JPH11101970A - 基板洗浄方法 - Google Patents
基板洗浄方法Info
- Publication number
- JPH11101970A JPH11101970A JP26367797A JP26367797A JPH11101970A JP H11101970 A JPH11101970 A JP H11101970A JP 26367797 A JP26367797 A JP 26367797A JP 26367797 A JP26367797 A JP 26367797A JP H11101970 A JPH11101970 A JP H11101970A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- foreign matter
- cleaning
- film
- matter removing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の異物を完全に除去し、配向処理品の歩
留りを向上させるとともに、洗浄時間の短縮と洗浄設備
費の低減をすることができる基板洗浄方法を提供する。 【解決手段】 シール材を介して貼り合わされる２枚の
透明性基板からなる液晶パネルの製造工程における、前
記透光性基板に配向膜を転写する配向膜転写処理前の基
板洗浄方法であって、前記透光性基板２に異物除去膜３
を塗布する工程と、該異物除去膜３を乾燥させる工程
と、該異物除去膜３とともに前記透光性基板２に付着し
ている異物１を除去する工程を含んでいる。
留りを向上させるとともに、洗浄時間の短縮と洗浄設備
費の低減をすることができる基板洗浄方法を提供する。 【解決手段】 シール材を介して貼り合わされる２枚の
透明性基板からなる液晶パネルの製造工程における、前
記透光性基板に配向膜を転写する配向膜転写処理前の基
板洗浄方法であって、前記透光性基板２に異物除去膜３
を塗布する工程と、該異物除去膜３を乾燥させる工程
と、該異物除去膜３とともに前記透光性基板２に付着し
ている異物１を除去する工程を含んでいる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は基板洗浄方法に関す
る。さらに詳しくは、液晶パネルの製造工程における配
向膜転写処理前に、透光性基板に付着している異物を除
去する基板洗浄方法に関する。
る。さらに詳しくは、液晶パネルの製造工程における配
向膜転写処理前に、透光性基板に付着している異物を除
去する基板洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子の製造工程は、たとえばガ
ラス基板を製造し、表面加工するガラス基板工程と、画
素の１つ１つに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のパターン
をガラス基板に形成するパターン形成工程と、カラー化
を実現させるためのカラーフィルタを他のガラス基板に
形成するカラーフィルタ形成工程と、両基板に配向処理
したのち、一定の間隔をあけて対向させ、シール材で貼
り合わせた液晶パネルに液晶を注入して組立てるパネル
（セル）組立工程と、駆動部品やバックライトなどを取
り付けるモジュール組立工程からなる。
ラス基板を製造し、表面加工するガラス基板工程と、画
素の１つ１つに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のパターン
をガラス基板に形成するパターン形成工程と、カラー化
を実現させるためのカラーフィルタを他のガラス基板に
形成するカラーフィルタ形成工程と、両基板に配向処理
したのち、一定の間隔をあけて対向させ、シール材で貼
り合わせた液晶パネルに液晶を注入して組立てるパネル
（セル）組立工程と、駆動部品やバックライトなどを取
り付けるモジュール組立工程からなる。
【０００３】前記液晶パネルの製造工程において、配向
膜はガラス基板上に均一に塗布（転写）する必要がある
ため、塗布（転写）前にガラス基板上の異物を充分に除
去しなければならない。かかるガラス基板上に付着した
異物の除去は、従来では、赤外線（ＩＲ）洗浄、紫外線
（ＵＶ）洗浄のドライ洗浄や、ブラシを用いるスクラブ
洗浄や、ウルトラソニック（ＵＳ）洗浄、キャビテーシ
ョンジェット（ＣＪ）洗浄、メガソニック（ＭＳ）洗
浄、洗剤などの水洗浄を組み合わせて行なわれている。
膜はガラス基板上に均一に塗布（転写）する必要がある
ため、塗布（転写）前にガラス基板上の異物を充分に除
去しなければならない。かかるガラス基板上に付着した
異物の除去は、従来では、赤外線（ＩＲ）洗浄、紫外線
（ＵＶ）洗浄のドライ洗浄や、ブラシを用いるスクラブ
洗浄や、ウルトラソニック（ＵＳ）洗浄、キャビテーシ
ョンジェット（ＣＪ）洗浄、メガソニック（ＭＳ）洗
浄、洗剤などの水洗浄を組み合わせて行なわれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
配向膜転写前の異物除去方法では、完全に異物を除去す
ることができず、配向膜を基板上に均一に塗布（転写）
できない部分ができ、製品の歩留りを下げるという問題
がある。また、基板洗浄ラインは前記洗浄操作を組み合
わせるため、洗浄時間と洗浄設備のコストが掛かり過ぎ
るという問題がある。
配向膜転写前の異物除去方法では、完全に異物を除去す
ることができず、配向膜を基板上に均一に塗布（転写）
できない部分ができ、製品の歩留りを下げるという問題
がある。また、基板洗浄ラインは前記洗浄操作を組み合
わせるため、洗浄時間と洗浄設備のコストが掛かり過ぎ
るという問題がある。
【０００５】本発明は、叙上の事情に鑑み、基板の異物
を完全に除去し、配向処理品の歩留りを向上させるとと
もに、洗浄時間の短縮と洗浄設備費の低減をすることが
できる基板洗浄方法を提供することを目的とする。
を完全に除去し、配向処理品の歩留りを向上させるとと
もに、洗浄時間の短縮と洗浄設備費の低減をすることが
できる基板洗浄方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の基板洗浄方法
は、シール材を介して貼り合わされる２枚の透明性基板
からなる液晶パネルの製造工程における、前記透光性基
板に配向膜を転写する配向膜転写処理前の基板洗浄方法
であって、前記透光性基板に異物除去膜を塗布する工程
と、該異物除去膜を乾燥させる工程と、該異物除去膜と
ともに前記透光性基板に付着している異物を除去する工
程を含むことを特徴としている。
は、シール材を介して貼り合わされる２枚の透明性基板
からなる液晶パネルの製造工程における、前記透光性基
板に配向膜を転写する配向膜転写処理前の基板洗浄方法
であって、前記透光性基板に異物除去膜を塗布する工程
と、該異物除去膜を乾燥させる工程と、該異物除去膜と
ともに前記透光性基板に付着している異物を除去する工
程を含むことを特徴としている。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて、本発
明の基板洗浄方法を説明する。
明の基板洗浄方法を説明する。
【０００８】図１は本発明の基板洗浄方法の一実施の形
態を示す説明図である。
態を示す説明図である。
【０００９】本発明にかかわる液晶パネルは、たとえば
透光性のガラス基板にＴＦＴが形成されたアレイ基板
と、透光性のガラス基板にカラーフィルターが形成され
たカラーフィルター基板とを向き合わせたのち、シール
材を介して貼り合わせられたものである。
透光性のガラス基板にＴＦＴが形成されたアレイ基板
と、透光性のガラス基板にカラーフィルターが形成され
たカラーフィルター基板とを向き合わせたのち、シール
材を介して貼り合わせられたものである。
【００１０】前記液晶パネルに用いられているアレイ基
板およびカラーフィルター基板（以下単に基板という）
には、該基板の製造中に付着した異物を除去したのち、
配向膜が形成される。
板およびカラーフィルター基板（以下単に基板という）
には、該基板の製造中に付着した異物を除去したのち、
配向膜が形成される。
【００１１】本実施の形態では、前記異物の除去とし
て、まず図１（ａ）〜（ｂ）に示すように、異物１が付
着する基板２上に水溶性有機高分子膜からなる異物除去
膜３を数μｍ程度の厚さにロール式転写装置（図示せ
ず）により塗布する。かかる水溶性有機高分子膜とは、
水で処理することにより膜を除去できる高分子であっ
て、たとえばポリビニルアルコールまたはポリビニルブ
チラールなどを用いることができるが、安価で低温乾燥
ができ、簡単に剥離除去できるポリビニルアルコールを
用いるのが好ましい。
て、まず図１（ａ）〜（ｂ）に示すように、異物１が付
着する基板２上に水溶性有機高分子膜からなる異物除去
膜３を数μｍ程度の厚さにロール式転写装置（図示せ
ず）により塗布する。かかる水溶性有機高分子膜とは、
水で処理することにより膜を除去できる高分子であっ
て、たとえばポリビニルアルコールまたはポリビニルブ
チラールなどを用いることができるが、安価で低温乾燥
ができ、簡単に剥離除去できるポリビニルアルコールを
用いるのが好ましい。
【００１２】ついで前記基板２を乾燥機（図示せず）に
載置し、異物除去膜３を、たとえば温度５０℃で４０秒
程度乾燥させ、異物との密着力を上げる。
載置し、異物除去膜３を、たとえば温度５０℃で４０秒
程度乾燥させ、異物との密着力を上げる。
【００１３】つぎに前記異物除去膜３が、ポリビニルア
ルコールから形成されているばあい、図１（ｃ）に示す
ように、該膜３を温水洗浄で剥離除去する。これによ
り、異物は異物除去膜とともに基板２から除去される。
ルコールから形成されているばあい、図１（ｃ）に示す
ように、該膜３を温水洗浄で剥離除去する。これによ
り、異物は異物除去膜とともに基板２から除去される。
【００１４】このように、基板２が洗浄されたのち、該
基板２を回転乾燥させてから、配向膜が転写される。
基板２を回転乾燥させてから、配向膜が転写される。
【００１５】なお、本実施の形態では、異物除去膜が水
溶性有機高分子膜で形成されているが、本発明において
は、これに限定されるものではなく、有機溶剤により溶
解する性質を有する非水溶性有機高分子膜、たとえばポ
リイミド、ノボラック樹脂またはエポキシ樹脂などで形
成することもできる。異物除去膜として、ポリイミドを
用いるばあい、剥離剤の溶剤として、Ｎ−メチルピロリ
ドンなどを用いることができる。
溶性有機高分子膜で形成されているが、本発明において
は、これに限定されるものではなく、有機溶剤により溶
解する性質を有する非水溶性有機高分子膜、たとえばポ
リイミド、ノボラック樹脂またはエポキシ樹脂などで形
成することもできる。異物除去膜として、ポリイミドを
用いるばあい、剥離剤の溶剤として、Ｎ−メチルピロリ
ドンなどを用いることができる。
【００１６】また基板に異物除去膜を塗布する前に、該
基板を通常のドライ洗浄または水洗浄の前洗浄を行なう
ことにより、大きな異物を予め除去することができるた
め、異物除去膜による洗浄をさらに効率よく行なうこと
ができる。
基板を通常のドライ洗浄または水洗浄の前洗浄を行なう
ことにより、大きな異物を予め除去することができるた
め、異物除去膜による洗浄をさらに効率よく行なうこと
ができる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
基板上に形成された異物除去膜と該膜の剥離剤のみで基
板上の異物を洗浄できるため、非常に安価に基板洗浄を
行なうことができる。したがって、配向膜転写処理にお
ける製品の歩留りを向上させることができる。
基板上に形成された異物除去膜と該膜の剥離剤のみで基
板上の異物を洗浄できるため、非常に安価に基板洗浄を
行なうことができる。したがって、配向膜転写処理にお
ける製品の歩留りを向上させることができる。
【００１８】また従来の洗浄よりも洗浄時間を短縮でき
るとともに、洗浄設備費を低減することができる。
るとともに、洗浄設備費を低減することができる。
【図１】本発明の基板洗浄方法の一実施の形態を示す説
明図である。
明図である。
１ 異物 ２ 基板（透光性基板） ３ 異物除去膜
Claims (6)
- 【請求項１】 シール材を介して貼り合わされる２枚の
透明性基板からなる液晶パネルの製造工程における、前
記透光性基板に配向膜を転写する配向膜転写処理前の基
板洗浄方法であって、前記透光性基板に異物除去膜を塗
布する工程と、該異物除去膜を乾燥させる工程と、該異
物除去膜とともに前記透光性基板に付着している異物を
除去する工程を含む基板洗浄方法。 - 【請求項２】 前記異物除去膜が水溶性有機高分子膜か
らなる請求項１記載の基板洗浄方法。 - 【請求項３】 前記水溶性有機高分子膜がポリビニルア
ルコールである請求項２記載の基板洗浄方法。 - 【請求項４】 前記異物除去膜が非水溶性有機高分子膜
からなる請求項１記載の基板洗浄方法。 - 【請求項５】 前記非水溶性有機高分子膜がポリイミド
である請求項４記載の基板洗浄方法。 - 【請求項６】 前記透光性基板に異物除去膜を塗布する
前に、該透光性基板をドライ洗浄または水洗浄する工程
を含む請求項１、２、３、４または５記載の基板洗浄方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26367797A JPH11101970A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26367797A JPH11101970A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 基板洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11101970A true JPH11101970A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=17392819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26367797A Pending JPH11101970A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 基板洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11101970A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003131199A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-08 | Kyodo Printing Co Ltd | 液晶表示装置用の基材、液晶表示装置の電極基材の製造方法及び液晶表示装置の製造方法 |
| JP2012174775A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Fujitsu Ltd | 化合物半導体装置の製造方法及び洗浄剤 |
| JP2015008177A (ja) * | 2013-06-24 | 2015-01-15 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP2015046442A (ja) * | 2013-08-27 | 2015-03-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、基板処理システムおよび記憶媒体 |
| WO2017056746A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | Jsr株式会社 | 半導体基板洗浄用膜形成組成物及び半導体基板の洗浄方法 |
| JP2018110220A (ja) * | 2017-01-05 | 2018-07-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
| WO2018128093A1 (ja) * | 2017-01-05 | 2018-07-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
| WO2019230404A1 (ja) * | 2018-05-31 | 2019-12-05 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
| KR20190136979A (ko) * | 2018-05-31 | 2019-12-10 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
| KR20200096465A (ko) * | 2018-05-31 | 2020-08-12 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
-
1997
- 1997-09-29 JP JP26367797A patent/JPH11101970A/ja active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003131199A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-08 | Kyodo Printing Co Ltd | 液晶表示装置用の基材、液晶表示装置の電極基材の製造方法及び液晶表示装置の製造方法 |
| JP2012174775A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Fujitsu Ltd | 化合物半導体装置の製造方法及び洗浄剤 |
| US8940622B2 (en) | 2011-02-18 | 2015-01-27 | Fujitsu Limited | Method for manufacturing compound semiconductor device and detergent |
| JP2015008177A (ja) * | 2013-06-24 | 2015-01-15 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP2015046442A (ja) * | 2013-08-27 | 2015-03-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、基板処理システムおよび記憶媒体 |
| WO2017056746A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | Jsr株式会社 | 半導体基板洗浄用膜形成組成物及び半導体基板の洗浄方法 |
| US11413662B2 (en) | 2017-01-05 | 2022-08-16 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method |
| JP2018110220A (ja) * | 2017-01-05 | 2018-07-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
| WO2018128093A1 (ja) * | 2017-01-05 | 2018-07-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
| US11919051B2 (en) | 2017-01-05 | 2024-03-05 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method |
| TWI682455B (zh) * | 2017-01-05 | 2020-01-11 | 日商斯庫林集團股份有限公司 | 基板洗淨裝置及基板洗淨方法 |
| WO2019230404A1 (ja) * | 2018-05-31 | 2019-12-05 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
| KR20210020062A (ko) * | 2018-05-31 | 2021-02-23 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
| US11211241B2 (en) | 2018-05-31 | 2021-12-28 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| US11260431B2 (en) | 2018-05-31 | 2022-03-01 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| KR20200096465A (ko) * | 2018-05-31 | 2020-08-12 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
| US11901173B2 (en) | 2018-05-31 | 2024-02-13 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method |
| KR20190136979A (ko) * | 2018-05-31 | 2019-12-10 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11101970A (ja) | 基板洗浄方法 | |
| KR101117987B1 (ko) | 평판표시소자의 제조장치 및 방법 | |
| JP2008212862A (ja) | パネルの洗浄方法及び洗浄装置、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
| JP2007047351A (ja) | 液晶パネルの洗浄装置、及び液晶装置の製造方法 | |
| KR20080051922A (ko) | 박막 패턴의 제조장치 및 방법 | |
| JP2005238109A (ja) | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法 | |
| JP2002072176A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2007047353A (ja) | 電気光学装置の製造方法、及び電気光学パネルの洗浄装置 | |
| JP3777977B2 (ja) | 液晶装置用異物除去方法 | |
| KR100687929B1 (ko) | 편광필름부착방법 | |
| KR100760931B1 (ko) | 액정패널의 제조방법 | |
| JP3272801B2 (ja) | 液晶パネル用基板の製造方法 | |
| JPH0534652A (ja) | 液晶表示素子製造方法 | |
| JP2002214576A (ja) | 液晶基板の洗浄方法 | |
| US6625836B1 (en) | Apparatus and method for cleaning substrate | |
| KR101184063B1 (ko) | 액정표시패널의 제조장치 | |
| CN114283686B (zh) | 显示面板的制作方法 | |
| KR101008679B1 (ko) | 기판 세정 방법 | |
| JP4200740B2 (ja) | 液晶表示装置における基板の洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JPH1195180A (ja) | 液晶電気光学装置の製造方法 | |
| KR101134164B1 (ko) | 평판표시소자의 제조장치 및 그 제조방법 | |
| JP2002023127A (ja) | 液晶装置用異物除去装置及びその方法 | |
| KR20070009832A (ko) | 액정표시장치 및 이의 제조방법 및 평판표시장치 | |
| KR101192774B1 (ko) | 평판표시소자용 소프트 몰드의 제조방법 | |
| JPH052167A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 |