JPS5817724Y2 - 両面研摩装置 - Google Patents
両面研摩装置Info
- Publication number
- JPS5817724Y2 JPS5817724Y2 JP1978125979U JP12597978U JPS5817724Y2 JP S5817724 Y2 JPS5817724 Y2 JP S5817724Y2 JP 1978125979 U JP1978125979 U JP 1978125979U JP 12597978 U JP12597978 U JP 12597978U JP S5817724 Y2 JPS5817724 Y2 JP S5817724Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- polishing
- double
- holder
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、エレクトロニクス工業に広く用いられている
半導体結晶やその他の結晶などのウェハに対して板厚寸
法、平行度、平面度など形状精度を極めて良好に仕上げ
ることが可能な両面研摩装置に関するものである。
半導体結晶やその他の結晶などのウェハに対して板厚寸
法、平行度、平面度など形状精度を極めて良好に仕上げ
ることが可能な両面研摩装置に関するものである。
第1図は、従来の両面研摩装置の一例を示す図で、aは
平面図すは断面図である。
平面図すは断面図である。
第1図において、1は薄片状加工物である被研摩試料、
2は砥粒と水や油などの混合液からなる研摩液3を貯え
るタンク、4はモータなどにより一定速度で回転され中
央部に凹みを有する円板状の下みがき皿、5は下みがき
皿4と同様に回転できるように構成され研摩液3を供給
するための穴が設けられている円板状の上みがき皿、6
は被研摩試料1を数個同時に保持できる穴が同心円上に
設けられ被研摩試料1よりも厚さ寸法が小さな円板状の
キャリアで上下みがき皿4,5の間に挿入されかつ両者
のみがき皿表面に接触しないように組立てられている。
2は砥粒と水や油などの混合液からなる研摩液3を貯え
るタンク、4はモータなどにより一定速度で回転され中
央部に凹みを有する円板状の下みがき皿、5は下みがき
皿4と同様に回転できるように構成され研摩液3を供給
するための穴が設けられている円板状の上みがき皿、6
は被研摩試料1を数個同時に保持できる穴が同心円上に
設けられ被研摩試料1よりも厚さ寸法が小さな円板状の
キャリアで上下みがき皿4,5の間に挿入されかつ両者
のみがき皿表面に接触しないように組立てられている。
7と8はキャリア6の外周部分を両側からはさみ、ねじ
9により締付は固定するためのリング状ホルダー、10
はキャリア6とリング状ホルダー7.8からなる集合体
を上下みがき皿4,5に対して揺動運動できるように保
持するための揺動アーム、11は基板12に固定され揺
動アーム10を回転可能に取付けるための支軸、13は
モータなどにより回転される偏心重、14は揺動アーム
10と偏心重13に各々ピン15で結合され偏心重13
の回転運動を支軸11を中心とした円弧揺動運動に変え
るための連接板である。
9により締付は固定するためのリング状ホルダー、10
はキャリア6とリング状ホルダー7.8からなる集合体
を上下みがき皿4,5に対して揺動運動できるように保
持するための揺動アーム、11は基板12に固定され揺
動アーム10を回転可能に取付けるための支軸、13は
モータなどにより回転される偏心重、14は揺動アーム
10と偏心重13に各々ピン15で結合され偏心重13
の回転運動を支軸11を中心とした円弧揺動運動に変え
るための連接板である。
上下みがき皿4,5を同方向あるいは逆方向に回転させ
ながらキャリア6を揺動運動させることによってキャリ
ア6内に挿入された被研摩試料1は上下みがき皿4,5
の両者の全面に亙って摺動し、被研摩試料1と上下みが
き皿4,5の表面間に研摩液3が供給されて両面研摩が
同時に行なわれる。
ながらキャリア6を揺動運動させることによってキャリ
ア6内に挿入された被研摩試料1は上下みがき皿4,5
の両者の全面に亙って摺動し、被研摩試料1と上下みが
き皿4,5の表面間に研摩液3が供給されて両面研摩が
同時に行なわれる。
なお本図ではキャリアが揺動運動する場合について述べ
たが、回転運動、往復運動、偏心円運動(ふるい運動)
などを行なわせても何ら支障がなく研摩が遠戚される。
たが、回転運動、往復運動、偏心円運動(ふるい運動)
などを行なわせても何ら支障がなく研摩が遠戚される。
しかし、本図のような両面研摩装置のキャリア保持具は
、上下みがき皿に対してキャリアを平行にかつ接触しな
いように組立てる必要があり、したがって装置の加工や
組立ての精度が高く要求されること、特に極薄ウェハの
加工に対してはミクロンオーダーの精度が必要になり、
組立てが極めて困難になること、また上下みがき皿に対
するキャリアの取付が固定式のため、加工の進行に伴い
ウェハの厚さが減少してくるとキャリアは常にウェハの
厚さの中心を保持できなくなりキャリアの穴からウェハ
が外れ易くなること、みがき皿の摩耗によるキャリアと
下みがき皿の間の距離が増大する結果、ウェハの厚さの
中心をキャリアで保持できなくなり、ウェハが外れ易く
なること、仕上り寸法、厚さが異なるウェハの研摩を行
なう場合、各々の厚さに対してキャリアの高さを調整す
る必要があるがその調整が困難であること、などの欠点
がある。
、上下みがき皿に対してキャリアを平行にかつ接触しな
いように組立てる必要があり、したがって装置の加工や
組立ての精度が高く要求されること、特に極薄ウェハの
加工に対してはミクロンオーダーの精度が必要になり、
組立てが極めて困難になること、また上下みがき皿に対
するキャリアの取付が固定式のため、加工の進行に伴い
ウェハの厚さが減少してくるとキャリアは常にウェハの
厚さの中心を保持できなくなりキャリアの穴からウェハ
が外れ易くなること、みがき皿の摩耗によるキャリアと
下みがき皿の間の距離が増大する結果、ウェハの厚さの
中心をキャリアで保持できなくなり、ウェハが外れ易く
なること、仕上り寸法、厚さが異なるウェハの研摩を行
なう場合、各々の厚さに対してキャリアの高さを調整す
る必要があるがその調整が困難であること、などの欠点
がある。
本考案の目的は、キャリアの上下みがき皿に対する平行
調整および上下方向の位置調整が容易にでき、かつウェ
ハの保持が安定した両面研摩を達成すると同時に作業能
率の向上を日掛した両面研摩装置を提供することにある
。
調整および上下方向の位置調整が容易にでき、かつウェ
ハの保持が安定した両面研摩を達成すると同時に作業能
率の向上を日掛した両面研摩装置を提供することにある
。
本考案によればキャリアおよびホルダーからなる集合体
を数本の引上用ばねと押下用ばねを用いて上下両方向か
ら釣合わせて保持することにより、加工中のウェハ厚さ
の減少やみがき皿の摩耗によるウェハのキャリアに対す
る位置変化は容易に追従できる利点がありキャリアから
のウェハの外れによる破損は全く解消される。
を数本の引上用ばねと押下用ばねを用いて上下両方向か
ら釣合わせて保持することにより、加工中のウェハ厚さ
の減少やみがき皿の摩耗によるウェハのキャリアに対す
る位置変化は容易に追従できる利点がありキャリアから
のウェハの外れによる破損は全く解消される。
第2図は、本考案の両面研摩装置の一実施例を示すキャ
リア保持具を説明するための図で、aは平面図、bはA
−0−A断面図である。
リア保持具を説明するための図で、aは平面図、bはA
−0−A断面図である。
6′はキャリア、7′と8′はキャリア6′を両側から
はさみネジで締付けるためのリング状ホルダー、10’
は揺動アーム、16はリング状ホルダー8′とネジ結合
により組立てられた支柱、17はキャリア6′を上方に
引上げるためのコイルばね、18はコイルばね17を支
柱16に取付けると共にその張力を調整するためのナツ
トで、ゆるみ防止のためダブルナツト方式に構成されて
いる。
はさみネジで締付けるためのリング状ホルダー、10’
は揺動アーム、16はリング状ホルダー8′とネジ結合
により組立てられた支柱、17はキャリア6′を上方に
引上げるためのコイルばね、18はコイルばね17を支
柱16に取付けると共にその張力を調整するためのナツ
トで、ゆるみ防止のためダブルナツト方式に構成されて
いる。
19は圧縮コイルばね17、ナツト18を内蔵し、支柱
16が上下方向に摺動できるように組立てられたつばを
有する円筒カバー、20は支柱16の間に等間隔で配置
されリング状ホルダー8′を下方に押付けるために設け
られた押圧ピン、21はキャリア6′を下方に押下げる
ためのコイルばね、22は押圧ピン20が上下方向に摺
動できるように組立てられ、コイルばね21の張力を調
整するためのハンドル、23は、押圧ピン20、コイル
ばね21を内蔵し、ハンドル22とネジ結合により組立
てられたつばを有する円筒状のハウジング、24は3本
の支柱16と3本の押圧ピン20を交互に60°間隔で
円周上に配置し上下方向に摺動可能に取付た支持円板で
ある。
16が上下方向に摺動できるように組立てられたつばを
有する円筒カバー、20は支柱16の間に等間隔で配置
されリング状ホルダー8′を下方に押付けるために設け
られた押圧ピン、21はキャリア6′を下方に押下げる
ためのコイルばね、22は押圧ピン20が上下方向に摺
動できるように組立てられ、コイルばね21の張力を調
整するためのハンドル、23は、押圧ピン20、コイル
ばね21を内蔵し、ハンドル22とネジ結合により組立
てられたつばを有する円筒状のハウジング、24は3本
の支柱16と3本の押圧ピン20を交互に60°間隔で
円周上に配置し上下方向に摺動可能に取付た支持円板で
ある。
この支持円板24は、円筒カバー19とハウジング23
がネジによって交互に取付けられており、揺動アーム1
0′に固定保持されている。
がネジによって交互に取付けられており、揺動アーム1
0′に固定保持されている。
図において、上下みがき皿4,5に対するキャリア6′
の平行調整および上下方向の位置調整は、3個のハンド
ル22を各々適当に左右方向に回転させることにより、
コイルばね21を経由して押圧ピン20が上下方向に移
動し従って押圧ピン20の先端に接触しているキャリア
6′を内蔵したリング状ホルダー8′が移動して行なわ
れる方式である。
の平行調整および上下方向の位置調整は、3個のハンド
ル22を各々適当に左右方向に回転させることにより、
コイルばね21を経由して押圧ピン20が上下方向に移
動し従って押圧ピン20の先端に接触しているキャリア
6′を内蔵したリング状ホルダー8′が移動して行なわ
れる方式である。
仕上り寸法厚さの異なるウェハの研摩におけるキャリア
6′の上下みがき皿4,5に対する高さの調整も上記と
同様に3個のハンドル22の操作により簡単に行なうこ
とができる。
6′の上下みがき皿4,5に対する高さの調整も上記と
同様に3個のハンドル22の操作により簡単に行なうこ
とができる。
加工中におけるウェハ厚さの減少みがき皿の摩耗によっ
て生ずるキャリアからのウェハ厚さ中心部のずれは、キ
ャリアが上方に引上げるコイルバネ17と下方に押下げ
るコイルバネ21により上下方向に自由に移動できる構
造で結合され、容易に追従できるため全く解消される。
て生ずるキャリアからのウェハ厚さ中心部のずれは、キ
ャリアが上方に引上げるコイルバネ17と下方に押下げ
るコイルバネ21により上下方向に自由に移動できる構
造で結合され、容易に追従できるため全く解消される。
本考案のような両面研摩装置は、みがき皿が回転した時
、みがき皿表面とキャリア表面の平行が異なっていても
、キャリアがは゛ねによって吊されているため、みがき
皿に対して容易に追従して平行が維持される利点があり
、キャリアとみがき皿の接触によるキャリアの破損やキ
ャリアからのウェハの外れを防止することができる。
、みがき皿表面とキャリア表面の平行が異なっていても
、キャリアがは゛ねによって吊されているため、みがき
皿に対して容易に追従して平行が維持される利点があり
、キャリアとみがき皿の接触によるキャリアの破損やキ
ャリアからのウェハの外れを防止することができる。
特にみがき皿表面に弾性体の研摩布を貼布して行なう研
摩の場合にはウェハが研摩布巾に埋込まれるためキャリ
アは上下方向に自由に移動できる必要があり、有効な手
段である。
摩の場合にはウェハが研摩布巾に埋込まれるためキャリ
アは上下方向に自由に移動できる必要があり、有効な手
段である。
以上述べたように本考案によれば、装置の製作が容易に
でき、機能的に優れ、耐久性を有し、取扱いも便利な両
面研摩装置が達成される。
でき、機能的に優れ、耐久性を有し、取扱いも便利な両
面研摩装置が達成される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の両面研摩装置の一例を示す図で、aは
一部を切欠いて示す平面図、bは断面図である。 第2図は、本考案の両面研摩装置の一実施例を示すキャ
リア保持具を説明するための図でaは平面図、bはA−
0−A断面図である。 図中1は被研摩試料、2はタンク、3は研摩液、4は下
みがき皿、5は上みがき皿、6,6′はキャリア、7.
7’、8.8’はリング状ホルダー、10.10’は揺
動アーム、11は支軸、12は基板、13は偏心重、1
4は連接板、15はピン、16は支柱、17.21はコ
イルばね、18はナツト、19は円筒カバー、20は押
圧ピン、22はハンドル、23はハウジング、24は支
持円板である。
一部を切欠いて示す平面図、bは断面図である。 第2図は、本考案の両面研摩装置の一実施例を示すキャ
リア保持具を説明するための図でaは平面図、bはA−
0−A断面図である。 図中1は被研摩試料、2はタンク、3は研摩液、4は下
みがき皿、5は上みがき皿、6,6′はキャリア、7.
7’、8.8’はリング状ホルダー、10.10’は揺
動アーム、11は支軸、12は基板、13は偏心重、1
4は連接板、15はピン、16は支柱、17.21はコ
イルばね、18はナツト、19は円筒カバー、20は押
圧ピン、22はハンドル、23はハウジング、24は支
持円板である。
Claims (1)
- 上下みがき皿の間に挿入された被研摩試料をキャリアに
よって保持し、上下みがき皿およびキャリアの三者間に
相対的な摺動運動を行なわせて被研摩試料の両面を同時
に研摩する装置において、キャリアを取付たホルダーを
上方に引上げるばね機構と下方に押下げるばね機構のそ
れぞれの複数個をバランスした位置に取り付けたキャリ
ア保持具を備え、上記キャリアを上下みがき器間の所定
位置に釣合せて保持したことを特徴とする両面研摩装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1978125979U JPS5817724Y2 (ja) | 1978-09-12 | 1978-09-12 | 両面研摩装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1978125979U JPS5817724Y2 (ja) | 1978-09-12 | 1978-09-12 | 両面研摩装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5541294U JPS5541294U (ja) | 1980-03-17 |
JPS5817724Y2 true JPS5817724Y2 (ja) | 1983-04-11 |
Family
ID=29087372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1978125979U Expired JPS5817724Y2 (ja) | 1978-09-12 | 1978-09-12 | 両面研摩装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5817724Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6253723A (ja) * | 1985-08-30 | 1987-03-09 | Nippon Air Filter Kk | 集塵方法及びその装置 |
-
1978
- 1978-09-12 JP JP1978125979U patent/JPS5817724Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5541294U (ja) | 1980-03-17 |
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