JPH1173115A - プラズマディスプレイ用前面多層パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 良好な透過性能と、電磁波の遮蔽性と、さら
に近赤外線領域における高いな遮蔽性を備えたプラズマ
ディスプレイ用前面ガラスパネルを提供する。 【解決手段】 透明ガラス板１０の一方の表面にＩＴＯ
膜２０が被覆された積層体からなる電磁遮蔽性ガラス板
１００と、透明な高分子樹脂ベースフィルム５０に近赤
外線吸収能力を有する色素を分散させた吸収層６０を積
層した近赤外線吸収フィルム板２００とを張り合わせ、
可視光線透過率が５５％以上で、波長９００ｎｍにおけ
る赤外線透過率が１５％以下であることを特徴とするプ
ラズマディスプレイ用前面多層パネルを得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、可視光領域で高い
透明性を有し、近赤外線領域を効率的に遮蔽し、かつ、
電磁波を反射するプラズマディスプレイ用前面多層パネ
ルに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、陰極線管（ＣＲＴ）を利用したテ
レビジョンやディスプレイの表面における反射を防止
し、かつ、その表面から輻射される人体に有害な電波を
遮蔽する導電性反射防止膜は、例えば、特開昭６３−２
６６４０１号公報により知られている。この導電性反射
防止膜では、透明基板の表面に導電性を有する複数の膜
を被覆することにより形成されている。

【０００３】また、文献「ニューセラミックス（１９９
２）No.12 P37-」や「S.-J. Jiangand Granqvist: SPIE
Vol.562 Optical Materials Technology for Energy E
fficiency and Solar Energy Conversion IV （1985）P
125-」によれば、透明なガラス基板上に導電性のＩＴＯ
膜を積層した構造が示され、このＩＴＯ膜の可視光に対
する高い透過性能と近赤外線に対する遮蔽性能に関して
記述されている。

【０００４】さらに、特開平８−１０４５４７号公報に
は、透明ガラス基板上に金属Ａgの薄層をＺnＯ等の誘電
体膜でサンドイッチした構造の断熱ガラスに用いられる
積層体が開示されており、この積層体は、熱線反射ガラ
スや低輻射ガラス等に広く利用されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術では、以下のような問題点が指摘される。ま
ず、特開昭６３−２６６４０１号公報の導電性反射防止
膜では、ＣＲＴ等の反射防止や電磁波の遮蔽には有効で
はあるが、しかしながら、プラズマディスプレイなどか
ら多く輻射される近赤外線領域における光の遮蔽には不
十分である。特に、８５０〜９５０ｎｍの近赤外線は、
赤外線を利用した他の機器のリモートコントロールの誤
動作を引き起こすなどの問題点を生じる。

【０００６】また、上記文献におけるガラス基板とＩＴ
Ｏ膜の積層構造では、可視光領域における反射率が最大
で２０％と高く、また、近赤外線領域の内、可視光領域
に近い光（特に、９００ｎｍ〜１５００ｎｍ）に対する
遮蔽性能が低い。これは、ＩＴＯ膜（屈折率が約１．
９）の光学干渉効果によるものであり、ＩＴＯ膜の単層
では避けられない問題である。

【０００７】さらに、特開平８−１０４５４７号公報に
より知られる積層体構造では、積層体の一部に薄膜Ａg
層を用いることから、このＡg層の劣化（主として、大
気中の水分によるＡgの凝集が原因）が発生し、耐久性
（耐環境性）が低く、初期の光学性能を長期間維持する
ことが困難である。

【０００８】そこで、本発明では、上記の従来技術にお
ける問題点に鑑み、高耐久性を有し、可視光領域におけ
る良好な透過性能と、近赤外線領域における良好な遮蔽
性とを備え、電磁波を遮蔽することの可能なプラズマデ
ィスプレイ用前面ガラスパネルを提供することをその目
的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的を達成するために提供されるのは、透明ガラス板の
一方の表面にＩＴＯ膜が被覆された積層体からなる電磁
遮蔽性ガラス板と、前記ＩＴＯ膜が被覆された面側に配
置され、透明な高分子樹脂中に近赤外線吸収能力を有す
る色素を分散させた吸収層を含む近赤外線吸収フィルム
板とを貼り合わせ、可視光線透過率が５５％以上で、波
長９００ｎｍにおける赤外線透過率が１５％以下である
プラズマディスプレイ用前面多層パネルである。

【００１０】また、本発明によれば、前記に記載したプ
ラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記電
磁遮蔽性ガラス板のＩＴＯ膜は面積抵抗が３．５Ω／□
以下のＩＴＯ膜である。

【００１１】さらに、本発明によれば、前記に記載した
プラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、さら
に、前記ＩＴＯ膜上に、又は／及び、前記透明ガラス板
と前記ＩＴＯ膜との間には、前記積層体の膜面側反射率
を減ずるための可視域で透明な反射低減層が被覆され、
もって、可視域光線透過率を６０％以上にした。

【００１２】さらに、本発明では、前記に記載したプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴ
Ｏ膜上の反射低減層は、厚みが６０ｎｍ〜９０ｎｍで、
かつ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３６〜１．
６５であり、かつ、可視光領域で透明な低屈折率の薄膜
である。

【００１３】さらに、本発明では、前記に記載したプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴ
Ｏ膜上の反射低減層は、厚みが９５ｎｍ〜１３５ｎｍ
で、波長５５０ｎｍにおける屈折率が２．０〜２．４の
可視光領域で透明な薄膜と、厚みが６０ｎｍ〜９０ｎｍ
で、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３６〜１．６
５の可視光領域で透明な薄膜との２層構造である。

【００１４】また、本発明によれば、前記に記載したプ
ラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記Ｉ
ＴＯ膜上の反射低減層の低屈折率薄膜と前記ＩＴＯ膜と
の間には、さらに、厚みが９５〜１３５ｎｍで、波長５
５０ｎｍにおける屈折率が２．０〜２．４であり、か
つ、可視光領域で透明な高屈折率の薄膜を介在させた。

【００１５】また、前記ＩＴＯ膜と前記透明ガラス板と
の間に設ける反射低減層としては、１．６５〜２．０の
間の屈折率を有する透明薄膜、例えばアルミナ薄膜等を
用いることができる。

【００１６】そして、本発明では、前記に記載したプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記透明
ガラス板は、ガラス中に遷移金属イオンを含有させるこ
とにより波長９００ｎｍ近傍の近赤外線を吸収する熱線
吸収ガラス板を用いることができる。

【００１７】さらに、本発明では、前記に記載したプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記近赤
外線吸収フィルム板は、近赤外線吸収能を有する色素と
高分子樹脂と溶剤を均一に混合した溶液からキャスト
法、又はコーティング法、又は当該色素と高分子樹脂の
混練物の溶融押し出し法、又は近赤外線吸収能を有する
色素とモノマーを均一に混合した混合物を重合または固
化する重合法の、何れかによって成膜された近赤外線吸
収フィルムを用いることができる。

【００１８】また、本発明では、前記に記載したプラズ
マディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記近赤外
線吸収能を有する色素が、フタロシアニン系金属錯体と
一般式（１１）で表される芳香族ジチオール系金属錯体
である

【化１１】 （ＲＤ1〜ＲＤ4は炭素数が１から４までのアルキレン
基、アリール基、アラルキル基、フッ素、水素を示し、
Ｍは４配位の遷移金属）と一般式（１２）又は（１３）
で表される芳香族ジインモ二ウム化合物

【化１２】

【化１３】 （ＲＤｉ（ｉは５〜１８）は炭素数が１から１０までの
アルキル基、Ｘは１価或いは２価のアニオン）の少なく
とも１種類以上との混合物が用いられる。

【００１９】また、本発明では、前記に記載したプラズ
マディスプレイ用前面多層パネルにおいて、近赤外線吸
収能を有する色素と高分子樹脂と溶剤を均一に混合した
溶液からキャスト法又はコーティング法において、前記
樹脂が一般式（１４）〜（１９）で表される芳香族ジオ
ール樹脂を少なくとも１０ｍｏｌ％以上共重合したポリ
エステル樹脂が用いられる。

【化１４】 （Ｒ1は炭素数が２から４までのアルキレン基、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4、Ｒ5は水素または炭素数が１から７までのアル
キル基、アリール基、アラルキル基を表し、それぞれ同
じでも異なっても良い。）

【化１５】 （Ｒ6は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ7、Ｒ
8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は水素または炭素数が１から７ま
でのアルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、そ
れぞれ同じでも異なっても良い。ｋは１から４の自然数
である。）

【化１６】 （Ｒ12は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ13、
Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は水素または炭素数が１から７まで
のアルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、それ
ぞれ同じでも異なっても良い。）

【化１７】 （Ｒ17及びＲ18は炭素数が１から４までのアルキレン基
を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ19及びＲ
20は水素または炭素数が１から７までのアルキル基、ア
リール基、アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異な
っても良い。ｌおよびｍは１から８の自然数である。）

【化１８】 （Ｒ21は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ22、
Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26及びＲ27は水素または炭素数が
１から７までのアルキル基、アリール基、アラルキル基
を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。ｎは０から
５の自然数である。）

【化１９】 （Ｒ28は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ29及
びＲ30は炭素数が１から１０までのアルキル基を表し、
それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33及
びＲ34は水素または炭素数が１から７までのアルキル
基、アリール基、アラルキル基であり、それぞれ同じで
も異なっても良い。）

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、添付の図面を参照しながら説明する。まず、図１に
示すように、本発明に係るプラズマディスプレイ用前面
多層パネルＭＰは、表示装置であるプラズマディスプＰ
ＤＰの表示部の前面に、表示部全体を覆うように取り付
けられて使用される。このプラズマディスプレイ用前面
多層パネルＭＰは、プラズマディスプイＰＤＰから輻射
される近赤外線領域（８５０ｎｍ〜９５０ｎｍ）の光１
０００、電磁波２０００、そして、反射光３０００など
を低減するものである。

【００２１】なお、このプラズマディスプレイ用前面多
層パネルＭＰは、図２に示すように、透明ガラス基板１
０のプラズマディスプレイＰＤＰ側の表面上に、ＩＴＯ
膜２０を、必要に応じて増透層であるマッチング層３０
を介して成膜し、または、ＩＴＯ膜２０上にさらに増透
層（マッチング層）３０を成膜し、あるいは、透明ガラ
ス基板１０のＩＴＯ膜２０成膜面とは反対側の表面上に
無反射層４０を成膜した電磁遮蔽性ガラス板１００と、
この電磁遮蔽性ガラス板１００のプラズマディスプレイ
ＰＤＰ側の面上に、すなわち、ＩＴＯ膜２０が被覆され
た面側に、ベースフィルム６０上に透明な高分子樹脂中
に近赤外線吸収能力を有する色素を分散させた近赤外線
吸収層５０を含む近赤外線吸収フィルム板２００を貼り
合わせて構成される。

【００２２】まず、上記プラズマディスプレイ用前面多
層パネルＭＰを構成する一方のパネルである電磁遮蔽性
ガラス板１００の構造について説明する。図３（ａ）、
（ｂ）及び図４（ａ）〜（ｃ）には、上記電磁遮蔽性ガ
ラス板１００の断面構造の具体例が示されている。これ
らの図からも明らかなように、（１）透明ガラス基板１
０の上面（プラズマディスプレイ側）にＩＴＯ膜２０を
積層し、さらに、その上には、反射を低減するためのマ
ッチング層（反射低減層）３０として、低屈折率の層３
１を設ける（図３（ａ）と（ｂ））。あるいは、（２）
透明ガラス基板１０の上にＩＴＯ膜２０を積層し、さら
に、上記マッチング層（反射低減層）３０として、その
上に、高屈折率の層３２と上記低屈折率の層３１の二重
の層を設け（図４（ａ）、（ｂ））、（３）透明ガラス
基板１０を熱線吸収ガラス基板としたもの（図４
（ｃ））、又は、（４）透明ガラス基板１０のＩＴＯ膜
２０成膜面とは反対側の表面上に無反射層４０を成膜し
たものである（図４（ｄ））。また、図３（ｃ）には、
後にも説明するが、透明フロートガラスの上にＩＴＯ膜
を形成した断面構造が示されている。

【００２３】なお、ここで、透明ガラス基板１０とは、
通常透明フロートガラス（遷移金属イオンなどの着色剤
を含まないフロートガラス）であり、また、熱線吸収ガ
ラス基板とは、前記透明フロートガラス中に遷移金属イ
オンを含有させることにより波長９００ｎｍ近傍の近赤
外線を吸収するガラス板としたものである。その遷移金
属イオンとして、鉄、コバルト、ニッケルの少なくとも
１種以上が含まれ、グレー系または青色系のものが好ま
しく用いられる。そして、これらの透明ガラス基板と熱
線吸収ガラス基板は、図５にも示すように、可視光領域
では優れた透過性能を有し、特に熱線吸収ガラス基板
は、８００ｎｍ〜１４００ｎｍの近赤外線領域において
優れた光吸収特性を備えたガラス基板である。

【００２４】ここで、上記透明ガラス基板１０の一方の
表面上に積層されるＩＴＯ層２０は、添付の図６に示す
ように、真空容器１内において、高密度アーク放電プラ
ズマ流ＰＣをＩＴＯ蒸着材料Ｍに照射し、この蒸着材料
を加熱・蒸発させ、同時に蒸発粒子をプラズマ化し、こ
のプラズマ化したＩＴＯ蒸発粒子を透明ガラス基板１０
上に供給させることによって、薄膜として形成される。
さらに、本発明で使用できる高密度アーク放電プラズマ
発生装置としては、例えば、「真空」第２５巻第１０号
（１９８２年発刊）に記載され、複合陰極型プラズマ発
生装置と圧力勾配型プラズマ発生装置を組み合わせた放
電陰極を用いることが出来るが、大電流で高密度のアー
ク放電プラズマ流を発生できる装置であれば、特に限定
するものではない。

【００２５】また、本発明では、上記透明ガラス基板１
０上に形成されるＩＴＯ層２０の必要な膜厚としては３
８０〜１１００ｎｍであることが好ましい。これは、図
７に示すように、３８０ｎｍ（シート抵抗（面積抵抗）
で３．５Ω／□より大）より小さい膜厚の場合には、近
赤外線領域の遮蔽性能が低下してしまい、逆に膜厚が１
１００ｎｍ（シート抵抗で１．６Ω／□より小）以上と
なると、可視光領域におけるＩＴＯ層の吸収のため、可
視光に対する透過性能が低下してしまい、プラズマディ
スプレイ用前面ガラスパネルを提供するという本発明の
目的にそぐわないことによる。

【００２６】上記本発明におけるＩＴＯ膜２０の作製条
件は下記の表１の通りである。

【表１】

【００２７】まず、真空容器１内における残留ガス圧
は、１．０×１０^-5Torr以下である。また、ＩＴＯ蒸着
材料としては、Ｉn₂Ｏ₃：ＳnＯ₂＝９５：５（Ｗｔ％）
焼結体を用いた。なお、プラズマガン４に供給するＡr
ガスの流量は４０ｓｃｃｍであり、成膜チャンバー（真
空容器１）内に供給されるＯ₂ガス流量は２５ｓｃｃ
ｍ、放電電流１５０Ａ、放電電圧７９Ｖ、成膜中の圧力
は２．１×１０^-3Torrであり、また、この時の基板（熱
線吸収ガラス基板１０）温度は２２０℃、これにより得
られたＩＴＯ膜の膜厚は６３０ｎｍであり、得られたＩ
ＴＯ膜のシート抵抗（面積抵抗）は１．９Ω／□であっ
た。

【００２８】続いて、上記のＩＴＯ膜２０の上には、反
射低減層３０として、低屈折率の薄膜の層３１を設ける
（図３（ａ）、（ｂ））。この低屈折率の層３１は、よ
り具体的には、１．３８〜１．６５の屈折率を有する透
明な薄膜であって、その膜厚の範囲は６０ｎｍ〜９５ｎ
ｍである。また、この低屈折率薄膜層３１を形成する代
表的な膜材料としては、例えば、ＭgＦ₂、ＳiＯ₂、Ａl₂
Ｏ₃などが挙げられる。

【００２９】あるいは、上記のＩＴＯ膜２０の上に高屈
折率の層３２と低屈折率の層３１の二重の層からなる反
射低減層３０を設ける（図４（ａ）〜（ｃ））。なお、
ここで、低屈折率層３０は上記と同様であるが、他方、
高屈折率の層３２とは、より具体的には、２．０５〜
２．３５の屈折率を有する透明な薄膜であって、その膜
厚の範囲は９５ｎｍ〜１３５ｎｍである。また、この高
屈折率薄膜層３２を形成する代表的な膜材料としては、
例えばＰrＴiＯ₃、ＴiＯ₂、ＺrＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、Ｔa₂Ｏ₅な
どがある。但し、上述の反射低減層３０を構成する低屈
折率及び高屈折率の薄膜３１、３２の材料については、
その屈折率と膜厚が上記の条件を満たせばよく、特に上
記の材料に限定されるものではない。

【００３０】なお、上記したこれらの低屈折率薄膜層３
１又は／及び高屈折率薄膜層３２の形成方法としては、
例えば、上記ＩＴＯ層２０の上面に真空蒸着法等によっ
て積層して形成する。また、本実施の形態で用いたＩＴ
Ｏ層２０の上に積層する上記反射低減層３０を形成する
ための蒸着条件は、以下の表２に示す通りである。

【表２】

【００３１】このように、本発明のプラズマディスプレ
イ用前面多層パネルの一方を構成する電磁遮蔽性ガラス
板１００の構造によれば、可視光領域の高い透過性と電
磁波に対する良好な遮蔽性を有するＩＴＯ膜２０を用い
る点にあり、さらに、透明ガラス基板１０の裏面（非コ
ーティング面）からの反射光を低減するために、反射低
減層３０をＩＴＯ膜２０上に、あるいは、透明ガラス基
板１０とＩＴＯ膜２０との間に設け、さらには、ＩＴＯ
層を施した面とは反対側の他方の面上に、さらに、複数
層から成る無反射層４０を施したものである。

【００３２】特に、図４（ｄ）に示す例では、無反射層
４０を形成するため、高屈折率薄膜層を形成する１５ｎ
ｍの膜厚のＰrＴiＯ₃層４１と、低屈折率薄膜層を形成
する３６ｎｍの膜厚のＭgＦ₂層４２を、さらにその上
に、１２５ｎｍの膜厚の高屈折率ＰrＴiＯ₃層４３と、
９７ｎｍの膜厚の低屈折率ＭgＦ₂層４４を形成してい
る。なお、この無反射層４０を形成するための低屈折率
材料と高屈折率材料としては、上記した材料を、さらに
は、一般的に知られている低屈折率材料層と高屈折率材
料層の多層反射防止膜を利用することが出来る。

【００３３】かかる電磁遮蔽性ガラス板１００の構造に
よれば、図８〜図１２に示す反射特性が得られた。すな
わち、図３(ａ)の構造により図８(ａ)に示した反射特性
が、図３(ｂ)の構造により図８(ｂ)に示した反射特性
が、また、図４(ａ)の構造により図９(ａ)に示した反射
特性が、図４(ｂ)の構造により図９(ｂ)に示した反射特
性が得られた。

【００３４】さらに、図４(ｃ)に示した熱線吸収ガラス
を採用する構造によれば、図１０に示すように、８００
ｎｍ〜１４００ｎｍの近赤外線領域において優れた光吸
収特性を備えた熱線吸収ガラス基板の光学性能と、ＩＴ
Ｏ膜の光学性能との相乗効果によって、可視光領域の透
過性能をそれほど低下させることなく、近赤外線領域に
おける優れた遮蔽効果を得ることが可能になる。また、
図４(ｄ)に示した反射防止膜（無反射層）４０を採用す
る構造によれば、図１１に示すように、やはり、可視光
領域の透過性能をそれほど低下させることなく、近赤外
線領域における優れた遮蔽効果を得ることが可能にな
る。なお、図１２には、上記図３（ｃ）に示した構造に
より得られる反射特性が示されている。

【００３５】さらに、上記の構成では、上記低屈折率薄
膜層３１又は／及び高屈折率薄膜層３２から成る反射低
減層３０により膜面側における反射率を減じて、プラズ
マディスプレイ用前面ガラスパネルとしてより好適な特
性を得ている。なお、この反射低減層３０は、上記の例
ではＩＴＯ膜２０の上面に設けられたものについて説明
したが、この反射低減層３０は、透明ガラス基板１０と
ＩＴＯ膜２０との間に形成してもよいことは上記からも
明らかであろう。透明ガラス基板１０とＩＴＯ膜２０と
の間に形成する反射低減層３０は、５５０ｎｍにおける
屈折率が１．６〜２．０の透明薄膜が選ばれ、そのよう
なものとしてＡl₂Ｏ₃が例示できる。

【００３６】なお、上記の実施の形態では、ＩＴＯ層の
成膜と反射低減層の成膜は別々の装置によりオフライン
処理で行ったが、インライン処理が可能な装置で行うの
がスループット向上、すなわち、低コスト化の上で好ま
しい。

【００３７】また、特に、上述のように、プラズマ化し
たＩＴＯ蒸発粒子を熱線吸収ガラス基板１０上に供給す
ることによれば、従来の一般的なスパッタ法とは異な
り、シート抵抗の低い薄膜を形成することが可能となる
ことから、ＩＴＯ膜２０による電磁遮蔽性能を向上する
ことが出来、また、自由キャリア密度の高いＩＴＯ膜２
０が得られることとなる。すなわち、ドルーデ理論で説
明される近赤外線領域における反射率や吸収率が高くな
り、近赤外線領域における遮蔽性能も高くなる。ちなみ
に、キャリア密度の上記本発明とスパッタ法との比較値
は、本発明の製法：１．７×１０²¹ｃｍ^-3に対して、ス
パッタ法：１．１×１０²¹ｃｍ^-3である。

【００３８】さらに、上記のＩＴＯ膜２０の成膜方法に
よれば、ＩＴＯ膜からの反射率を低減し、可視光領域で
の光学干渉効果によって低反射化を達成し、これによ
り、外光の写り込みが少なく、視認性の高い電磁遮蔽ガ
ラス板１００を提供することが可能となる。

【００３９】続いて、上記の電磁遮蔽ガラス板１００の
実施例Ａ１〜実施例Ａ１６を作成し、その光学的な特性
を測定した結果を以下の表３及び表４に示す。但し、こ
こでは、透明ガラスとしてはソーダライムシリカ組成の
フロートガラスを使用し、実施例５、実施例１１及び１
２の熱線吸収ガラス基板としては、透明ガラスと同じソ
ーダライムシリカ組成のフロートガラスにＦｅイオン、
Ｔｉイオン、Ｃｅイオンを着色成分として含む「ＵＶカ
ットガラス」、Ｆｅイオン、Ｃｏイオンを着色成分とし
て含む「ブルーペーン（商品名）」、Ｆｅイオン、Ｃｏ
イオン、Ｓｅイオンを着色成分として含む「グレーペー
ン（商品名）」を使用した。また、ガラス板の厚みは１
〜３ｍｍのものを使用した。

【表３】

【表４】

【００４０】これらの表３，４からも明らかなように、
実施例Ａ１〜Ａ１６の電磁遮蔽ガラス板１００は、可視
光反射率を低減すると共に、特に、実施例Ａ５、Ａ１
１、Ａ１２では、９００ｎｍにおける光の透過率を低減
し、近赤外線領域の光をより遮断し、また、電磁波もよ
くカットすることが可能であることが分かる。

【００４１】次に、上記プラズマディスプレイ用前面多
層パネルＭＰを構成する他方のパネルである近赤外線吸
収フィルム板２００について説明する。本発明の近赤外
線吸収フィルム板２００は透明な高分子樹脂中に近赤外
線吸収能を有する色素を分散させた吸収層を含む単層或
いは多層フィルム又は多層板からなる近赤外線吸収パネ
ルである。

【００４２】本発明の近赤外線吸収パネルの透明な高分
子樹脂中に近赤外線吸収能を有する色素を分散させた吸
収層としては、近赤外線吸収能を有する色素と高分子樹
脂と溶剤を均一に混合した溶液からキャスト法によって
成膜されたフィルムや、近赤外線吸収能を有する色素と
高分子樹脂と溶剤を均一に混合した溶液をポリエステル
やポリカーボネイトなどの透明なフィルム上にコーティ
ングして得たフィルムや、近赤外線吸収能を有する色素
と高分子樹脂から溶融押し出し法によって成膜されたフ
ィルム、近赤外線吸収能を有する色素とモノマーを均一
に混合した混合物を重合または固化することにより作成
されたフィルムあるいは、近赤外線吸収能を有する色
素、金属、金属酸化物、金属塩を透明プラスチィックフ
ィルムに蒸着することにより作成されたフィルムのいず
れか、あるいはこれらの２種類以上を併用して用いるこ
とができる。即ち、多様な近赤外線吸収色素の特性に応
じた成型法でフィルムを製造し、これらのフィルムを複
数枚重ねるか若しくは単独で使用する事により、目的に
応じた近赤外線吸収範囲と可視光線領域での色合いを調
製することができる。

【００４３】本発明の近赤外線吸収パネルの吸収層とし
てキャスト法やコーティング法によって成膜されたフィ
ルムを用いる場合は、通常熱溶融押し出し法では２００
度以上で成膜するのに対し、１５０度以下のマイルドな
乾燥条件で行えるので、使用する近赤外線吸収色素が熱
分解することがなく、一般的な有機溶媒に対して均一分
散さえすれば、耐熱性の低い色素でも使用できるため色
素の選択幅が広がるという有利点がある。

【００４４】キャスト法やコーティング法で成膜を行う
際、本色素のバインダーとして用いる透明な高分子樹脂
としては、共重合ポリエステル、ポリメチルメタリレー
ト、ポリカーボネート、ポリスチレン、アモルファスポ
リオレフィン、ポリイソシアネート、ポリアリレート、
トリアセチルセルロース等の公知の透明プラスチックを
用いることができる。但し、特に５０ミクロン以下の薄
いフィルムで目的とする近赤外線の吸収能を得るために
は、本色素の種類によって異なるが、１〜５ｗｔ％（樹
脂の固形分に対して）の高濃度まで本色素を溶解する必
要がある。この様な高濃度の安定な溶液を、通常使用さ
れるバインダー様樹脂、例えばポリカーボネイトやアク
リル樹脂等からは調製する事が出来ない。例え強制的に
溶かし込むことが出来ても、色素の偏在、表面への色素
の析出、溶液の凝固等の問題が起こり好ましくない。

【００４５】この様に高密度まで色素を溶解させる用途
には、特開平０６−１８４２８８号公報、特開平０６−
０４９１８６号公報、特開平０７−１４９８８１号公
報、特開平０８−１０００５３号公報などに記載されて
いるポリエステル樹脂は、本発明の色素を高濃度まで溶
かすことができ好ましい。従って、本発明において、高
濃度まで色素を溶解させる目的には、この樹脂を用いる
ことが好適である。

【００４６】上記の樹脂は、一般式（２０）から（２
５）で表される芳香族ジオールを少なくとも１０ｍｏｌ
％以上共重合したポリエステル樹脂である。

【００４７】

【化２０】

【００４８】（Ｒ1は炭素数が２から４までのアルキレ
ン基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は水素または炭素数が１から
７までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であ
り、それぞれ同じでも異なっても良い。）

【００４９】

【化２１】

【００５０】（Ｒ6は炭素数が１から４までのアルキレ
ン基、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は水素または炭素
数が１から７までのアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。ｋは１
から４の自然数である。）

【００５１】

【化２２】

【００５２】（Ｒ12は炭素数が１から４までのアルキレ
ン基、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は水素または炭素数が
１から７までのアルキル基、アリール基、アラルキル基
を表わし、それぞれ同じでも異なっても良い。）

【００５３】

【化２３】

【００５４】（Ｒ17及びＲ18は炭素数が１から４までの
アルキレン基を表し、それぞれ同じでも異なっても良
い。Ｒ19及びＲ20は水素または炭素数が１から７までの
アルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、それぞ
れ同じでも異なっても良い。ｌおよびｍは１から８の自
然数である。）

【００５５】

【化２４】

【００５６】（Ｒ21は炭素数が１から４までのアルキレ
ン基、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26及びＲ27は水素ま
たは炭素数が１から７までのアルキル基、アリール基、
アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異なっても良
い。ｎは０から５の自然数である。）

【００５７】

【化２５】

【００５８】（Ｒ28は炭素数が１から４までのアルキレ
ン基、Ｒ29及びＲ30は炭素数が１から１０までのアルキ
ル基を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ31、
Ｒ32、Ｒ33及びＲ34は水素または炭素数が１から７まで
のアルキル基、アリール基、アラルキル基であり、それ
ぞれ同じでも異なっても良い。）

【００５９】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（４）で表される化合物としては例えば、９，９−ビ
ス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−フ
ルオレン、９，９−ビス−［４−（２−ヒドロキシエト
キシ）−３−メチルフェニル］−フルオレン、９，９−
ビス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジ
メチルフェニル］−フルオレン、９，９−ビス−［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）−３−エチルフェニル］−
フルオレン、９，９−ビス−［４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）−３，５−ジエチルフェニル］−フルオレン、
等が挙げられ、これらの中でも、９，９−ビス−［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−フルオレンが
光学特性、耐熱性、成形性のバランスが最も良く特に好
ましい。

【００６０】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（５）で表される化合物としては例えば、１，１−ビ
ス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］シクロ
ヘキサン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）−３−メチルフェニル］シクロヘキサン、１，１−
ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメ
チルフェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）−３−エチルフェニル］シ
クロヘキサン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）−３，５−ジエチルフェニル］シクロヘキサ
ン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−
３−プロピルフェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジベンジ
ルフェニル］シクロヘキサン、及びこれらのシクロヘキ
サンの水素１ー４個を炭素数１から７のアルキル基、ア
リール基、アラルキル基で置換したもの等が挙げられ、
これらの中でも、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル］シクロヘキサンが、好ましい。

【００６１】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（６）で表される化合物としては例えば、ビス−［４
−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−スルフォ
ン、ビス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メ
チルフェニル］−スルフォン、ビス−［４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］−スル
フォン、ビス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３
−エチルフェニル］−スルフォン、ビス−［４−（２−
ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジエチルフェニル］−
スルフォン、ビス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）
−３−プロピルフェニル］−スルフォン、ビス−［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジプロピルフェ
ニル］−スルフォン、ビス−［４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）−３−イソプロピルフェニル］−スルフォン、
等が挙げられる。

【００６２】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（７）で表される化合物としては例えば、トリシクロ
デカンジメチロール、トリシクロデカンジエチロール、
トリシクロデカンジプロピロール、トリシクロデカンジ
ブチロール、ジメチルトリシクロデカンジメチロール、
ジエチルトリシクロデカンジメチロール、ジフェニルト
リシクロデカンジメチロール、ジベンジルトリシクロデ
カンジメチロール、テトラメチルトリシクロデカンジメ
チロール、ヘキサメチルトリシクロデカンジメチロー
ル、オクタメチルトリシクロデカンジメチロール、等が
挙げられ、これらの中でも、トリシクロデカンジメチロ
ールが好ましい。

【００６３】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（８）で表されるジヒドロキシ化合物としては例え
ば、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−１−フェニルエタン、１，１−ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］−
１−フェニルエタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］−１−フ
ェニルエタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）−３−エチルフェニル］−１−フェニルエタ
ン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−
３，５−ジエチルフェニル］−１−フェニルエタン、
１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−
プロピルフェニル］−１−フェニルエタン、１，１−ビ
ス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジプロ
ピルフェニル等、及びこれらの中心炭素に、炭素数１か
ら７のアルキル基、アリール基、アラルキル基で置換し
たもの等が挙げられ、これらの中でも、１，１−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フ
ェニルエタンが好ましい。

【００６４】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（９）で表される化合物としては例えば、２，２−ビ
ス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパ
ン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］ブタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］ペンタン、２，
２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］
−３−メチルブタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル］ヘキサン、２，２−ビス［４
−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−３−メチル
ペンタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル］−３，３−ジメチルブタン、２，２−ビ
ス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］ヘプタ
ン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−３−メチルヘキサン、２，２−ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−４−メチルヘ
キサン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル］−５−メチルヘキサン、２，２−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−３，３
−ジメチルペンタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル］−３，４−ジメチルペンタ
ン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−４，４−ジメチルペンタン、２，２−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−３−エ
チルペンタン、等が挙げられ、これらの中でも、２，２
−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−
４−メチルペンタンが、適度に大きな枝分かれした側鎖
を有しており、有機溶媒への溶解性の向上の効果が大き
く、耐熱性を損うこともないので特に好ましい。また、
２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル］−プロパンは、耐熱性、機械強度に優れ、有機溶媒
への溶解性も損わないので特に好ましい。

【００６５】上記のジオール化合物は単独で用いても良
いし、必要に応じて２種類以上を組み合わせて用いても
よい。

【００６６】本発明のポリエステル重合体に供するジカ
ルボン酸としては、通常のポリエステル樹脂に用いられ
るジカルボン酸が挙げられるが、例えば、テレフタル
酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、
１，８−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレン
ジカルボン酸、１，２−ナフタレンジカルボン酸、１，
３−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカ
ルボン酸、１，６−ナフタレンジカルボン酸、１，７−
ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボ
ン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、２，２’−ビ
フェニルジカルボン酸、３，３’−ビフェニルジカルボ
ン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸等の芳香族ジ
カルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピ
ン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、メチル
マロン酸、エチルマロン酸、メチルコハク酸、２，２−
ジメチルコハク酸、２，３−ジメチルコハク酸、３−メ
チルグルタル酸、３，３−ジメチルグルタル酸等の脂肪
族ジカルボン酸、１，４シクロヘキサンジカルボン酸、
２，５−ジメチル１，４シクロヘキサンジカルボン酸、
２，３，５，６−テトラメチル−１，４シクロヘキサン
ジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸等が挙げられる。
高耐熱性が重要な場合には、２，６−ナフタレンジカル
ボン酸が、成形性が重要な場合にはテレフタル酸が特に
好ましい。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、必
要に応じて２種類以上併用しても良い。

【００６７】本発明のポリエステル重合体は、例えばエ
ステル交換法、直接重合法等の溶融重合法、溶液重縮合
法、界面重合法等の公知の方法から適宜の方法を選択し
て製造できる。また、その際の重合触媒等の反応条件も
従来通りで良く、公知の方法を用いることができる。

【００６８】本発明のポリエステル重合体を溶融重合法
のエステル交換法で製造するには、一般式（４）から
（９）で表される化合物群のうち、少なくとも１種類以
上の化合物を共重合成分として使用するが、使用するジ
ヒドロキシ化合物の合計が、ジオールの１０モル％以
上、９５モル以下が好ましい。１０モル％以上である
と、有機溶媒への溶解性がより向上する。９５モル以下
であれば、溶融重合反応が十分に進行し、自由自在に分
子量を調節してポリエステル重合体を重合することがで
きる。ただし、９５モル％より多くても、溶液重合法ま
たは界面重合法で重合することによって、重合時間を短
縮することができる。

【００６９】本発明の樹脂と色素を溶解させる溶媒とし
ては、沸点が実用的に好ましい例えば１５０度以下の有
機溶剤ならば何れでも良い。この様な汎用的な溶剤とし
ては、クロロフォルム、塩化メチレン、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化合物、或い
は、トルエン、キシレン、ヘキサン、メチルエチルケト
ン、アセトン、シクロヘキサン等の非ハロゲン系有機溶
剤が使われる。

【００７０】本発明の樹脂と色素を溶解させる方法とし
ては、通常の攪拌機やニーダーが用いられる。また、高
濃度の溶液を調製する場合には、バタフライミキサーや
プラネタリーミキサーを用いれば良いが、無論これに限
るものではない。

【００７１】上記の方法で得られた溶液から本発明のフ
ィルムを作る場合は、キャストかコーティング法が好ま
しい。キャスト法とは、ガラス板か鏡面仕上げをした金
属板の上に、溶液を注ぎ一定の隙間を持った棒で溶液を
その表面上に延ばした後、乾燥し、適当な方法でフィル
ムを当該表面より剥離し、完成品を得る方法を指す。無
論、この方法を機械化した、いわゆるキャスト機を用い
てフィルムを作成しても良い。

【００７２】コーティング法とは、フィルム又はパネル
の上に本発明の溶液を塗布、乾燥の後に、フィルム層を
形成せしめる方法一般のことである。例えば透明または
機能を付与したフィルムの上にコーティングする場合
は、通常のコーティング機が使用できる。この機械は、
分速数メートルから数十メートルの速さで動いているフ
ィルム上に、Ｔ型ダイから一定速度で押し出した本発明
の溶液を押し出し、次の乾燥ゾーンで溶媒を除去し、フ
ィルムを巻き取る一連の工程を行うものである。

【００７３】また、本発明の近赤外線吸収パネルの吸収
層として、溶融押し出し法を用いる場合は、フィルム成
形が容易で安価に製造できる有利な点がある。この場合
は樹脂と色素をフィダーから１軸または２軸の混練機に
投入し、所定の温度、通常は３００℃近い温度で溶融混
練し、Ｔ型ダイから押し出してフィルムを成型する方法
が一般的であるが、無論これに限るものではない。

【００７４】更に、本発明の近赤外線吸収パネルの吸収
層として重合、固化により作成されたフィルムを用いて
も良い。この場合には、モノマーとして、スチレンやブ
タジエン、イソプレン、メタアクリル酸メチル等の良く
知られたビニル結合を有する化合物を用いる事ができ
る。色素は予めこれらモノマー及び開始剤と混練して均
一な溶液を作成し、ガラス板等でできた型に流し込み、
温度を上げるか、又は、紫外線を照射することにより反
応を開始する。

【００７５】すなわち、本発明の近赤外線吸収パネルの
吸収層としては、例えば耐熱性の低い色素を使用する場
合にはキャスト法によって成膜したフィルムを用いれば
良く、分散性の悪い色素を使用する場合には重合、固化
により作成されたフィルムを用いれば良く、それ以外の
色素を使用する場合には溶融押し出し法により成膜した
フィルムを用いれば良い。これらのフィルムを貼り合わ
せることにより、いかなる色素をも使用することがで
き、互いのフィルム層の色素濃度を調整することによ
り、全体としての色調を自由に制御できる。

【００７６】近赤外線吸収パネルに要求される特性とし
て特に重要なものは、近赤外線、具体的には波長８５０
ｎｍから１２００ｎｍにおける光線の吸収性、可視領
域、具体的には４００ｎｍから８００ｎｍにおける光線
の透過性、および色調が挙げられる。

【００７７】これらの特性の中でも近赤外線の吸収性が
最重要であるが、用途によっては他の二つの特性が非常
に重要になる。例えば、映像出力装置から発生される近
赤外線を吸収し、当該近赤外線領域で作動するリモコン
の誤作動を防ぐ近赤外線吸収パネルとして用いる場合に
は、可視領域における透過性はもちろんのこと、特にこ
の映像出力装置がカラー使用である場合には、色調が非
常に重要である。すなわち、全色における色差を極めて
小さくする必要があり、具体的にはグレー又はブラウン
の色調を有さなければならない。この場合には複数の色
素を巧妙に配合する必要がある。

【００７８】従来の方法では、透明高分子樹脂と近赤外
吸収能のある色素を混練後、熱溶融押し成形したり、低
分子中に色素を取り込み重合する方法により近赤外線吸
収パネルを得ていたが、これらの方法では、色素として
は熱分解しないものしか使用できず、選択幅が狭くな
り、上述の特性を発現させることが極めて困難になる。

【００７９】一方、本発明の近赤外線吸収パネルは、キ
ャスト法及びコーティング法により成膜したフィルムを
使用でき、耐熱性の低い色素も使用できるため、色素の
選択幅が広いという点で効果的である。

【００８０】本発明の近赤外線吸収パネルの吸収層に用
いる色素としては、近赤外領域に吸収を有する色素であ
るならばいずれでもよく、ポリメチン系色素（シアニン
色素）、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチ
オール金属錯塩系、ナフトキノン、アントロキノン、ト
リフェニルメタン系、アミニウム（あるいはアルミニウ
ム）系、ジインモニウム系などが用いられる。

【００８１】この中でも一般式（１）で表される芳香族
ジチオール系金属錯体

【００８２】

【化１】

【００８３】（ＲＤ1〜ＲＤ4は炭素数が１から４までの
アルキレン基、アリール基、アラルキル基、フッ素、水
素を示し、Ｍは４配位の遷移金属）と、一般式（２）又
は（３）で表される芳香族ジインモニウム化合物

【００８４】

【化２】

【００８５】（ＲＤ5〜ＲＤ12は炭素数が１から１０ま
でのアルキル基、Ｘは１価のアニオン）

【００８６】又は

【００８７】

【化３】

【００８８】（ＲＤ13〜ＲＤ18は炭素数が１から１０ま
でのアルキル基、Ｘは１価のアニオン）

【００８９】及びフタロシアニン系の色素の３種類の内
から少なくとも２種類以上を組み合わせることが本発明
の１つの新規な特徴である。

【００９０】上記の芳香族ジチオール系金属錯体とは、
ニッケル ビス１、２−ジフェニル−１、２−エテンジ
チオラト及びその二つの芳香環の水素を炭素数が１から
４までのアルキレン基、アリール基、アラルキル基、フ
ッ素等の基で置換した化合物であり、例えば、化学式
（２６）及び（２７）で表される化合物を使用する事が
できるが、無論これに限るものではない。

【００９１】

【化２６】

【００９２】

【化２７】

【００９３】さらに、上述のイオン化化合物、例えば化
学式（２８）で表される化合物も使用する事ができる
が、無論これに限るものではない。このような化合物の
場合、本発明に使用されているカウンターイオンは化学
式（２８）に使用されているテトラブチルアンモニウム
イオン以外の１価のカチオンであればどれでも良く、例
えば文献［機能性色素の開発と市場動向（シー・エム・
シー出版）］に記載されている様なカチオンであれば良
い。

【００９４】

【化２８】

【００９５】また金属のニッケルに替えて４価の遷移金
属ならどれでも良く、例えば、チタン、バナジウム、ジ
ルコニウム、クロム、モリブデン、ルテニウム、オスニ
ウム、コバルト、白金、パラジウムなどである。

【００９６】この色素は８００から９５０ナノメータ
（ｎｍ）までの吸収が強く、リモコン等に使用される近
赤外線の波長の光を遮断し、リモコン誤操作の防止に効
果的である。

【００９７】一般式（２９）又は（３０）

【００９８】

【化２９】

【００９９】（Ｒ1からＲ8は炭素数が１から１０までの
アルキル基、Ｘは１価のアニオン）又は

【０１００】

【化３０】

【０１０１】（Ｒ1からＲ8は炭素数が１から１０までの
アルキル基、Ｘは１価のアニオン）

【０１０２】で表される芳香族ジインモニウム化合物と
は、例えば、化学式（３１）から（３５）で表される化
合物を使用する事ができるが、無論これに限るものでは
ない。１価のアニオンとして化学式の六フッ化アンチモ
ン以外に、例えば、六フッ化リン、四フッ化ホウ素、過
塩素酸イオンなどがこのましく用いられる。

【０１０３】

【化３１】

【０１０４】

【化３２】

【０１０５】

【化３３】

【０１０６】

【化３４】

【０１０７】

【化３５】

【０１０８】この色素は９００〜１２００ｎｍ前後の吸
収が強く、リモコン等に使用される近赤外線の波長の光
以外に、将来使用が見込まれるコンピュター通信の波長
の光をも遮断し、この誤動作の防止に効果的である。こ
の色素は、上述のＩＴＯと重ね合わせてパネルを形成し
た時に、より効果的に１０００ｎｍ前後の近赤外線を遮
断する。

【０１０９】上述の２種類の色素（芳香族ジチオール系
金属錯体と芳香族ジインモニウム化合物）が特に効果的
である。さらに、これらの色素が可視光線領域に吸収を
有している場合には、色調補正用色素を用いて色調を調
節する事も可能である。このような色調補正用色素とし
てはフタロシアニン系の色素が効果的である。本発明に
おけるフタロシアニン系色素としては、例えば、文献
〔機能性色素の開発と市場動向（シーエムシー）〕に記
載されている様な色素であればいずれでも良い。

【０１１０】上述の近赤外線吸収能のある芳香族ジイン
モニウム化合物系の色素は一般的に熱に弱い。このた
め、溶融押し出しや重合、固化では熱分解を起こしてし
まい、近赤外線における吸収性が悪くなる。したがっ
て、この色素を吸収層に使用する場合には、キャスト法
にてフィルムを成膜することが特に好ましい。

【０１１１】本発明の近赤外線吸収フィルム板を作成す
るにあたり、予め成形した板又はフィルムを適当な方法
にて貼り合わせる必要がある。これには透明で接着力の
高い高分子系接着剤が好ましく用いられる。この様な高
分子系接着剤としては例えば２液のエポキシ系の接着剤
や、不飽和ポリエステル、ウレタン系の接着剤、フェノ
ール樹脂系の接着剤、ビニル樹脂やアクリル酸系の接着
剤が挙げられる。

【０１１２】電磁波シールドの透明導電性層に上述した
ＩＴＯ膜を使用する場合は、それに対応した近赤外線吸
収フィルムを使用する必要がある。例えば、熱線反射ガ
ラスでは１２００ナノメーターを越す波長での吸収があ
るため、近赤外線吸収色素は８００ｎｍ〜１２００ｎｍ
での吸収を受け持つことになる。熱線吸収ガラスの材質
によって吸収特性が異なるため、色素の組み合わせや濃
度を制御して相手に合わせる必要がある。これには、上
述した本発明の色素の内、芳香族ジチオール系金属錯
体、好ましくは、芳香族ジチオール系ニッケル錯体、最
も好ましくは、ニッケル ビス１、２−ジフェニル−
１、２−エテンジチオラト、若しくは、ニッケル ビス
１、２−ジフェニル−１、２−エテンジチオラトのベン
ゼン環の水素をフッ素かメチル基に置き換えたものが使
用される。さらに、色調を整えるためにフタロシアニン
系の色素を添加しても良い。芳香族ジインモニウムも使
用できる。

【０１１３】上述の電磁波遮蔽性のガラスとしてＩＴＯ
膜付ガラスを用いる場合、透明な高分子樹脂に対してジ
チオール金属錯体をａ重量％、フタロシアニン系色素を
ｂ重量％、ジイモニウム系色素をｃ重量％、アミニウム
系色素をｄ重量％、配合したとする。この場合本発明の
色素が有効に作用する範囲は、０．１≦ａ≦５．０、
０．０１≦ｂ≦２．０、０．１≦ｃ≦５．０、０．０１
≦ｄ≦１．０、好ましくは０．５≦ａ≦２．５、０．０
１≦ｂ≦２．０、０．２≦ｃ≦３．０、０．１≦ｄ≦
０．５である。つまり０．８１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜８．
０で配合することが好適である。それらをキャスト法、
コーティング法、溶融押し出し法、モノマーに配合して
からの重合法等で成膜する。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜０．８１
で配合し、成膜した場合、可視光透過性は高いが、近赤
外線吸収性が低く近赤外線遮断フィルターとしての効果
がなく好ましくない。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜８．０で配合
し、成膜した場合、近赤外線吸収性は高いが可視光透過
性が低くなり光学フィルターとして使用することが出来
ない。

【０１１４】上記の配合量は近赤外線吸収層が０．０１
ｍｍの場合である。無論近赤外線吸収層の厚みを変える
と、それに比例して配合量も変わる。具体的には、近赤
外線吸収層が０．００５ｍｍの場合、１．６２≦ａ＋ｂ
＋ｃ＋ｄ＜１６．０で配合すると好適である。

【０１１５】次に、本発明の実施形態である近赤外線吸
収フィルム板２００を具体的に説明する。

【０１１６】図２にも示すように、ポリカーボネート、
ポリメチルメタクリレート等の透明な樹脂からなるベー
スフィルム５０上に、コーティング法やキャスト法によ
って近赤外線吸収層６０を成膜したもの、又は、溶融押
し出し法及びモノマーからの重合固化で作成された近赤
外線吸収と形状保持を兼ね備えた一体のパネルの層から
なる。なお、この近赤外線吸収フィルム板２００は、上
記電磁遮蔽性ガラス板１００のプラズマディスプレイＰ
ＤＰ側の面上に貼り合わせ、本発明のプラズマディスプ
レイ用前面多層パネルＭＰを完成する。

【０１１７】本発明の有効性と新規性を実施例にて具体
的に説明する。

【０１１８】［実施例］実施例における、近赤外線吸収
性、可視領域透過率、および色調は次に示す方法によっ
て評価した。

【０１１９】（１）近赤外線吸収性 分光光度計（日本分光社製ｂｅｓｔＶ−５７０）にて、
波長９００ｎｍ〜１２００ｎｍにおける光線透過率の平
均値（Ｔr）を測定し、（100−Ｔr）で近赤外線遮断率
（％）を評価した。

【０１２０】（２）可視領域透過性 （１）と同じ分光光度計にて、波長４５０ｎｍ〜７００
ｎｍにおける平均光線透過率を測定し、これを可視光透
過率Ｔvとした。

【０１２１】実施例Ｂ１ （１）テレフタル酸ジメチル（ＤＭＴ）０．４ｍｏｌ、
エチレングリコール（ＥＧ）０．８８ｍｏｌ、ビス９，
９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル）フルオレン（ＢＰＥＦ）０．２８ｍｏｌを原料とし
て通常の溶融重合でフルオレン系共重合ポリエステル
（ＤＭＴ：ＢＰＥＦ＝３：７ｍｏｌ）を得た。そのフル
オレン系共重合ポリエステルは極限粘度［η］＝０．４
２、分子量Ｍｗ＝４５０００、ガラス転移温度Ｔｇ＝１
４０℃であった。 （２）ニッケル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エ
テンジチオラトを既知の合成法で得た後、９９％以上に
再結晶により精製した。そのマススペクトルを図１３に
示す。それをフルオレン系共重合ポリエステルに対して
１．８重量％、フタロシアニン系色素（日本触媒製ＩＲ
−３または８０３Ｋ）を０．１５重量％、フタロシアニ
ン系色素（日本触媒製ＴＸ−２１１Ａ）を０．１５重量
％を塩化メチレンに分散し、その溶液を易接着ポリエス
テルフィルム（東洋紡製Ａ４１００、厚さ０．１２５ｍ
ｍ）上にコーティングした後、１２０℃で乾燥させて厚
さ０．０１ｍｍの近赤外線吸収層を持つフィルムを得
た。その分光透過スペクトルを図１４に示す。得られた
近赤外線吸収フィルムと実施例Ａ３により得られた近赤
外線反射層を有する透明導電性ガラスを貼り合わせて図
中Ｂの形態をとる近赤外線遮断パネルが得られた。透明
導電性ガラス及び得られた近赤外線遮断パネルの分光透
過スペクトルを図１５及び図１６に示す。このパネルの
１００−Ｔｒは９５％と良好だった。また、Ｔｖは６５
％であり透過性は良好であった。

【０１２２】実施例Ｂ２ コーティング法のポリマーとして、トリアセチルセルロ
ース（ダイセル化学製ＬＴ−３５）を使用した以外は実
施例Ｂ１と同様にして図２の形態の近赤外線吸収パネル
を作成し、特性を評価した。このパネルの１００−Ｔｒ
は９５％と良好だった。また、Ｔｖは６５％であり透過
性は良好であった。

【０１２３】実施例Ｂ３ 実施例Ｂ１で得られたフルオレン系ポリエステル共重合
体に対して化学式（３１）のジインモニウム系色素を
２．３重量％、ニッケル，ビス１，２−ジフェニル−
１，２−エテンジチオライトを１．０重量％、フタロシ
アニン系色素（日本触媒製ＩＲ−１または８０１Ｋ）を
０．２重量％、フタロシアニン系色素（日本触媒製ＩＲ
−３または８０３Ｋ）を０．３重量％を塩化メチレンに
分散し、その溶液を易接着ポリエステルフィルム（東洋
紡製Ａ４１００、厚さ０．１２５ｍｍ）上にコーティン
グした後、１２０℃で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近
赤外線吸収層を持つフィルムを得た。その分光透過スペ
クトルを図１７に示す。得られた近赤外線吸収フィルム
と実施例Ａ３により得られた近赤外線反射層を有する透
明導電性ガラスを貼り合わせて図中Ｂの形態をとる近赤
外線遮断パネルが得られた。得られた近赤外線遮断パネ
ルの分光透過スペクトルを図１８に示す。このパネルの
１００−Ｔｒは９５％と良好だった。また、Ｔｖは６０
％であり透過性は良好であった。

【０１２４】実施例Ｂ４ 実施例Ｂ１の方法で得られたニッケル，ビス1,2-ジフェ
ニル-1,2-エテンジチオラトをフルオレン系共重合ポリ
エステルに対して１．６重量％、フタロシアニン系色素
（日本触媒製ＩＲ−３または８０３Ｋ）を０．１５重量
％、フタロシアニン系色素（日本触媒製ＴＸ−２１１
Ａ）を０．１３重量％を塩化メチレンに分散し、その溶
液を易接着ポリエステルフィルム（東洋紡製Ａ４１０
０，厚さ０．１２５ｍｍ）上にコーティングした後、１
２０℃で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近赤外線吸収層
をもつフィルムを得た。得られた近赤外線吸収フィルム
と実施例Ａ１６により得られた電磁波遮断ガラス板とを
貼り合せ、図１９に示す透過率特性のパネルを得た。図
中(a)は実施例Ａ１６の電磁波遮断性ガラス板の透過率
特性であり、(b)は得られた近赤外線吸収フィルムの透
過率特性であり、(c)は本発明のパネルの特性で、可視
光線透過率が５５％以上、９００ｎｍの波長における透
過率が約５％という良好な特性を有していた。

【０１２５】比較例Ｂ１ 実施例Ｂ１の方法で得られたフルオレン系共重合ポリエ
ステルに対して、実施例Ｂ１の方法で得られたニッケ
ル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エテンジチオレ
ートをポリマーに対して５．５重量％、フタロシアニン
系色素（日本触媒社製イーエクスカラー８０３Ｋ）を
１．５重量％、塩化メチレンに分散した後、その溶液を
易接着ポリエステルフィルム（東洋紡製Ａ４１００、厚
さ０．１２５ｍｍ）上にコーティングした後、１２０度
で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近赤外線吸収層をもつ
フィルムを得た。その分光スペクトルを図２０のＧに示
す。このパネルの近赤外線遮閉率は９８％と高いが、可
視光透過率は２５％と低く、劣るものである。この赤外
線吸収フィルム板は、電磁遮蔽ガラス板と組合せても明
るいパネルとすることができない。

【０１２６】比較例Ｂ２ 実施例Ｂ１の方法で得られたフルオレン系共重合ポリエ
ステルに対して、実施例Ｂ１の方法で得られたニッケ
ル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エテンジチオレ
ートをポリマーに対して０．０５重量％、フタロシアニ
ン系色素（日本触媒社製イーエクスカラー８０１Ｋ）を
０．０１重量％フタロシアニン系色素（日本触媒社製イ
ーエクスカラー８０３Ｋ）を０．０１重量％、塩化メチ
レンに分散した後、その溶液を易接着ポリエステルフィ
ルム（東洋紡製Ａ４１００、厚さ０．１２５ｍｍ）上に
コーティングした後、１２０度で乾燥させて厚さ０．０
１ｍｍの近赤外線吸収層をもつフィルムを得た。その分
光スペクトルを図２０のＨに示す。このパネルの近赤外
線遮閉率は８５％と高いが、可視光透過率は５５％と低
く、劣るものである。この赤外線吸収フィルム板は、電
磁遮蔽ガラス板と組合せても明るいパネルとすることが
できない。

【０１２７】比較例Ｂ３ 実施例Ｂ１の方法で得られたフルオレン系共重合ポリエ
ステルに対して、実施例Ｂ１の方法で得られたニッケ
ル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エテンジチオレ
ートをポリマーに対して２．０重量％、フタロシアニン
系色素（日本触媒社製イーエクスカラー８０３Ｋ）を
１．５重量％、化学式（１３）のジインモニウム系色素
を４．０重量％を配合し塩化メチレンに分散した後、そ
の溶液を易接着ポリエステルフィルム（東洋紡製Ａ４１
００、厚さ０．１２５ｍｍ）上にコーティングした後、
１２０度で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近赤外線吸収
層をもつフィルムを得た。その分光透過スペクトルを図
２０のＩに示す。このパネルの近赤外線遮閉率は９８％
と高いが、可視光透過率は４０％と低く、劣るものであ
る。この赤外線吸収フィルム板は、電磁遮蔽ガラス板と
組合せても明るいパネルとすることができない。

【０１２８】比較例Ｂ４ 実施例Ｂ１の方法で得られたフルオレン系共重合ポリエ
ステルに対して、実施例Ｂ１の方法で得られたニッケ
ル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エテンジチオレ
ートをポリマーに対して０．０５重量％、フタロシアニ
ン系色素（日本触媒社製イーエクスカラー８０３Ｋ）を
０．０１重量％、化学式（１３）のジインモニウム系色
素を０．０５重量％を配合し塩化メチレンに分散した
後、その溶液を易接着ポリエステルフィルム（東洋紡製
Ａ４１００、厚さ０．１２５ｍｍ）上にコーティングし
た後、１２０度で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近赤外
線吸収層をもつフィルムを得た。その分光透過スペクト
ルを図２０のＪに示す。このパネルの可視光透過率は８
２％と高いが、近赤外線遮閉率は７０％と低く、劣るも
のである。この赤外線吸収フィルム板は、電磁遮蔽ガラ
ス板と貼り合せてパネルとする場合、９００ｎｍにおけ
る透過率を約１５％以下とするには、電磁遮蔽性ガラス
板のＩＴＯ膜厚を２０００ｎｍ以上とする必要があり、
経済性の観点から有利ではない。

【０１２９】

【発明の効果】以上の詳細な説明からも明らかなよう
に、本発明によれば、透明ガラス板の一方の表面にＩＴ
Ｏ膜が被覆された積層体からなる電磁遮蔽性ガラス板
と、透明な高分子樹脂中に近赤外線吸収能力を有する色
素を分散させた吸収層を含む近赤外線吸収フィルム板と
を張り合わせることにより、可視光線透過率が５５％以
上で、波長９００ｎｍにおける赤外線透過率が１５％以
下の、プラズマディスプレイ用前面多層パネルとして好
適な多層パネルを得ることが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るプラズマディスプレイ用前面ガラ
スパネルの使用状態を説明する図。

【図２】本発明に係るプラズマディスプレイ用前面多層
パネルの構成とその機能を説明する図。

【図３】（ａ）〜（ｃ）は本発明に係るプラズマディス
プレイ用前面多層パネルを構成する電磁遮蔽性ガラス板
の具体的な構造を示す断面図。

【図４】（ａ）〜（ｄ）は本発明に係るプラズマディス
プレイ用前面多層パネルを構成する電磁遮蔽性ガラス板
の具体的な構造を示す断面図。

【図５】電磁遮蔽性ガラス板に使用する透明ガラス基板
と熱線吸収ガラス基板光吸収特性を示す特性図。

【図６】電磁遮蔽性ガラス板のＩＴＯ層を形成する成膜
装置の構造を示す図。

【図７】電磁遮蔽性ガラス板のＩＴＯ層の膜厚と透過ス
ペクトルとの関係特性を示す図。

【図８】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率特
性を示す特性図。

【図９】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率特
性を示す特性図。

【図１０】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率
特性を示す特性図。

【図１１】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率
特性を示す特性図。

【図１２】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率
特性を示す特性図。

【図１３】本発明に係るプラズマディスプレイ用前面多
層パネルを構成する近赤外線吸収フィルム板の一実施例
のマススペクトルを示す分光スペクトル図。

【図１４】近赤外線吸収フィルム板の実施例Ｂ１の分光
透過スペクトル図。

【図１５】実施例Ｂ１で得られた透明導電性ガラスの分
光透過スペクトル図。

【図１６】実施例Ｂ１で得られた近赤外線遮断パネルの
分光透過スペクトル図。

【図１７】実施例Ｂ３で得られた近赤外線吸収フィルム
の分光スペクトル図。

【図１８】実施例Ｂ３で得られた近赤外線遮断パネルの
分光スペクトル図。

【図１９】実施例Ｂ４で得られた近赤外線吸収電磁波遮
閉パネルの分光スペクトル図。

【図２０】比較例Ｂ１〜Ｂ４で得られた近赤外線吸収層
をもつフィルムの分光透過スペクトル図。

【符号の説明】

ＭＰ…プラズマディスプレイ用前面多層パネル、１００
…電磁遮蔽性ガラス板、１０…透明ガラス基板、２０…
ＩＴＯ膜、３０…マッチング層（反射低減層）、４０…
無反射層（反射防止膜）、２００…近赤外線吸収フィル
ム板、５０…近赤外線吸収層、６０…ベースフィルム。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｚ 5/22 17/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｃ０９Ｂ 67/22 Ｆ 17/02 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５ // Ｃ０９Ｂ 67/22 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｚ (72)発明者 神作 克也 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 青木 裕一 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 櫻井 和朗 大阪府大阪市都島区友渕町１丁目５番90号 鐘紡株式会社内 (72)発明者 小池 眞弘 大阪府大阪市都島区友渕町１丁目５番90号 鐘紡株式会社内 (72)発明者 鈴木 康子 大阪府大阪市都島区友渕町１丁目５番90号 鐘紡株式会社内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明ガラス板の一方の表面にＩＴＯ膜が
   被覆された積層体からなる電磁遮蔽性ガラス板と、前記
   ＩＴＯ膜が被覆された面側に配置され、透明な高分子樹
   脂中に近赤外線吸収能力を有する色素を分散させた吸収
   層を含む近赤外線吸収フィルム板とを貼り合わせ、可視
   光線透過率が５５％以上で、波長９００ｎｍにおける赤
   外線透過率が１５％以下であることを特徴とするプラズ
   マディスプレイ用前面多層パネル。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のプラズマディスプレイ
   用前面多層パネルにおいて、前記電磁遮蔽性ガラス板の
   ＩＴＯ膜は面積抵抗が３．５Ω／□以下であることを特
   徴とするプラズマディスプレイ用前面多層パネル。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載のプラズ
   マディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴＯ
   膜上、又は／及び、前記透明ガラス板と前記ＩＴＯ膜と
   の間には、前記積層体の膜面側反射率を減ずるための可
   視光領域で透明な反射低減層が被覆され、且つ可視光線
   透過率を６０％以上にしたことを特徴とするプラズマデ
   ィスプレイ用前面多層パネル。
4. 【請求項４】 請求項３に記載のプラズマディスプレイ
   用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴＯ膜上の反射低減
   層は、厚みが６０ｎｍ〜９０ｎｍで、波長５５０ｎｍに
   おける屈折率が１．３６〜１．６５で、且つ、可視光領
   域で透明な薄膜であることを特徴とするプラズマディス
   プレイ用前面多層パネル。
5. 【請求項５】 請求項３に記載のプラズマディスプレイ
   用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴＯ膜上の反射低減
   層は、厚みが９５ｎｍ〜１３５ｎｍで、波長５５０ｎｍ
   における屈折率が２．０〜２．４の可視光領域で透明な
   薄膜と、厚みが６０ｎｍ〜９０ｎｍで、波長５５０ｎｍ
   における屈折率が１．３６〜１．６５の可視光領域で透
   明な薄膜との２層構造であることを特徴とするプラズマ
   ディスプレイ用前面多層パネル。
6. 【請求項６】 請求項１乃至請求項５のいずれかに記載
   のプラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前
   記透明ガラス板は、ガラス中に遷移金属イオンを含有さ
   せることにより波長９００ｎｍ近傍の近赤外線を吸収す
   る熱線吸収ガラス板であることを特徴とするプラズマデ
   ィスプレイ用前面多層パネル。
7. 【請求項７】 請求項１乃至請求項６のいずれかに記載
   のプラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前
   記近赤外線吸収フィルム板は、近赤外線吸収能を有する
   色素と高分子樹脂と溶剤を均一に混合した溶液からキャ
   スト法、又はコーティング法、又は当該色素と高分子樹
   脂の混練物の溶融押し出し法、又は近赤外線吸収能を有
   する色素とモノマーを均一に混合した混合物を重合また
   は固化する重合法の、何れかによって成膜された近赤外
   線吸収フィルムであることを特徴とするプラズマディス
   プレイ用前面多層パネル。
8. 【請求項８】 請求項７に記載のプラズマディスプレイ
   用前面多層パネルにおいて、前記近赤外線吸収能を有す
   る色素が、フタロシアニン系金属錯体と一般式（１）で
   表される芳香族ジチオール系金属錯体 【化１】 （ＲＤ1〜ＲＤ4は炭素数が１から４までのアルキレン
   基、アリール基、アラルキル基、フッ素、水素を示し、
   Ｍは４配位の遷移金属）と一般式（２）又は（３）で表
   される芳香族ジインモ二ウム化合物 【化２】 【化３】 （ＲＤｉ（ｉは５〜１８）は炭素数が１から１０までの
   アルキル基、Ｘは１価或いは２価のアニオン）の少なく
   とも１種類以上との混合物であることを特徴とするプラ
   ズマディスプレイ用前面多層パネル。
9. 【請求項９】 請求項７に記載のプラズマディスプレイ
   用前面多層パネルにおいて、近赤外線吸収能を有する色
   素と高分子樹脂と溶剤を均一に混合した溶液からキャス
   ト法又はコーティング法において、前記樹脂が一般式
   （４）〜（９）で表される芳香族ジオール樹脂を少なく
   とも１０ｍｏｌ％以上共重合したポリエステル樹脂であ
   ることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面多層パ
   ネル。 【化４】 （Ｒ1は炭素数が２から４までのアルキレン基、Ｒ2、Ｒ
   3、Ｒ4、Ｒ5は水素または炭素数が１から７までのアル
   キル基、アリール基、アラルキル基を表し、それぞれ同
   じでも異なっても良い。） 【化５】 （Ｒ6は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ7、Ｒ
   8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は水素または炭素数が１から７ま
   でのアルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、そ
   れぞれ同じでも異なっても良い。ｋは１から４の自然数
   である。） 【化６】 （Ｒ12は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ13、
   Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は水素または炭素数が１から７まで
   のアルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、それ
   ぞれ同じでも異なっても良い。） 【化７】 （Ｒ17及びＲ18は炭素数が１から４までのアルキレン基
   を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ19及びＲ
   20は水素または炭素数が１から７までのアルキル基、ア
   リール基、アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異な
   っても良い。ｌおよびｍは１から８の自然数である。） 【化８】 （Ｒ21は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ22、
   Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26及びＲ27は水素または炭素数が
   １から７までのアルキル基、アリール基、アラルキル基
   を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。ｎは０から
   ５の自然数である。） 【化９】 （Ｒ28は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ29及
   びＲ30は炭素数が１から１０までのアルキル基を表し、
   それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33及
   びＲ34は水素または炭素数が１から７までのアルキル
   基、アリール基、アラルキル基であり、それぞれ同じで
   も異なっても良い。）