JPS58186746A - 湿し水不要平版材の製造方法 - Google Patents
湿し水不要平版材の製造方法Info
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- JPS58186746A JPS58186746A JP6879682A JP6879682A JPS58186746A JP S58186746 A JPS58186746 A JP S58186746A JP 6879682 A JP6879682 A JP 6879682A JP 6879682 A JP6879682 A JP 6879682A JP S58186746 A JPS58186746 A JP S58186746A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は湿し水不要平版材の製造方法に関するものであ
り、特に原画の再現性および原画（ポジないしネガフィ
ルム）との密着性に優れた湿し水不要平版材の製造方法
に関する。
り、特に原画の再現性および原画（ポジないしネガフィ
ルム）との密着性に優れた湿し水不要平版材の製造方法
に関する。
インキ反撥性の非画線部としてシリコーンゴム層を最上
層に有する湿し水不要平版材は７例えば特公昭４４−２
３０４２号、特公昭４６−１６０４４号。
層に有する湿し水不要平版材は７例えば特公昭４４−２
３０４２号、特公昭４６−１６０４４号。
１−
特公昭５１−１７０８１号、特開昭４８−９４５０６号
などに数多く提案されている。
などに数多く提案されている。
これらの湿し水不要平版材に画像を形成するために２通
常原画を通して活性光線による露光がおこなわれるが、
原画を忠実に再現するだめには。
常原画を通して活性光線による露光がおこなわれるが、
原画を忠実に再現するだめには。
該平版材上面に原画を完全に密着させることが必要であ
った。このため、一般的にはゴムシートと圧着ガラスの
間に、該平版材と原画とを重ねて配置シ、ゴムシートと
圧着ガラスの間を真空にして密着させる方法（以下真空
密着法と呼ぶ）が用いられてきだ。
った。このため、一般的にはゴムシートと圧着ガラスの
間に、該平版材と原画とを重ねて配置シ、ゴムシートと
圧着ガラスの間を真空にして密着させる方法（以下真空
密着法と呼ぶ）が用いられてきだ。
しかし々から、従来のインキ反撥性層としてのシリコー
ンゴム層を最上層に有する湿し水不要平版材の表面は、
非常に平滑で、かつシリコーンゴムが非常に密着性が良
好であるため、いったん原画フィルムとシリコーンゴム
層が密着すると密着部分は強固に固定されてしまい原画
フィルムの位置合せが難しく、捷だ気泡が入ったような
場合。
ンゴム層を最上層に有する湿し水不要平版材の表面は、
非常に平滑で、かつシリコーンゴムが非常に密着性が良
好であるため、いったん原画フィルムとシリコーンゴム
層が密着すると密着部分は強固に固定されてしまい原画
フィルムの位置合せが難しく、捷だ気泡が入ったような
場合。
真空密着法により該平版材の周辺部より空気を吸引して
も入った気泡を除去することが困難である。
も入った気泡を除去することが困難である。
従って、該平版材の全面にわたシ原画を完全に密着させ
るには、特に版サイズが大きい場合、非常に長い時間が
必要とされ、極端な場合にはいくら時間をかけても密着
しないことさえあった。
るには、特に版サイズが大きい場合、非常に長い時間が
必要とされ、極端な場合にはいくら時間をかけても密着
しないことさえあった。
このように真空密着に多大な時間を要することは、製版
作業の効率を低下させ、極めて不経済であったばかりで
なく・原画の密着が不十分なまま露光をおこなった場合
、原画を忠実に再現することができないという致命的な
問題があった。また。
作業の効率を低下させ、極めて不経済であったばかりで
なく・原画の密着が不十分なまま露光をおこなった場合
、原画を忠実に再現することができないという致命的な
問題があった。また。
露光の際にガスを発生するような感光層からなる版材の
場合２発生したガスが抜けないで版と原画との間にたま
り、密着をそこない忠実な画像の再現を困難にする。
場合２発生したガスが抜けないで版と原画との間にたま
り、密着をそこない忠実な画像の再現を困難にする。
この問題を解決するために２版面にポリエステル、ポリ
オレフィンなどのプラスチックフィルムをラミネートす
ることも提案されている。しかしながら１版面にプラス
チックフィルムをラミネートすると、原画との真空密着
性が若干向上するものの２版面にプラスチックフィルム
を設ける際に。
オレフィンなどのプラスチックフィルムをラミネートす
ることも提案されている。しかしながら１版面にプラス
チックフィルムをラミネートすると、原画との真空密着
性が若干向上するものの２版面にプラスチックフィルム
を設ける際に。
シリコーンゴム層との間に異物や空気をはさみ込み易い
などの技術的困難さがあったシ、経済的に不利であると
いつだ問題点があった。
などの技術的困難さがあったシ、経済的に不利であると
いつだ問題点があった。
さらに版面にプラスチックフィルムを設けると。
露光時に原画と感光性画像形成層（以下感光層という）
との距離が大きくなり、理想的な平行光線が得られてい
ない現行の露光機では、いわゆる焼きぼけを生じ易く原
画に忠実な画像が再現し難いという問題もあった。
との距離が大きくなり、理想的な平行光線が得られてい
ない現行の露光機では、いわゆる焼きぼけを生じ易く原
画に忠実な画像が再現し難いという問題もあった。
また、露光により分解してガスを放出するタイプの感光
層を用いた場合、シリコーンゴム層上にプラスチックフ
ィルムを設けると露光により発生したガスがプラスチッ
クフィルムを押しあげ、原画との距離が大きくなり、焼
きぼけを生じるという重大な問題もある。
層を用いた場合、シリコーンゴム層上にプラスチックフ
ィルムを設けると露光により発生したガスがプラスチッ
クフィルムを押しあげ、原画との距離が大きくなり、焼
きぼけを生じるという重大な問題もある。
本発明者らは、かかる問題点を解決すべく鋭意検討した
結果、以下に述べる本発明に到達した。
結果、以下に述べる本発明に到達した。
す々わち本発明は、最上層をインキ反撥性層とする湿し
水不要平版材において、インキ反撥性層上に不揮発性成
分を含有する溶液もしくは分散液を塗布し、溶液もしく
は分散液の凝集力によって最上層上に分散した小突起を
形成させたことを特徴とする湿し水不要平版材の製造方
法に関するものである。
水不要平版材において、インキ反撥性層上に不揮発性成
分を含有する溶液もしくは分散液を塗布し、溶液もしく
は分散液の凝集力によって最上層上に分散した小突起を
形成させたことを特徴とする湿し水不要平版材の製造方
法に関するものである。
本発明の湿し水不要平版材の製造方法は、不揮発成分を
含有する溶液もしくは分散液をインキ反撥性層としての
シリコーンゴム層の表面に塗布し。
含有する溶液もしくは分散液をインキ反撥性層としての
シリコーンゴム層の表面に塗布し。
塗布液をシリコーンゴム層上で凝集させ、凝集によりシ
リコーンゴム層表面に形成される塗布液の液滴を乾燥す
ることによって２分散した小突起をつくることを特徴と
するものである。まだ、不揮発性成分を含有する溶液も
しくは分散液は版材を構成する成分に、物理的、化学的
に悪影響を与えることなく、シかも現像時に容易に除去
されうるものであって、かつ使用される現像液と反応し
ないものであれば使用可能である。
リコーンゴム層表面に形成される塗布液の液滴を乾燥す
ることによって２分散した小突起をつくることを特徴と
するものである。まだ、不揮発性成分を含有する溶液も
しくは分散液は版材を構成する成分に、物理的、化学的
に悪影響を与えることなく、シかも現像時に容易に除去
されうるものであって、かつ使用される現像液と反応し
ないものであれば使用可能である。
ここにいう不揮発性成分を含有する溶液もしくは分散液
は、不揮発性成分と溶媒とからなるものである。
は、不揮発性成分と溶媒とからなるものである。
不揮発性成分としては、たとえば樹脂、マット剤などが
ある。
ある。
５−
樹脂としては、アラビアゴム、膠、ゼラチン。
カゼイン、セルロース類、でんぷん類、ポリビニルアル
コール、ポリスチレン＋ホ＋）オレフィン。
コール、ポリスチレン＋ホ＋）オレフィン。
ポリエチレンオキシド、ポリアクリル酸、ポリアクリル
アミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂。
アミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂。
ポリアミド、ポリエステル、ポリビニルブチラールなど
があり、これらの樹脂は二種以上併用することもできる
。
があり、これらの樹脂は二種以上併用することもできる
。
マット剤としては、たとえば二酸化珪素、酸化亜鉛、酸
化チタン、酸化ジルコニウム、ガラス粒子、アルミナ、
澱粉２重合体粒子（たとえばポリメチルメタアクリレー
ト、ポリスチレン、）゛エノール樹脂などの粒子）など
があシ、これらは二種以上併用することもできる。また
、樹脂とマット剤との併用もできる。
化チタン、酸化ジルコニウム、ガラス粒子、アルミナ、
澱粉２重合体粒子（たとえばポリメチルメタアクリレー
ト、ポリスチレン、）゛エノール樹脂などの粒子）など
があシ、これらは二種以上併用することもできる。また
、樹脂とマット剤との併用もできる。
これらの樹脂、マット剤を単独または併用して適当な溶
媒に溶解まだは分散し、溶液もしくは分散液として使用
する。
媒に溶解まだは分散し、溶液もしくは分散液として使用
する。
溶媒トシテハ、トルエン、キシレン、ベンゼン。
酢酸メチル、酢酸エチル、オクタン、デカン、ドデカン
、メタノール、エタノール、インプロノくノール、メチ
ルセルンルブ、エチルセルソルブ、などが適当である。
、メタノール、エタノール、インプロノくノール、メチ
ルセルンルブ、エチルセルソルブ、などが適当である。
」二記溶液、まだは分散液をシリコーン層上で適切に凝
集させるためには、該溶液もしくは分散液の表面張力が
２０〜６０ｄｙｎｅ／ａＴ＋の範囲にすることが良い。
集させるためには、該溶液もしくは分散液の表面張力が
２０〜６０ｄｙｎｅ／ａＴ＋の範囲にすることが良い。
溶液もしくは分散液の表面張力が２０ ａｙｎ ｅ、／
ｃｙｎ未満であれば溶液の凝集力が不十分で、溶液がシ
リコーン層表面で拡がり好ましい液滴ができにくい。
ｃｙｎ未満であれば溶液の凝集力が不十分で、溶液がシ
リコーン層表面で拡がり好ましい液滴ができにくい。
また表面張力が６０ （１７ｎ物を越えると大きい不均
一な液滴となり、適当に分散された小突起を形成するこ
とがやや困難である。
一な液滴となり、適当に分散された小突起を形成するこ
とがやや困難である。
まだ塗布方法としては、スリットダイ、カーテンフロー
、リバースロール、グラビアロール、メーヤバーコータ
などの通常のコータあるいはホエラのような回転塗布装
置いずれを用いても各溶液もしくは分散液に従って適当
なウェット膜厚になるように塗布することにより２分散
した小突起を形成することにより凹凸を作ることができ
る。
、リバースロール、グラビアロール、メーヤバーコータ
などの通常のコータあるいはホエラのような回転塗布装
置いずれを用いても各溶液もしくは分散液に従って適当
なウェット膜厚になるように塗布することにより２分散
した小突起を形成することにより凹凸を作ることができ
る。
インキ反撥性層上に形成される小突起の平均高さは約５
０ｍμ〜５０μ、好ましくは０６〜１０μが適当である
。小突起の平均高さが約５０ｍμより小さくなるに従っ
て真空密着時間の短縮効果がなくなり、逆に約５０μよ
り大きく彦ると原画フィルムと該平版材との距離が犬き
くなり過ぎて焼きぼけ等を生じ、十分な画像再現性が得
られない。
０ｍμ〜５０μ、好ましくは０６〜１０μが適当である
。小突起の平均高さが約５０ｍμより小さくなるに従っ
て真空密着時間の短縮効果がなくなり、逆に約５０μよ
り大きく彦ると原画フィルムと該平版材との距離が犬き
くなり過ぎて焼きぼけ等を生じ、十分な画像再現性が得
られない。
また、隣接する小突起凸部間の平均距離は約０．０１−
２０ｍｍ、好ましくは０．０５−３ｍｍが適当である。
２０ｍｍ、好ましくは０．０５−３ｍｍが適当である。
上記平均距離が約０．０１ａｎｎより短かくなるに従っ
て真空密着時間短縮化の効果が少なくなり。
て真空密着時間短縮化の効果が少なくなり。
逆に約２０−より長くなるに従って原画フィルムと該平
版材との密着が不十分となり易く、十分な画像が再現で
きない。
版材との密着が不十分となり易く、十分な画像が再現で
きない。
まだ２本発明の小突起の形状は特に制限されるものでは
なく２例えば、シリコーン層の厚み、塗布液の組成ある
いは塗布方法などによってそれぞれ異なった形状を示す
。形状と大きさは、すべてが同一のものであってもよい
し１種々のものが混ざりあったものでもよい。
なく２例えば、シリコーン層の厚み、塗布液の組成ある
いは塗布方法などによってそれぞれ異なった形状を示す
。形状と大きさは、すべてが同一のものであってもよい
し１種々のものが混ざりあったものでもよい。
また小突起の大きさは約０００５〜１０ Ｉｎｍ、好ま
しくは約０．０１〜０５圓である。
しくは約０．０１〜０５圓である。
本発明の方法が適用される湿し水不要平版材の最上層で
あるインキ反撥性層としての組成物は。
あるインキ反撥性層としての組成物は。
公知のものとしては例えば次のようなものがあげられる
。
。
（１）通常のシリコーン組成物として、特公昭４４−２
３０４２、特公昭４６−１’６０４４．特開昭４８−９
４５０３で提案されているもの、まだ特開昭５７−１０
１４５に開示されているようなポリオルガノシロキサン
よりなる一価又は二価以上の有機カルボン酸のろ価クロ
ム錯塩々ど。
３０４２、特公昭４６−１’６０４４．特開昭４８−９
４５０３で提案されているもの、まだ特開昭５７−１０
１４５に開示されているようなポリオルガノシロキサン
よりなる一価又は二価以上の有機カルボン酸のろ価クロ
ム錯塩々ど。
（２）感光性を有するシリコーン組成物として。
（ａ） シリコーンに公知の感光性物質を混合した感
光性シリコーン組成物として、特公昭５５−２５４１８
などに提案されているもの。
光性シリコーン組成物として、特公昭５５−２５４１８
などに提案されているもの。
（ｂ） シリコーンに公知の感光性物質を反応させた
感光性シリコーン組成物として、特公昭５５−２７３３
７などに提案されているもの。
感光性シリコーン組成物として、特公昭５５−２７３３
７などに提案されているもの。
（３） フッ素系化合物としては、特公昭４４−２８
７２６などに提案されているもの。
７２６などに提案されているもの。
本発明の湿し水不要平版材を用いることにより。
原画との位置合せが容易になると共に、原画との密着性
が向上し密着に要する時間が大幅に短縮できる。さらに
画像を忠実に再現することが可能になった。
が向上し密着に要する時間が大幅に短縮できる。さらに
画像を忠実に再現することが可能になった。
またインキ反撥性層上の小突起は容易にしかも均一に設
けることが出来る。なお、設けられた小突起は画像露光
後の現像時などには極めて容易に除去することが可能で
、しかも印刷時の版性能に悪影響を及ぼすことはない。
けることが出来る。なお、設けられた小突起は画像露光
後の現像時などには極めて容易に除去することが可能で
、しかも印刷時の版性能に悪影響を及ぼすことはない。
さらにインキ反撥性層上に形成された小突起は。
傷つきやすいインキ反撥性層を保護する効果をも有する
。
。
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。
実施例１ 比較例１
住友軽金属（株）製の化成処理アルミ板（厚さ３００μ
）に次の組成の感光層を乾燥厚さ約１．２μになるよう
に塗設した。
）に次の組成の感光層を乾燥厚さ約１．２μになるよう
に塗設した。
（ａ） フェノールノボラック樹脂（住友ベークライ
ト製：スミレジンＰＲ５０２３５）のナフトキノン−１
，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル（エステル化
度４４％） 続いて次の組成のシリコーンゴム層を乾燥厚さ約２．５
μになるように塗設し、１２０°６５分の熱処理を施し
た。
ト製：スミレジンＰＲ５０２３５）のナフトキノン−１
，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル（エステル化
度４４％） 続いて次の組成のシリコーンゴム層を乾燥厚さ約２．５
μになるように塗設し、１２０°６５分の熱処理を施し
た。
（ａ）トーレシリコーン製５Ｈ−７８１１００重量部
（ｂ） γ−アミノプロピルトリエトキシシラン４重
量部 そして、シリコーンゴム層上に次の組成物をメーヤバー
コータを用いてウェット膜厚１０μになるように塗布し
、乾燥（乾燥重量０．２ ｇ／ｍ２） してシリコーン
ゴム層上に小突起を形成することにより、湿し水不要平
版材を作製した。
量部 そして、シリコーンゴム層上に次の組成物をメーヤバー
コータを用いてウェット膜厚１０μになるように塗布し
、乾燥（乾燥重量０．２ ｇ／ｍ２） してシリコーン
ゴム層上に小突起を形成することにより、湿し水不要平
版材を作製した。
（ａ）トルエン／エタノール（１／１−重量比）１００
重量部 （ｂ） ”デ／カブムラール”（電気化学工業（株）
製：弁３０００−２ ） ２重量部
（Ｃ） “サイロイド″（富士デピストン（株）製：
４２４４） （１１重量部な
お、」二記組成物の表面張力は２４ ｄ、ｙｎθにであ
った。また１版の小突起の大きさあるいは分布状態は次
のとおりである。
重量部 （ｂ） ”デ／カブムラール”（電気化学工業（株）
製：弁３０００−２ ） ２重量部
（Ｃ） “サイロイド″（富士デピストン（株）製：
４２４４） （１１重量部な
お、」二記組成物の表面張力は２４ ｄ、ｙｎθにであ
った。また１版の小突起の大きさあるいは分布状態は次
のとおりである。
（ａ） 凸部の大きさ 平均直径 １５０ ／４
平均高さ ４μ （ｂ） 分布状態 平均個数 １５個／Ｉｎ
ｍ２平均凸部間距離 ０．８ ｗｎ 上記のように作製された版制を３０ａｎＸ４０（２）の
大きさに切り出し、５０％網点面積率を有する原画を重
ねて１通常の手法で真空密着させたところ。
平均高さ ４μ （ｂ） 分布状態 平均個数 １５個／Ｉｎ
ｍ２平均凸部間距離 ０．８ ｗｎ 上記のように作製された版制を３０ａｎＸ４０（２）の
大きさに切り出し、５０％網点面積率を有する原画を重
ねて１通常の手法で真空密着させたところ。
１５〜２０秒で完全に密着が完了した。
次いで、露光し、エタノールで現像したところ露光時に
発生したガスによる焼ぼけもなく良好な網点が再現され
た。まだ設けた小突起は現像時に完全に取り除かれてい
た。
発生したガスによる焼ぼけもなく良好な網点が再現され
た。まだ設けた小突起は現像時に完全に取り除かれてい
た。
一方、比較としてシリコーンゴム層上に小突起を設けて
いない版材を用いて同様の操作を実施しだところ９版の
全面にわたって原画とシリコーンゴム層間に気泡が生じ
、２（１分にわたって吸引を続けてもこの気泡が消える
ことはなかった。続いてこの状態で露光し エタノール
で現像したところ、気泡が生じて原画との密着が十分で
なかった部分に再現された網点は焼きぼけにより良好な
形状ではなかった。
いない版材を用いて同様の操作を実施しだところ９版の
全面にわたって原画とシリコーンゴム層間に気泡が生じ
、２（１分にわたって吸引を続けてもこの気泡が消える
ことはなかった。続いてこの状態で露光し エタノール
で現像したところ、気泡が生じて原画との密着が十分で
なかった部分に再現された網点は焼きぼけにより良好な
形状ではなかった。
実施例２
エポキシコートアルミ板（スカイアルミ（株） 製。
厚さ２４０７＋）に下記の感光層組成物の２０重量係エ
チルセルソルブ溶液をスリットダイコータで塗布し１０
０’ｃ、２分加熱処理して厚さ２μの感光層を設けた。
チルセルソルブ溶液をスリットダイコータで塗布し１０
０’ｃ、２分加熱処理して厚さ２μの感光層を設けた。
（ａ） フェノールノボラック樹脂（住友ベークライ
ト（株）ｖ：“スミレシフ ＰＲ５０２３５’ ）のナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル（エステル（１４４％） 続いてこの」二にγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン（ユニオンカーバイド製：Ａ１１００）の１ 重量％
“アイソパーＥ″（エッソスタンダード製二石油系溶媒
）溶液をスリットダイコータで塗−１６＝ 布し１２０℃、１分間加熱処理して厚さ０．０５μの接
着層を設けた。
ト（株）ｖ：“スミレシフ ＰＲ５０２３５’ ）のナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル（エステル（１４４％） 続いてこの」二にγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン（ユニオンカーバイド製：Ａ１１００）の１ 重量％
“アイソパーＥ″（エッソスタンダード製二石油系溶媒
）溶液をスリットダイコータで塗−１６＝ 布し１２０℃、１分間加熱処理して厚さ０．０５μの接
着層を設けた。
続いてこの」二に下記のシリコーン組成物の２０重量係
アイソパーＥ溶液をスリットダイコータで塗布し１００
’ｃ、３分間加熱処理して厚さ５μのシリコーンゴム層
を設けた。
アイソパーＥ溶液をスリットダイコータで塗布し１００
’ｃ、３分間加熱処理して厚さ５μのシリコーンゴム層
を設けた。
（ａ） ジメチルポリシロキサン １００重量部
（分子量約８０．［１００，末端ＯＨ基）（ｂ） エ
チルトリアセトキシシラン ５重量部（Ｃ）′）ブチ
ル錫ジアセテート ０２重量部上記のようにして得
られた印刷原版に次の組成物（表面張力３ Ｑ ｄｙｎ
０７４）を版面にスリットダイコータでウェット膜厚１
０μに塗布し、乾燥（乾燥重量０．３ ｇ／ｍ２） Ｌ
、 シリコーンゴム層上に小突起を形成させた。
（分子量約８０．［１００，末端ＯＨ基）（ｂ） エ
チルトリアセトキシシラン ５重量部（Ｃ）′）ブチ
ル錫ジアセテート ０２重量部上記のようにして得
られた印刷原版に次の組成物（表面張力３ Ｑ ｄｙｎ
０７４）を版面にスリットダイコータでウェット膜厚１
０μに塗布し、乾燥（乾燥重量０．３ ｇ／ｍ２） Ｌ
、 シリコーンゴム層上に小突起を形成させた。
（ａ）トルエン １００重量部（ｂ
） ポリスチレン樹脂（旭ダウ（株）製：′スタイロ
ン６８６”） ６重量部こうして得ら
れた版の小突起の大きさ２分布状態は次のようである。
） ポリスチレン樹脂（旭ダウ（株）製：′スタイロ
ン６８６”） ６重量部こうして得ら
れた版の小突起の大きさ２分布状態は次のようである。
（ａ）凸部の大きさ 平均直径 １００μ平均高さ
３μ （ｂ） 分布状態 平均個数 １７個／皿２
平均凸部間距離 １皿 この版を３［１ａｎｘ４Ｄ（２）の大きさに切り出し。
３μ （ｂ） 分布状態 平均個数 １７個／皿２
平均凸部間距離 １皿 この版を３［１ａｎｘ４Ｄ（２）の大きさに切り出し。
５０％網点面積率を有する原画を重ねると版と原画のす
べりも良く、常法に従って原画を真空密着させたところ
密着に要した時間は１５〜２０秒で気泡は全く残らなか
った。続いて露光、現像したところ発生したガスによる
焼きぼけもなく良好な網点が再現された。捷だ、設けた
小突起は現像時に完全に除かれていた。
べりも良く、常法に従って原画を真空密着させたところ
密着に要した時間は１５〜２０秒で気泡は全く残らなか
った。続いて露光、現像したところ発生したガスによる
焼きぼけもなく良好な網点が再現された。捷だ、設けた
小突起は現像時に完全に除かれていた。
比較例２
不揮発性成分を含有する溶液として下記組成物（表面張
力１９ ｄｙｎθｋ）を版面にメーヤバーコータでウェ
ット膜厚７μに塗布、乾燥（乾燥重量０、０２ ｇ／ｍ
２ ）する以外は実施例１と同様にして版を作製した。
力１９ ｄｙｎθｋ）を版面にメーヤバーコータでウェ
ット膜厚７μに塗布、乾燥（乾燥重量０、０２ ｇ／ｍ
２ ）する以外は実施例１と同様にして版を作製した。
（ａ） へブタン １００重量部
（ｂ） ニスコレラ５０００（オレフィン系樹脂エク
ンンケミカルズ製） ２重量部しかしながら
、この溶液ではシリコーン面で凝集せず全面に濡れだま
捷で均一な塗膜層を形成し。
（ｂ） ニスコレラ５０００（オレフィン系樹脂エク
ンンケミカルズ製） ２重量部しかしながら
、この溶液ではシリコーン面で凝集せず全面に濡れだま
捷で均一な塗膜層を形成し。
小突起はでき々かった。この版に５０係網点面積率を有
する原画を重ねると版は非粘着化されているので版と原
画のすべりは良いが、常法に従って原画を真空密着させ
たところ密着に要しだ時間は２分であり、実施例１の小
突起を設けた版に比較して約６倍長い時間を要しだ。続
いて露光、現像したところ一部に発生したガスのた捷り
ができて焼ぼけにより良好な網点が再現されなかった。
する原画を重ねると版は非粘着化されているので版と原
画のすべりは良いが、常法に従って原画を真空密着させ
たところ密着に要しだ時間は２分であり、実施例１の小
突起を設けた版に比較して約６倍長い時間を要しだ。続
いて露光、現像したところ一部に発生したガスのた捷り
ができて焼ぼけにより良好な網点が再現されなかった。
なお、塗膜層は現像時に完全に除かれていた。
比較例６
実施例１の場合と同様にして、但し不揮発生成分を含有
する分散液として下記組成物（表面張力６６ｄｙｎθ／
ｃｍ ）をメーヤバーコータでシリコーン面に塗布しよ
うとしたが、メーヤバーコータの前の液だまりが移動す
るのみで小突起を形成しなかった。
する分散液として下記組成物（表面張力６６ｄｙｎθ／
ｃｍ ）をメーヤバーコータでシリコーン面に塗布しよ
うとしたが、メーヤバーコータの前の液だまりが移動す
るのみで小突起を形成しなかった。
（ａ） 水 １００重量部
（ｂ）トクシール（５ｉｎ２徳山曹達製）０２５重量部
この版は実施例１での小突起を設けていない版と同様で
５０係の網点面積率を有する原画を重ねて１通常の手法
で真空密着させたところ２版の全面にわたって原画とシ
リコーンゴム層間に気泡が生じ、２０分にわたって吸引
を続けてもこの気泡が消えることはなかった。続いて露
光、現像したところ、気泡が生じて原画との密着が十分
でなかった部分に再現された網点は焼きぼけにより良好
な形状では々かった。
（ｂ）トクシール（５ｉｎ２徳山曹達製）０２５重量部
この版は実施例１での小突起を設けていない版と同様で
５０係の網点面積率を有する原画を重ねて１通常の手法
で真空密着させたところ２版の全面にわたって原画とシ
リコーンゴム層間に気泡が生じ、２０分にわたって吸引
を続けてもこの気泡が消えることはなかった。続いて露
光、現像したところ、気泡が生じて原画との密着が十分
でなかった部分に再現された網点は焼きぼけにより良好
な形状では々かった。
Claims (2)
- （１）最上層をインキ反撥性層とする湿し水不要平版材
において、最上層上に不揮発性成分を含有する溶液また
は分散液を塗布し、溶液または分散液の凝集力により最
上層上に分散した小突起を形成させたことを特徴とする
湿し水不要平版材の製造方法。 - （２）不揮発性成分を含有する溶液または分散液の表面
張力が２０〜６０ ｄｙｎ輸である特許請求の範囲第１
項記載の湿し水不要平版材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6879682A JPS58186746A (ja) | 1982-04-26 | 1982-04-26 | 湿し水不要平版材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6879682A JPS58186746A (ja) | 1982-04-26 | 1982-04-26 | 湿し水不要平版材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58186746A true JPS58186746A (ja) | 1983-10-31 |
Family
ID=13384034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6879682A Pending JPS58186746A (ja) | 1982-04-26 | 1982-04-26 | 湿し水不要平版材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58186746A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0154981A2 (en) * | 1984-03-12 | 1985-09-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for producing light-sensitive lithographic plate requiring no dampening solution |
| JPS62134289A (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要平版印刷用版材 |
| JPH01257949A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Konica Corp | 湿し水不要平版印刷版材料 |
| JPH03160453A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-10 | Konica Corp | 湿し水不要平版印刷版材料及びその製造方法 |
| JPH03179446A (ja) * | 1989-12-08 | 1991-08-05 | Konica Corp | 湿し水不要平版印刷版材料の製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5124307A (ja) * | 1974-07-24 | 1976-02-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Kankoseiinsatsubanno seizoho |
| JPS5555343A (en) * | 1978-10-20 | 1980-04-23 | Toray Ind Inc | Waterless lithographic printing original plate |
| JPS5627150A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-16 | Toray Ind Inc | Damping water nonrequiring lithographic original plate and its preparation |
-
1982
- 1982-04-26 JP JP6879682A patent/JPS58186746A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5124307A (ja) * | 1974-07-24 | 1976-02-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Kankoseiinsatsubanno seizoho |
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| JPS5627150A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-16 | Toray Ind Inc | Damping water nonrequiring lithographic original plate and its preparation |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP0154981A2 (en) * | 1984-03-12 | 1985-09-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for producing light-sensitive lithographic plate requiring no dampening solution |
| JPS60191262A (ja) * | 1984-03-12 | 1985-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版の製造法 |
| JPH043863B2 (ja) * | 1984-03-12 | 1992-01-24 | ||
| JPS62134289A (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要平版印刷用版材 |
| JPH0517872B2 (ja) * | 1985-12-09 | 1993-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | |
| JPH01257949A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Konica Corp | 湿し水不要平版印刷版材料 |
| JPH03160453A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-10 | Konica Corp | 湿し水不要平版印刷版材料及びその製造方法 |
| JPH03179446A (ja) * | 1989-12-08 | 1991-08-05 | Konica Corp | 湿し水不要平版印刷版材料の製造方法 |
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