JPH1173115A - Front surface multilayered panel for plasma display - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a front surface glass panel for a plasma display having good transmission performance, shieldability of electromagnetic waves and further high shieldability in near IR region. SOLUTION: The front surface glass panel for plasma display having visible ray transmittance of >=55% and IR transmittance of <=15% at a wavelength 900 nm is obtd. by sticking an electromagnetic wave shieldable glass plate 100 consisting of a laminate formed by coating one surface of a transparent glass plate 10 with an ITO film 20 and a near IR absorption film plate 200 formed by laminating an absorption layer 60 dispersed with dyestuffs having near IR absorbability on a transparent polymer resin base film 50 to each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、可視光領域で高い
透明性を有し、近赤外線領域を効率的に遮蔽し、かつ、
電磁波を反射するプラズマディスプレイ用前面多層パネ
ルに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has high transparency in a visible light region, efficiently shields a near infrared region, and
The present invention relates to a front multilayer panel for a plasma display that reflects electromagnetic waves.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来、陰極線管（ＣＲＴ）を利用したテ
レビジョンやディスプレイの表面における反射を防止
し、かつ、その表面から輻射される人体に有害な電波を
遮蔽する導電性反射防止膜は、例えば、特開昭６３−２
６６４０１号公報により知られている。この導電性反射
防止膜では、透明基板の表面に導電性を有する複数の膜
を被覆することにより形成されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a conductive anti-reflection film for preventing reflection on the surface of a television or display using a cathode ray tube (CRT) and shielding radio waves harmful to the human body radiated from the surface has been known. For example, JP-A-63-2
No. 66401 discloses this. This conductive anti-reflection film is formed by coating a surface of a transparent substrate with a plurality of conductive films.

【０００３】また、文献「ニューセラミックス（１９９
２）No.12 P37-」や「S.-J. Jiangand Granqvist: SPIE
Vol.562 Optical Materials Technology for Energy E
fficiency and Solar Energy Conversion IV （1985）P
125-」によれば、透明なガラス基板上に導電性のＩＴＯ
膜を積層した構造が示され、このＩＴＯ膜の可視光に対
する高い透過性能と近赤外線に対する遮蔽性能に関して
記述されている。[0003] Also, a document "New Ceramics (199)
2) No.12 P37- "or" S.-J. Jiangand Granqvist: SPIE
Vol.562 Optical Materials Technology for Energy E
fficiency and Solar Energy Conversion IV (1985) P
According to 125- ", conductive ITO on a transparent glass substrate
The structure in which the films are laminated is shown, and the high transmittance performance for visible light and the shielding performance for near infrared rays of the ITO film are described.

【０００４】さらに、特開平８−１０４５４７号公報に
は、透明ガラス基板上に金属Ａgの薄層をＺnＯ等の誘電
体膜でサンドイッチした構造の断熱ガラスに用いられる
積層体が開示されており、この積層体は、熱線反射ガラ
スや低輻射ガラス等に広く利用されている。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-10447 discloses a laminate used for heat insulating glass having a structure in which a thin layer of metal Ag is sandwiched by a dielectric film such as ZnO on a transparent glass substrate. This laminate is widely used for heat ray reflection glass, low radiation glass, and the like.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術では、以下のような問題点が指摘される。ま
ず、特開昭６３−２６６４０１号公報の導電性反射防止
膜では、ＣＲＴ等の反射防止や電磁波の遮蔽には有効で
はあるが、しかしながら、プラズマディスプレイなどか
ら多く輻射される近赤外線領域における光の遮蔽には不
十分である。特に、８５０〜９５０ｎｍの近赤外線は、
赤外線を利用した他の機器のリモートコントロールの誤
動作を引き起こすなどの問題点を生じる。However, the following problems are pointed out in the above-mentioned prior art. First, the conductive anti-reflection film disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-266401 is effective in preventing reflection of CRT and the like and shielding electromagnetic waves. Not enough for shielding. In particular, near-infrared light of 850 to 950 nm
This causes problems such as malfunction of remote control of other devices using infrared rays.

【０００６】また、上記文献におけるガラス基板とＩＴ
Ｏ膜の積層構造では、可視光領域における反射率が最大
で２０％と高く、また、近赤外線領域の内、可視光領域
に近い光（特に、９００ｎｍ〜１５００ｎｍ）に対する
遮蔽性能が低い。これは、ＩＴＯ膜（屈折率が約１．
９）の光学干渉効果によるものであり、ＩＴＯ膜の単層
では避けられない問題である。[0006] Further, the glass substrate and IT
In the stacked structure of the O film, the reflectance in the visible light region is as high as 20% at the maximum, and the shielding performance for light near the visible light region (especially, 900 nm to 1500 nm) in the near infrared region is low. This is because an ITO film (having a refractive index of about 1.
This is due to the optical interference effect of 9), and is a problem that cannot be avoided with a single layer of ITO film.

【０００７】さらに、特開平８−１０４５４７号公報に
より知られる積層体構造では、積層体の一部に薄膜Ａg
層を用いることから、このＡg層の劣化（主として、大
気中の水分によるＡgの凝集が原因）が発生し、耐久性
（耐環境性）が低く、初期の光学性能を長期間維持する
ことが困難である。Further, in a laminate structure disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-10447, a thin film Ag is partially formed on the laminate.
Since the layer is used, deterioration of the Ag layer (mainly due to aggregation of Ag due to moisture in the air) occurs, durability (environment resistance) is low, and initial optical performance can be maintained for a long time. Have difficulty.

【０００８】そこで、本発明では、上記の従来技術にお
ける問題点に鑑み、高耐久性を有し、可視光領域におけ
る良好な透過性能と、近赤外線領域における良好な遮蔽
性とを備え、電磁波を遮蔽することの可能なプラズマデ
ィスプレイ用前面ガラスパネルを提供することをその目
的とする。In view of the above-mentioned problems in the prior art, the present invention has high durability, good transmission performance in the visible light region, good shielding performance in the near infrared region, and the ability to transmit electromagnetic waves. An object of the present invention is to provide a front glass panel for a plasma display that can be shielded.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的を達成するために提供されるのは、透明ガラス板の
一方の表面にＩＴＯ膜が被覆された積層体からなる電磁
遮蔽性ガラス板と、前記ＩＴＯ膜が被覆された面側に配
置され、透明な高分子樹脂中に近赤外線吸収能力を有す
る色素を分散させた吸収層を含む近赤外線吸収フィルム
板とを貼り合わせ、可視光線透過率が５５％以上で、波
長９００ｎｍにおける赤外線透過率が１５％以下である
プラズマディスプレイ用前面多層パネルである。According to the present invention, in order to achieve the above object, there is provided an electromagnetic shielding property comprising a laminate in which one surface of a transparent glass plate is coated with an ITO film. A glass plate and a near-infrared absorbing film plate including an absorbing layer in which a dye having a near-infrared absorbing ability is dispersed in a transparent polymer resin and disposed on a surface side on which the ITO film is coated, A front multilayer panel for a plasma display having a light transmittance of 55% or more and an infrared transmittance at a wavelength of 900 nm of 15% or less.

【００１０】また、本発明によれば、前記に記載したプ
ラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記電
磁遮蔽性ガラス板のＩＴＯ膜は面積抵抗が３．５Ω／□
以下のＩＴＯ膜である。According to the present invention, in the front multilayer panel for a plasma display described above, the ITO film of the electromagnetic shielding glass plate has a sheet resistance of 3.5 Ω / □.
These are the following ITO films.

【００１１】さらに、本発明によれば、前記に記載した
プラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、さら
に、前記ＩＴＯ膜上に、又は／及び、前記透明ガラス板
と前記ＩＴＯ膜との間には、前記積層体の膜面側反射率
を減ずるための可視域で透明な反射低減層が被覆され、
もって、可視域光線透過率を６０％以上にした。Further, according to the present invention, in the above-mentioned front multilayer panel for a plasma display, furthermore, the above-mentioned ITO film and / or between the transparent glass plate and the ITO film is A transparent reflection reduction layer is coated in the visible region to reduce the film surface side reflectance of the laminate,
Thus, the visible light transmittance was set to 60% or more.

【００１２】さらに、本発明では、前記に記載したプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴ
Ｏ膜上の反射低減層は、厚みが６０ｎｍ〜９０ｎｍで、
かつ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３６〜１．
６５であり、かつ、可視光領域で透明な低屈折率の薄膜
である。Further, according to the present invention, in the above-described front multi-layer panel for a plasma display, it is preferable that the IT
The reflection reduction layer on the O film has a thickness of 60 nm to 90 nm,
Further, the refractive index at a wavelength of 550 nm is 1.36 to 1.
65 and a low-refractive-index thin film that is transparent in the visible light region.

【００１３】さらに、本発明では、前記に記載したプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴ
Ｏ膜上の反射低減層は、厚みが９５ｎｍ〜１３５ｎｍ
で、波長５５０ｎｍにおける屈折率が２．０〜２．４の
可視光領域で透明な薄膜と、厚みが６０ｎｍ〜９０ｎｍ
で、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３６〜１．６
５の可視光領域で透明な薄膜との２層構造である。Further, according to the present invention, in the front multilayer panel for a plasma display described above, the IT
The reflection reduction layer on the O film has a thickness of 95 nm to 135 nm.
And a transparent thin film in the visible light region having a refractive index of 2.0 to 2.4 at a wavelength of 550 nm, and a thickness of 60 to 90 nm.
And the refractive index at a wavelength of 550 nm is 1.36 to 1.6.
5 is a two-layer structure with a transparent thin film in the visible light region.

【００１４】また、本発明によれば、前記に記載したプ
ラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記Ｉ
ＴＯ膜上の反射低減層の低屈折率薄膜と前記ＩＴＯ膜と
の間には、さらに、厚みが９５〜１３５ｎｍで、波長５
５０ｎｍにおける屈折率が２．０〜２．４であり、か
つ、可視光領域で透明な高屈折率の薄膜を介在させた。Further, according to the present invention, in the front multilayer panel for a plasma display described above,
Between the low-refractive-index thin film of the reflection reduction layer on the TO film and the ITO film, the thickness is 95 to 135 nm, and the wavelength is 5 nm.
A thin film having a high refractive index at 50 nm with a refractive index of 2.0 to 2.4 and transparent in the visible light region was interposed.

【００１５】また、前記ＩＴＯ膜と前記透明ガラス板と
の間に設ける反射低減層としては、１．６５〜２．０の
間の屈折率を有する透明薄膜、例えばアルミナ薄膜等を
用いることができる。Further, as the reflection reducing layer provided between the ITO film and the transparent glass plate, a transparent thin film having a refractive index between 1.65 and 2.0, for example, an alumina thin film can be used. .

【００１６】そして、本発明では、前記に記載したプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記透明
ガラス板は、ガラス中に遷移金属イオンを含有させるこ
とにより波長９００ｎｍ近傍の近赤外線を吸収する熱線
吸収ガラス板を用いることができる。According to the present invention, in the front multilayer panel for a plasma display described above, the transparent glass plate contains a transition metal ion in the glass to absorb near-infrared light having a wavelength of around 900 nm. A plate can be used.

【００１７】さらに、本発明では、前記に記載したプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記近赤
外線吸収フィルム板は、近赤外線吸収能を有する色素と
高分子樹脂と溶剤を均一に混合した溶液からキャスト
法、又はコーティング法、又は当該色素と高分子樹脂の
混練物の溶融押し出し法、又は近赤外線吸収能を有する
色素とモノマーを均一に混合した混合物を重合または固
化する重合法の、何れかによって成膜された近赤外線吸
収フィルムを用いることができる。Further, in the present invention, in the front multilayer panel for a plasma display described above, the near-infrared absorbing film plate is cast from a solution in which a dye having a near-infrared absorbing ability, a polymer resin and a solvent are uniformly mixed. Or a coating method, a melt extrusion method of a kneaded product of the dye and the polymer resin, or a polymerization method of polymerizing or solidifying a mixture obtained by uniformly mixing a dye having a near-infrared absorbing ability and a monomer. A coated near-infrared absorbing film can be used.

【００１８】また、本発明では、前記に記載したプラズ
マディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記近赤外
線吸収能を有する色素が、フタロシアニン系金属錯体と
一般式（１１）で表される芳香族ジチオール系金属錯体
であるFurther, in the present invention, in the front multilayer panel for a plasma display described above, the dye having the near-infrared absorbing ability is a phthalocyanine-based metal complex and an aromatic dithiol-based metal represented by the general formula (11). Complex

【化１１】 （ＲＤ1〜ＲＤ4は炭素数が１から４までのアルキレン
基、アリール基、アラルキル基、フッ素、水素を示し、
Ｍは４配位の遷移金属）と一般式（１２）又は（１３）
で表される芳香族ジインモ二ウム化合物Embedded image (RD1 to RD4 represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, fluorine, hydrogen,
M is a four-coordinate transition metal) and the general formula (12) or (13)
Aromatic diimmonium compound represented by

【化１２】 Embedded image

【化１３】 （ＲＤｉ（ｉは５〜１８）は炭素数が１から１０までの
アルキル基、Ｘは１価或いは２価のアニオン）の少なく
とも１種類以上との混合物が用いられる。Embedded image A mixture with at least one or more of (RDi (i is 5 to 18) an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and X is a monovalent or divalent anion) is used.

【００１９】また、本発明では、前記に記載したプラズ
マディスプレイ用前面多層パネルにおいて、近赤外線吸
収能を有する色素と高分子樹脂と溶剤を均一に混合した
溶液からキャスト法又はコーティング法において、前記
樹脂が一般式（１４）〜（１９）で表される芳香族ジオ
ール樹脂を少なくとも１０ｍｏｌ％以上共重合したポリ
エステル樹脂が用いられる。According to the present invention, there is provided the front multilayer panel for a plasma display as described above, wherein a resin having a near infrared absorbing ability, a polymer resin and a solvent are uniformly mixed by a casting method or a coating method. Is a polyester resin obtained by copolymerizing at least 10 mol% or more of the aromatic diol resins represented by the general formulas (14) to (19).

【化１４】 （Ｒ1は炭素数が２から４までのアルキレン基、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4、Ｒ5は水素または炭素数が１から７までのアル
キル基、アリール基、アラルキル基を表し、それぞれ同
じでも異なっても良い。）Embedded image (R 1 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 2, R
3, R4 and R5 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group, which may be the same or different. )

【化１５】 （Ｒ6は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ7、Ｒ
8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は水素または炭素数が１から７ま
でのアルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、そ
れぞれ同じでも異なっても良い。ｋは１から４の自然数
である。）Embedded image (R6 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms;
8, R9, R10 and R11 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group, which may be the same or different. k is a natural number from 1 to 4. )

【化１６】 （Ｒ12は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ13、
Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は水素または炭素数が１から７まで
のアルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、それ
ぞれ同じでも異なっても良い。）Embedded image (R12 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R13,
R14, R15 and R16 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group, which may be the same or different. )

【化１７】 （Ｒ17及びＲ18は炭素数が１から４までのアルキレン基
を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ19及びＲ
20は水素または炭素数が１から７までのアルキル基、ア
リール基、アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異な
っても良い。ｌおよびｍは１から８の自然数である。）Embedded image (R17 and R18 each represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and may be the same or different.
20 represents hydrogen or an alkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 7 carbon atoms, which may be the same or different. l and m are natural numbers from 1 to 8. )

【化１８】 （Ｒ21は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ22、
Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26及びＲ27は水素または炭素数が
１から７までのアルキル基、アリール基、アラルキル基
を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。ｎは０から
５の自然数である。）Embedded image (R21 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R22,
R23, R24, R25, R26 and R27 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group, which may be the same or different. n is a natural number from 0 to 5. )

【化１９】 （Ｒ28は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ29及
びＲ30は炭素数が１から１０までのアルキル基を表し、
それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33及
びＲ34は水素または炭素数が１から７までのアルキル
基、アリール基、アラルキル基であり、それぞれ同じで
も異なっても良い。）Embedded image (R28 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R29 and R30 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
Each may be the same or different. R31, R32, R33 and R34 are hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group, which may be the same or different. )

【００２０】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、添付の図面を参照しながら説明する。まず、図１に
示すように、本発明に係るプラズマディスプレイ用前面
多層パネルＭＰは、表示装置であるプラズマディスプＰ
ＤＰの表示部の前面に、表示部全体を覆うように取り付
けられて使用される。このプラズマディスプレイ用前面
多層パネルＭＰは、プラズマディスプイＰＤＰから輻射
される近赤外線領域（８５０ｎｍ〜９５０ｎｍ）の光１
０００、電磁波２０００、そして、反射光３０００など
を低減するものである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, as shown in FIG. 1, a front multilayer panel MP for a plasma display according to the present invention includes a plasma display P as a display device.
It is used by being attached to the front of the display unit of the DP so as to cover the entire display unit. The front multi-layer panel MP for a plasma display includes light 1 in the near infrared region (850 nm to 950 nm) radiated from the plasma display PDP.
000, electromagnetic waves 2000, reflected light 3000 and the like.

【００２１】なお、このプラズマディスプレイ用前面多
層パネルＭＰは、図２に示すように、透明ガラス基板１
０のプラズマディスプレイＰＤＰ側の表面上に、ＩＴＯ
膜２０を、必要に応じて増透層であるマッチング層３０
を介して成膜し、または、ＩＴＯ膜２０上にさらに増透
層（マッチング層）３０を成膜し、あるいは、透明ガラ
ス基板１０のＩＴＯ膜２０成膜面とは反対側の表面上に
無反射層４０を成膜した電磁遮蔽性ガラス板１００と、
この電磁遮蔽性ガラス板１００のプラズマディスプレイ
ＰＤＰ側の面上に、すなわち、ＩＴＯ膜２０が被覆され
た面側に、ベースフィルム６０上に透明な高分子樹脂中
に近赤外線吸収能力を有する色素を分散させた近赤外線
吸収層５０を含む近赤外線吸収フィルム板２００を貼り
合わせて構成される。The front multi-layer panel MP for a plasma display is, as shown in FIG.
0 on the surface of the plasma display PDP side.
The film 20 is replaced with a matching layer 30 as an
, Or a transparent layer (matching layer) 30 is further formed on the ITO film 20, or a transparent layer is formed on the surface of the transparent glass substrate 10 opposite to the surface on which the ITO film 20 is formed. An electromagnetic shielding glass plate 100 on which a reflective layer 40 is formed,
On the surface of the electromagnetic shielding glass plate 100 on the side of the plasma display PDP, that is, on the side of the surface coated with the ITO film 20, a dye having near-infrared absorbing ability is contained in a transparent polymer resin on the base film 60. A near-infrared absorbing film plate 200 including the dispersed near-infrared absorbing layer 50 is bonded.

【００２２】まず、上記プラズマディスプレイ用前面多
層パネルＭＰを構成する一方のパネルである電磁遮蔽性
ガラス板１００の構造について説明する。図３（ａ）、
（ｂ）及び図４（ａ）〜（ｃ）には、上記電磁遮蔽性ガ
ラス板１００の断面構造の具体例が示されている。これ
らの図からも明らかなように、（１）透明ガラス基板１
０の上面（プラズマディスプレイ側）にＩＴＯ膜２０を
積層し、さらに、その上には、反射を低減するためのマ
ッチング層（反射低減層）３０として、低屈折率の層３
１を設ける（図３（ａ）と（ｂ））。あるいは、（２）
透明ガラス基板１０の上にＩＴＯ膜２０を積層し、さら
に、上記マッチング層（反射低減層）３０として、その
上に、高屈折率の層３２と上記低屈折率の層３１の二重
の層を設け（図４（ａ）、（ｂ））、（３）透明ガラス
基板１０を熱線吸収ガラス基板としたもの（図４
（ｃ））、又は、（４）透明ガラス基板１０のＩＴＯ膜
２０成膜面とは反対側の表面上に無反射層４０を成膜し
たものである（図４（ｄ））。また、図３（ｃ）には、
後にも説明するが、透明フロートガラスの上にＩＴＯ膜
を形成した断面構造が示されている。First, the structure of the electromagnetic shielding glass plate 100 which is one of the panels constituting the front multilayer panel MP for a plasma display will be described. FIG. 3 (a),
4 (b) and FIGS. 4 (a) to 4 (c) show specific examples of the cross-sectional structure of the electromagnetic shielding glass plate 100. FIG. As is clear from these figures, (1) the transparent glass substrate 1
An ITO film 20 is laminated on the upper surface (the side of the plasma display) of the substrate 0, and a layer 3 having a low refractive index is further formed thereon as a matching layer (reflection reducing layer) 30 for reducing reflection.
1 (FIGS. 3A and 3B). Or (2)
An ITO film 20 is laminated on a transparent glass substrate 10, and a double layer of a high-refractive-index layer 32 and a low-refractive-index layer 31 is formed thereon as the matching layer (reflection reducing layer) 30. (FIGS. 4A and 4B), and (3) a case where the transparent glass substrate 10 is a heat ray absorbing glass substrate (FIG. 4).
(C)) or (4) An anti-reflection layer 40 is formed on the surface of the transparent glass substrate 10 opposite to the surface on which the ITO film 20 is formed (FIG. 4D). Also, in FIG.
As will be described later, a cross-sectional structure in which an ITO film is formed on a transparent float glass is shown.

【００２３】なお、ここで、透明ガラス基板１０とは、
通常透明フロートガラス（遷移金属イオンなどの着色剤
を含まないフロートガラス）であり、また、熱線吸収ガ
ラス基板とは、前記透明フロートガラス中に遷移金属イ
オンを含有させることにより波長９００ｎｍ近傍の近赤
外線を吸収するガラス板としたものである。その遷移金
属イオンとして、鉄、コバルト、ニッケルの少なくとも
１種以上が含まれ、グレー系または青色系のものが好ま
しく用いられる。そして、これらの透明ガラス基板と熱
線吸収ガラス基板は、図５にも示すように、可視光領域
では優れた透過性能を有し、特に熱線吸収ガラス基板
は、８００ｎｍ〜１４００ｎｍの近赤外線領域において
優れた光吸収特性を備えたガラス基板である。Here, the transparent glass substrate 10 is
Usually, it is a transparent float glass (float glass not containing a colorant such as transition metal ion), and the heat ray absorbing glass substrate is a near infrared ray having a wavelength of about 900 nm by including a transition metal ion in the transparent float glass. Is a glass plate that absorbs The transition metal ions include at least one of iron, cobalt, and nickel, and gray or blue ones are preferably used. As shown in FIG. 5, the transparent glass substrate and the heat ray absorbing glass substrate have excellent transmission performance in the visible light region. In particular, the heat ray absorbing glass substrate is excellent in the near infrared region of 800 nm to 1400 nm. It is a glass substrate having light absorption characteristics.

【００２４】ここで、上記透明ガラス基板１０の一方の
表面上に積層されるＩＴＯ層２０は、添付の図６に示す
ように、真空容器１内において、高密度アーク放電プラ
ズマ流ＰＣをＩＴＯ蒸着材料Ｍに照射し、この蒸着材料
を加熱・蒸発させ、同時に蒸発粒子をプラズマ化し、こ
のプラズマ化したＩＴＯ蒸発粒子を透明ガラス基板１０
上に供給させることによって、薄膜として形成される。
さらに、本発明で使用できる高密度アーク放電プラズマ
発生装置としては、例えば、「真空」第２５巻第１０号
（１９８２年発刊）に記載され、複合陰極型プラズマ発
生装置と圧力勾配型プラズマ発生装置を組み合わせた放
電陰極を用いることが出来るが、大電流で高密度のアー
ク放電プラズマ流を発生できる装置であれば、特に限定
するものではない。Here, the ITO layer 20 laminated on one surface of the transparent glass substrate 10 is formed by depositing a high-density arc discharge plasma flow PC in the vacuum vessel 1 by ITO vapor deposition, as shown in FIG. The material M is irradiated, the deposited material is heated and evaporated, and at the same time, the evaporated particles are turned into plasma.
It is formed as a thin film by being supplied on top.
Further, a high-density arc discharge plasma generator that can be used in the present invention is described in, for example, “Vacuum”, Vol. 25, No. 10 (published in 1982), and includes a composite cathode plasma generator and a pressure gradient plasma generator. Can be used, but the device is not particularly limited as long as the device can generate a high-current and high-density arc discharge plasma flow.

【００２５】また、本発明では、上記透明ガラス基板１
０上に形成されるＩＴＯ層２０の必要な膜厚としては３
８０〜１１００ｎｍであることが好ましい。これは、図
７に示すように、３８０ｎｍ（シート抵抗（面積抵抗）
で３．５Ω／□より大）より小さい膜厚の場合には、近
赤外線領域の遮蔽性能が低下してしまい、逆に膜厚が１
１００ｎｍ（シート抵抗で１．６Ω／□より小）以上と
なると、可視光領域におけるＩＴＯ層の吸収のため、可
視光に対する透過性能が低下してしまい、プラズマディ
スプレイ用前面ガラスパネルを提供するという本発明の
目的にそぐわないことによる。In the present invention, the transparent glass substrate 1
The required film thickness of the ITO layer 20 formed on 0 is 3
It is preferably from 80 to 1100 nm. This corresponds to 380 nm (sheet resistance (area resistance)) as shown in FIG.
When the film thickness is smaller than 3.5 Ω / □), the shielding performance in the near-infrared region is deteriorated.
If the thickness exceeds 100 nm (sheet resistance is less than 1.6 Ω / □), the absorption of the ITO layer in the visible light region causes a decrease in visible light transmission performance, and the book provides a front glass panel for a plasma display. This is because it does not fit the purpose of the invention.

【００２６】上記本発明におけるＩＴＯ膜２０の作製条
件は下記の表１の通りである。The conditions for forming the ITO film 20 in the present invention are as shown in Table 1 below.

【表１】 [Table 1]

【００２７】まず、真空容器１内における残留ガス圧
は、１．０×１０^-5Torr以下である。また、ＩＴＯ蒸着
材料としては、Ｉn₂Ｏ₃：ＳnＯ₂＝９５：５（Ｗｔ％）
焼結体を用いた。なお、プラズマガン４に供給するＡr
ガスの流量は４０ｓｃｃｍであり、成膜チャンバー（真
空容器１）内に供給されるＯ₂ガス流量は２５ｓｃｃ
ｍ、放電電流１５０Ａ、放電電圧７９Ｖ、成膜中の圧力
は２．１×１０^-3Torrであり、また、この時の基板（熱
線吸収ガラス基板１０）温度は２２０℃、これにより得
られたＩＴＯ膜の膜厚は６３０ｎｍであり、得られたＩ
ＴＯ膜のシート抵抗（面積抵抗）は１．９Ω／□であっ
た。First, the residual gas pressure in the vacuum vessel 1 is 1.0 × 10 ⁻⁵ Torr or less. In addition, as an ITO vapor deposition material, In ₂ O ₃ : SnO ₂ = 95: 5 (Wt%)
A sintered body was used. The Ar supplied to the plasma gun 4
The flow rate of the gas is 40 sccm, and the flow rate of the O ₂ gas supplied into the film forming chamber (vacuum vessel 1) is 25 sccc.
m, discharge current 150 A, discharge voltage 79 V, pressure during film formation was 2.1 × 10 ⁻³ Torr, and the substrate (heat absorbing glass substrate 10) temperature at this time was 220 ° C., which was obtained. The thickness of the ITO film was 630 nm.
The sheet resistance (area resistance) of the TO film was 1.9Ω / □.

【００２８】続いて、上記のＩＴＯ膜２０の上には、反
射低減層３０として、低屈折率の薄膜の層３１を設ける
（図３（ａ）、（ｂ））。この低屈折率の層３１は、よ
り具体的には、１．３８〜１．６５の屈折率を有する透
明な薄膜であって、その膜厚の範囲は６０ｎｍ〜９５ｎ
ｍである。また、この低屈折率薄膜層３１を形成する代
表的な膜材料としては、例えば、ＭgＦ₂、ＳiＯ₂、Ａl₂
Ｏ₃などが挙げられる。Subsequently, a low refractive index thin film layer 31 is provided as a reflection reducing layer 30 on the ITO film 20 (FIGS. 3A and 3B). More specifically, the low-refractive-index layer 31 is a transparent thin film having a refractive index of 1.38 to 1.65, and has a thickness range of 60 nm to 95 n.
m. Typical film materials for forming the low refractive index thin film layer 31 include, for example, MgF ₂ , SiO ₂ , Al ₂
O _{3 and the} like.

【００２９】あるいは、上記のＩＴＯ膜２０の上に高屈
折率の層３２と低屈折率の層３１の二重の層からなる反
射低減層３０を設ける（図４（ａ）〜（ｃ））。なお、
ここで、低屈折率層３０は上記と同様であるが、他方、
高屈折率の層３２とは、より具体的には、２．０５〜
２．３５の屈折率を有する透明な薄膜であって、その膜
厚の範囲は９５ｎｍ〜１３５ｎｍである。また、この高
屈折率薄膜層３２を形成する代表的な膜材料としては、
例えばＰrＴiＯ₃、ＴiＯ₂、ＺrＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、Ｔa₂Ｏ₅な
どがある。但し、上述の反射低減層３０を構成する低屈
折率及び高屈折率の薄膜３１、３２の材料については、
その屈折率と膜厚が上記の条件を満たせばよく、特に上
記の材料に限定されるものではない。Alternatively, a reflection reducing layer 30 composed of a double layer of a high refractive index layer 32 and a low refractive index layer 31 is provided on the ITO film 20 (FIGS. 4A to 4C). . In addition,
Here, the low refractive index layer 30 is the same as above,
The high-refractive-index layer 32 is, more specifically, 2.05 to 2.05.
It is a transparent thin film having a refractive index of 2.35, and its thickness range is 95 nm to 135 nm. Typical film materials for forming the high refractive index thin film layer 32 include:
For example, there are PrTiO ₃ , TiO ₂ , ZrO ₂ , Y ₂ O ₃ , Ta ₂ O ₅ and the like. However, regarding the materials of the low-refractive-index and high-refractive-index thin films 31 and 32 that constitute the above-described reflection reduction layer 30,
The refractive index and the film thickness may satisfy the above conditions, and are not particularly limited to the above materials.

【００３０】なお、上記したこれらの低屈折率薄膜層３
１又は／及び高屈折率薄膜層３２の形成方法としては、
例えば、上記ＩＴＯ層２０の上面に真空蒸着法等によっ
て積層して形成する。また、本実施の形態で用いたＩＴ
Ｏ層２０の上に積層する上記反射低減層３０を形成する
ための蒸着条件は、以下の表２に示す通りである。The low refractive index thin film layer 3
The method for forming the 1 or / and the high refractive index thin film layer 32 includes:
For example, it is formed by laminating on the upper surface of the ITO layer 20 by a vacuum evaporation method or the like. Also, the IT used in the present embodiment
The deposition conditions for forming the reflection reducing layer 30 laminated on the O layer 20 are as shown in Table 2 below.

【表２】 [Table 2]

【００３１】このように、本発明のプラズマディスプレ
イ用前面多層パネルの一方を構成する電磁遮蔽性ガラス
板１００の構造によれば、可視光領域の高い透過性と電
磁波に対する良好な遮蔽性を有するＩＴＯ膜２０を用い
る点にあり、さらに、透明ガラス基板１０の裏面（非コ
ーティング面）からの反射光を低減するために、反射低
減層３０をＩＴＯ膜２０上に、あるいは、透明ガラス基
板１０とＩＴＯ膜２０との間に設け、さらには、ＩＴＯ
層を施した面とは反対側の他方の面上に、さらに、複数
層から成る無反射層４０を施したものである。As described above, according to the structure of the electromagnetic shielding glass plate 100 constituting one of the front multilayer panels for a plasma display of the present invention, the ITO having high transparency in the visible light region and good shielding against electromagnetic waves. In order to reduce the reflected light from the back surface (non-coated surface) of the transparent glass substrate 10, the reflection reducing layer 30 is formed on the ITO film 20 or the transparent glass substrate 10 and the ITO Between the film 20 and the ITO
An anti-reflection layer 40 composed of a plurality of layers is further provided on the other surface opposite to the surface on which the layers are provided.

【００３２】特に、図４（ｄ）に示す例では、無反射層
４０を形成するため、高屈折率薄膜層を形成する１５ｎ
ｍの膜厚のＰrＴiＯ₃層４１と、低屈折率薄膜層を形成
する３６ｎｍの膜厚のＭgＦ₂層４２を、さらにその上
に、１２５ｎｍの膜厚の高屈折率ＰrＴiＯ₃層４３と、
９７ｎｍの膜厚の低屈折率ＭgＦ₂層４４を形成してい
る。なお、この無反射層４０を形成するための低屈折率
材料と高屈折率材料としては、上記した材料を、さらに
は、一般的に知られている低屈折率材料層と高屈折率材
料層の多層反射防止膜を利用することが出来る。In particular, in the example shown in FIG. 4D, since the non-reflective layer 40 is formed, the high refractive index thin film layer 15n is formed.
and PrTiO ₃ layer 41 having a thickness of m, the MgF ₂ layer 42 having a film thickness of 36nm to form a low refractive index thin film layer, further thereon, a high refractive index PrTiO ₃ layer 43 having a thickness of 125 nm,
A low refractive index MgF ₂ layer 44 having a thickness of 97 nm is formed. The low-refractive-index material and the high-refractive-index material for forming the antireflection layer 40 include the above-described materials, and further, generally known low-refractive-index material layers and high-refractive-index material layers. Can be used.

【００３３】かかる電磁遮蔽性ガラス板１００の構造に
よれば、図８〜図１２に示す反射特性が得られた。すな
わち、図３(ａ)の構造により図８(ａ)に示した反射特性
が、図３(ｂ)の構造により図８(ｂ)に示した反射特性
が、また、図４(ａ)の構造により図９(ａ)に示した反射
特性が、図４(ｂ)の構造により図９(ｂ)に示した反射特
性が得られた。According to the structure of the electromagnetic shielding glass plate 100, the reflection characteristics shown in FIGS. 8 to 12 were obtained. That is, the reflection characteristic shown in FIG. 8A is obtained by the structure of FIG. 3A, the reflection characteristic shown in FIG. 8B is obtained by the structure of FIG. 3B, and the reflection characteristic shown in FIG. The reflection characteristic shown in FIG. 9A is obtained by the structure, and the reflection characteristic shown in FIG. 9B is obtained by the structure of FIG. 4B.

【００３４】さらに、図４(ｃ)に示した熱線吸収ガラス
を採用する構造によれば、図１０に示すように、８００
ｎｍ〜１４００ｎｍの近赤外線領域において優れた光吸
収特性を備えた熱線吸収ガラス基板の光学性能と、ＩＴ
Ｏ膜の光学性能との相乗効果によって、可視光領域の透
過性能をそれほど低下させることなく、近赤外線領域に
おける優れた遮蔽効果を得ることが可能になる。また、
図４(ｄ)に示した反射防止膜（無反射層）４０を採用す
る構造によれば、図１１に示すように、やはり、可視光
領域の透過性能をそれほど低下させることなく、近赤外
線領域における優れた遮蔽効果を得ることが可能にな
る。なお、図１２には、上記図３（ｃ）に示した構造に
より得られる反射特性が示されている。Further, according to the structure employing the heat ray absorbing glass shown in FIG. 4C, as shown in FIG.
performance of a heat-absorbing glass substrate having excellent light absorption characteristics in the near infrared region of 1 nm to 1400 nm and IT
The synergistic effect with the optical performance of the O film makes it possible to obtain an excellent shielding effect in the near-infrared region without significantly lowering the transmission performance in the visible light region. Also,
According to the structure employing the antireflection film (non-reflection layer) 40 shown in FIG. 4D, as shown in FIG. It is possible to obtain an excellent shielding effect. FIG. 12 shows the reflection characteristics obtained by the structure shown in FIG.

【００３５】さらに、上記の構成では、上記低屈折率薄
膜層３１又は／及び高屈折率薄膜層３２から成る反射低
減層３０により膜面側における反射率を減じて、プラズ
マディスプレイ用前面ガラスパネルとしてより好適な特
性を得ている。なお、この反射低減層３０は、上記の例
ではＩＴＯ膜２０の上面に設けられたものについて説明
したが、この反射低減層３０は、透明ガラス基板１０と
ＩＴＯ膜２０との間に形成してもよいことは上記からも
明らかであろう。透明ガラス基板１０とＩＴＯ膜２０と
の間に形成する反射低減層３０は、５５０ｎｍにおける
屈折率が１．６〜２．０の透明薄膜が選ばれ、そのよう
なものとしてＡl₂Ｏ₃が例示できる。Further, in the above configuration, the reflectance on the film surface side is reduced by the reflection reducing layer 30 composed of the low-refractive-index thin film layer 31 and / or the high-refractive-index thin film layer 32, thereby forming a front glass panel for a plasma display. More favorable characteristics are obtained. In the above example, the reflection reducing layer 30 is provided on the upper surface of the ITO film 20. However, the reflection reducing layer 30 is formed between the transparent glass substrate 10 and the ITO film 20. It will be clear from the above that good things are possible. As the reflection reducing layer 30 formed between the transparent glass substrate 10 and the ITO film 20, a transparent thin film having a refractive index at 550 nm of 1.6 to 2.0 is selected, and Al ₂ O ₃ is exemplified as such. it can.

【００３６】なお、上記の実施の形態では、ＩＴＯ層の
成膜と反射低減層の成膜は別々の装置によりオフライン
処理で行ったが、インライン処理が可能な装置で行うの
がスループット向上、すなわち、低コスト化の上で好ま
しい。In the above embodiment, the formation of the ITO layer and the formation of the reflection-reducing layer are carried out in separate apparatuses by off-line processing. It is preferable in terms of cost reduction.

【００３７】また、特に、上述のように、プラズマ化し
たＩＴＯ蒸発粒子を熱線吸収ガラス基板１０上に供給す
ることによれば、従来の一般的なスパッタ法とは異な
り、シート抵抗の低い薄膜を形成することが可能となる
ことから、ＩＴＯ膜２０による電磁遮蔽性能を向上する
ことが出来、また、自由キャリア密度の高いＩＴＯ膜２
０が得られることとなる。すなわち、ドルーデ理論で説
明される近赤外線領域における反射率や吸収率が高くな
り、近赤外線領域における遮蔽性能も高くなる。ちなみ
に、キャリア密度の上記本発明とスパッタ法との比較値
は、本発明の製法：１．７×１０²¹ｃｍ^-3に対して、ス
パッタ法：１．１×１０²¹ｃｍ^-3である。In particular, as described above, according to the present invention, by supplying plasma-formed ITO vaporized particles onto the heat ray absorbing glass substrate 10, unlike a conventional general sputtering method, a thin film having a low sheet resistance can be formed. Since it can be formed, the electromagnetic shielding performance of the ITO film 20 can be improved, and the ITO film 2 having a high free carrier density can be formed.
0 will be obtained. That is, the reflectance and absorptance in the near-infrared region described by the Drude theory increase, and the shielding performance in the near-infrared region also increases. Incidentally, the comparison value between the present invention and the sputtering method of the carrier density, the process of the present invention: For 1.7 × 10 ²¹ cm ^-3, sputtering: a 1.1 × 10 ²¹ cm ^-3.

【００３８】さらに、上記のＩＴＯ膜２０の成膜方法に
よれば、ＩＴＯ膜からの反射率を低減し、可視光領域で
の光学干渉効果によって低反射化を達成し、これによ
り、外光の写り込みが少なく、視認性の高い電磁遮蔽ガ
ラス板１００を提供することが可能となる。Further, according to the above-described method of forming the ITO film 20, the reflectance from the ITO film is reduced, and the reflection is reduced by the optical interference effect in the visible light region. It is possible to provide the electromagnetic shielding glass plate 100 with less reflection and high visibility.

【００３９】続いて、上記の電磁遮蔽ガラス板１００の
実施例Ａ１〜実施例Ａ１６を作成し、その光学的な特性
を測定した結果を以下の表３及び表４に示す。但し、こ
こでは、透明ガラスとしてはソーダライムシリカ組成の
フロートガラスを使用し、実施例５、実施例１１及び１
２の熱線吸収ガラス基板としては、透明ガラスと同じソ
ーダライムシリカ組成のフロートガラスにＦｅイオン、
Ｔｉイオン、Ｃｅイオンを着色成分として含む「ＵＶカ
ットガラス」、Ｆｅイオン、Ｃｏイオンを着色成分とし
て含む「ブルーペーン（商品名）」、Ｆｅイオン、Ｃｏ
イオン、Ｓｅイオンを着色成分として含む「グレーペー
ン（商品名）」を使用した。また、ガラス板の厚みは１
〜３ｍｍのものを使用した。Subsequently, Examples A1 to A16 of the electromagnetic shielding glass plate 100 were prepared, and the optical characteristics thereof were measured. The results are shown in Tables 3 and 4 below. However, here, as the transparent glass, a float glass having a soda lime silica composition was used, and Examples 5, 11 and 1 were used.
As the heat-absorbing glass substrate of No. 2, a float glass having the same soda lime silica composition as the transparent glass is made of Fe ions,
"UV cut glass" containing Ti ion and Ce ion as coloring components, "Blue pane (trade name)" containing Fe ion and Co ions as coloring components, Fe ion, Co
"Gray pane (trade name)" containing ions and Se ions as coloring components was used. The thickness of the glass plate is 1
の も の 3 mm was used.

【表３】 [Table 3]

【表４】 [Table 4]

【００４０】これらの表３，４からも明らかなように、
実施例Ａ１〜Ａ１６の電磁遮蔽ガラス板１００は、可視
光反射率を低減すると共に、特に、実施例Ａ５、Ａ１
１、Ａ１２では、９００ｎｍにおける光の透過率を低減
し、近赤外線領域の光をより遮断し、また、電磁波もよ
くカットすることが可能であることが分かる。As is clear from Tables 3 and 4,
The electromagnetic shielding glass plates 100 of Examples A1 to A16 reduce the visible light reflectance, and in particular, Examples A5 and A1.
1 and A12 show that it is possible to reduce the transmittance of light at 900 nm, block light in the near-infrared region, and cut off electromagnetic waves well.

【００４１】次に、上記プラズマディスプレイ用前面多
層パネルＭＰを構成する他方のパネルである近赤外線吸
収フィルム板２００について説明する。本発明の近赤外
線吸収フィルム板２００は透明な高分子樹脂中に近赤外
線吸収能を有する色素を分散させた吸収層を含む単層或
いは多層フィルム又は多層板からなる近赤外線吸収パネ
ルである。Next, a near-infrared absorbing film plate 200 which is the other panel constituting the front multilayer panel MP for a plasma display will be described. The near-infrared absorbing film plate 200 of the present invention is a near-infrared absorbing panel comprising a single layer or a multilayer film or a multilayer plate including an absorbing layer in which a dye having a near infrared absorbing ability is dispersed in a transparent polymer resin.

【００４２】本発明の近赤外線吸収パネルの透明な高分
子樹脂中に近赤外線吸収能を有する色素を分散させた吸
収層としては、近赤外線吸収能を有する色素と高分子樹
脂と溶剤を均一に混合した溶液からキャスト法によって
成膜されたフィルムや、近赤外線吸収能を有する色素と
高分子樹脂と溶剤を均一に混合した溶液をポリエステル
やポリカーボネイトなどの透明なフィルム上にコーティ
ングして得たフィルムや、近赤外線吸収能を有する色素
と高分子樹脂から溶融押し出し法によって成膜されたフ
ィルム、近赤外線吸収能を有する色素とモノマーを均一
に混合した混合物を重合または固化することにより作成
されたフィルムあるいは、近赤外線吸収能を有する色
素、金属、金属酸化物、金属塩を透明プラスチィックフ
ィルムに蒸着することにより作成されたフィルムのいず
れか、あるいはこれらの２種類以上を併用して用いるこ
とができる。即ち、多様な近赤外線吸収色素の特性に応
じた成型法でフィルムを製造し、これらのフィルムを複
数枚重ねるか若しくは単独で使用する事により、目的に
応じた近赤外線吸収範囲と可視光線領域での色合いを調
製することができる。In the near-infrared absorbing panel of the present invention, the absorbing layer in which the dye having the near-infrared absorbing ability is dispersed in the transparent polymer resin is made of the dye having the near-infrared absorbing ability, the polymer resin and the solvent uniformly. A film formed by casting from a mixed solution or a film obtained by coating a solution obtained by uniformly mixing a dye having near-infrared absorption ability, a polymer resin and a solvent on a transparent film such as polyester or polycarbonate. Or a film formed by melt-extrusion from a dye having high near-infrared absorption and a polymer resin, a film formed by polymerizing or solidifying a mixture of a dye and monomer having near-infrared absorption uniformly. Alternatively, a dye, metal, metal oxide, or metal salt having near-infrared absorption ability may be deposited on a transparent plastic film. Any of the created film by, or may be used in combination of two or more thereof. That is, a film is manufactured by a molding method according to the characteristics of various near-infrared absorbing dyes, and a plurality of these films are stacked or used alone, so that the near-infrared absorbing range and visible light range according to the purpose are obtained. Can be prepared.

【００４３】本発明の近赤外線吸収パネルの吸収層とし
てキャスト法やコーティング法によって成膜されたフィ
ルムを用いる場合は、通常熱溶融押し出し法では２００
度以上で成膜するのに対し、１５０度以下のマイルドな
乾燥条件で行えるので、使用する近赤外線吸収色素が熱
分解することがなく、一般的な有機溶媒に対して均一分
散さえすれば、耐熱性の低い色素でも使用できるため色
素の選択幅が広がるという有利点がある。When a film formed by a casting method or a coating method is used as the absorbing layer of the near-infrared absorbing panel of the present invention, the film is usually formed by a hot melt extrusion method.
Although the film is formed at a temperature of at least 100 ° C, the drying can be performed under mild drying conditions of 150 ° C or less. There is an advantage that the range of selection of the dye is widened because a dye having low heat resistance can be used.

【００４４】キャスト法やコーティング法で成膜を行う
際、本色素のバインダーとして用いる透明な高分子樹脂
としては、共重合ポリエステル、ポリメチルメタリレー
ト、ポリカーボネート、ポリスチレン、アモルファスポ
リオレフィン、ポリイソシアネート、ポリアリレート、
トリアセチルセルロース等の公知の透明プラスチックを
用いることができる。但し、特に５０ミクロン以下の薄
いフィルムで目的とする近赤外線の吸収能を得るために
は、本色素の種類によって異なるが、１〜５ｗｔ％（樹
脂の固形分に対して）の高濃度まで本色素を溶解する必
要がある。この様な高濃度の安定な溶液を、通常使用さ
れるバインダー様樹脂、例えばポリカーボネイトやアク
リル樹脂等からは調製する事が出来ない。例え強制的に
溶かし込むことが出来ても、色素の偏在、表面への色素
の析出、溶液の凝固等の問題が起こり好ましくない。In forming a film by a casting method or a coating method, the transparent polymer resin used as a binder of the present dye includes copolymerized polyester, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, amorphous polyolefin, polyisocyanate, and polyarylate. ,
A known transparent plastic such as triacetyl cellulose can be used. However, in order to obtain the desired near-infrared absorption capacity with a thin film of 50 μm or less in particular, depending on the type of the present dye, it can be used up to a high concentration of 1 to 5 wt% (based on the solid content of the resin). Need to dissolve the dye. Such a stable solution having a high concentration cannot be prepared from a binder-like resin that is usually used, for example, polycarbonate or an acrylic resin. Even if it can be forcibly dissolved, problems such as uneven distribution of the dye, precipitation of the dye on the surface, and solidification of the solution are not preferred.

【００４５】この様に高密度まで色素を溶解させる用途
には、特開平０６−１８４２８８号公報、特開平０６−
０４９１８６号公報、特開平０７−１４９８８１号公
報、特開平０８−１０００５３号公報などに記載されて
いるポリエステル樹脂は、本発明の色素を高濃度まで溶
かすことができ好ましい。従って、本発明において、高
濃度まで色素を溶解させる目的には、この樹脂を用いる
ことが好適である。For the purpose of dissolving a dye to a high density as described above, JP-A-06-184288 and JP-A-06-288
The polyester resins described in JP-A-049186, JP-A-07-149881, JP-A-08-100053, and the like can dissolve the dye of the present invention to a high concentration, and thus are preferable. Accordingly, in the present invention, for the purpose of dissolving the dye to a high concentration, it is preferable to use this resin.

【００４６】上記の樹脂は、一般式（２０）から（２
５）で表される芳香族ジオールを少なくとも１０ｍｏｌ
％以上共重合したポリエステル樹脂である。The above resins are represented by the general formulas (20) to (2)
At least 10 mol of the aromatic diol represented by 5)
% Polyester resin.

【００４７】[0047]

【化２０】 Embedded image

【００４８】（Ｒ1は炭素数が２から４までのアルキレ
ン基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は水素または炭素数が１から
７までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であ
り、それぞれ同じでも異なっても良い。）(R1 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R2, R3, R4, and R5 are hydrogen or an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group having 1 to 7 carbon atoms. May be.)

【００４９】[0049]

【化２１】 Embedded image

【００５０】（Ｒ6は炭素数が１から４までのアルキレ
ン基、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は水素または炭素
数が１から７までのアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。ｋは１
から４の自然数である。）(R6 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R7, R8, R9, R10 and R11 represent hydrogen or an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group having 1 to 7 carbon atoms, and But k may be 1
Is a natural number from to 4. )

【００５１】[0051]

【化２２】 Embedded image

【００５２】（Ｒ12は炭素数が１から４までのアルキレ
ン基、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は水素または炭素数が
１から７までのアルキル基、アリール基、アラルキル基
を表わし、それぞれ同じでも異なっても良い。）(R12 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R13, R14, R15 and R16 represent hydrogen or an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group having 1 to 7 carbon atoms. May be.)

【００５３】[0053]

【化２３】 Embedded image

【００５４】（Ｒ17及びＲ18は炭素数が１から４までの
アルキレン基を表し、それぞれ同じでも異なっても良
い。Ｒ19及びＲ20は水素または炭素数が１から７までの
アルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、それぞ
れ同じでも異なっても良い。ｌおよびｍは１から８の自
然数である。）(R17 and R18 each represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, which may be the same or different. R19 and R20 each represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group. Which is the same or different, and l and m are natural numbers from 1 to 8.)

【００５５】[0055]

【化２４】 Embedded image

【００５６】（Ｒ21は炭素数が１から４までのアルキレ
ン基、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26及びＲ27は水素ま
たは炭素数が１から７までのアルキル基、アリール基、
アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異なっても良
い。ｎは０から５の自然数である。）(R21 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R22, R23, R24, R25, R26 and R27 are hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group,
Represents an aralkyl group, which may be the same or different. n is a natural number from 0 to 5. )

【００５７】[0057]

【化２５】 Embedded image

【００５８】（Ｒ28は炭素数が１から４までのアルキレ
ン基、Ｒ29及びＲ30は炭素数が１から１０までのアルキ
ル基を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ31、
Ｒ32、Ｒ33及びＲ34は水素または炭素数が１から７まで
のアルキル基、アリール基、アラルキル基であり、それ
ぞれ同じでも異なっても良い。）(R28 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R29 and R30 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different.
R32, R33 and R34 are hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group, which may be the same or different. )

【００５９】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（４）で表される化合物としては例えば、９，９−ビ
ス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−フ
ルオレン、９，９−ビス−［４−（２−ヒドロキシエト
キシ）−３−メチルフェニル］−フルオレン、９，９−
ビス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジ
メチルフェニル］−フルオレン、９，９−ビス−［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）−３−エチルフェニル］−
フルオレン、９，９−ビス−［４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）−３，５−ジエチルフェニル］−フルオレン、
等が挙げられ、これらの中でも、９，９−ビス−［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−フルオレンが
光学特性、耐熱性、成形性のバランスが最も良く特に好
ましい。Examples of the compound represented by the general formula (4) for use in the polyester polymer of the present invention include 9,9-bis- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -fluorene and 9,9-bis -[4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] -fluorene, 9,9-
Bis- [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl] -fluorene, 9,9-bis- [4-
(2-hydroxyethoxy) -3-ethylphenyl]-
Fluorene, 9,9-bis- [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-diethylphenyl] -fluorene,
And among these, 9,9-bis- [4-
(2-Hydroxyethoxy) phenyl] -fluorene has the best balance of optical properties, heat resistance and moldability, and is particularly preferred.

【００６０】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（５）で表される化合物としては例えば、１，１−ビ
ス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］シクロ
ヘキサン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）−３−メチルフェニル］シクロヘキサン、１，１−
ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメ
チルフェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）−３−エチルフェニル］シ
クロヘキサン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）−３，５−ジエチルフェニル］シクロヘキサ
ン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−
３−プロピルフェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジベンジ
ルフェニル］シクロヘキサン、及びこれらのシクロヘキ
サンの水素１ー４個を炭素数１から７のアルキル基、ア
リール基、アラルキル基で置換したもの等が挙げられ、
これらの中でも、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル］シクロヘキサンが、好ましい。Examples of the compound represented by the general formula (5) for use in the polyester polymer of the present invention include 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] cyclohexane and 1,1-bis [4 -(2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] cyclohexane, 1,1-
Bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl] cyclohexane, 1,1-bis [4-
(2-hydroxyethoxy) -3-ethylphenyl] cyclohexane, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-diethylphenyl] cyclohexane, 1,1-bis [4- (2-hydroxy Ethoxy)-
3-propylphenyl] cyclohexane, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dibenzylphenyl] cyclohexane, and 1-4 hydrogens of these cyclohexanes are substituted with alkyl having 1 to 7 carbon atoms. Group, aryl group, aralkyl group and the like, and the like.
Among these, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] cyclohexane is preferable.

【００６１】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（６）で表される化合物としては例えば、ビス−［４
−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−スルフォ
ン、ビス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メ
チルフェニル］−スルフォン、ビス−［４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］−スル
フォン、ビス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３
−エチルフェニル］−スルフォン、ビス−［４−（２−
ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジエチルフェニル］−
スルフォン、ビス−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）
−３−プロピルフェニル］−スルフォン、ビス−［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジプロピルフェ
ニル］−スルフォン、ビス−［４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）−３−イソプロピルフェニル］−スルフォン、
等が挙げられる。Examples of the compound represented by the general formula (6) used in the polyester polymer of the present invention include bis- [4
-(2-hydroxyethoxy) phenyl] -sulfone, bis- [4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] -sulfone, bis- [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl ] -Sulfone, bis- [4- (2-hydroxyethoxy) -3
-Ethylphenyl] -sulfone, bis- [4- (2-
Hydroxyethoxy) -3,5-diethylphenyl]-
Sulfone, bis- [4- (2-hydroxyethoxy)
-3-propylphenyl] -sulfone, bis- [4-
(2-hydroxyethoxy) -3,5-dipropylphenyl] -sulfone, bis- [4- (2-hydroxyethoxy) -3-isopropylphenyl] -sulfone,
And the like.

【００６２】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（７）で表される化合物としては例えば、トリシクロ
デカンジメチロール、トリシクロデカンジエチロール、
トリシクロデカンジプロピロール、トリシクロデカンジ
ブチロール、ジメチルトリシクロデカンジメチロール、
ジエチルトリシクロデカンジメチロール、ジフェニルト
リシクロデカンジメチロール、ジベンジルトリシクロデ
カンジメチロール、テトラメチルトリシクロデカンジメ
チロール、ヘキサメチルトリシクロデカンジメチロー
ル、オクタメチルトリシクロデカンジメチロール、等が
挙げられ、これらの中でも、トリシクロデカンジメチロ
ールが好ましい。Examples of the compound represented by the general formula (7) to be used in the polyester polymer of the present invention include, for example, tricyclodecane dimethylol, tricyclodecane dimethylol,
Tricyclodecanedipropylol, tricyclodecanedibutyrol, dimethyltricyclodecanedimethylol,
Diethyltricyclodecane dimethylol, diphenyltricyclodecane dimethylol, dibenzyltricyclodecane dimethylol, tetramethyltricyclodecane dimethylol, hexamethyltricyclodecane dimethylol, octamethyltricyclodecane dimethylol, and the like. Of these, tricyclodecane dimethylol is preferred.

【００６３】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（８）で表されるジヒドロキシ化合物としては例え
ば、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−１−フェニルエタン、１，１−ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］−
１−フェニルエタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］−１−フ
ェニルエタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）−３−エチルフェニル］−１−フェニルエタ
ン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−
３，５−ジエチルフェニル］−１−フェニルエタン、
１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−
プロピルフェニル］−１−フェニルエタン、１，１−ビ
ス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジプロ
ピルフェニル等、及びこれらの中心炭素に、炭素数１か
ら７のアルキル基、アリール基、アラルキル基で置換し
たもの等が挙げられ、これらの中でも、１，１−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フ
ェニルエタンが好ましい。Examples of the dihydroxy compound represented by the general formula (8) for use in the polyester polymer of the present invention include 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -1-phenylethane, 1-bis [4-
(2-Hydroxyethoxy) -3-methylphenyl]-
1-phenylethane, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl] -1-phenylethane, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3- Ethylphenyl] -1-phenylethane, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy)-
3,5-diethylphenyl] -1-phenylethane,
1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-
Propylphenyl] -1-phenylethane, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dipropylphenyl and the like, and an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, aryl, And an aralkyl group, among which 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -1-phenylethane is preferred.

【００６４】本発明のポリエステル重合体に供する一般
式（９）で表される化合物としては例えば、２，２−ビ
ス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパ
ン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］ブタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］ペンタン、２，
２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］
−３−メチルブタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル］ヘキサン、２，２−ビス［４
−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−３−メチル
ペンタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル］−３，３−ジメチルブタン、２，２−ビ
ス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］ヘプタ
ン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−３−メチルヘキサン、２，２−ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−４−メチルヘ
キサン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル］−５−メチルヘキサン、２，２−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−３，３
−ジメチルペンタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル］−３，４−ジメチルペンタ
ン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−４，４−ジメチルペンタン、２，２−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−３−エ
チルペンタン、等が挙げられ、これらの中でも、２，２
−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−
４−メチルペンタンが、適度に大きな枝分かれした側鎖
を有しており、有機溶媒への溶解性の向上の効果が大き
く、耐熱性を損うこともないので特に好ましい。また、
２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル］−プロパンは、耐熱性、機械強度に優れ、有機溶媒
への溶解性も損わないので特に好ましい。Examples of the compound represented by the general formula (9) used in the polyester polymer of the present invention include 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propane and 2,2-bis [4 -(2-hydroxyethoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4-
(2-hydroxyethoxy) phenyl] pentane, 2,
2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl]
-3-methylbutane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] hexane, 2,2-bis [4
-(2-hydroxyethoxy) phenyl] -3-methylpentane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -3,3-dimethylbutane, 2,2-bis [4- (2- (Hydroxyethoxy) phenyl] heptane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -3-methylhexane, 2,2-bis [4-
(2-hydroxyethoxy) phenyl] -4-methylhexane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -5-methylhexane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) Phenyl] -3,3
-Dimethylpentane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -3,4-dimethylpentane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -4,4-dimethyl Pentane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -3-ethylpentane, and the like.
-Bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl]-
4-methylpentane is particularly preferable because it has a moderately large branched side chain, has a large effect of improving solubility in an organic solvent, and does not impair heat resistance. Also,
2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -propane is particularly preferable because it has excellent heat resistance and mechanical strength and does not impair the solubility in an organic solvent.

【００６５】上記のジオール化合物は単独で用いても良
いし、必要に応じて２種類以上を組み合わせて用いても
よい。The above-mentioned diol compounds may be used alone or, if necessary, in combination of two or more.

【００６６】本発明のポリエステル重合体に供するジカ
ルボン酸としては、通常のポリエステル樹脂に用いられ
るジカルボン酸が挙げられるが、例えば、テレフタル
酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、
１，８−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレン
ジカルボン酸、１，２−ナフタレンジカルボン酸、１，
３−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカ
ルボン酸、１，６−ナフタレンジカルボン酸、１，７−
ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボ
ン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、２，２’−ビ
フェニルジカルボン酸、３，３’−ビフェニルジカルボ
ン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸等の芳香族ジ
カルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピ
ン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、メチル
マロン酸、エチルマロン酸、メチルコハク酸、２，２−
ジメチルコハク酸、２，３−ジメチルコハク酸、３−メ
チルグルタル酸、３，３−ジメチルグルタル酸等の脂肪
族ジカルボン酸、１，４シクロヘキサンジカルボン酸、
２，５−ジメチル１，４シクロヘキサンジカルボン酸、
２，３，５，６−テトラメチル−１，４シクロヘキサン
ジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸等が挙げられる。
高耐熱性が重要な場合には、２，６−ナフタレンジカル
ボン酸が、成形性が重要な場合にはテレフタル酸が特に
好ましい。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、必
要に応じて２種類以上併用しても良い。Examples of the dicarboxylic acid to be used in the polyester polymer of the present invention include dicarboxylic acids used in ordinary polyester resins. For example, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid,
1,8-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,2-naphthalenedicarboxylic acid, 1,
3-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,7-
Aromatic such as naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 2,2'-biphenyldicarboxylic acid, 3,3'-biphenyldicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid Dicarboxylic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, methylsuccinic acid, 2,2-
Aliphatic dicarboxylic acids such as dimethylsuccinic acid, 2,3-dimethylsuccinic acid, 3-methylglutaric acid and 3,3-dimethylglutaric acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid,
2,5-dimethyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid,
Alicyclic dicarboxylic acids such as 2,3,5,6-tetramethyl-1,4 cyclohexanedicarboxylic acid and the like can be mentioned.
When high heat resistance is important, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid is particularly preferable, and when moldability is important, terephthalic acid is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more as needed.

【００６７】本発明のポリエステル重合体は、例えばエ
ステル交換法、直接重合法等の溶融重合法、溶液重縮合
法、界面重合法等の公知の方法から適宜の方法を選択し
て製造できる。また、その際の重合触媒等の反応条件も
従来通りで良く、公知の方法を用いることができる。The polyester polymer of the present invention can be produced by selecting an appropriate method from known methods such as a melt polymerization method such as a transesterification method and a direct polymerization method, a solution polycondensation method, and an interfacial polymerization method. In addition, the reaction conditions such as a polymerization catalyst at that time may be the same as those in the related art, and a known method can be used.

【００６８】本発明のポリエステル重合体を溶融重合法
のエステル交換法で製造するには、一般式（４）から
（９）で表される化合物群のうち、少なくとも１種類以
上の化合物を共重合成分として使用するが、使用するジ
ヒドロキシ化合物の合計が、ジオールの１０モル％以
上、９５モル以下が好ましい。１０モル％以上である
と、有機溶媒への溶解性がより向上する。９５モル以下
であれば、溶融重合反応が十分に進行し、自由自在に分
子量を調節してポリエステル重合体を重合することがで
きる。ただし、９５モル％より多くても、溶液重合法ま
たは界面重合法で重合することによって、重合時間を短
縮することができる。In order to produce the polyester polymer of the present invention by the transesterification method of the melt polymerization method, at least one compound of the compounds represented by the general formulas (4) to (9) is copolymerized. Although it is used as a component, the total of the dihydroxy compounds used is preferably 10 mol% or more and 95 mol or less of the diol. When the content is 10 mol% or more, the solubility in an organic solvent is further improved. If it is 95 mol or less, the melt polymerization reaction proceeds sufficiently, and the polyester polymer can be polymerized by freely adjusting the molecular weight. However, even if it is more than 95 mol%, the polymerization time can be shortened by performing polymerization by a solution polymerization method or an interfacial polymerization method.

【００６９】本発明の樹脂と色素を溶解させる溶媒とし
ては、沸点が実用的に好ましい例えば１５０度以下の有
機溶剤ならば何れでも良い。この様な汎用的な溶剤とし
ては、クロロフォルム、塩化メチレン、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化合物、或い
は、トルエン、キシレン、ヘキサン、メチルエチルケト
ン、アセトン、シクロヘキサン等の非ハロゲン系有機溶
剤が使われる。As a solvent for dissolving the resin and the dye of the present invention, any organic solvent having a boiling point of practically preferable, for example, 150 ° C. or less may be used. As such a general-purpose solvent, an aliphatic halogen compound such as chloroform, methylene chloride, dichloromethane, and dichloroethane, or a non-halogen organic solvent such as toluene, xylene, hexane, methyl ethyl ketone, acetone, and cyclohexane are used.

【００７０】本発明の樹脂と色素を溶解させる方法とし
ては、通常の攪拌機やニーダーが用いられる。また、高
濃度の溶液を調製する場合には、バタフライミキサーや
プラネタリーミキサーを用いれば良いが、無論これに限
るものではない。As a method for dissolving the resin and the dye of the present invention, a usual stirrer or kneader is used. When a high-concentration solution is prepared, a butterfly mixer or a planetary mixer may be used, but is not limited to this.

【００７１】上記の方法で得られた溶液から本発明のフ
ィルムを作る場合は、キャストかコーティング法が好ま
しい。キャスト法とは、ガラス板か鏡面仕上げをした金
属板の上に、溶液を注ぎ一定の隙間を持った棒で溶液を
その表面上に延ばした後、乾燥し、適当な方法でフィル
ムを当該表面より剥離し、完成品を得る方法を指す。無
論、この方法を機械化した、いわゆるキャスト機を用い
てフィルムを作成しても良い。When the film of the present invention is prepared from the solution obtained by the above method, a casting or coating method is preferred. The casting method is a method in which a solution is poured onto a glass plate or a mirror-finished metal plate, the solution is spread over the surface with a stick having a certain gap, then dried, and the film is dried by an appropriate method. It refers to the method of peeling more to obtain a finished product. Needless to say, a film may be produced by using a so-called cast machine which is a mechanized version of this method.

【００７２】コーティング法とは、フィルム又はパネル
の上に本発明の溶液を塗布、乾燥の後に、フィルム層を
形成せしめる方法一般のことである。例えば透明または
機能を付与したフィルムの上にコーティングする場合
は、通常のコーティング機が使用できる。この機械は、
分速数メートルから数十メートルの速さで動いているフ
ィルム上に、Ｔ型ダイから一定速度で押し出した本発明
の溶液を押し出し、次の乾燥ゾーンで溶媒を除去し、フ
ィルムを巻き取る一連の工程を行うものである。The coating method is a general method in which the solution of the present invention is applied on a film or panel, dried, and then a film layer is formed. For example, when coating on a transparent or functionalized film, an ordinary coating machine can be used. This machine is
A series of extruding a solution of the present invention extruded at a constant speed from a T-die onto a film moving at a speed of several meters to several tens of meters per minute, removing the solvent in the next drying zone, and winding the film. Is performed.

【００７３】また、本発明の近赤外線吸収パネルの吸収
層として、溶融押し出し法を用いる場合は、フィルム成
形が容易で安価に製造できる有利な点がある。この場合
は樹脂と色素をフィダーから１軸または２軸の混練機に
投入し、所定の温度、通常は３００℃近い温度で溶融混
練し、Ｔ型ダイから押し出してフィルムを成型する方法
が一般的であるが、無論これに限るものではない。When the melt-extrusion method is used for the absorption layer of the near-infrared absorbing panel of the present invention, there is an advantage that the film can be easily formed and can be manufactured at low cost. In this case, generally, a resin and a dye are charged from a feeder into a uniaxial or biaxial kneader, melt-kneaded at a predetermined temperature, usually at a temperature close to 300 ° C., and extruded from a T-die to form a film. However, the present invention is not limited to this.

【００７４】更に、本発明の近赤外線吸収パネルの吸収
層として重合、固化により作成されたフィルムを用いて
も良い。この場合には、モノマーとして、スチレンやブ
タジエン、イソプレン、メタアクリル酸メチル等の良く
知られたビニル結合を有する化合物を用いる事ができ
る。色素は予めこれらモノマー及び開始剤と混練して均
一な溶液を作成し、ガラス板等でできた型に流し込み、
温度を上げるか、又は、紫外線を照射することにより反
応を開始する。Further, a film formed by polymerization and solidification may be used as the absorption layer of the near-infrared absorbing panel of the present invention. In this case, a compound having a well-known vinyl bond such as styrene, butadiene, isoprene, or methyl methacrylate can be used as the monomer. The dye is kneaded with these monomers and the initiator in advance to form a uniform solution, and poured into a mold made of a glass plate or the like,
The reaction is started by raising the temperature or irradiating with ultraviolet rays.

【００７５】すなわち、本発明の近赤外線吸収パネルの
吸収層としては、例えば耐熱性の低い色素を使用する場
合にはキャスト法によって成膜したフィルムを用いれば
良く、分散性の悪い色素を使用する場合には重合、固化
により作成されたフィルムを用いれば良く、それ以外の
色素を使用する場合には溶融押し出し法により成膜した
フィルムを用いれば良い。これらのフィルムを貼り合わ
せることにより、いかなる色素をも使用することがで
き、互いのフィルム層の色素濃度を調整することによ
り、全体としての色調を自由に制御できる。That is, as the absorption layer of the near-infrared absorbing panel of the present invention, for example, when a dye having low heat resistance is used, a film formed by a casting method may be used, and a dye having poor dispersibility is used. In this case, a film formed by polymerization and solidification may be used, and when other dyes are used, a film formed by a melt extrusion method may be used. Any dye can be used by laminating these films, and the overall color tone can be freely controlled by adjusting the dye concentration of each film layer.

【００７６】近赤外線吸収パネルに要求される特性とし
て特に重要なものは、近赤外線、具体的には波長８５０
ｎｍから１２００ｎｍにおける光線の吸収性、可視領
域、具体的には４００ｎｍから８００ｎｍにおける光線
の透過性、および色調が挙げられる。Particularly important characteristics required for the near-infrared absorbing panel are near-infrared rays, specifically, a wavelength of 850.
Absorption of light from nm to 1200 nm, transparency of light in the visible region, specifically, from 400 nm to 800 nm, and color tone.

【００７７】これらの特性の中でも近赤外線の吸収性が
最重要であるが、用途によっては他の二つの特性が非常
に重要になる。例えば、映像出力装置から発生される近
赤外線を吸収し、当該近赤外線領域で作動するリモコン
の誤作動を防ぐ近赤外線吸収パネルとして用いる場合に
は、可視領域における透過性はもちろんのこと、特にこ
の映像出力装置がカラー使用である場合には、色調が非
常に重要である。すなわち、全色における色差を極めて
小さくする必要があり、具体的にはグレー又はブラウン
の色調を有さなければならない。この場合には複数の色
素を巧妙に配合する必要がある。Of these properties, near-infrared absorption is the most important, but the other two properties become very important depending on the application. For example, when used as a near-infrared absorbing panel that absorbs near-infrared light emitted from a video output device and prevents malfunction of a remote controller that operates in the near-infrared region, not only transparency in the visible region, but also particularly When the video output device uses color, the color tone is very important. That is, it is necessary to make the color difference in all colors extremely small, and specifically, it must have a gray or brown color tone. In this case, it is necessary to mix a plurality of dyes with skill.

【００７８】従来の方法では、透明高分子樹脂と近赤外
吸収能のある色素を混練後、熱溶融押し成形したり、低
分子中に色素を取り込み重合する方法により近赤外線吸
収パネルを得ていたが、これらの方法では、色素として
は熱分解しないものしか使用できず、選択幅が狭くな
り、上述の特性を発現させることが極めて困難になる。In the conventional method, a near-infrared absorbing panel is obtained by kneading a transparent polymer resin and a dye having a near-infrared absorbing ability, and then hot-melt extrusion molding or incorporating a dye into a low molecular weight and polymerizing. However, in these methods, only those that do not thermally decompose can be used as the dye, and the selection range is narrowed, and it is extremely difficult to exhibit the above-described characteristics.

【００７９】一方、本発明の近赤外線吸収パネルは、キ
ャスト法及びコーティング法により成膜したフィルムを
使用でき、耐熱性の低い色素も使用できるため、色素の
選択幅が広いという点で効果的である。On the other hand, the near-infrared absorbing panel of the present invention can use a film formed by a casting method and a coating method, and can use a dye having low heat resistance. is there.

【００８０】本発明の近赤外線吸収パネルの吸収層に用
いる色素としては、近赤外領域に吸収を有する色素であ
るならばいずれでもよく、ポリメチン系色素（シアニン
色素）、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチ
オール金属錯塩系、ナフトキノン、アントロキノン、ト
リフェニルメタン系、アミニウム（あるいはアルミニウ
ム）系、ジインモニウム系などが用いられる。The dye used in the absorption layer of the near-infrared absorbing panel of the present invention may be any dye having absorption in the near infrared region, such as polymethine dyes (cyanine dyes), phthalocyanine dyes, and naphthalocyanine dyes. , Dithiol metal complex, naphthoquinone, anthroquinone, triphenylmethane, aminium (or aluminum), diimmonium, and the like.

【００８１】この中でも一般式（１）で表される芳香族
ジチオール系金属錯体Among them, the aromatic dithiol-based metal complex represented by the general formula (1)

【００８２】[0082]

【化１】 Embedded image

【００８３】（ＲＤ1〜ＲＤ4は炭素数が１から４までの
アルキレン基、アリール基、アラルキル基、フッ素、水
素を示し、Ｍは４配位の遷移金属）と、一般式（２）又
は（３）で表される芳香族ジインモニウム化合物(RD 1 to RD 4 each represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, fluorine, or hydrogen, and M represents a transition metal having four coordinates), and the general formula (2) or (3) ) Aromatic diimmonium compound

【００８４】[0084]

【化２】 Embedded image

【００８５】（ＲＤ5〜ＲＤ12は炭素数が１から１０ま
でのアルキル基、Ｘは１価のアニオン）(RD5 to RD12 are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X is a monovalent anion)

【００８６】又はOr

【００８７】[0087]

【化３】 Embedded image

【００８８】（ＲＤ13〜ＲＤ18は炭素数が１から１０ま
でのアルキル基、Ｘは１価のアニオン）(RD13 to RD18 are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X is a monovalent anion)

【００８９】及びフタロシアニン系の色素の３種類の内
から少なくとも２種類以上を組み合わせることが本発明
の１つの新規な特徴である。One novel feature of the present invention is that at least two or more of the three phthalocyanine dyes are combined.

【００９０】上記の芳香族ジチオール系金属錯体とは、
ニッケル ビス１、２−ジフェニル−１、２−エテンジ
チオラト及びその二つの芳香環の水素を炭素数が１から
４までのアルキレン基、アリール基、アラルキル基、フ
ッ素等の基で置換した化合物であり、例えば、化学式
（２６）及び（２７）で表される化合物を使用する事が
できるが、無論これに限るものではない。The above-mentioned aromatic dithiol-based metal complex is
Nickel bis-1,2-diphenyl-1,2-ethenedithiolate and a compound in which hydrogen of two aromatic rings has been substituted with a group having 1 to 4 carbon atoms such as an alkylene group, an aryl group, an aralkyl group, and fluorine, For example, compounds represented by the chemical formulas (26) and (27) can be used, but are not limited thereto.

【００９１】[0091]

【化２６】 Embedded image

【００９２】[0092]

【化２７】 Embedded image

【００９３】さらに、上述のイオン化化合物、例えば化
学式（２８）で表される化合物も使用する事ができる
が、無論これに限るものではない。このような化合物の
場合、本発明に使用されているカウンターイオンは化学
式（２８）に使用されているテトラブチルアンモニウム
イオン以外の１価のカチオンであればどれでも良く、例
えば文献［機能性色素の開発と市場動向（シー・エム・
シー出版）］に記載されている様なカチオンであれば良
い。Further, the above-mentioned ionized compound, for example, the compound represented by the chemical formula (28) can also be used, but is not limited to this. In the case of such a compound, the counter ion used in the present invention may be any monovalent cation other than the tetrabutylammonium ion used in the chemical formula (28). Development and Market Trends (CM
).

【００９４】[0094]

【化２８】 Embedded image

【００９５】また金属のニッケルに替えて４価の遷移金
属ならどれでも良く、例えば、チタン、バナジウム、ジ
ルコニウム、クロム、モリブデン、ルテニウム、オスニ
ウム、コバルト、白金、パラジウムなどである。Further, any tetravalent transition metal may be used in place of the metal nickel, for example, titanium, vanadium, zirconium, chromium, molybdenum, ruthenium, osnium, cobalt, platinum, palladium and the like.

【００９６】この色素は８００から９５０ナノメータ
（ｎｍ）までの吸収が強く、リモコン等に使用される近
赤外線の波長の光を遮断し、リモコン誤操作の防止に効
果的である。This dye has a strong absorption in the range of 800 to 950 nanometers (nm), blocks light having a wavelength of near-infrared rays used for remote controllers and the like, and is effective in preventing erroneous operations of remote controllers.

【００９７】一般式（２９）又は（３０）Formula (29) or (30)

【００９８】[0098]

【化２９】 Embedded image

【００９９】（Ｒ1からＲ8は炭素数が１から１０までの
アルキル基、Ｘは１価のアニオン）又は(R1 to R8 are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, X is a monovalent anion) or

【０１００】[0100]

【化３０】 Embedded image

【０１０１】（Ｒ1からＲ8は炭素数が１から１０までの
アルキル基、Ｘは１価のアニオン）(R1 to R8 are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X is a monovalent anion)

【０１０２】で表される芳香族ジインモニウム化合物と
は、例えば、化学式（３１）から（３５）で表される化
合物を使用する事ができるが、無論これに限るものでは
ない。１価のアニオンとして化学式の六フッ化アンチモ
ン以外に、例えば、六フッ化リン、四フッ化ホウ素、過
塩素酸イオンなどがこのましく用いられる。As the aromatic diimmonium compound represented by the following formula, for example, compounds represented by the chemical formulas (31) to (35) can be used, but needless to say, the present invention is not limited thereto. As the monovalent anion, in addition to antimony hexafluoride of the chemical formula, for example, phosphorus hexafluoride, boron tetrafluoride, perchlorate ion and the like are preferably used.

【０１０３】[0103]

【化３１】 Embedded image

【０１０４】[0104]

【化３２】 Embedded image

【０１０５】[0105]

【化３３】 Embedded image

【０１０６】[0106]

【化３４】 Embedded image

【０１０７】[0107]

【化３５】 Embedded image

【０１０８】この色素は９００〜１２００ｎｍ前後の吸
収が強く、リモコン等に使用される近赤外線の波長の光
以外に、将来使用が見込まれるコンピュター通信の波長
の光をも遮断し、この誤動作の防止に効果的である。こ
の色素は、上述のＩＴＯと重ね合わせてパネルを形成し
た時に、より効果的に１０００ｎｍ前後の近赤外線を遮
断する。This dye has a strong absorption at around 900 to 1200 nm, and blocks not only near-infrared wavelength light used for remote controllers and the like but also light of computer communication wavelength expected to be used in the future. It is effective for This dye more effectively blocks near infrared rays at around 1000 nm when a panel is formed by overlapping with the above-mentioned ITO.

【０１０９】上述の２種類の色素（芳香族ジチオール系
金属錯体と芳香族ジインモニウム化合物）が特に効果的
である。さらに、これらの色素が可視光線領域に吸収を
有している場合には、色調補正用色素を用いて色調を調
節する事も可能である。このような色調補正用色素とし
てはフタロシアニン系の色素が効果的である。本発明に
おけるフタロシアニン系色素としては、例えば、文献
〔機能性色素の開発と市場動向（シーエムシー）〕に記
載されている様な色素であればいずれでも良い。The above two kinds of dyes (aromatic dithiol-based metal complex and aromatic diimmonium compound) are particularly effective. Further, when these dyes have absorption in the visible light region, the color tone can be adjusted using a color tone correcting dye. As such a color tone correcting dye, a phthalocyanine dye is effective. As the phthalocyanine-based dye in the present invention, for example, any dye may be used as long as it is described in the literature [Development of functional dyes and market trends (CMC)].

【０１１０】上述の近赤外線吸収能のある芳香族ジイン
モニウム化合物系の色素は一般的に熱に弱い。このた
め、溶融押し出しや重合、固化では熱分解を起こしてし
まい、近赤外線における吸収性が悪くなる。したがっ
て、この色素を吸収層に使用する場合には、キャスト法
にてフィルムを成膜することが特に好ましい。The above-mentioned dyes of the aromatic diimmonium compound having near infrared absorption ability are generally weak to heat. For this reason, thermal decomposition occurs in melt extrusion, polymerization, and solidification, and the absorption in near infrared rays is deteriorated. Therefore, when this dye is used for the absorption layer, it is particularly preferable to form a film by a casting method.

【０１１１】本発明の近赤外線吸収フィルム板を作成す
るにあたり、予め成形した板又はフィルムを適当な方法
にて貼り合わせる必要がある。これには透明で接着力の
高い高分子系接着剤が好ましく用いられる。この様な高
分子系接着剤としては例えば２液のエポキシ系の接着剤
や、不飽和ポリエステル、ウレタン系の接着剤、フェノ
ール樹脂系の接着剤、ビニル樹脂やアクリル酸系の接着
剤が挙げられる。In preparing the near-infrared absorbing film plate of the present invention, it is necessary to bond a preformed plate or film by an appropriate method. For this, a transparent polymer adhesive having high adhesive strength is preferably used. Examples of such a polymer adhesive include a two-liquid epoxy adhesive, an unsaturated polyester, urethane adhesive, a phenol resin adhesive, a vinyl resin and an acrylic acid adhesive. .

【０１１２】電磁波シールドの透明導電性層に上述した
ＩＴＯ膜を使用する場合は、それに対応した近赤外線吸
収フィルムを使用する必要がある。例えば、熱線反射ガ
ラスでは１２００ナノメーターを越す波長での吸収があ
るため、近赤外線吸収色素は８００ｎｍ〜１２００ｎｍ
での吸収を受け持つことになる。熱線吸収ガラスの材質
によって吸収特性が異なるため、色素の組み合わせや濃
度を制御して相手に合わせる必要がある。これには、上
述した本発明の色素の内、芳香族ジチオール系金属錯
体、好ましくは、芳香族ジチオール系ニッケル錯体、最
も好ましくは、ニッケル ビス１、２−ジフェニル−
１、２−エテンジチオラト、若しくは、ニッケル ビス
１、２−ジフェニル−１、２−エテンジチオラトのベン
ゼン環の水素をフッ素かメチル基に置き換えたものが使
用される。さらに、色調を整えるためにフタロシアニン
系の色素を添加しても良い。芳香族ジインモニウムも使
用できる。When the above-mentioned ITO film is used for the transparent conductive layer of the electromagnetic wave shield, it is necessary to use a near infrared absorbing film corresponding to the ITO film. For example, since the heat ray reflective glass has an absorption at a wavelength exceeding 1200 nanometers, the near-infrared absorbing dye has a wavelength of 800 nm to 1200 nm.
Will be responsible for the absorption. Since the absorption characteristics vary depending on the material of the heat ray absorbing glass, it is necessary to control the combination and concentration of the dye to match the other party. This includes aromatic dithiol-based metal complexes, preferably aromatic dithiol-based nickel complexes, and most preferably nickel bis 1,2-diphenyl-
1,2-ethenedithiolate or nickel bis-1,2-diphenyl-1,2-ethenedithiolate in which the hydrogen on the benzene ring is replaced with fluorine or a methyl group is used. Further, a phthalocyanine-based dye may be added to adjust the color tone. Aromatic diimmonium can also be used.

【０１１３】上述の電磁波遮蔽性のガラスとしてＩＴＯ
膜付ガラスを用いる場合、透明な高分子樹脂に対してジ
チオール金属錯体をａ重量％、フタロシアニン系色素を
ｂ重量％、ジイモニウム系色素をｃ重量％、アミニウム
系色素をｄ重量％、配合したとする。この場合本発明の
色素が有効に作用する範囲は、０．１≦ａ≦５．０、
０．０１≦ｂ≦２．０、０．１≦ｃ≦５．０、０．０１
≦ｄ≦１．０、好ましくは０．５≦ａ≦２．５、０．０
１≦ｂ≦２．０、０．２≦ｃ≦３．０、０．１≦ｄ≦
０．５である。つまり０．８１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜８．
０で配合することが好適である。それらをキャスト法、
コーティング法、溶融押し出し法、モノマーに配合して
からの重合法等で成膜する。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜０．８１
で配合し、成膜した場合、可視光透過性は高いが、近赤
外線吸収性が低く近赤外線遮断フィルターとしての効果
がなく好ましくない。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜８．０で配合
し、成膜した場合、近赤外線吸収性は高いが可視光透過
性が低くなり光学フィルターとして使用することが出来
ない。The above-mentioned electromagnetic wave shielding glass is made of ITO.
In the case of using a glass with a film, a weight% of a dithiol metal complex, b weight% of a phthalocyanine dye, c weight% of a diimonium dye, and d weight% of an aminium dye were blended with a transparent polymer resin. I do. In this case, the effective range of the dye of the present invention is 0.1 ≦ a ≦ 5.0,
0.01 ≦ b ≦ 2.0, 0.1 ≦ c ≦ 5.0, 0.01
≦ d ≦ 1.0, preferably 0.5 ≦ a ≦ 2.5, 0.0
1 ≦ b ≦ 2.0, 0.2 ≦ c ≦ 3.0, 0.1 ≦ d ≦
0.5. That is, 0.81 ≦ a + b + c + d <8.
It is preferred to mix at 0. Cast them,
A film is formed by a coating method, a melt extrusion method, a polymerization method after blending with a monomer, or the like. a + b + c + d <0.81
When formed into a film, the film has high visible light transmittance, but has a low near-infrared absorption, and is not preferable because it has no effect as a near-infrared cutoff filter. When a + b + c + d <8.0 is blended and formed into a film, the near-infrared absorption is high, but the visible light transmission is low, and the film cannot be used as an optical filter.

【０１１４】上記の配合量は近赤外線吸収層が０．０１
ｍｍの場合である。無論近赤外線吸収層の厚みを変える
と、それに比例して配合量も変わる。具体的には、近赤
外線吸収層が０．００５ｍｍの場合、１．６２≦ａ＋ｂ
＋ｃ＋ｄ＜１６．０で配合すると好適である。The above compounding amount is such that the near infrared absorbing layer is 0.01
mm. Of course, if the thickness of the near-infrared absorbing layer is changed, the blending amount will also change in proportion. Specifically, when the near-infrared absorbing layer is 0.005 mm, 1.62 ≦ a + b
It is preferable to mix at + c + d <16.0.

【０１１５】次に、本発明の実施形態である近赤外線吸
収フィルム板２００を具体的に説明する。Next, the near-infrared absorbing film plate 200 according to the embodiment of the present invention will be specifically described.

【０１１６】図２にも示すように、ポリカーボネート、
ポリメチルメタクリレート等の透明な樹脂からなるベー
スフィルム５０上に、コーティング法やキャスト法によ
って近赤外線吸収層６０を成膜したもの、又は、溶融押
し出し法及びモノマーからの重合固化で作成された近赤
外線吸収と形状保持を兼ね備えた一体のパネルの層から
なる。なお、この近赤外線吸収フィルム板２００は、上
記電磁遮蔽性ガラス板１００のプラズマディスプレイＰ
ＤＰ側の面上に貼り合わせ、本発明のプラズマディスプ
レイ用前面多層パネルＭＰを完成する。As also shown in FIG.
A film obtained by forming a near-infrared absorbing layer 60 on a base film 50 made of a transparent resin such as polymethyl methacrylate by a coating method or a casting method, or a near-infrared light produced by a melt extrusion method and polymerization and solidification from a monomer. It consists of a single panel layer that combines absorption and shape retention. The near-infrared absorbing film plate 200 is a plasma display P of the electromagnetic shielding glass plate 100.
By laminating on the surface on the DP side, the front multilayer panel MP for a plasma display of the present invention is completed.

【０１１７】本発明の有効性と新規性を実施例にて具体
的に説明する。The effectiveness and novelty of the present invention will be specifically described with reference to examples.

【０１１８】［実施例］実施例における、近赤外線吸収
性、可視領域透過率、および色調は次に示す方法によっ
て評価した。[Examples] In the examples, near-infrared absorption, visible region transmittance, and color tone were evaluated by the following methods.

【０１１９】（１）近赤外線吸収性 分光光度計（日本分光社製ｂｅｓｔＶ−５７０）にて、
波長９００ｎｍ〜１２００ｎｍにおける光線透過率の平
均値（Ｔr）を測定し、（100−Ｔr）で近赤外線遮断率
（％）を評価した。(1) Near-infrared absorptivity Spectrophotometer (best V-570 manufactured by JASCO Corporation)
The average value (Tr) of the light transmittance at a wavelength of 900 nm to 1200 nm was measured, and the near-infrared ray blocking rate (%) was evaluated using (100-Tr).

【０１２０】（２）可視領域透過性 （１）と同じ分光光度計にて、波長４５０ｎｍ〜７００
ｎｍにおける平均光線透過率を測定し、これを可視光透
過率Ｔvとした。(2) Visibility in the visible region Using the same spectrophotometer as in (1), a wavelength of 450 nm to 700
The average light transmittance in nm was measured, and this was defined as visible light transmittance Tv.

【０１２１】実施例Ｂ１ （１）テレフタル酸ジメチル（ＤＭＴ）０．４ｍｏｌ、
エチレングリコール（ＥＧ）０．８８ｍｏｌ、ビス９，
９−ビス−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル）フルオレン（ＢＰＥＦ）０．２８ｍｏｌを原料とし
て通常の溶融重合でフルオレン系共重合ポリエステル
（ＤＭＴ：ＢＰＥＦ＝３：７ｍｏｌ）を得た。そのフル
オレン系共重合ポリエステルは極限粘度［η］＝０．４
２、分子量Ｍｗ＝４５０００、ガラス転移温度Ｔｇ＝１
４０℃であった。 （２）ニッケル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エ
テンジチオラトを既知の合成法で得た後、９９％以上に
再結晶により精製した。そのマススペクトルを図１３に
示す。それをフルオレン系共重合ポリエステルに対して
１．８重量％、フタロシアニン系色素（日本触媒製ＩＲ
−３または８０３Ｋ）を０．１５重量％、フタロシアニ
ン系色素（日本触媒製ＴＸ−２１１Ａ）を０．１５重量
％を塩化メチレンに分散し、その溶液を易接着ポリエス
テルフィルム（東洋紡製Ａ４１００、厚さ０．１２５ｍ
ｍ）上にコーティングした後、１２０℃で乾燥させて厚
さ０．０１ｍｍの近赤外線吸収層を持つフィルムを得
た。その分光透過スペクトルを図１４に示す。得られた
近赤外線吸収フィルムと実施例Ａ３により得られた近赤
外線反射層を有する透明導電性ガラスを貼り合わせて図
中Ｂの形態をとる近赤外線遮断パネルが得られた。透明
導電性ガラス及び得られた近赤外線遮断パネルの分光透
過スペクトルを図１５及び図１６に示す。このパネルの
１００−Ｔｒは９５％と良好だった。また、Ｔｖは６５
％であり透過性は良好であった。Example B1 (1) 0.4 mol of dimethyl terephthalate (DMT)
0.88 mol of ethylene glycol (EG), bis 9,
Starting from 0.28 mol of 9-bis- (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene (BPEF) as a raw material, fluorene-based copolymerized polyester (DMT: BPEF = 3: 7 mol) was obtained by ordinary melt polymerization. The fluorene-based copolymerized polyester has an intrinsic viscosity [η] = 0.4
2, molecular weight Mw = 45000, glass transition temperature Tg = 1
40 ° C. (2) Nickel and bis 1,2-diphenyl-1,2-ethenedithiolate were obtained by a known synthesis method, and then purified to 99% or more by recrystallization. FIG. 13 shows the mass spectrum. 1.8% by weight based on the fluorene-based copolymerized polyester, a phthalocyanine-based dye (Nippon Shokubai IR
-3 or 803K) and 0.15% by weight of a phthalocyanine dye (TX-211A, manufactured by Nippon Shokubai) in methylene chloride, and the solution was dispersed in an easily-adhesive polyester film (A4100, manufactured by Toyobo). 0.125m
m) After coating on it, it was dried at 120 ° C. to obtain a film having a near infrared absorbing layer having a thickness of 0.01 mm. FIG. 14 shows the spectral transmission spectrum. The obtained near-infrared absorbing film and the transparent conductive glass having a near-infrared reflecting layer obtained in Example A3 were bonded to each other to obtain a near-infrared shielding panel having the form shown in B in the figure. 15 and 16 show the spectral transmission spectra of the transparent conductive glass and the obtained near-infrared shielding panel. The 100-Tr of this panel was as good as 95%. Tv is 65
% And the permeability was good.

【０１２２】実施例Ｂ２ コーティング法のポリマーとして、トリアセチルセルロ
ース（ダイセル化学製ＬＴ−３５）を使用した以外は実
施例Ｂ１と同様にして図２の形態の近赤外線吸収パネル
を作成し、特性を評価した。このパネルの１００−Ｔｒ
は９５％と良好だった。また、Ｔｖは６５％であり透過
性は良好であった。Example B2 A near-infrared absorbing panel having the form shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in Example B1 except that triacetyl cellulose (LT-35 manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.) was used as the polymer for the coating method. evaluated. 100-Tr of this panel
Was 95% good. Moreover, Tv was 65% and the transmittance was good.

【０１２３】実施例Ｂ３ 実施例Ｂ１で得られたフルオレン系ポリエステル共重合
体に対して化学式（３１）のジインモニウム系色素を
２．３重量％、ニッケル，ビス１，２−ジフェニル−
１，２−エテンジチオライトを１．０重量％、フタロシ
アニン系色素（日本触媒製ＩＲ−１または８０１Ｋ）を
０．２重量％、フタロシアニン系色素（日本触媒製ＩＲ
−３または８０３Ｋ）を０．３重量％を塩化メチレンに
分散し、その溶液を易接着ポリエステルフィルム（東洋
紡製Ａ４１００、厚さ０．１２５ｍｍ）上にコーティン
グした後、１２０℃で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近
赤外線吸収層を持つフィルムを得た。その分光透過スペ
クトルを図１７に示す。得られた近赤外線吸収フィルム
と実施例Ａ３により得られた近赤外線反射層を有する透
明導電性ガラスを貼り合わせて図中Ｂの形態をとる近赤
外線遮断パネルが得られた。得られた近赤外線遮断パネ
ルの分光透過スペクトルを図１８に示す。このパネルの
１００−Ｔｒは９５％と良好だった。また、Ｔｖは６０
％であり透過性は良好であった。Example B3 2.3% by weight of a diimmonium-based dye represented by the formula (31), nickel, bis-1,2-diphenyl-, was added to the fluorene-based polyester copolymer obtained in Example B1.
1.0% by weight of 1,2-ethenedithiolite, 0.2% by weight of a phthalocyanine dye (IR-1 or 801K manufactured by Nippon Shokubai), and a phthalocyanine dye (IR manufactured by Nippon Shokubai)
-3K or 803K) in methylene chloride, disperse the solution in methylene chloride, coat the solution on an easily adhesive polyester film (A4100 manufactured by Toyobo, 0.125 mm thick), and dry at 120 ° C to obtain a thickness. A film having a near infrared absorbing layer of 0.01 mm was obtained. FIG. 17 shows the spectral transmission spectrum. The obtained near-infrared absorbing film and the transparent conductive glass having a near-infrared reflecting layer obtained in Example A3 were attached to each other to obtain a near-infrared shielding panel having the form shown in B in the figure. FIG. 18 shows the spectral transmission spectrum of the obtained near-infrared shielding panel. The 100-Tr of this panel was as good as 95%. Tv is 60
% And the permeability was good.

【０１２４】実施例Ｂ４ 実施例Ｂ１の方法で得られたニッケル，ビス1,2-ジフェ
ニル-1,2-エテンジチオラトをフルオレン系共重合ポリ
エステルに対して１．６重量％、フタロシアニン系色素
（日本触媒製ＩＲ−３または８０３Ｋ）を０．１５重量
％、フタロシアニン系色素（日本触媒製ＴＸ−２１１
Ａ）を０．１３重量％を塩化メチレンに分散し、その溶
液を易接着ポリエステルフィルム（東洋紡製Ａ４１０
０，厚さ０．１２５ｍｍ）上にコーティングした後、１
２０℃で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近赤外線吸収層
をもつフィルムを得た。得られた近赤外線吸収フィルム
と実施例Ａ１６により得られた電磁波遮断ガラス板とを
貼り合せ、図１９に示す透過率特性のパネルを得た。図
中(a)は実施例Ａ１６の電磁波遮断性ガラス板の透過率
特性であり、(b)は得られた近赤外線吸収フィルムの透
過率特性であり、(c)は本発明のパネルの特性で、可視
光線透過率が５５％以上、９００ｎｍの波長における透
過率が約５％という良好な特性を有していた。Example B4 Nickel and bis-1,2-diphenyl-1,2-ethenedithiolate obtained by the method of Example B1 were 1.6% by weight based on a fluorene-based copolymerized polyester, and a phthalocyanine dye (Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.13% by weight of IR-3 or 803K (manufactured by Nippon Shokubai)
A) was dispersed in methylene chloride at 0.13% by weight, and the resulting solution was mixed with an easily adhesive polyester film (A410 manufactured by Toyobo).
0, 0.125mm thickness)
It was dried at 20 ° C. to obtain a film having a near-infrared absorbing layer having a thickness of 0.01 mm. The obtained near-infrared absorbing film and the electromagnetic wave shielding glass plate obtained in Example A16 were bonded together to obtain a panel having transmittance characteristics shown in FIG. In the figure, (a) shows the transmittance characteristics of the electromagnetic wave shielding glass plate of Example A16, (b) shows the transmittance characteristics of the obtained near-infrared absorbing film, and (c) shows the characteristics of the panel of the present invention. And had a good characteristic that the visible light transmittance was 55% or more and the transmittance at a wavelength of 900 nm was about 5%.

【０１２５】比較例Ｂ１ 実施例Ｂ１の方法で得られたフルオレン系共重合ポリエ
ステルに対して、実施例Ｂ１の方法で得られたニッケ
ル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エテンジチオレ
ートをポリマーに対して５．５重量％、フタロシアニン
系色素（日本触媒社製イーエクスカラー８０３Ｋ）を
１．５重量％、塩化メチレンに分散した後、その溶液を
易接着ポリエステルフィルム（東洋紡製Ａ４１００、厚
さ０．１２５ｍｍ）上にコーティングした後、１２０度
で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近赤外線吸収層をもつ
フィルムを得た。その分光スペクトルを図２０のＧに示
す。このパネルの近赤外線遮閉率は９８％と高いが、可
視光透過率は２５％と低く、劣るものである。この赤外
線吸収フィルム板は、電磁遮蔽ガラス板と組合せても明
るいパネルとすることができない。Comparative Example B1 Nickel and bis 1,2-diphenyl-1,2-ethenedithiolate obtained by the method of Example B1 were added to the fluorene-based copolymerized polyester obtained by the method of Example B1. After dispersing 5.5% by weight of the polymer and 1.5% by weight of a phthalocyanine-based dye (Eex Color 803K manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) in methylene chloride, the solution is coated with an easily adhesive polyester film (A4100 manufactured by Toyobo, thickness (0.125 mm), and dried at 120 ° C. to obtain a film having a near-infrared absorbing layer having a thickness of 0.01 mm. The spectrum is shown in FIG. Although the near-infrared shielding ratio of this panel is as high as 98%, the visible light transmittance is as low as 25%, which is inferior. Even if this infrared absorbing film plate is combined with an electromagnetic shielding glass plate, it cannot be a bright panel.

【０１２６】比較例Ｂ２ 実施例Ｂ１の方法で得られたフルオレン系共重合ポリエ
ステルに対して、実施例Ｂ１の方法で得られたニッケ
ル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エテンジチオレ
ートをポリマーに対して０．０５重量％、フタロシアニ
ン系色素（日本触媒社製イーエクスカラー８０１Ｋ）を
０．０１重量％フタロシアニン系色素（日本触媒社製イ
ーエクスカラー８０３Ｋ）を０．０１重量％、塩化メチ
レンに分散した後、その溶液を易接着ポリエステルフィ
ルム（東洋紡製Ａ４１００、厚さ０．１２５ｍｍ）上に
コーティングした後、１２０度で乾燥させて厚さ０．０
１ｍｍの近赤外線吸収層をもつフィルムを得た。その分
光スペクトルを図２０のＨに示す。このパネルの近赤外
線遮閉率は８５％と高いが、可視光透過率は５５％と低
く、劣るものである。この赤外線吸収フィルム板は、電
磁遮蔽ガラス板と組合せても明るいパネルとすることが
できない。Comparative Example B2 Nickel and bis 1,2-diphenyl-1,2-ethenedithiolate obtained by the method of Example B1 were added to the fluorene-based copolymer polyester obtained by the method of Example B1. 0.05% by weight based on the polymer, 0.01% by weight of a phthalocyanine dye (Eex Color 801K manufactured by Nippon Shokubai) 0.01% by weight of a phthalocyanine dye (Eex Color 803K manufactured by Nippon Shokubai) After dispersing in methylene, the solution was coated on an easily-adhesive polyester film (Toyobo A4100, thickness 0.125 mm), and then dried at 120 ° C. to a thickness of 0.0
A film having a near-infrared absorbing layer of 1 mm was obtained. The spectrum is shown in FIG. Although the near-infrared shielding ratio of this panel is as high as 85%, the visible light transmittance is as low as 55%, which is inferior. Even if this infrared absorbing film plate is combined with an electromagnetic shielding glass plate, it cannot be a bright panel.

【０１２７】比較例Ｂ３ 実施例Ｂ１の方法で得られたフルオレン系共重合ポリエ
ステルに対して、実施例Ｂ１の方法で得られたニッケ
ル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エテンジチオレ
ートをポリマーに対して２．０重量％、フタロシアニン
系色素（日本触媒社製イーエクスカラー８０３Ｋ）を
１．５重量％、化学式（１３）のジインモニウム系色素
を４．０重量％を配合し塩化メチレンに分散した後、そ
の溶液を易接着ポリエステルフィルム（東洋紡製Ａ４１
００、厚さ０．１２５ｍｍ）上にコーティングした後、
１２０度で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近赤外線吸収
層をもつフィルムを得た。その分光透過スペクトルを図
２０のＩに示す。このパネルの近赤外線遮閉率は９８％
と高いが、可視光透過率は４０％と低く、劣るものであ
る。この赤外線吸収フィルム板は、電磁遮蔽ガラス板と
組合せても明るいパネルとすることができない。Comparative Example B3 To the fluorene-based copolymerized polyester obtained by the method of Example B1, nickel and bis 1,2-diphenyl-1,2-ethenedithiolate obtained by the method of Example B1 were used. 2.0% by weight based on the polymer, 1.5% by weight of a phthalocyanine-based dye (Eex Color 803K manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and 4.0% by weight of a diimmonium-based dye of formula (13) were mixed with methylene chloride. After dispersing, the solution is coated with an easily adhesive polyester film (A41 manufactured by Toyobo).
00, 0.125 mm thick)
The film was dried at 120 degrees to obtain a film having a near infrared absorbing layer having a thickness of 0.01 mm. The spectral transmission spectrum is shown in FIG. The near-infrared shielding rate of this panel is 98%
But the visible light transmittance is as low as 40%, which is inferior. Even if this infrared absorbing film plate is combined with an electromagnetic shielding glass plate, it cannot be a bright panel.

【０１２８】比較例Ｂ４ 実施例Ｂ１の方法で得られたフルオレン系共重合ポリエ
ステルに対して、実施例Ｂ１の方法で得られたニッケ
ル、ビス１，２−ジフェニル−１，２−エテンジチオレ
ートをポリマーに対して０．０５重量％、フタロシアニ
ン系色素（日本触媒社製イーエクスカラー８０３Ｋ）を
０．０１重量％、化学式（１３）のジインモニウム系色
素を０．０５重量％を配合し塩化メチレンに分散した
後、その溶液を易接着ポリエステルフィルム（東洋紡製
Ａ４１００、厚さ０．１２５ｍｍ）上にコーティングし
た後、１２０度で乾燥させて厚さ０．０１ｍｍの近赤外
線吸収層をもつフィルムを得た。その分光透過スペクト
ルを図２０のＪに示す。このパネルの可視光透過率は８
２％と高いが、近赤外線遮閉率は７０％と低く、劣るも
のである。この赤外線吸収フィルム板は、電磁遮蔽ガラ
ス板と貼り合せてパネルとする場合、９００ｎｍにおけ
る透過率を約１５％以下とするには、電磁遮蔽性ガラス
板のＩＴＯ膜厚を２０００ｎｍ以上とする必要があり、
経済性の観点から有利ではない。Comparative Example B4 Nickel and bis 1,2-diphenyl-1,2-ethenedithiolate obtained by the method of Example B1 were added to the fluorene-based copolymerized polyester obtained by the method of Example B1. 0.05% by weight of the polymer, 0.01% by weight of a phthalocyanine-based dye (Eex Color 803K manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and 0.05% by weight of a diimmonium-based dye of formula (13) are added to methylene chloride. After dispersing, the solution was coated on an easily-adhesive polyester film (A4100, manufactured by Toyobo, 0.125 mm in thickness), and then dried at 120 ° C. to obtain a film having a near-infrared absorbing layer having a thickness of 0.01 mm. . The spectral transmission spectrum is shown in FIG. The visible light transmittance of this panel is 8
Although it is as high as 2%, the near-infrared shielding rate is as low as 70%, which is inferior. When this infrared absorbing film plate is laminated with an electromagnetic shielding glass plate to form a panel, the ITO film thickness of the electromagnetic shielding glass plate needs to be 2000 nm or more in order to make the transmittance at 900 nm about 15% or less. Yes,
It is not advantageous from an economic point of view.

【０１２９】[0129]

【発明の効果】以上の詳細な説明からも明らかなよう
に、本発明によれば、透明ガラス板の一方の表面にＩＴ
Ｏ膜が被覆された積層体からなる電磁遮蔽性ガラス板
と、透明な高分子樹脂中に近赤外線吸収能力を有する色
素を分散させた吸収層を含む近赤外線吸収フィルム板と
を張り合わせることにより、可視光線透過率が５５％以
上で、波長９００ｎｍにおける赤外線透過率が１５％以
下の、プラズマディスプレイ用前面多層パネルとして好
適な多層パネルを得ることが可能になる。As is apparent from the above detailed description, according to the present invention, one surface of the transparent glass plate has an IT surface.
By laminating an electromagnetic shielding glass plate consisting of a laminate coated with an O film and a near-infrared absorbing film plate including an absorbing layer in which a dye having near-infrared absorbing ability is dispersed in a transparent polymer resin It is possible to obtain a multilayer panel suitable for a front multilayer panel for a plasma display having a visible light transmittance of 55% or more and an infrared transmittance at a wavelength of 900 nm of 15% or less.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明に係るプラズマディスプレイ用前面ガラ
スパネルの使用状態を説明する図。FIG. 1 is a diagram illustrating a use state of a front glass panel for a plasma display according to the present invention.

【図２】本発明に係るプラズマディスプレイ用前面多層
パネルの構成とその機能を説明する図。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration and functions of a front multilayer panel for a plasma display according to the present invention.

【図３】（ａ）〜（ｃ）は本発明に係るプラズマディス
プレイ用前面多層パネルを構成する電磁遮蔽性ガラス板
の具体的な構造を示す断面図。3 (a) to 3 (c) are cross-sectional views showing a specific structure of an electromagnetic shielding glass plate constituting a front multilayer panel for a plasma display according to the present invention.

【図４】（ａ）〜（ｄ）は本発明に係るプラズマディス
プレイ用前面多層パネルを構成する電磁遮蔽性ガラス板
の具体的な構造を示す断面図。FIGS. 4A to 4D are cross-sectional views showing a specific structure of an electromagnetic shielding glass plate constituting a front multilayer panel for a plasma display according to the present invention.

【図５】電磁遮蔽性ガラス板に使用する透明ガラス基板
と熱線吸収ガラス基板光吸収特性を示す特性図。FIG. 5 is a characteristic diagram showing light absorption characteristics of a transparent glass substrate and a heat ray absorbing glass substrate used for an electromagnetic shielding glass plate.

【図６】電磁遮蔽性ガラス板のＩＴＯ層を形成する成膜
装置の構造を示す図。FIG. 6 is a view showing a structure of a film forming apparatus for forming an ITO layer of an electromagnetic shielding glass plate.

【図７】電磁遮蔽性ガラス板のＩＴＯ層の膜厚と透過ス
ペクトルとの関係特性を示す図。FIG. 7 is a view showing a relationship characteristic between a thickness of an ITO layer of an electromagnetic shielding glass plate and a transmission spectrum.

【図８】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率特
性を示す特性図。FIG. 8 is a characteristic diagram showing a reflectance characteristic obtained by an electromagnetic shielding glass plate.

【図９】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率特
性を示す特性図。FIG. 9 is a characteristic diagram showing a reflectance characteristic obtained by an electromagnetic shielding glass plate.

【図１０】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率
特性を示す特性図。FIG. 10 is a characteristic diagram showing reflectance characteristics obtained by an electromagnetic shielding glass plate.

【図１１】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率
特性を示す特性図。FIG. 11 is a characteristic diagram showing reflectance characteristics obtained by an electromagnetic shielding glass plate.

【図１２】電磁遮蔽性ガラス板によって得られる反射率
特性を示す特性図。FIG. 12 is a characteristic diagram showing reflectance characteristics obtained by an electromagnetic shielding glass plate.

【図１３】本発明に係るプラズマディスプレイ用前面多
層パネルを構成する近赤外線吸収フィルム板の一実施例
のマススペクトルを示す分光スペクトル図。FIG. 13 is a spectrum diagram showing a mass spectrum of one example of a near-infrared absorbing film plate constituting a front multilayer panel for a plasma display according to the present invention.

【図１４】近赤外線吸収フィルム板の実施例Ｂ１の分光
透過スペクトル図。FIG. 14 is a spectral transmission spectrum diagram of Example B1 of the near-infrared absorbing film plate.

【図１５】実施例Ｂ１で得られた透明導電性ガラスの分
光透過スペクトル図。FIG. 15 is a spectral transmission spectrum diagram of the transparent conductive glass obtained in Example B1.

【図１６】実施例Ｂ１で得られた近赤外線遮断パネルの
分光透過スペクトル図。FIG. 16 is a spectral transmission spectrum diagram of the near-infrared blocking panel obtained in Example B1.

【図１７】実施例Ｂ３で得られた近赤外線吸収フィルム
の分光スペクトル図。FIG. 17 is a spectrum diagram of the near-infrared absorbing film obtained in Example B3.

【図１８】実施例Ｂ３で得られた近赤外線遮断パネルの
分光スペクトル図。FIG. 18 is a spectrum diagram of the near-infrared cutoff panel obtained in Example B3.

【図１９】実施例Ｂ４で得られた近赤外線吸収電磁波遮
閉パネルの分光スペクトル図。FIG. 19 is a spectrum diagram of the near-infrared absorbing electromagnetic wave shielding panel obtained in Example B4.

【図２０】比較例Ｂ１〜Ｂ４で得られた近赤外線吸収層
をもつフィルムの分光透過スペクトル図。FIG. 20 is a spectral transmission spectrum diagram of a film having a near-infrared absorbing layer obtained in Comparative Examples B1 to B4.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

ＭＰ…プラズマディスプレイ用前面多層パネル、１００
…電磁遮蔽性ガラス板、１０…透明ガラス基板、２０…
ＩＴＯ膜、３０…マッチング層（反射低減層）、４０…
無反射層（反射防止膜）、２００…近赤外線吸収フィル
ム板、５０…近赤外線吸収層、６０…ベースフィルム。MP: Front multilayer panel for plasma display, 100
... Electromagnetic shielding glass plate, 10 ... Transparent glass substrate, 20 ...
ITO film, 30 ... matching layer (reflection reduction layer), 40 ...
Non-reflective layer (anti-reflection film), 200: near infrared absorbing film plate, 50: near infrared absorbing layer, 60: base film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｚ 5/22 17/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｃ０９Ｂ 67/22 Ｆ 17/02 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５ // Ｃ０９Ｂ 67/22 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｚ (72)発明者 神作 克也 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 青木 裕一 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 櫻井 和朗 大阪府大阪市都島区友渕町１丁目５番90号 鐘紡株式会社内 (72)発明者 小池 眞弘 大阪府大阪市都島区友渕町１丁目５番90号 鐘紡株式会社内 (72)発明者 鈴木 康子 大阪府大阪市都島区友渕町１丁目５番90号 鐘紡株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. ⁶ Identification code FIG02B 1/10 H01J 11/02 Z 5/22 17/02 H01J 11/02 C09B 67/22 F 17/02 C09K 3/00 105 // C09B 67/22 H05K 9/00 V C09K 3/00 105 G02B 1/10 A H05K 9/00 Z (72) Inventor Katsuya Shinsaku 3-5-11 Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka Nippon Sheet Glass Inside (72) Inventor Yuichi Aoki 3-5-11 Doshomachi, Chuo-ku, Osaka City, Osaka Prefecture Inside Nippon Sheet Glass Co., Ltd. (72) Inventor Kazuo Sakurai 1-90, Tomobuchicho, Miyakojima-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Kanebo Co., Ltd. (72) Inventor Masahiro Koike 1-5-90, Tomobuchi-cho, Miyakojima-ku, Osaka-shi, Osaka Prefecture Inside Kanebo Co., Ltd. Number Spinning within Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 透明ガラス板の一方の表面にＩＴＯ膜が
被覆された積層体からなる電磁遮蔽性ガラス板と、前記
ＩＴＯ膜が被覆された面側に配置され、透明な高分子樹
脂中に近赤外線吸収能力を有する色素を分散させた吸収
層を含む近赤外線吸収フィルム板とを貼り合わせ、可視
光線透過率が５５％以上で、波長９００ｎｍにおける赤
外線透過率が１５％以下であることを特徴とするプラズ
マディスプレイ用前面多層パネル。1. An electromagnetic shielding glass plate comprising a laminate in which one surface of a transparent glass plate is coated with an ITO film, and an electromagnetic shielding glass plate which is disposed on a surface side on which the ITO film is coated. It is bonded to a near-infrared absorbing film plate including an absorbing layer in which a dye having near-infrared absorbing ability is dispersed, and has a visible light transmittance of 55% or more and an infrared transmittance at a wavelength of 900 nm of 15% or less. Front multilayer panel for plasma display. 【請求項２】 請求項１に記載のプラズマディスプレイ
用前面多層パネルにおいて、前記電磁遮蔽性ガラス板の
ＩＴＯ膜は面積抵抗が３．５Ω／□以下であることを特
徴とするプラズマディスプレイ用前面多層パネル。2. The front multi-layer panel for a plasma display according to claim 1, wherein the ITO film of the electromagnetic shielding glass plate has a sheet resistance of 3.5Ω / □ or less. panel. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載のプラズ
マディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴＯ
膜上、又は／及び、前記透明ガラス板と前記ＩＴＯ膜と
の間には、前記積層体の膜面側反射率を減ずるための可
視光領域で透明な反射低減層が被覆され、且つ可視光線
透過率を６０％以上にしたことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ用前面多層パネル。3. The front multilayer panel for a plasma display according to claim 1, wherein the ITO is used.
On the film or / and between the transparent glass plate and the ITO film, a transparent reflection-reducing layer is coated in a visible light region for reducing the reflectance on the film surface side of the laminate, and visible light is applied. A front multilayer panel for a plasma display, wherein the transmittance is 60% or more. 【請求項４】 請求項３に記載のプラズマディスプレイ
用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴＯ膜上の反射低減
層は、厚みが６０ｎｍ〜９０ｎｍで、波長５５０ｎｍに
おける屈折率が１．３６〜１．６５で、且つ、可視光領
域で透明な薄膜であることを特徴とするプラズマディス
プレイ用前面多層パネル。4. The front multilayer panel for a plasma display according to claim 3, wherein the reflection reduction layer on the ITO film has a thickness of 60 nm to 90 nm and a refractive index at a wavelength of 550 nm of 1.36 to 1.65. A front multilayer panel for a plasma display, characterized by being a transparent thin film in a visible light region. 【請求項５】 請求項３に記載のプラズマディスプレイ
用前面多層パネルにおいて、前記ＩＴＯ膜上の反射低減
層は、厚みが９５ｎｍ〜１３５ｎｍで、波長５５０ｎｍ
における屈折率が２．０〜２．４の可視光領域で透明な
薄膜と、厚みが６０ｎｍ〜９０ｎｍで、波長５５０ｎｍ
における屈折率が１．３６〜１．６５の可視光領域で透
明な薄膜との２層構造であることを特徴とするプラズマ
ディスプレイ用前面多層パネル。5. The front multilayer panel for a plasma display according to claim 3, wherein the reflection reduction layer on the ITO film has a thickness of 95 nm to 135 nm and a wavelength of 550 nm.
A thin film transparent in the visible light region having a refractive index of 2.0 to 2.4, a thickness of 60 nm to 90 nm, and a wavelength of 550 nm.
Characterized in that it has a two-layer structure with a transparent thin film in the visible light region having a refractive index of 1.36 to 1.65. 【請求項６】 請求項１乃至請求項５のいずれかに記載
のプラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前
記透明ガラス板は、ガラス中に遷移金属イオンを含有さ
せることにより波長９００ｎｍ近傍の近赤外線を吸収す
る熱線吸収ガラス板であることを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ用前面多層パネル。6. The front multi-layer panel for a plasma display according to claim 1, wherein the transparent glass plate contains near-infrared rays having a wavelength of about 900 nm by containing transition metal ions in the glass. A front multilayer panel for a plasma display, which is a heat absorbing glass plate that absorbs heat. 【請求項７】 請求項１乃至請求項６のいずれかに記載
のプラズマディスプレイ用前面多層パネルにおいて、前
記近赤外線吸収フィルム板は、近赤外線吸収能を有する
色素と高分子樹脂と溶剤を均一に混合した溶液からキャ
スト法、又はコーティング法、又は当該色素と高分子樹
脂の混練物の溶融押し出し法、又は近赤外線吸収能を有
する色素とモノマーを均一に混合した混合物を重合また
は固化する重合法の、何れかによって成膜された近赤外
線吸収フィルムであることを特徴とするプラズマディス
プレイ用前面多層パネル。7. The front multilayer panel for a plasma display according to claim 1, wherein the near-infrared absorbing film plate uniformly contains a dye having a near-infrared absorbing ability, a polymer resin, and a solvent. From a mixed solution, a casting method, or a coating method, or a melt extrusion method of a kneaded product of the dye and the polymer resin, or a polymerization method of polymerizing or solidifying a mixture obtained by uniformly mixing a dye and a monomer having near-infrared absorbing power. And a near-infrared absorbing film formed by any one of the above. 【請求項８】 請求項７に記載のプラズマディスプレイ
用前面多層パネルにおいて、前記近赤外線吸収能を有す
る色素が、フタロシアニン系金属錯体と一般式（１）で
表される芳香族ジチオール系金属錯体 【化１】 （ＲＤ1〜ＲＤ4は炭素数が１から４までのアルキレン
基、アリール基、アラルキル基、フッ素、水素を示し、
Ｍは４配位の遷移金属）と一般式（２）又は（３）で表
される芳香族ジインモ二ウム化合物 【化２】 【化３】 （ＲＤｉ（ｉは５〜１８）は炭素数が１から１０までの
アルキル基、Ｘは１価或いは２価のアニオン）の少なく
とも１種類以上との混合物であることを特徴とするプラ
ズマディスプレイ用前面多層パネル。8. The front multilayer panel for a plasma display according to claim 7, wherein the dye having the near-infrared absorption ability is a phthalocyanine-based metal complex and an aromatic dithiol-based metal complex represented by the general formula (1). Formula 1 (RD1 to RD4 represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, fluorine, hydrogen,
M is a four-coordinate transition metal) and an aromatic diimmonium compound represented by the general formula (2) or (3): Embedded image (RDi (i is 5 to 18) an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and X is a monovalent or divalent anion). Multi-layer panels. 【請求項９】 請求項７に記載のプラズマディスプレイ
用前面多層パネルにおいて、近赤外線吸収能を有する色
素と高分子樹脂と溶剤を均一に混合した溶液からキャス
ト法又はコーティング法において、前記樹脂が一般式
（４）〜（９）で表される芳香族ジオール樹脂を少なく
とも１０ｍｏｌ％以上共重合したポリエステル樹脂であ
ることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面多層パ
ネル。 【化４】 （Ｒ1は炭素数が２から４までのアルキレン基、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4、Ｒ5は水素または炭素数が１から７までのアル
キル基、アリール基、アラルキル基を表し、それぞれ同
じでも異なっても良い。） 【化５】 （Ｒ6は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ7、Ｒ
8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は水素または炭素数が１から７ま
でのアルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、そ
れぞれ同じでも異なっても良い。ｋは１から４の自然数
である。） 【化６】 （Ｒ12は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ13、
Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は水素または炭素数が１から７まで
のアルキル基、アリール基、アラルキル基を表し、それ
ぞれ同じでも異なっても良い。） 【化７】 （Ｒ17及びＲ18は炭素数が１から４までのアルキレン基
を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ19及びＲ
20は水素または炭素数が１から７までのアルキル基、ア
リール基、アラルキル基を表し、それぞれ同じでも異な
っても良い。ｌおよびｍは１から８の自然数である。） 【化８】 （Ｒ21は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ22、
Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26及びＲ27は水素または炭素数が
１から７までのアルキル基、アリール基、アラルキル基
を表し、それぞれ同じでも異なっても良い。ｎは０から
５の自然数である。） 【化９】 （Ｒ28は炭素数が１から４までのアルキレン基、Ｒ29及
びＲ30は炭素数が１から１０までのアルキル基を表し、
それぞれ同じでも異なっても良い。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33及
びＲ34は水素または炭素数が１から７までのアルキル
基、アリール基、アラルキル基であり、それぞれ同じで
も異なっても良い。）9. The front multi-layer panel for a plasma display according to claim 7, wherein a resin having a near-infrared absorbing ability, a polymer resin and a solvent are uniformly mixed in a casting method or a coating method. A front multilayer panel for a plasma display, which is a polyester resin obtained by copolymerizing at least 10 mol% or more of the aromatic diol resins represented by the formulas (4) to (9). Embedded image (R 1 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 2, R
3, R4 and R5 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group, which may be the same or different. ) (R6 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms;
8, R9, R10 and R11 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group, which may be the same or different. k is a natural number from 1 to 4. ) (R12 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R13,
R14, R15 and R16 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group, which may be the same or different. ) (R17 and R18 each represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and may be the same or different.
20 represents hydrogen or an alkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 7 carbon atoms, which may be the same or different. l and m are natural numbers from 1 to 8. ) (R21 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R22,
R23, R24, R25, R26 and R27 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group, which may be the same or different. n is a natural number from 0 to 5. ) (R28 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R29 and R30 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
Each may be the same or different. R31, R32, R33 and R34 are hydrogen or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group, which may be the same or different. )