が３ＯＡ（場合によっては３０〜ｌｌ０Ａ）よりも小さ
い層を得ることができ、従って〃透明な〃層の場合、透
過率の変動は７％のオーダである。

この良好な一様性は、厚さが１０μよりも小さい（場合
によってはｔｌｏｏ〜ざ００′Ａのオーダの）層につい
ても得られる。もちろんより厚い一様な層を得ることも
できる。

本方法および装置によって帯電防止層を作成でき１更に
本方法によって、場合によって、別の方法（特に真空蒸
着法）によって被覆した最終層の耐着性を向上するプラ
イマ一層（例えばＴｌＯ２層）を被覆できる。このプラ
イマ一層は、できる限り透過率を低下しないよう、極め
て薄くなければならないか（ｔｔｏｏ−ｓｏｏＡのオー
ダ）それにも拘らず、完全に連続でなければならない。

本方法および本装置によって、更に厚さの変動に帰因す
る色の変化のない、選択せる色の干渉層を工業的に製造
できる。本技術によって、Ｃ，１，Ｅ（国際１１（ｉ明
委員会）が定めたＣ光源で照明した場合に主透過率波長
がｔ’ｚ、ｔｎｒｏで、主反射波長がｑｇｏｎｍの２次
の均一なブル一層を被覆したガラスで製造できる。この
ブル一層は干渉を生ずる厚さの差が殆どなく、色の差が
殆どない層である。

もちろん、制約の少ない別の色または中性色の層を製造
することもできる。

本発明の実施例を以下に説明する。

実施例／ 基体ニア０−トガラス、厚さくｚｍｍ、進行速度／　、
２．５０　ｍ　／　ｌｎ　Ｉｎ 粉体：粒径２０μ以下のＤＢＴＦ 流）ｉ　ノズル長さ７ｍ当りＳ、乙Ｋｇ　／　ｈｒノズ
ル：第３図のノズルと同一のノズル分配ロアの巾：　１
１．ｓｍｍ ノズル下端とガラスとの距離：　２０ｍｍ導管／３から
供給される粉体を懸濁させた１次ガス　窒素、流Ｍ：ノ
ズル／ｍ当り／　Ｊ　ｓ　Ｎｍ３／ｈｒ 開口３７から噴射されるガス：窒素、流量：ノズル／ｍ
当り３　！；　ｊＮｍ３　／ｈｒ吸・引゛される大気：
ノズル／ｍ当り 、／！５Ｎｍ３／ｈｒ 得られた層＝７ノ素をドープした５ｎ０２のモルイヤー 厚さ：／、乙３５〜／、乙タＯＡ 厚さの差：／夕Ａ ３９３°Ｋにおける輻射係数：０．３ 透通率二５３％十／％ 色１反射時、グレー 透通時、薄いコハク色 実施例！ 基体　厚さ乙ｍｍのガラス、進行速度乙ｍ／ｍｉｎ粉体
：下記組成の混合物 Ｆｅのアセチルアセトン酸塩２５％ Ｃｒのアセチルアセトン酸塩Ｘ５Ｓ Ｃｏ（Ｉｔ）のアセチルアセトン酸塩３０％流量：ノズ
ル／ｍ当り／、　２００Ｋｇ／ｋｌｒノズル：第１図の
ノズルと同一 ガラス／ノズル間路離：ｑｏｍｍ ７次ガス：空気、流量＝ノズル／ｍ当り、：ｚｏｏＮｍ
３／ｈｒ 均一化ガス：空気、流量：ノズル７ｍ当り　乙ＯＮｍ３
／ｈｒ 加速・ガス：空気、流量　ノズル７ｍ当り２３ＯＮｍ３
／ｈｒ 得られたＭ：透過率ｌ１ｌ１％±／％ 反射率３１％±／％ 実施例３ ノ、Ｌ体：厚さ弘ｍｍのフロートガラス粉体：　ＤＢＴ
Ｆ ／　ズル：　第３図のノズルト同− 得られた層：ツノ素をドープした５ｎ０２のモルイヤー 厚す：２．ｌ／−ｏｏ　〜２，５ｏｏＡ色１反射時、黄
色 透通時、微青色 輻射係＠：３９３°ＫＫおイテ０゜２３透通率ニア乙％
±／％

【図面の簡単な説明】

第１図は、上部の均一化ゾーンと下部の加速ゾーンとを
含む本発明に係るノズルの横断面図、第２図は、第１図
のノズルの粉体供給導管の範囲の部分縦断面図、第３図
は均一化ゾーンと加速ゾーンとを区別してない本発明に
係るノズルの横断面図である。 ／、３　ノズル　　　　　グ　基体 乙　開１−１　　　　　　７　分配口 ／／力均一化ゾーン　　　／２　加速ゾーン／３　粉体
供給導管　　　／９　壁 第３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｈ）　　基体上に粉体を規則的に分布させる方法におい
   て、本質的に被覆すべき基体の近傍に且つ上記基体に垂
   直に、ガス中に？濁させた粉体の、上記基体の巾に少く
   とも等しい長さのフィルム状流れを形成し、上記流れを
   基体の全［（１にわたって基体の方向に流動せしめ、上
   記流れ内にガス流れを導入して乱流を作り、基体の方向
   への進行につれてガス／粉体混合物を均一化し、上記混
   合物をその側面に導入した高速の補助ガス流れによって
   駆動して基体へ向く粉体の運動を加速することから成る
   ことを特徴とする方法。 （２）粉体が基体に接触する直前に、粉体／ガスサスベ
   ンジ白ンの高速の自由流れによって大気を導入して粉体
   の駆動を促進することを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の方法。 Ｃ′））　　基体へ接近するにつれて粉体サスペンショ
   ン流れの厚さを縮少して粉体を加速することを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項または第２項記載の方法。 （４）第１段において、ガス／粉体混合物を均一化する
   ため乱流を形成し、第１段とは別個の第２段におい−Ｃ
   １粉体の運動を加速することを特徴とする特許請求の範
   囲第１〜３項の１つに記載の方法。 （、′１１　　唯一の段において粉体／ガス混合物の加
   速および均一化を行い、補助ガス流れを上記流れとの接
   触時点ｉ＋（おける粉体の速度よりも大きい速度で導入
   することを特徴とする特許請求の範囲第１〜３稍の７つ
   に記載の方法。 （Ｌ・）高速で４ｉ人した補助流れによって外気を吸収
   することを！ｉ、ｌ、徴とする特許請求の範囲第Ｓ項記
   載の方法。 Ｍ　　補助流れが、サスペンション流れの全長にわた、
   −１で均〜な層流であることを特徴とする特許請求の範
   囲第３項または第６項記載の方法。 （８）粉体流れを囲むよう粉体流れの両側に補助流れを
   導入することを特徴とする特許請求の範囲第５〜７項の
   １つに記載の方法。 （９）補助流れが側壁に沿う流れであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第Ｓ−ざ項の１つに記載の方法。 （Ｄ）加速ゾーンＶＣオける粉体の速度が、常Ｋ１０ｍ
   ／Ｓよりも大きいことを特徴とする特許請求の範囲第１
   〜９項の７つに記載の方法。 （ｎ）　　ｆｆｉイヒ゛ジブチルスズ（ＤＢＴＯ＞また
   は二７ソ化ジブチルスズ（ＤＢＴＦ）または金属のアセ
   チルアセトン酸塩のタイプの有機金属化合物の粒度が２
   ０μｍ６のオーダの粉体を焼付のため高温のガラスリボ
   ンに被覆するために特許請求の範囲第１〜ｉｏ項の７つ
   に記載の方法を適用する方法。 （１２）基体上に粉体を噴射するノズルにおいて、ノズ
   ルを貫通し縦方向分配口で終わる開口を含んでおり、上
   記開口は僅かな間隙を置いて相互に向き合い細いスペー
   スを形成する２つの壁から形成されていて定常的に収斂
   する少くとも１つのゾーン（いわゆる加速ゾーン）を分
   配口の直前に有し、人１」において粉体を受容し、同し
   く上記入口の側面において上記側壁に沿って、ノズルの
   他端に向く高速の加速ガスを受容するノズル。 （＋：＜）　加速ゾーンの収斂度は、分配口のレベルに
   おける加速ゾーンの巾が、粉体を受容し加速ガスの供給
   を受けるレベルにおける巾の約／／３〜ｌ／グになるよ
   う選択しであることを特徴とする特許請求の範囲第７２
   項記載のノズル・ （１／ｌ）分配１二Ｉの巾が、ｔｍｍ以下であることを
   特徴とする特許請求の範囲第７３項記載のノズル。 （］、”＋）　加速ゾーンを形成する壁が、中心面に対
   してＳｏのオーダの角度をなすことを特徴とする特許１
   請求の範囲第１．２〜，７１１項の１つに記載のノズル
   。 （Ｍｉ）　　ノズルを貫通する開口が、更に加速ゾーン
   に先イテし加速ゾーンに粉体を供給する均一化ゾーンを
   有し、均一化ゾーンはノズルの長さ方向へ分布させてあ
   。て上記ゾーンの入口に密封状態で接続した複数の供給
   導管から粉体の供給を受け、乱流を形成する均一化ガス
   の噴射手段も同じレベルに接続しであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第７２〜／３項の７つに記載のノズル
   。 ０７）均一化ガスの噴射手段が、多孔板を介して均一化
   ゾーンに連通し高圧ガスの供給を受けるキャビティを含
   むことを特徴とする特許請求の範囲第１乙項記載のノズ
   ル。 Ｑ８）　　均一化ゾーンがノズルの全長にわたって延び
   る細いゾーンであり、相互に向き合い、実質的に平行で
   、細いスペースを形成する２つの壁で限定されているこ
   とを特徴とする特￥ｒ請求の範囲第１７項記載のノズル
   。 （１９）長さ方向に分布させた粉体供給導管が、直接加
   速ゾーンの入口に開口していることを特徴とする特許請
   求の範囲第１２〜／！項のｌっに記載のノズル０ （２：ｌ）導管がその長さ方向へ往復運動できることを
   特徴とする特許請求の範囲第７９項記載のノズル。 （２Ｉ〕　　水平軸線のまわりに回転し、交互に水平運
   動すルフラシで貯蔵せる粉体を引出すドラムを含む分配
   器から、加速ゾーンの入口に直接に粉体の供給を受ける
   ことを特徴とする特許請求の範囲第７２〜／タ項の７つ
   に記載のノズル。 ＜ｙ）ガスの導入角度が加速ゾーンの壁に対して７°以
   下であるよう構成した較１」ヨスリットを介して加速ガ
   スを導入することを特徴とする特許請求の範囲第１９〜
   ．２７項の１つに記載のノズル。 （２５）加速ガスは、直列の複数のキャビティを介して
   供給され、最初のキャビティは高圧ガスの供給を受け、
   多孔板または放出口を介して後段のキャビティに連通し
   ており、最終のキャビティは、細い較正スリットを介し
   て加速ゾーンにガスを供給することを特徴とする特許請
   求の範囲第１２〜ｉｓ項および第１ｑ−２２項の７つに
   記載のノズル。 （Ｘ４）ガスは、音速で供給されることを特徴とする特
   ｌｉ″１′請求の範囲第２３項記載の／”ズル。 ＜２５＞加速ゾーンの入口が、大気中にあることを特徴
   とする特Ｊ’ｌ’　Ｌ’Ｊ求の範囲第１ワ〜、２弘項の
   ７つに記載のノズル。 （２６）加速ゾーンの入口が制御された雰囲気の供給を
   受ける雰囲気制御チャンバの下に設けであることを特徴
   とする特許請求の範囲第９〜２’１項の７つに記載のノ
   ズル。 （２７）ノズル先端が細いことを特徴とする特許請求の
   範囲第７２〜／乙項の１つに記載のノズル。 （２８）ノズル先端には、防熱部材および冷却手段が設
   けであることを特徴とする特許請求の範囲第１λ〜、２
   ７　　項の７つに記載のノズル。 （２９）粉体を沈積させて得た被覆層で被覆した基体か
   ら成る製品において、被覆層の厚さの変動が、１ｔＯＡ
   よりも小さく、場合によっては３０−≠ＯＡのオーダで
   あることを特徴とする製品。 （３０）基体がガラスシートであり、被覆層が一様であ
   り、従って透通率の変動が７％のオーダであることを特
   徴とする特許請求の範囲第２９項記載の製品。 （３１）被覆層が、フッ素をドープしたＳｎＯ２の層で
   あり、Ｃ光源で照明した際の主波長が反射の場合はｔざ
   ｏｎｍであり、透通の場合は５１ｔｎｍであり、色が一
   様であることを特徴とする特許請求の範囲第一２９項ま
   たは第３０項記載の製品。 （３２）被覆層の厚さが、０．７μよりも小さく、場合
   によっては≠００〜ざＯＯＡのオーダであることを特徴
   とする特Ｒ’＋請求の範囲第２９項または第３０項記載
   の製品。 （３３）ｌｉ！１層か、厚さが５（７（７Ａのオーダの
   連続の５ＴＩＱ’２層であることを特徴とする特許請求
   の範囲第３２ｆα記載の製品。 （１口・り基体がガラスシートであり輻射係数が０．３
   のオーダであり、透過率かガラス厚がｌ１ｍｍの場合、
   ］５悴よりも大きく、場合によってはざ３％のオーダで
   あることを特徴とする特許請求の範囲第、！９項または
   第３０項記載の製品。 ＣＭ！ｉ’ｌ基体がカラスシートであり、被覆層がフッ
   素をドープした酸化スズであり、輻射係数が０．２５の
   オーダであり、透過率が７Ｓ％よりも大きく、場合によ
   っては７ｇ％のオーダであることを特徴とする特許請求
   の範囲第２９項または第３０項記載の製品。