JPS58130438A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS58130438A JPS58130438A JP57012734A JP1273482A JPS58130438A JP S58130438 A JPS58130438 A JP S58130438A JP 57012734 A JP57012734 A JP 57012734A JP 1273482 A JP1273482 A JP 1273482A JP S58130438 A JPS58130438 A JP S58130438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thin film
- recording medium
- magnetic
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はコバルトクロミウム薄膜磁気記録媒体表面に対
し垂直釦配向した酸化ぺＩＪ ＩＪウム薄膜を形成した
磁気記録媒体に関する。
し垂直釦配向した酸化ぺＩＪ ＩＪウム薄膜を形成した
磁気記録媒体に関する。
近年ＶＴＲの発展及びコンピューターの大衆化に伴ない
磁気記録テープ、磁気記録ディスクの高１− 密度化が急速に進展している。中でも最も注目されてい
るのは垂直磁化記録と呼ばれる磁気記録方式である。垂
直磁化記録方式に用いられる記録媒体は第１図に示す如
（ＰＥＴ等のフレキシブルあるいはアルミニウム等のリ
ジッドは基板１上にパーマロイ膜２を約５０００Ａの厚
みに形成し更にその上にクロミニラムを２０アトミツク
パーセント含有したコバルトクロミウム合金膜３が形成
されている。最上部に形成されているコバルトクロミウ
ム合金膜３は基板１に対して垂直に磁化しやすい特性を
有している。この新しい記録媒体への記録再生は新しい
構造の磁気ヘッドが用いられる。
磁気記録テープ、磁気記録ディスクの高１− 密度化が急速に進展している。中でも最も注目されてい
るのは垂直磁化記録と呼ばれる磁気記録方式である。垂
直磁化記録方式に用いられる記録媒体は第１図に示す如
（ＰＥＴ等のフレキシブルあるいはアルミニウム等のリ
ジッドは基板１上にパーマロイ膜２を約５０００Ａの厚
みに形成し更にその上にクロミニラムを２０アトミツク
パーセント含有したコバルトクロミウム合金膜３が形成
されている。最上部に形成されているコバルトクロミウ
ム合金膜３は基板１に対して垂直に磁化しやすい特性を
有している。この新しい記録媒体への記録再生は新しい
構造の磁気ヘッドが用いられる。
その概要を第２図に示す。コバルトクロミウム合金記録
媒体４の上部に主磁極５と称するタンザク状パターンの
パーマロイ膜が構成され、その反対側には補助磁極６と
称する棒状のフェライトにコイルを巻きつけた磁極が配
置される。この構造の磁気ヘッドによシコバルトクロミ
ウム合金記録媒体への記録再生が行なわれる。
媒体４の上部に主磁極５と称するタンザク状パターンの
パーマロイ膜が構成され、その反対側には補助磁極６と
称する棒状のフェライトにコイルを巻きつけた磁極が配
置される。この構造の磁気ヘッドによシコバルトクロミ
ウム合金記録媒体への記録再生が行なわれる。
コバルトクロミウム合金はその結晶構造は六方２−
最密構造であり、それを０．０１ Ｔｏｒγ程度のアル
ゴン圧力でスパッタ法により薄膜を形成すると基板面に
対し垂直に立った円柱状の構造となり、垂直磁気異方性
が生じる。その様子を第３図に示す。
ゴン圧力でスパッタ法により薄膜を形成すると基板面に
対し垂直に立った円柱状の構造となり、垂直磁気異方性
が生じる。その様子を第３図に示す。
Ｃ軸方向に長い円柱状微結晶７が基板８上に立っている
。このα軸が基板の垂直方向に清っているほど磁気異方
性が高く記録も容易で再生出力も高い。この垂直方向か
らのずれはＸ線回折によシ測定することができロッキン
グカーブと称され△θ、。
。このα軸が基板の垂直方向に清っているほど磁気異方
性が高く記録も容易で再生出力も高い。この垂直方向か
らのずれはＸ線回折によシ測定することができロッキン
グカーブと称され△θ、。
なる特性で呼ばれている。即ち第４図に示す如きロッキ
ングカーブで通常コバルトクロミウム薄膜はへ〇父は５
度以下となる。即ち円柱状微結晶のほとんどがそのα軸
の基板垂直方向からの傾きが５度以内に揃っていること
に々る。通常ＰＥＴ基板もしくはアルミニウム基板上に
スパッタ法で形成したコバルトクロミウム合金薄膜の場
合には△θ５Ｇは３度以下になる。
ングカーブで通常コバルトクロミウム薄膜はへ〇父は５
度以下となる。即ち円柱状微結晶のほとんどがそのα軸
の基板垂直方向からの傾きが５度以内に揃っていること
に々る。通常ＰＥＴ基板もしくはアルミニウム基板上に
スパッタ法で形成したコバルトクロミウム合金薄膜の場
合には△θ５Ｇは３度以下になる。
通常は更にコバルトクロミウム合金薄膜の下に抗磁力の
小なる磁性膜、例えばパーマロイ等の薄膜を形成して高
密度記録を可能とし、低ノイズ高３− 再生出力を実現している。従って通常例えばＰＩＴ等の
フレキシブルな基板の上にパーマロイ、コバルトクロミ
ウム合金の薄膜が約５０００オングストロームづつ形成
された形となっており、記録媒体の表面は金属表面がむ
き出しのままとなっている。この様な構造となっている
為に従来のＹＦｇ２０３を用いた磁気記録媒体の表面と
は全く異なった現象を示す。特に表面を記録再生ヘッド
が摺動していった場合に従来の磁気記録媒体よシも傷が
つき易く、長期信頼性に不安がある。本発明はこの欠点
を除去し信頼性の高い高密度磁気記録媒体を完成したも
のである。
小なる磁性膜、例えばパーマロイ等の薄膜を形成して高
密度記録を可能とし、低ノイズ高３− 再生出力を実現している。従って通常例えばＰＩＴ等の
フレキシブルな基板の上にパーマロイ、コバルトクロミ
ウム合金の薄膜が約５０００オングストロームづつ形成
された形となっており、記録媒体の表面は金属表面がむ
き出しのままとなっている。この様な構造となっている
為に従来のＹＦｇ２０３を用いた磁気記録媒体の表面と
は全く異なった現象を示す。特に表面を記録再生ヘッド
が摺動していった場合に従来の磁気記録媒体よシも傷が
つき易く、長期信頼性に不安がある。本発明はこの欠点
を除去し信頼性の高い高密度磁気記録媒体を完成したも
のである。
本発明の目的は信頼性の高い磁気記録媒体を提供するこ
とにある。
とにある。
本発明の他の目的は記録密度の高い磁気記録媒体を提供
することにある。
することにある。
以下に図について本発明を説明する。
第５図は本発明の詳細な説明する図である。基板１の上
に小抗磁力磁性膜なるパーマロイ膜２及び垂直磁化記録
膜なるコバルトクロミウム合金膜４− ３が形成されていることは従来の基本構造と同一である
が、本発明では更にその上に耐摩耗層として酸化べＩＪ
リウム薄膜９を形成し、信頼性を飛躍的に向上せしめ
た。即ち酸化ベリリウムＢｅＯの薄膜を】０００オング
ストロ一ム程度形成しただけで同一トラック上１００万
バス以上の信頼性を確保することができた。基板１はア
ルミニウムの様なリジッドの場合でもＰＦｉＴやポリイ
ミドの様なフレキシブルな場合でも同様に酸化ベリリウ
ム薄膜形成の効果があった。記録媒体の両側には主磁極
５と補助磁極６がチタンバリ等の材質によるスライダー
１０によシ固定されて記録媒体との摺動を滑らかなもの
とする構成となっている。゛酸化バリリウムＢｅ０９の
厚みは厚くする程信頼性は向上するが、厚くなシすざる
と垂直磁化記録膜２と主磁極５の先端との距離が遠くな
り、再生信号出力が小さくなシ、ノイズが多くなる等の
トラブルが発生するので酸化ベリリウム１３ ｇ ｏの
厚みは垂直磁化記録膜２とヘッドの特性を考慮して決定
される。第５図においてヘッドは主磁極５．補助５− 磁極６が相対する構成の基本タイプについて示したが本
発明はこの基本タイプを改良した種類のヘッドやリング
タイプのヘッドに対しても同様の効果を発揮することは
いうまでもない。
に小抗磁力磁性膜なるパーマロイ膜２及び垂直磁化記録
膜なるコバルトクロミウム合金膜４− ３が形成されていることは従来の基本構造と同一である
が、本発明では更にその上に耐摩耗層として酸化べＩＪ
リウム薄膜９を形成し、信頼性を飛躍的に向上せしめ
た。即ち酸化ベリリウムＢｅＯの薄膜を】０００オング
ストロ一ム程度形成しただけで同一トラック上１００万
バス以上の信頼性を確保することができた。基板１はア
ルミニウムの様なリジッドの場合でもＰＦｉＴやポリイ
ミドの様なフレキシブルな場合でも同様に酸化ベリリウ
ム薄膜形成の効果があった。記録媒体の両側には主磁極
５と補助磁極６がチタンバリ等の材質によるスライダー
１０によシ固定されて記録媒体との摺動を滑らかなもの
とする構成となっている。゛酸化バリリウムＢｅ０９の
厚みは厚くする程信頼性は向上するが、厚くなシすざる
と垂直磁化記録膜２と主磁極５の先端との距離が遠くな
り、再生信号出力が小さくなシ、ノイズが多くなる等の
トラブルが発生するので酸化ベリリウム１３ ｇ ｏの
厚みは垂直磁化記録膜２とヘッドの特性を考慮して決定
される。第５図においてヘッドは主磁極５．補助５− 磁極６が相対する構成の基本タイプについて示したが本
発明はこの基本タイプを改良した種類のヘッドやリング
タイプのヘッドに対しても同様の効果を発揮することは
いうまでもない。
酸化アルミニウムＢｅｏはその結晶構造は先に第３図、
第４図で示したコバルトクロミウム薄膜の結晶構造と全
く同じｈｃｐ構造であり、しかもα軸の最短原子間距離
はコバルトクロミウム合金薄１１１ｆ２．ｓ２オングス
トロームであるのに対し酸化ベリリウム薄膜のそれは２
．７オングストロームと非常に近い。従って酸化ベリリ
ウム薄膜形成の条件を制御することによシコバルトクロ
ミウム膜の上にエピタキシャル成長させることが可能で
ある。
第４図で示したコバルトクロミウム薄膜の結晶構造と全
く同じｈｃｐ構造であり、しかもα軸の最短原子間距離
はコバルトクロミウム合金薄１１１ｆ２．ｓ２オングス
トロームであるのに対し酸化ベリリウム薄膜のそれは２
．７オングストロームと非常に近い。従って酸化ベリリ
ウム薄膜形成の条件を制御することによシコバルトクロ
ミウム膜の上にエピタキシャル成長させることが可能で
ある。
即ち酸化ベリリウム薄膜がコバルトクロミウム薄膜表面
に対して垂直に配向する。その時の△θ５゜はコバルト
クロミウム薄膜のそれと同様の値をとる。この様な配向
性のある酸化ベリリウム薄膜ＢｅＯを形成することによ
シ耐摩耗性は良くなシ、配向性のない場合の倍以上の信
頼性を確保することができた。これらの酸化ぺＩＪ Ｉ
Ｊウム薄膜の形成６一 はイオンブレーティングやマグネトロンスパッタ等で行
なわれるが、配向性の良い膜はマグネトロンスパッタに
より得られた。記録媒体において小抗磁力磁性体膜はパ
ーマロイ以外の材質でも本発明の効果は変らず、全く小
抗磁力磁性薄膜のない場合においても同様である。以下
に実施例について本発明を説明する。
に対して垂直に配向する。その時の△θ５゜はコバルト
クロミウム薄膜のそれと同様の値をとる。この様な配向
性のある酸化ベリリウム薄膜ＢｅＯを形成することによ
シ耐摩耗性は良くなシ、配向性のない場合の倍以上の信
頼性を確保することができた。これらの酸化ぺＩＪ Ｉ
Ｊウム薄膜の形成６一 はイオンブレーティングやマグネトロンスパッタ等で行
なわれるが、配向性の良い膜はマグネトロンスパッタに
より得られた。記録媒体において小抗磁力磁性体膜はパ
ーマロイ以外の材質でも本発明の効果は変らず、全く小
抗磁力磁性薄膜のない場合においても同様である。以下
に実施例について本発明を説明する。
実施例１
５０ミクロン厚のＰＥＴ基板上にパーマロイ膜５０００
オングストローム、コバルトクロミウム合金膜６０００
オングストロームを形成し、更に酸化べＩＪ ＩＪウム
ターゲットの下に永久磁石を配したマグネトロンスパッ
タにより、アルゴン分圧３ｘ Ｉｌｌ”−３Ｔｏｒｒ、
酸素分圧２ Ｘ 、Ｈｌ−’Ｔｏｒｒにより酸化ベリリ
ウム薄膜を５００オングストローム形成した、酸化ベリ
リウム薄膜の△θ５ｏは５度であった。この記録媒体で
ヘッドを装着したところ通常１０万パス位で信号出力が
低下するところを２００万パスを越えても信号出力の低
下は認められなかった。
オングストローム、コバルトクロミウム合金膜６０００
オングストロームを形成し、更に酸化べＩＪ ＩＪウム
ターゲットの下に永久磁石を配したマグネトロンスパッ
タにより、アルゴン分圧３ｘ Ｉｌｌ”−３Ｔｏｒｒ、
酸素分圧２ Ｘ 、Ｈｌ−’Ｔｏｒｒにより酸化ベリリ
ウム薄膜を５００オングストローム形成した、酸化ベリ
リウム薄膜の△θ５ｏは５度であった。この記録媒体で
ヘッドを装着したところ通常１０万パス位で信号出力が
低下するところを２００万パスを越えても信号出力の低
下は認められなかった。
７−
第１図は従来の垂直磁化記録媒体を説明する図である。
第２図は主磁極と補助磁極を有する磁気ヘッドを説明す
る図である。第３図はコバルトクロミウム合金薄膜の結
晶構造を説明する図である。 第４図はロッキングカーブを説明する図である。 第５図は本発明を説明する図である。 １・・基板 ２・・パーマロイ膜 ３・・垂直磁化膜
４・・磁気記録媒体 ５・・主磁極 ６・・補助磁極
７・・円柱状微結晶 ８・・基板９・・酸化ベリリウム
薄膜 １０・・スライダー以 上 出願人 株式会社諏訪梢工舎 ８− 寥１畠 寥２已 →θ
る図である。第３図はコバルトクロミウム合金薄膜の結
晶構造を説明する図である。 第４図はロッキングカーブを説明する図である。 第５図は本発明を説明する図である。 １・・基板 ２・・パーマロイ膜 ３・・垂直磁化膜
４・・磁気記録媒体 ５・・主磁極 ６・・補助磁極
７・・円柱状微結晶 ８・・基板９・・酸化ベリリウム
薄膜 １０・・スライダー以 上 出願人 株式会社諏訪梢工舎 ８− 寥１畠 寥２已 →θ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｉｌｌ コバルトとクロミウムの合金を主体とする薄
膜磁気記録媒体において該コバルトクロミウム薄膜の表
面に酸化べＩＪ ＩＪウム薄膜を形成したことを特徴と
する磁気記録媒体。 Ｃ２１酸化ベリリウム薄膜の結晶のＣ軸方向がコバルト
クロミウム合金薄膜表面に対し垂直に配向していること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57012734A JPS58130438A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57012734A JPS58130438A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58130438A true JPS58130438A (ja) | 1983-08-03 |
Family
ID=11813661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57012734A Pending JPS58130438A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58130438A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4729924A (en) * | 1984-12-21 | 1988-03-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Metallic thin film magnetic recording medium having a hard protective layer |
| US4803130A (en) * | 1984-12-21 | 1989-02-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Reactive sputtering process for recording media |
-
1982
- 1982-01-29 JP JP57012734A patent/JPS58130438A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4729924A (en) * | 1984-12-21 | 1988-03-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Metallic thin film magnetic recording medium having a hard protective layer |
| US4803130A (en) * | 1984-12-21 | 1989-02-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Reactive sputtering process for recording media |
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