JPH1195180A - 液晶電気光学装置の製造方法 - Google Patents
液晶電気光学装置の製造方法Info
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- JPH1195180A JPH1195180A JP25091797A JP25091797A JPH1195180A JP H1195180 A JPH1195180 A JP H1195180A JP 25091797 A JP25091797 A JP 25091797A JP 25091797 A JP25091797 A JP 25091797A JP H1195180 A JPH1195180 A JP H1195180A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶電気光学装置の製造方法において、微細
な塵埃や強固に付着した塵埃を容易かつ確実に除去する
ことが可能であり、液晶電気光学装置の品位や歩留まり
を向上させることができる新規の製造方法を提供する。 【解決手段】 ラビング処理を施した配向膜１１の表面
上をレジスト層１３で被覆し、レジスト層１３を硬化さ
せた後、所定のリンス液にてレジスト層１３を除去す
る。配向膜１１の表面上にはラビング時において発生し
た多数の塵埃１２が存在するが、レジスト層１３を除去
すると同時に塵埃１２も除去される。
な塵埃や強固に付着した塵埃を容易かつ確実に除去する
ことが可能であり、液晶電気光学装置の品位や歩留まり
を向上させることができる新規の製造方法を提供する。 【解決手段】 ラビング処理を施した配向膜１１の表面
上をレジスト層１３で被覆し、レジスト層１３を硬化さ
せた後、所定のリンス液にてレジスト層１３を除去す
る。配向膜１１の表面上にはラビング時において発生し
た多数の塵埃１２が存在するが、レジスト層１３を除去
すると同時に塵埃１２も除去される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶電気光学装置の
製造方法に係り、特に、基板表面にラビング処理を施す
工程を備えた製造方法の改良に関する。
製造方法に係り、特に、基板表面にラビング処理を施す
工程を備えた製造方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示装置その他の液晶電気光
学装置の製造方法においては、２枚の基板の内面上にそ
れぞれ透明電極を形成し、さらにこの透明電極の上に樹
脂製の配向膜を形成して、この配向膜に対してラビング
処理を施す場合がある。このラビング処理は、２枚の基
板間に挟持される液晶層内の液晶分子の配向方向を所定
の方向に揃えるために行われるものである。
学装置の製造方法においては、２枚の基板の内面上にそ
れぞれ透明電極を形成し、さらにこの透明電極の上に樹
脂製の配向膜を形成して、この配向膜に対してラビング
処理を施す場合がある。このラビング処理は、２枚の基
板間に挟持される液晶層内の液晶分子の配向方向を所定
の方向に揃えるために行われるものである。
【０００３】このラビング処理は、通常、配向膜の表面
上を布等によって所定の方向に擦ることによってなされ
る。例えば、ナイロン製のラビング布を周面に貼着した
ラビングローラを回転させながら、基板表面を擦ってい
くことによって、配向膜の表面にほぼ均一な所定方向に
伸びる細かな傷を形成し、液晶分子をこの傷の方向に均
一に配向させる。
上を布等によって所定の方向に擦ることによってなされ
る。例えば、ナイロン製のラビング布を周面に貼着した
ラビングローラを回転させながら、基板表面を擦ってい
くことによって、配向膜の表面にほぼ均一な所定方向に
伸びる細かな傷を形成し、液晶分子をこの傷の方向に均
一に配向させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記ラビン
グ処理を行うと、基板表面には配向膜やラビング布から
発生した細かな塵埃が多数付着する。このため、ラビン
グ処理を行った後には、基板表面を純水、イソプロピル
アルコール等によって洗浄する必要がある。これらの塵
埃が基板表面に残留したまま次工程に進むと、液晶分子
の配向方向に乱れやばらつきが発生し、特に液晶表示装
置においては表示不良や表示ムラが生じて表示品位が低
下するからである。
グ処理を行うと、基板表面には配向膜やラビング布から
発生した細かな塵埃が多数付着する。このため、ラビン
グ処理を行った後には、基板表面を純水、イソプロピル
アルコール等によって洗浄する必要がある。これらの塵
埃が基板表面に残留したまま次工程に進むと、液晶分子
の配向方向に乱れやばらつきが発生し、特に液晶表示装
置においては表示不良や表示ムラが生じて表示品位が低
下するからである。
【０００５】しかしながら、上記のような洗浄工程を行
っても、基板表面に付着した微細な塵埃や強固に付着し
た塵埃を除去することは困難であり、このために、従来
においては、表示品位を向上させたり、製品の歩留まり
を高めることが難しいという問題点がある。
っても、基板表面に付着した微細な塵埃や強固に付着し
た塵埃を除去することは困難であり、このために、従来
においては、表示品位を向上させたり、製品の歩留まり
を高めることが難しいという問題点がある。
【０００６】そこで、本発明は上記問題点を解決するも
のであり、その課題は、液晶電気光学装置の製造方法に
おいて、微細な塵埃や強固に付着した塵埃を容易かつ確
実に除去することが可能であり、液晶電気光学装置の品
位や歩留まりを向上させることができる新規の製造方法
を提供することにある。
のであり、その課題は、液晶電気光学装置の製造方法に
おいて、微細な塵埃や強固に付着した塵埃を容易かつ確
実に除去することが可能であり、液晶電気光学装置の品
位や歩留まりを向上させることができる新規の製造方法
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が講じた手段は、第１の基板の表面にラビング
処理を施し、該第１の基板と第２の基板との間に液晶層
を挟持した状態に構成する液晶電気光学装置の製造方法
において、前記第１の基板の表面にラビング処理を施し
た後に、前記第１の基板の表面のうち少なくとも装置の
機能上必要な表面領域をレジスト層で被覆し、その後、
該レジスト層を除去することを特徴とする。
に本発明が講じた手段は、第１の基板の表面にラビング
処理を施し、該第１の基板と第２の基板との間に液晶層
を挟持した状態に構成する液晶電気光学装置の製造方法
において、前記第１の基板の表面にラビング処理を施し
た後に、前記第１の基板の表面のうち少なくとも装置の
機能上必要な表面領域をレジスト層で被覆し、その後、
該レジスト層を除去することを特徴とする。
【０００８】この手段によれば、レジスト層で被覆した
後、このレジスト層を除去することによって、第１の基
板の表面に堆積したり、付着したりしている、ラビング
時に発生した塵埃を容易に除去することができ、特に、
従来除去困難であった微細な塵埃や強固に付着した塵埃
をも効果的に除去することができる。
後、このレジスト層を除去することによって、第１の基
板の表面に堆積したり、付着したりしている、ラビング
時に発生した塵埃を容易に除去することができ、特に、
従来除去困難であった微細な塵埃や強固に付着した塵埃
をも効果的に除去することができる。
【０００９】ここで、被覆させた前記レジスト層を硬化
させた後に除去することが好ましい。レジスト層の硬化
によって、レジスト層と基板表面上の塵埃との密着性を
高めることができるため、より確実に塵埃を除去するこ
とができる。
させた後に除去することが好ましい。レジスト層の硬化
によって、レジスト層と基板表面上の塵埃との密着性を
高めることができるため、より確実に塵埃を除去するこ
とができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る実施形態について説明する。図１は本発明に係る
液晶電気光学装置の実施形態を示す概略工程図である。
この実施形態は液晶表示装置の製造方法に適用したもの
であり、特に、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等を備えた
アクティブマトリクス型の液晶表示装置の製造工程に用
いるためのものである。
に係る実施形態について説明する。図１は本発明に係る
液晶電気光学装置の実施形態を示す概略工程図である。
この実施形態は液晶表示装置の製造方法に適用したもの
であり、特に、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等を備えた
アクティブマトリクス型の液晶表示装置の製造工程に用
いるためのものである。
【００１１】無アルカリガラス等からなるガラス基板１
０の表面上には、図示はしていないが、必要に応じて、
アクティブ素子（上記ＴＦＴなど）や配線、透明電極、
カラーフィルタ等を形成し、その上の表示領域に配向膜
１１を形成する。この配向膜１１は、例えばポリイミ
ド、ポリビニルアルコール等の樹脂を塗布し、所定の条
件で硬化させたものである。
０の表面上には、図示はしていないが、必要に応じて、
アクティブ素子（上記ＴＦＴなど）や配線、透明電極、
カラーフィルタ等を形成し、その上の表示領域に配向膜
１１を形成する。この配向膜１１は、例えばポリイミ
ド、ポリビニルアルコール等の樹脂を塗布し、所定の条
件で硬化させたものである。
【００１２】この状態で、図１（ａ）に示すように、ガ
ラス基板１０の配向膜１１が形成された表面にラビング
処理を施す。このラビング処理は、例えば、ラビングロ
ーラ２０の周面にナイロン等の繊維によって織られたラ
ビング布２１を貼着し、ラビングローラ２０をガラス基
板１０の表面に対して所定の圧力になるように押し付け
ながら回転させる。
ラス基板１０の配向膜１１が形成された表面にラビング
処理を施す。このラビング処理は、例えば、ラビングロ
ーラ２０の周面にナイロン等の繊維によって織られたラ
ビング布２１を貼着し、ラビングローラ２０をガラス基
板１０の表面に対して所定の圧力になるように押し付け
ながら回転させる。
【００１３】ガラス基板１０は、図示しない搬送装置に
より図示左側から右側に向けて送られるようになってお
り、その結果、ガラス基板１０の表面上の配向膜１１は
順次ラビング布２１によって擦られる。ラビングローラ
２０の印加圧力、ラビングローラ２０の回転数及びガラ
ス基板１０の搬送速度は、工程によるラビング状態を勘
案して適宜の条件に設定される。
より図示左側から右側に向けて送られるようになってお
り、その結果、ガラス基板１０の表面上の配向膜１１は
順次ラビング布２１によって擦られる。ラビングローラ
２０の印加圧力、ラビングローラ２０の回転数及びガラ
ス基板１０の搬送速度は、工程によるラビング状態を勘
案して適宜の条件に設定される。
【００１４】ラビングローラ２０のラビング布２１によ
ってガラス基板１０上の配向膜１１が擦られることによ
って、削り取られた微細な配向膜１１の破片やラビング
布２１の毛等が細かな塵埃として発生する。これらの塵
埃は、配向膜１１やラビング布２１の表面上に堆積した
り、付着し、或いは空中に舞い上がる。したがって、ラ
ビング工程を経たガラス基板１０の表面上には無数の塵
埃１２が堆積又は付着している。
ってガラス基板１０上の配向膜１１が擦られることによ
って、削り取られた微細な配向膜１１の破片やラビング
布２１の毛等が細かな塵埃として発生する。これらの塵
埃は、配向膜１１やラビング布２１の表面上に堆積した
り、付着し、或いは空中に舞い上がる。したがって、ラ
ビング工程を経たガラス基板１０の表面上には無数の塵
埃１２が堆積又は付着している。
【００１５】次に、図１（ｂ）に示すように、配向膜１
１の表面上、特に、液晶表示装置の表示領域となる部分
などのように、少なくとも液晶電気光学装置における装
置機能上必要な領域上に全面的に感光性のレジスト（ポ
ジレジスト）層１３を塗布し、配向膜１１を被覆する。
このレジスト層１３は配向膜１１のラビング状態に影響
を与えにくいもの、好ましくは影響を与えないもの、す
なわち、液晶分子に対する配向規制力を損なわないもの
を適宜選定して用いる。
１の表面上、特に、液晶表示装置の表示領域となる部分
などのように、少なくとも液晶電気光学装置における装
置機能上必要な領域上に全面的に感光性のレジスト（ポ
ジレジスト）層１３を塗布し、配向膜１１を被覆する。
このレジスト層１３は配向膜１１のラビング状態に影響
を与えにくいもの、好ましくは影響を与えないもの、す
なわち、液晶分子に対する配向規制力を損なわないもの
を適宜選定して用いる。
【００１６】レジスト層１３の例としては、配向膜１１
のラビング状態に重大な影響を与えない公知の種々の樹
脂製のレジスト材料を用いることができるが、上記のよ
うな配向規制力を損なわないものが特に好ましい。特
に、配向膜１１が上記のような材質で形成される場合に
は、配向膜１１の膜質やラビング状態に影響を与えにく
い後述するアルコール系のリンス液で除去できるものが
好ましく、例えば、日本合成ゴム社製のＪＡＬＳ３８１
−ＲＱ等がある。
のラビング状態に重大な影響を与えない公知の種々の樹
脂製のレジスト材料を用いることができるが、上記のよ
うな配向規制力を損なわないものが特に好ましい。特
に、配向膜１１が上記のような材質で形成される場合に
は、配向膜１１の膜質やラビング状態に影響を与えにく
い後述するアルコール系のリンス液で除去できるものが
好ましく、例えば、日本合成ゴム社製のＪＡＬＳ３８１
−ＲＱ等がある。
【００１７】この後、上記レジスト層１３を露光して硬
化させ、しかる後に、図１（ｃ）に示すように所定のリ
ンス液にて除去する。このリンス液は上記のように配向
膜１１自体やそのラビング状態に影響を与えにくい組成
のものが選定される。例えば、上記例示されたレジスト
層に対して使用できるリンス液としては、アルコール系
のＬＳ１００１レジストシンナー（日本合成ゴム社製）
等がある。
化させ、しかる後に、図１（ｃ）に示すように所定のリ
ンス液にて除去する。このリンス液は上記のように配向
膜１１自体やそのラビング状態に影響を与えにくい組成
のものが選定される。例えば、上記例示されたレジスト
層に対して使用できるリンス液としては、アルコール系
のＬＳ１００１レジストシンナー（日本合成ゴム社製）
等がある。
【００１８】上記リンス液によってレジスト層１３は除
去されるが、そのとき、配向膜１１の表面に堆積或いは
付着していた塵埃１２は、レジスト層１３に密着してい
るため、レジスト層１３の除去の際に共に除去される。
この結果、従来除去困難であった微細な塵埃や強固に付
着していた塵埃も取り易くなり、配向膜１１の表面を清
浄にすることができる。
去されるが、そのとき、配向膜１１の表面に堆積或いは
付着していた塵埃１２は、レジスト層１３に密着してい
るため、レジスト層１３の除去の際に共に除去される。
この結果、従来除去困難であった微細な塵埃や強固に付
着していた塵埃も取り易くなり、配向膜１１の表面を清
浄にすることができる。
【００１９】上記実施形態では、フォトレジストを用い
て塵埃を除去しているが、フォトレジスト以外の他の硬
化特性、例えば熱硬化性を備えたものを用いてもよい。
この場合、特に、意図的に硬化させなくても充分な塵埃
との密着性を得られるものであれば、ことさら硬化工程
を設ける必要はない。
て塵埃を除去しているが、フォトレジスト以外の他の硬
化特性、例えば熱硬化性を備えたものを用いてもよい。
この場合、特に、意図的に硬化させなくても充分な塵埃
との密着性を得られるものであれば、ことさら硬化工程
を設ける必要はない。
【００２０】また、ラビング処理は上記のような配向膜
に対して施されるとは限らず、例えばガラス基板１０の
表面に直接施される場合も考えられる。本実施形態はこ
のような場合にも有効である。
に対して施されるとは限らず、例えばガラス基板１０の
表面に直接施される場合も考えられる。本実施形態はこ
のような場合にも有効である。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば以下
の効果を奏する。
の効果を奏する。
【００２２】請求項１によれば、レジスト層で被覆した
後、このレジスト層を除去することによって、第１の基
板の表面に堆積したり、付着したりしている、ラビング
時に発生した塵埃を容易に除去することができ、特に、
従来除去困難であった微細な塵埃や強固に付着した塵埃
をも効果的に除去することができる。
後、このレジスト層を除去することによって、第１の基
板の表面に堆積したり、付着したりしている、ラビング
時に発生した塵埃を容易に除去することができ、特に、
従来除去困難であった微細な塵埃や強固に付着した塵埃
をも効果的に除去することができる。
【００２３】請求項２によれば、レジスト層の硬化によ
って、レジスト層と基板表面上の塵埃との密着性を高め
ることができるため、より確実に塵埃を除去することが
できる。
って、レジスト層と基板表面上の塵埃との密着性を高め
ることができるため、より確実に塵埃を除去することが
できる。
【図１】本発明に係る実施形態の製造工程を示す概略工
程図（ａ）〜（ｃ）である。
程図（ａ）〜（ｃ）である。
１０ ガラス基板 １１ 配向膜 １２ 塵埃 １３ レジスト層
Claims (2)
- 【請求項１】 第１の基板の表面にラビング処理を施
し、該第１の基板と第２の基板との間に液晶層を挟持し
た状態に構成する液晶電気光学装置の製造方法におい
て、 前記第１の基板の表面にラビング処理を施した後に、前
記第１の基板の表面のうち少なくとも装置の機能上必要
な表面領域をレジスト層で被覆し、その後、該レジスト
層を除去することを特徴とする液晶電気光学装置の製造
方法。 - 【請求項２】 請求項１において、被覆させた前記レジ
スト層を硬化させた後に除去することを特徴とする液晶
電気光学装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25091797A JPH1195180A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | 液晶電気光学装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25091797A JPH1195180A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | 液晶電気光学装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1195180A true JPH1195180A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17214950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25091797A Withdrawn JPH1195180A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | 液晶電気光学装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1195180A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102819145A (zh) * | 2012-08-22 | 2012-12-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶面板的制作方法 |
| US20140057518A1 (en) * | 2012-08-22 | 2014-02-27 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Manufacturing method of liquid crystal panel |
-
1997
- 1997-09-16 JP JP25091797A patent/JPH1195180A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102819145A (zh) * | 2012-08-22 | 2012-12-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶面板的制作方法 |
| US20140057518A1 (en) * | 2012-08-22 | 2014-02-27 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Manufacturing method of liquid crystal panel |
| WO2014029116A1 (zh) * | 2012-08-22 | 2014-02-27 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶面板的制作方法 |
| US9229255B2 (en) * | 2012-08-22 | 2016-01-05 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Manufacturing method of liquid crystal panel |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041207 |