JPS5853479A - 薄膜の製造方法 - Google Patents
薄膜の製造方法Info
- Publication number
- JPS5853479A JPS5853479A JP56151168A JP15116881A JPS5853479A JP S5853479 A JPS5853479 A JP S5853479A JP 56151168 A JP56151168 A JP 56151168A JP 15116881 A JP15116881 A JP 15116881A JP S5853479 A JPS5853479 A JP S5853479A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- ink
- printing
- thin film
- manufactured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
- B41M1/10—Intaglio printing ; Gravure printing
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無機物ないし有機物薄膜の製造方法に関し、特
に、印刷法による任意の形状が可能で、多量少量に関わ
らず製造が容易である薄膜の製造方法に関する。
に、印刷法による任意の形状が可能で、多量少量に関わ
らず製造が容易である薄膜の製造方法に関する。
多くの液晶表示素子や半導体素子の絶縁薄膜や液晶分子
の配向制御膜には、多種類の有機物ないし無機物薄膜が
用いられており、これら薄膜の製造方法は、製品のコス
ト・品質を左右する１要因としての重要性が高い。液晶
表示素子の場合、一般的にガラス基板上には、酸化イン
ジウムや酸化スズ等の透明導電薄膜・二酸化ケイ素等の
絶縁薄膜・ｌリイミド樹脂やシランカップリング剤等の
配向制御薄膜などの多種の薄膜が逐次形成され、その後
、この基板間に液晶化合物を封じ込めて製造する。通常
、これらの薄膜は、スピンコード法・スプレーフート法
・ロールコート法□ディッピング等速引き上げ法・ａｖ
ｎ法・真空蒸着法岬によって製造されている。スピンコ
ード法について説明すると、まず、数１００℃の温度に
加熱すると溶媒の蒸発や熱分解の過程を経て固化するよ
うな物質を含む溶液を、基板全面に滴下して濡らし、そ
の後、基板面に垂直な軸のまわりに基板を回転させて過
剰の溶液を振り切り、次に加熱焼成して所望の厚みの薄
膜を得る。然しながら、この方法によると、基板が大き
くなると回転中心部と周辺部との膜厚に大きな差がでて
くるという欠点の他に、薄膜が基板の全面に形成される
ため、電極の引き出し端子部分は導通不良を防ぐために
薄膜が形成されないような処置を実施するか、薄膜形成
後に除去することが必要になる。例えば、このような部
分に溶液をはじく性質を有する界面活性剤をあらかじめ
塗布しておくか、薄膜形成後に全面に７オトレジストを
塗布した後、薄膜の除去が必要な部分の７オトレジスト
に窓を開けてその部分の薄膜を酸等でエツチング除去す
る。このように、良い条件の下で薄膜を形成しても他の
物質な表面に塗着することにより表面を汚染したり、製
造工程が複雑になることで、全体の不良率が大きくなっ
たりして製品コストが上がるというような整置を有して
いる。
の配向制御膜には、多種類の有機物ないし無機物薄膜が
用いられており、これら薄膜の製造方法は、製品のコス
ト・品質を左右する１要因としての重要性が高い。液晶
表示素子の場合、一般的にガラス基板上には、酸化イン
ジウムや酸化スズ等の透明導電薄膜・二酸化ケイ素等の
絶縁薄膜・ｌリイミド樹脂やシランカップリング剤等の
配向制御薄膜などの多種の薄膜が逐次形成され、その後
、この基板間に液晶化合物を封じ込めて製造する。通常
、これらの薄膜は、スピンコード法・スプレーフート法
・ロールコート法□ディッピング等速引き上げ法・ａｖ
ｎ法・真空蒸着法岬によって製造されている。スピンコ
ード法について説明すると、まず、数１００℃の温度に
加熱すると溶媒の蒸発や熱分解の過程を経て固化するよ
うな物質を含む溶液を、基板全面に滴下して濡らし、そ
の後、基板面に垂直な軸のまわりに基板を回転させて過
剰の溶液を振り切り、次に加熱焼成して所望の厚みの薄
膜を得る。然しながら、この方法によると、基板が大き
くなると回転中心部と周辺部との膜厚に大きな差がでて
くるという欠点の他に、薄膜が基板の全面に形成される
ため、電極の引き出し端子部分は導通不良を防ぐために
薄膜が形成されないような処置を実施するか、薄膜形成
後に除去することが必要になる。例えば、このような部
分に溶液をはじく性質を有する界面活性剤をあらかじめ
塗布しておくか、薄膜形成後に全面に７オトレジストを
塗布した後、薄膜の除去が必要な部分の７オトレジスト
に窓を開けてその部分の薄膜を酸等でエツチング除去す
る。このように、良い条件の下で薄膜を形成しても他の
物質な表面に塗着することにより表面を汚染したり、製
造工程が複雑になることで、全体の不良率が大きくなっ
たりして製品コストが上がるというような整置を有して
いる。
このため、よりよい品質でより安価な製品を、量の多少
に関わらず提供していくためには、必要な部分に必要な
薄膜を最少の工程で形成しなければならない。このよう
な目的に合う製造方法としては何らかの印刷による方法
が一般的であるが、通常実施されている印刷方法をその
ままの形で薄膜の製造に利用することはかなり困難であ
る。その理由として、印刷に用いるインクは、印刷性を
考慮して、一般的にいってかなり高粘度・高沸点であり
、しかも、溶媒・顔料の他に種々の添加剤が加えられて
おり、これら添加剤の中には、印刷上りの製品の光沢・
色合い等の品質には直接関与しないが、印刷途中での作
業を容易にするような目的を持つものも多く含まれてい
る。一方、本件に関わる無機化合物ないし有機化合物溶
液の場合、成膜後の膜品質を考慮すると、加熱焼成時に
蒸発して薄膜中に残留しないような物質を除き、必要な
成分以外の物質を、印刷性を向上させるという目的の為
のみに添加することは困難であり、しかも、溶液中での
成分物質の加水分解や焼成時の熱分解を利用して所望の
薄膜を得る場合には、使用する溶媒に制約が課せられる
ことが多く、溶液の粘度・揮発性・表面張力等を希望す
る値に調節することが難かしい。
に関わらず提供していくためには、必要な部分に必要な
薄膜を最少の工程で形成しなければならない。このよう
な目的に合う製造方法としては何らかの印刷による方法
が一般的であるが、通常実施されている印刷方法をその
ままの形で薄膜の製造に利用することはかなり困難であ
る。その理由として、印刷に用いるインクは、印刷性を
考慮して、一般的にいってかなり高粘度・高沸点であり
、しかも、溶媒・顔料の他に種々の添加剤が加えられて
おり、これら添加剤の中には、印刷上りの製品の光沢・
色合い等の品質には直接関与しないが、印刷途中での作
業を容易にするような目的を持つものも多く含まれてい
る。一方、本件に関わる無機化合物ないし有機化合物溶
液の場合、成膜後の膜品質を考慮すると、加熱焼成時に
蒸発して薄膜中に残留しないような物質を除き、必要な
成分以外の物質を、印刷性を向上させるという目的の為
のみに添加することは困難であり、しかも、溶液中での
成分物質の加水分解や焼成時の熱分解を利用して所望の
薄膜を得る場合には、使用する溶媒に制約が課せられる
ことが多く、溶液の粘度・揮発性・表面張力等を希望す
る値に調節することが難かしい。
然しなから、発明者は種々の印刷方式を試した後、比較
的インクの物性に対する適用幅が広いグラビア印刷方式
に着目し、ガラス・セラミック勢の固い被印刷体表面に
無機化合物ないし有機化合物溶液を直接印刷することが
できるよう、改善を加えた。
的インクの物性に対する適用幅が広いグラビア印刷方式
に着目し、ガラス・セラミック勢の固い被印刷体表面に
無機化合物ないし有機化合物溶液を直接印刷することが
できるよう、改善を加えた。
第１図は従来のグラビア印刷機の概略図である。布・紙
・プラスチックフィルム等の被印刷体４は印ＩＥローラ
ー５によって版１に押しつけられ、版４の周速と同じ速
さで移動する。版１の一部はインク２の中に浸されてお
り、版１の回転とともにそれに付着して持ち上げられて
くるインクのうち余分な姐のは、版１の表面を摺動して
いるドクターブレード３によってかき落とされる。この
ため、インクは版１の表面に形成された微小なくぼみの
中にのみ残り、このくぼみの中のインクが被印刷体３と
接触することによって被印刷体３０表面に転写する。版
表面に微小なくぼみ（以下セルと呼ぶ）が存在しない部
分では、インクはすべてドクターブレードによってかき
落とされてしまうため、この部分に接触した被印刷体へ
はインクは付着しない。第２図は微小なくぼみ（セル）
と印刷時のインクの転移についての説明図である。版７
は、一般に、鋼の表面にクロムメツ冒したものであり、
この表面の印刷したい部分には、−片が約１００μ程度
のセル６が形成されている。セル６の深さは、絵柄の色
が濃い部分では深く一％淡い部分では浅くなっており、
図に示すように、インク８はセルの深いところでは多く
、浅いところでは少な（なっていて、グラビア印刷では
セルの深さすなわちインクの量によって絵柄の濃淡を表
現するようになっている。この版７に、被印刷体９が印
圧１０で押しつけられた時、被印刷９は変形してセル内
のインク８に触れ、表面張力や毛管現象によりてインク
８を引り張り出すことによってインクが被印刷体に転移
すると考えられている。
・プラスチックフィルム等の被印刷体４は印ＩＥローラ
ー５によって版１に押しつけられ、版４の周速と同じ速
さで移動する。版１の一部はインク２の中に浸されてお
り、版１の回転とともにそれに付着して持ち上げられて
くるインクのうち余分な姐のは、版１の表面を摺動して
いるドクターブレード３によってかき落とされる。この
ため、インクは版１の表面に形成された微小なくぼみの
中にのみ残り、このくぼみの中のインクが被印刷体３と
接触することによって被印刷体３０表面に転写する。版
表面に微小なくぼみ（以下セルと呼ぶ）が存在しない部
分では、インクはすべてドクターブレードによってかき
落とされてしまうため、この部分に接触した被印刷体へ
はインクは付着しない。第２図は微小なくぼみ（セル）
と印刷時のインクの転移についての説明図である。版７
は、一般に、鋼の表面にクロムメツ冒したものであり、
この表面の印刷したい部分には、−片が約１００μ程度
のセル６が形成されている。セル６の深さは、絵柄の色
が濃い部分では深く一％淡い部分では浅くなっており、
図に示すように、インク８はセルの深いところでは多く
、浅いところでは少な（なっていて、グラビア印刷では
セルの深さすなわちインクの量によって絵柄の濃淡を表
現するようになっている。この版７に、被印刷体９が印
圧１０で押しつけられた時、被印刷９は変形してセル内
のインク８に触れ、表面張力や毛管現象によりてインク
８を引り張り出すことによってインクが被印刷体に転移
すると考えられている。
一方、被印刷体が紙・布等の柔らかい材料に対し、ガラ
ス・セラミック等の応力が加わっても変形しにくい材料
の場合は、被印刷体−が第２Ｆｉ！Ｊに示すような状態
をとらないためセル内のインクは転写することができな
い。従って、従来のグラビア印刷機ではガラス・セラミ
ック等の固い材料の上に、直接印刷することができない
。
ス・セラミック等の応力が加わっても変形しにくい材料
の場合は、被印刷体−が第２Ｆｉ！Ｊに示すような状態
をとらないためセル内のインクは転写することができな
い。従って、従来のグラビア印刷機ではガラス・セラミ
ック等の固い材料の上に、直接印刷することができない
。
本発明の目的は、従来のグラビア−印刷法のこのような
欠点をとり除き、インキすなわち無機化合物ないし有機
化合物溶液の粘度や揮発性等の物性に余り影響されずに
、且つ、ガラスやセラミック等の固い被印刷体に対して
も直接印刷したのち、加熱焼成することによりて膜品質
のすぐれた安価な薄膜の製造方法を提供することに迩る
。以下、図を用いて本発明による方法について説明する
。
欠点をとり除き、インキすなわち無機化合物ないし有機
化合物溶液の粘度や揮発性等の物性に余り影響されずに
、且つ、ガラスやセラミック等の固い被印刷体に対して
も直接印刷したのち、加熱焼成することによりて膜品質
のすぐれた安価な薄膜の製造方法を提供することに迩る
。以下、図を用いて本発明による方法について説明する
。
第３図は本発明による方法の概略図である。表面硬度が
ショアーＤ７０＠以下であるような柔らかく弾力性のあ
る材料から作られたグラビア版１１は版胴１２の表面に
巻きつけてあり、被印刷体１−は、版１１の周速と同じ
速さで水平方向に動く。
ショアーＤ７０＠以下であるような柔らかく弾力性のあ
る材料から作られたグラビア版１１は版胴１２の表面に
巻きつけてあり、被印刷体１−は、版１１の周速と同じ
速さで水平方向に動く。
インク１３は、インク練りｐ−ラー１５を介して版１１
０表面に塗布されるが、余分なインクはドクターブレー
ド１６によりてかき取られ、従来のグラビア印刷法と同
様に、版１１のセル内にのみインクは残留する。セル内
のインクは版Ｏ回転にともなって被印刷体１４０表面に
次々に転、写していき、所望の形状に印刷を行なうこと
ができる。
０表面に塗布されるが、余分なインクはドクターブレー
ド１６によりてかき取られ、従来のグラビア印刷法と同
様に、版１１のセル内にのみインクは残留する。セル内
のインクは版Ｏ回転にともなって被印刷体１４０表面に
次々に転、写していき、所望の形状に印刷を行なうこと
ができる。
イ、ンキすなわち無機化合物ないし有機化合物溶液は、
被印刷体表面で自然にレベリングすることにより−・均
一な厚みの被膜を形成する。しかる後、遠赤外線ベルト
炉等により加熱焼成を行なうことにより、均一な無機物
ないし有機物薄膜を得ることができる。このような表面
硬度が小さく柔い弾力性のあるグラビア版を用いた場合
には、第４図に示すように、版１７は、被印刷体１９に
印圧２０が加わった時軽くたわみ、その結果、版のセル
内のインク１Ｂは被印刷体１９に接触し表面張力・たわ
みによる押し出しによって転写しているのではないかと
考えられる。このように、本発明による方法によれば、
薄膜の製造に用いるような低粘度で蒸発しやすい溶液を
そのまま使用できるという従来のグラビア印刷法の長所
を残しながら、被印刷体が布・紙・プラスチックフィル
ム等の柔らかい材料に限らず、液晶表示′素子や半導体
素子に用いられるガラスやセラミック板等の表面にも薄
膜形成のための溶液を直接印刷すること゛ができる。焼
成後の薄膜の膜厚は、溶液中の化合物濃度を変化させる
ことによって任意の厚みに制御することができる他、版
のセル深さを変化させることによって、一枚のガ、ラス
やセラミック基板の一部分のみの薄膜膜厚を、基板の他
の領域に対して厚くしたり、逆に薄（したりして非常に
特殊な液晶表示素子等を簡単に製造することが可能であ
る。又、本発明に使用するグラビア版を製作する方法に
はいくつかあり、亜鉛板等の金属板をエツチングや機械
加工してセルの鋳型を作り、この鋳型に未加硫の天然゛
ゴムや合成ゴムを押しつけ、加硫することによって模様
を転写し、このようにして出来上りた版を版胴に巻きつ
ける方法が一般的であるが、商品名ナイロプリント（Ｂ
ＡＳＦ社製）やサイレル（デュポン社製）等で代表され
るような７レキソ印刷用の感光性樹脂板をあらかじめ版
胴に貼りつけておき、これに所望のパターンのフィルム
を重ねて露光し、薬品で処理して版を製作することもで
きる。特に後者の場合には、パターンの寸法を精度良く
仕上げることが容易である。第３図において、版１１お
よび版胴１２は、従来のグラビア印刷機と同様にインク
中にそれらの一部が浸漬されている構造をとることも可
能であり、あるいは、インクをスプレーによりて版に吹
きつけるというようなことも可能である。このときには
、被印刷体１４は、それぞれの機械の構造に対し適切な
位、置に持っていくことができる。さらに、インク練り
ローラー１５は表面が滑らかな金属及びゴムの四−ラー
が一般的であるが、よ゛り安定なインクの供給の目的の
ためには、表面に微細な溝を寓み込んだアニロックスロ
ーラーを用いると良い。ドクターブレード１６とし下は
多重の材質のものが可能であるが、そ、れらの中でも、
厚みが５■から１５−の硬質ゴム板か釣（Ｌｌ−の厚み
の鋼板が良く、取り付けの角度については、溶液の物を
変化させることができるようにな０つでいることが望ま
しい。又、印刷スピードは、約５０α／秒以下ではｌＩ
＊のレベリングおよび印刷寸法精度が悪化するため、こ
れ以上であることが望ましい。
被印刷体表面で自然にレベリングすることにより−・均
一な厚みの被膜を形成する。しかる後、遠赤外線ベルト
炉等により加熱焼成を行なうことにより、均一な無機物
ないし有機物薄膜を得ることができる。このような表面
硬度が小さく柔い弾力性のあるグラビア版を用いた場合
には、第４図に示すように、版１７は、被印刷体１９に
印圧２０が加わった時軽くたわみ、その結果、版のセル
内のインク１Ｂは被印刷体１９に接触し表面張力・たわ
みによる押し出しによって転写しているのではないかと
考えられる。このように、本発明による方法によれば、
薄膜の製造に用いるような低粘度で蒸発しやすい溶液を
そのまま使用できるという従来のグラビア印刷法の長所
を残しながら、被印刷体が布・紙・プラスチックフィル
ム等の柔らかい材料に限らず、液晶表示′素子や半導体
素子に用いられるガラスやセラミック板等の表面にも薄
膜形成のための溶液を直接印刷すること゛ができる。焼
成後の薄膜の膜厚は、溶液中の化合物濃度を変化させる
ことによって任意の厚みに制御することができる他、版
のセル深さを変化させることによって、一枚のガ、ラス
やセラミック基板の一部分のみの薄膜膜厚を、基板の他
の領域に対して厚くしたり、逆に薄（したりして非常に
特殊な液晶表示素子等を簡単に製造することが可能であ
る。又、本発明に使用するグラビア版を製作する方法に
はいくつかあり、亜鉛板等の金属板をエツチングや機械
加工してセルの鋳型を作り、この鋳型に未加硫の天然゛
ゴムや合成ゴムを押しつけ、加硫することによって模様
を転写し、このようにして出来上りた版を版胴に巻きつ
ける方法が一般的であるが、商品名ナイロプリント（Ｂ
ＡＳＦ社製）やサイレル（デュポン社製）等で代表され
るような７レキソ印刷用の感光性樹脂板をあらかじめ版
胴に貼りつけておき、これに所望のパターンのフィルム
を重ねて露光し、薬品で処理して版を製作することもで
きる。特に後者の場合には、パターンの寸法を精度良く
仕上げることが容易である。第３図において、版１１お
よび版胴１２は、従来のグラビア印刷機と同様にインク
中にそれらの一部が浸漬されている構造をとることも可
能であり、あるいは、インクをスプレーによりて版に吹
きつけるというようなことも可能である。このときには
、被印刷体１４は、それぞれの機械の構造に対し適切な
位、置に持っていくことができる。さらに、インク練り
ローラー１５は表面が滑らかな金属及びゴムの四−ラー
が一般的であるが、よ゛り安定なインクの供給の目的の
ためには、表面に微細な溝を寓み込んだアニロックスロ
ーラーを用いると良い。ドクターブレード１６とし下は
多重の材質のものが可能であるが、そ、れらの中でも、
厚みが５■から１５−の硬質ゴム板か釣（Ｌｌ−の厚み
の鋼板が良く、取り付けの角度については、溶液の物を
変化させることができるようにな０つでいることが望ま
しい。又、印刷スピードは、約５０α／秒以下ではｌＩ
＊のレベリングおよび印刷寸法精度が悪化するため、こ
れ以上であることが望ましい。
以下、具体的な実施例を示して、更に詳しく説明する。
“＊ｇａａｍ。！Ｍ＆ｔ、ｒ、＆＆ＪＢ＜６４゜、。
備した。まず、溶媒としてイソプロピルアルコールを使
用し、ｎれ−に商品名トーレシリコニン８Ｈ６０４０を
１０重量パーセント、水を２重量パーセント混合したも
のを用意した。グラビア版については、セルの水平方向
のピッチがα１５−で、セルの１辺の長さが１１ｓｍｏ
正方形のセルを形成することを￥ｉ幅にして、ＢＡ８Ｆ
社製ナ社製ナインプリントかじめ直径１１０ｍ＋の版胴
に巻きつけたのちセルパターンを焼きつけたフィルムを
その表面に重ね、露光・処理を行なって作成した。溶液
を版の上に塗布し、ドクターブレードでかき落とした時
、ちょうどセル内にのみ溶液が存在するようにドクター
ブレードの角度と押しつけ強さを調整した。被印刷体と
して１００■×１００■の大きさで厚みが（Ｌ５．＋の
ガラス板を印刷機にセットシ、印刷スピードを７０ｅｓ
／秒に設定して、版を被印刷体の上に転がした。版と被
印刷体との接触深さは、（Ｌ２■から１５■の間に設定
した壱版上のセル深さについているいろの版を準備し、
被印刷体上に印刷された溶液の被膜厚みが、印刷直後に
、５−から５μとなるように版を選択した。
用し、ｎれ−に商品名トーレシリコニン８Ｈ６０４０を
１０重量パーセント、水を２重量パーセント混合したも
のを用意した。グラビア版については、セルの水平方向
のピッチがα１５−で、セルの１辺の長さが１１ｓｍｏ
正方形のセルを形成することを￥ｉ幅にして、ＢＡ８Ｆ
社製ナ社製ナインプリントかじめ直径１１０ｍ＋の版胴
に巻きつけたのちセルパターンを焼きつけたフィルムを
その表面に重ね、露光・処理を行なって作成した。溶液
を版の上に塗布し、ドクターブレードでかき落とした時
、ちょうどセル内にのみ溶液が存在するようにドクター
ブレードの角度と押しつけ強さを調整した。被印刷体と
して１００■×１００■の大きさで厚みが（Ｌ５．＋の
ガラス板を印刷機にセットシ、印刷スピードを７０ｅｓ
／秒に設定して、版を被印刷体の上に転がした。版と被
印刷体との接触深さは、（Ｌ２■から１５■の間に設定
した壱版上のセル深さについているいろの版を準備し、
被印刷体上に印刷された溶液の被膜厚みが、印刷直後に
、５−から５μとなるように版を選択した。
このようにして印刷を行なった被印Ｗ４体を、遠赤外線
炉な使用して加熱焼成した。
炉な使用して加熱焼成した。
了から炉に投入するまでの時間が５分間以上になると膜
厚のムラが生じ易すくなるため注意しながら実施した。
厚のムラが生じ易すくなるため注意しながら実施した。
焼成上がりの薄膜は、膜厚が３００１で均一性について
も満足すべきものであった。全体のパターンの寸法精度
については、板上の印刷パターンに対し±１２■であり
、充分使用可能な水準にあうた。
も満足すべきものであった。全体のパターンの寸法精度
については、板上の印刷パターンに対し±１２■であり
、充分使用可能な水準にあうた。
溶液として、イソプロピルアルコールを溶媒に、これに
テトラメトキシシラン１０重量パーセント、鰻塩酸５重
量パーセントを混合したものを使用した場合、同様に印
刷を行なったのち、５００℃で加熱焼成して二酸化ケイ
素の薄膜が得られた。この薄膜は厚み５００１であり、
密度・膜厚の均一性とも、スピンコード法により得られ
たものと同等であり、薄膜製造後に不必要な部分の除去
を行なわなくても良いという点ですぐれていた。
テトラメトキシシラン１０重量パーセント、鰻塩酸５重
量パーセントを混合したものを使用した場合、同様に印
刷を行なったのち、５００℃で加熱焼成して二酸化ケイ
素の薄膜が得られた。この薄膜は厚み５００１であり、
密度・膜厚の均一性とも、スピンコード法により得られ
たものと同等であり、薄膜製造後に不必要な部分の除去
を行なわなくても良いという点ですぐれていた。
第１図は従来のグラビア印刷機の概略図であり、１・・
・版、２・・・インク、５・・・ドクターブレード、４
・・・被印刷体、５・・・印圧ローラーである。第２図
は版表面の微小なくぼみ（セル）の概略図ならびに従来
のグラビア印刷の印刷時のインクの転移についての説明
図であり、６・・・セル、７・・・版、８・・・インク
、９・・・被印刷体、１０・・・印圧である。第５図は
本発明による薄膜の製造方法の概略図であり、第４ｖ！
Ｊは本発明による方法の印刷時のインク（薄膜製造用溶
液）の転移についての説明図である。ここで、１１・・
・版、１２・・・版胴、１５・・・インク、１４・・・
被印刷体、１°５・・・インク練りローラー、内のイン
ク、１９・・・被印刷体、２０・・・印圧である以上 Ｉ！ｌｉ図
・版、２・・・インク、５・・・ドクターブレード、４
・・・被印刷体、５・・・印圧ローラーである。第２図
は版表面の微小なくぼみ（セル）の概略図ならびに従来
のグラビア印刷の印刷時のインクの転移についての説明
図であり、６・・・セル、７・・・版、８・・・インク
、９・・・被印刷体、１０・・・印圧である。第５図は
本発明による薄膜の製造方法の概略図であり、第４ｖ！
Ｊは本発明による方法の印刷時のインク（薄膜製造用溶
液）の転移についての説明図である。ここで、１１・・
・版、１２・・・版胴、１５・・・インク、１４・・・
被印刷体、１°５・・・インク練りローラー、内のイン
ク、１９・・・被印刷体、２０・・・印圧である以上 Ｉ！ｌｉ図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 表面硬度がシ謬アーＤ７０＠以下３０°以上
であるところの天然ゴム・合成ゴム・プラスチック等よ
りなるグラビア印刷版を設けたグラビア印刷機を使用し
、粘度が１０００ｏｐ−以下２ｏｐ１以上であるところ
の有機化合物ないし無機化合物を含む溶液を、ガラス・
セラミック・金属・プラスチック等の被印刷体表面に印
刷したのち、加熱乾燥することを特徴とする有機物ない
し無機物薄膜の製造方法。 （２） グラビア印刷版が、商品名ナイａプリント（
Ｌｌ１社製）＠サイレル（デ＆がン社製）・フレックス
ライ）（二二ロイヤル社製）＠ルナフレックス（日本ペ
イン、ト社製）等の感光性樹脂板であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の薄膜の製造方法。 （８） 溶液が、一般式 ％式％ 〔式中、ｎは１から１０までの数を示す。〕ないし、
［〕０−ＯｎＨ，ｎ−Ｏ Ｈ式中、ｎは１から１０までの数を示す。〕ないし、
ＨＯ−Ｏｎ Ｈ！１ｌ−０−ＯｒＩＨ，Ｈ−ＯＨ〔式中
、ｎは１から６までの数を示す。〕で示される化合物を
、少なくとも１種類且つ、３重量弧以上含み、更に、一
般式 ％式％） 〔式中、ｎは１から・５までの数を示し、Ｒは、アルコ
キシ基拳アリル基働グリシドキシ基・アミノアルキλ基
等を示す。〕 で示される化合物を、少なくとも１種類且２、α２重量
襲以上含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56151168A JPS5853479A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56151168A JPS5853479A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 薄膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5853479A true JPS5853479A (ja) | 1983-03-30 |
Family
ID=15512798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56151168A Pending JPS5853479A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5853479A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6027186A (ja) * | 1983-07-23 | 1985-02-12 | ロ−ム株式会社 | 線状パタ−ン印刷装置 |
| JPS60182138A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-17 | Tomoegawa Paper Co Ltd | ウエフア上に保護被膜を形成させる方法及び転写シ−ト |
| JPS61137768A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-25 | Ookurashiyou Insatsu Kyokucho | 凹版印刷方法 |
| JPS6273494U (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-11 | ||
| JPS6273493U (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-11 | ||
| JPS6343391U (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-23 | ||
| JPS63239955A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPS63308923A (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-16 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPH03108307A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-08 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック電子部品の製造方法 |
| JP2013533613A (ja) * | 2010-06-04 | 2013-08-22 | プラスティック ロジック リミテッド | 電子切替デバイスの生産 |
-
1981
- 1981-09-24 JP JP56151168A patent/JPS5853479A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6027186A (ja) * | 1983-07-23 | 1985-02-12 | ロ−ム株式会社 | 線状パタ−ン印刷装置 |
| JPH0358195B2 (ja) * | 1983-07-23 | 1991-09-04 | Rohm Kk | |
| JPS60182138A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-17 | Tomoegawa Paper Co Ltd | ウエフア上に保護被膜を形成させる方法及び転写シ−ト |
| JPS61137768A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-25 | Ookurashiyou Insatsu Kyokucho | 凹版印刷方法 |
| JPH0313994Y2 (ja) * | 1985-10-29 | 1991-03-28 | ||
| JPS6273494U (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-11 | ||
| JPS6273493U (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-11 | ||
| JPS6343391U (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-23 | ||
| JPS63239955A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPS63308923A (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-16 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPH03108307A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-08 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック電子部品の製造方法 |
| JPH088200B2 (ja) * | 1989-09-21 | 1996-01-29 | 株式会社村田製作所 | セラミック電子部品の製造方法 |
| JP2013533613A (ja) * | 2010-06-04 | 2013-08-22 | プラスティック ロジック リミテッド | 電子切替デバイスの生産 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5624775A (en) | Apparatus and method for printing a color filter | |
| CN101631746B (zh) | 氧化铟锡电子束光刻胶的合成方法和使用其形成氧化铟锡图案的方法 | |
| JPS5853479A (ja) | 薄膜の製造方法 | |
| JPS60254001A (ja) | カラ−フイルタ− | |
| CN107068861A (zh) | 电致发光器件及其制备方法和应用 | |
| JPS6258310B2 (ja) | ||
| JPS5793193A (en) | Manufacture of recording sheet | |
| US20110162789A1 (en) | Transfer paper for printing, method of manufacturing the same and printing method using the same | |
| JPH08173878A (ja) | スリットダイコータ口金およびそれを用いた塗膜の製造方法 | |
| JP4548750B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| TWI556987B (zh) | 平板印刷用毯及使用彼所製造之微細圖案 | |
| JP2000189877A (ja) | スリットダイコ―タ口金およびそれを用いた塗膜製造方法 | |
| JPS58183283A (ja) | 薄膜印刷方法 | |
| JPS62280805A (ja) | カラ−フィルタ−製造方法 | |
| JPH0447291B2 (ja) | ||
| JPH0286067A (ja) | 燃料電池基盤の製造方法 | |
| CA2477470A1 (en) | Method and apparatus for depositing coating material on glass substrate | |
| KR100801681B1 (ko) | 액정표시장치의 배향막 형성방법 | |
| KR20120024370A (ko) | 잉크젯 프린팅 방식의 컬러필터 기판 제조장치 및 제조방법 | |
| JP3813683B2 (ja) | 印刷用凹版 | |
| JPH01249171A (ja) | 無機酸化物膜を有する基体の製造方法 | |
| JPH1195025A (ja) | カラーフィルタの製造方法およびそれに用いるローラ | |
| JP2000187222A (ja) | 液晶配向膜の形成方法 | |
| JPH0475026A (ja) | 強誘電性液晶表示素子およびその製造方法 | |
| US788377A (en) | Photomechanical printing. |