JPH1143468A

JPH1143468A - 含フッ素化合物、及び含フッ素化合物を含む潤滑剤、並びに記録媒体

Info

Publication number: JPH1143468A
Application number: JP20269197A
Authority: JP
Inventors: Akira Shiga; 章志賀; Noriyuki Kitaori; 典之北折; Takeshi Miyamura; 猛史宮村
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1997-07-29
Filing date: 1997-07-29
Publication date: 1999-02-16

Abstract

(57)【要約】【課題】広い環境条件下で潤滑機能に優れた潤滑剤を
提供することである。【解決手段】下記の一般式で表される含フッ素化合
物。【化１】〔但し、Ｒf は、フルオロアルキルエーテル
基、Ｒは、アルキル基またはアルケニル基、Ｘは、−Ｏ
−又は存在しない、Ｚは、極性基、ｋ，ｍ，ｎは０〜３
０の整数である。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、含フッ素化合物、
及び含フッ素化合物を含む潤滑剤、並びに記録媒体に関
する。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】機械化、部品の小型
化、高精度化に伴い、それらの摺動部における潤滑形態
も液体潤滑から境界潤滑へと移行して来ている。とりわ
け、磁気テープや磁気ディスク等の分野においては、記
録密度の向上を目的とした強磁性金属薄膜の採用によ
り、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間では高度な潤滑特
性が必要となって来た。例えば、耐久性、実用信頼性を
確保しながら磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間のスペー
シングロスを極力小さくして高出力化を図る為に、磁性
層表面の潤滑剤層は僅か数ｎｍの厚さに設計されてい
る。しかも、強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体は、磁性
層表面が極めて平滑性に富む為、磁気ヘッドやガイドロ
ーラ等との接触面積が大きくなり、摩擦係数が大きく、
又、貼り付きが起こり易い。この為、磁性層の耐久性が
劣り、かつ、走行性が悪い。

【０００３】従って、潤滑剤の選定は極めて重要であ
る。金属薄膜型の磁気記録媒体の潤滑剤としては、その
分子内にフロロカーボン鎖を有するものが金属薄膜との
適合性に優れていることから、フロロカーボン系の潤滑
剤が多数提案されている。例えば、パーフルオロアルキ
ルポリエーテルは従来から良く知られた磁気記録媒体の
潤滑剤である。又、極性基を導入したフッ素系化合物を
潤滑剤として用いることも提案されている。例えば、特
開昭６２−１０３８３８号には、パーフルオロアルキル
カルボン酸エステル及びパーフルオロポリエーテル類を
含有する潤滑剤層を形成することが記載されている。特
開平４−１７８３５７号には、（Ｒ）（Ｒｆ）ＮＨで表
される含フッ素化合物が記載されている。特開平４−２
７１０１３号には、Ｒ₁（ＣＨ₂）_nＣＯＯ^-Ｈ₃Ｎ⁺
Ｒで表されるパーフルオロカルボン酸アミン塩化合物を
磁気記録媒体の潤滑剤として用いることが記載されてい
る。特開平７−２２０２６７号には、不飽和結合と炭化
水素鎖を含有する特定のフルオロアルキルカルボン酸エ
ステルを磁気記録媒体の潤滑剤として用いることが記載
されている。

【０００４】しかし、上記提案の化合物でも満足できる
ものではなく、新たな潤滑剤が求められた。すなわち、
磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録媒体などの記
録媒体の潤滑剤としては、磁気ヘッドとのスペーシングロスが問題となるの
で、極めて薄く潤滑剤層を形成できること、又、その場
合にも充分な潤滑特性が発揮できること砂漠、熱帯地方、あるいは寒い極地での使用を考慮
して、広い温度・湿度範囲で長時間の使用に耐え、潤滑
効果が持続すること等が要求される。

【０００５】しかし、従来提案されている潤滑剤では、
走行性、耐久性等の実用特性の面で不満を残している。
特に、上記のように砂漠、熱帯地方、あるいは寒い極
地などのように広い温度・湿度範囲で潤滑効果が持続す
ることは充分に達成されていない。従って、環境変化に
よる潤滑効果の低下を充分に抑制することが出来ない。
又、極めて薄い潤滑剤層を形成する為に、一般に、溶剤
で希釈した潤滑剤溶液を塗布することが行われている
が、当業界で汎用されているパーフルオロポリエーテル
系潤滑剤はフッ素系溶剤にのみ可溶である。しかし、フ
ッ素系溶剤は高価であり、しかもオゾン層の破壊や温暖
化作用が懸念されており、コスト面や環境面から好適な
溶剤とは言えず、この点からも改良が望まれる。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記の課題は、下記の一
般式で表されることを特徴とする含フッ素化合物によっ
て解決される。又、下記の一般式で表される含フッ素化
合物を含有することを特徴とする潤滑剤によって解決さ
れる。

【０００７】又、支持体と、記録層と、下記の一般式で
表される含フッ素化合物を含有する層とを具備すること
を特徴とする記録媒体によって解決される。特に、支持
体と、前記支持体の上に設けられた記録層と、前記記録
層の上に設けられた下記の一般式で表される含フッ素化
合物を含有する層（潤滑剤層）とを具備することを特徴
とする記録媒体によって解決される。

【０００８】或いは、支持体と、前記支持体の上に設け
られた記録層と、前記記録層の上に設けられた保護層
と、前記保護層の上に設けられた下記の一般式で表され
る含フッ素化合物を含有する層（潤滑剤層）とを具備す
ることを特徴とする記録媒体によって解決される。

【０００９】

【化４】

【００１０】〔但し、Ｒf は、フルオロアルキルエーテ
ル基、Ｒは、アルキル基またはアルケニル基、Ｘは、−
Ｏ−又は存在しない、Ｚは、極性基、ｋ，ｍ，ｎは０〜
３０の整数である。〕すなわち、上記一般式で表される化合物は、広い環境条
件下で潤滑機能に優れた特長を奏するものであった。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明になる含フッ素化合物は、
下記の一般式で表されるものである。本発明になる潤滑
剤は、下記の一般式で表される含フッ素化合物を含有す
るものである。本発明になる記録媒体（磁気記録媒体）
は、支持体と、記録層（磁性層）と、下記の含フッ素化
合物を含有する層（潤滑剤層）とを具備する。特に、支
持体と、前記支持体の上に設けられた記録層（磁性層）
と、前記記録層（磁性層）の上に設けられた下記の一般
式で表される含フッ素化合物を含有する層（潤滑剤層）
とを具備する。或いは、支持体と、前記支持体の上に設
けられた記録層（磁性層）と、前記記録層（磁性層）の
上に設けられた保護層と、前記保護層の上に設けられた
下記の一般式で表される含フッ素化合物を含有する層
（潤滑剤層）とを具備する。

【００１２】

【化５】

【００１３】〔但し、Ｒf は、フルオロアルキルエーテ
ル基、Ｒは、アルキル基またはアルケニル基、Ｘは、−
Ｏ−又は存在しない、Ｚは、極性基、ｋ，ｍ，ｎは０〜
３０の整数である。〕以下、更に詳しく説明する。

【００１４】〔含フッ素化合物〕本発明の含フッ素化合
物は、フルオロアルキルエーテル基（Ｒf ）と、アルキ
ル基またはアルケニル基（Ｒ）と、極性基（Ｚ）とを持
ち、Ｒf がＲと極性基Ｚを有するアルキレン基とカルボ
ン酸エステルとで結合されている構造を有する。尚、上
記一般式においては、エーテル結合を示すＸを有する場
合と、エーテル結合を示すＸが無い場合とがある。Ｘが
無い場合は、アルキル基またはアルケニル基（Ｒ）と極
性基Ｚを有するアルキレン基とが直接にＣ−Ｃ結合で連
結されているものである。

【００１５】フルオロアルキルエーテル基（Ｒf ）とし
ては、例えばＦ（Ｃi Ｆ2iＯ）m −，ＣＦ₃Ｏ−（Ｃ₂
Ｆ₄Ｏ）m −（ＣＦ₂Ｏ）n −，ＣＦ₃Ｏ−（ＣＦ₂Ｃ
（ＣＦ₃）ＦＯ）m −Ｃ（ＣＦ₃）ＦＯ−，Ｆ（ＣＦ₂
Ｃ（ＣＦ₃）ＦＯ）m −（ＣＦ₂Ｏ）n −等の直鎖ある
いは分岐鎖を有するフルオロアルキルエーテル基があ
る。

【００１６】フルオロアルキルエーテル基（Ｒf ）は、
その総炭素数が６〜５５のものが好ましい。特に好まし
くは９〜３５である。すなわち、総炭素数が５以下であ
ると、磁気記録媒体の潤滑剤とした場合に潤滑性が充分
でなく、逆に、総炭素数が５５を超えると、極性基によ
る効果の低下や、溶媒に対する溶解性が低下する。アル
キル基またはアルケニル基（Ｒ）としては、例えば炭素
数６〜３５のアルキル基またはアルケニル基（二重結合
は一つ、又は二つ以上）が好ましい。特に、炭素数８〜
２６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基またはアルケニル基
（二重結合は一つ、又は二つ以上）が好ましい。すなわ
ち、アルキル基またはアルケニル基（Ｒ）の炭素数が６
未満、或いは３５を越えると、磁気記録媒体の潤滑性は
充分でない。

【００１７】上記一般式において、ｋ，ｍ，ｎは０〜３
０の整数である。好ましくは各々０〜１０の整数であ
る。特に好ましくは各々０〜５の整数である。極性基、
特に上記一般式においてＺで表される極性基とは、化学
大辞典（東京化学同人出版）に記載されているように、
有機化合物の置換基のうち、その化合物の極性を発現す
る要因になっている置換基を言う。炭素原子と異なる電
気陰性度を持つ原子は極性基となる。尚、−ＣＨ₂Ｏ
Ｈ，−ＣＨ₂ＣＯＯＨ，−ＣＯＯＨ，−ＳＯ₃Ｍ，−Ｐ
Ｏ₃Ｍ₂，−ＯＰＯ₃Ｍ（但し、Ｍは水素原子、アルカ
リ金属、アンモニウム），−ＮＣＯ，−ＯＨ，−Ｎ
Ｈ₂，−ＮＯ₂，−ＣＨＯ，−ＣＮ，

【００１８】

【化６】

【００１９】等が好ましい極性基である。又、上記のよ
うな極性基が、アルキル基またはアルケニル基（Ｒ）に
有っても良い。この場合、アルキル基またはアルケニル
基（Ｒ）の鎖中、末端のどちらに有っても良い。極性基
は一つであっても、同一あるいは異なる極性基が二つ以
上あっても良い。

【００２０】本発明の含フッ素化合物は、分子内にフル
オロアルキルエーテル基（Ｒf ）、アルキル基またはア
ルケニル基（Ｒ）と、極性基（Ｚ）とを持ち、前記Ｒf
とＲとが、前記極性基Ｚを有するアルキレン基とエステ
ル結合されている構造である。そして、本発明の含フッ
素化合物は、トルエン、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、クロロホルム、メチルエチルケトン、
ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン等の汎用の各
種有機溶媒に可溶である為、コストや用途の面で有利で
あり、潤滑剤の他、各種ワックス類、界面活性剤、防錆
剤としての用途が有る。又、末端の極性基を更に修飾す
ることにより、その物性の変更が可能であり、上記以外
の用途にも応用可能である。

【００２１】〔潤滑剤〕上記〔含フッ素化合物〕の項で
説明した本発明の含フッ素化合物は、潤滑剤として、特
に、有用である。潤滑剤の用途は限定されないが、特
に、記録媒体（磁気記録媒体）における潤滑剤として用
いるのが好適である。記録媒体用の潤滑剤の場合、記録
媒体における記録層（磁性層）上に、直接、薄膜状にし
て適用するか、又は該記録層（磁性層）上に設けた保護
層の上に薄膜状にして適用するかの違いは有っても、潤
滑剤層として作用する。当該潤滑剤の適用方法に特に制
限はない。例えば、超音波発振器を備えた噴霧器を用い
た湿式塗布法を用いることが出来る。又、潤滑剤層形成
後、溶剤により洗浄を行っても良い。潤滑剤の形態は、
液状、ワックス状とすることが出来、使用時には適当な
溶剤で希釈した後、上記の方法で適用される。

【００２２】記録媒体（磁気記録媒体）用の潤滑剤の場
合、上記含フッ素化合物の含有量（付着量）は、記録媒
体（磁気記録媒体）の形態（テープ、ディスク）等に応
じて適宜調節する。一般的な範囲としての含有量（付着
量）は、記録媒体の表面１ｍ ²当たり、０．１〜１００
ｍｇであるのが好ましい。特に、１ｍ²当たり１〜５０
ｍｇが更に好ましい。すなわち、含有量（付着量）が
０．１ｍｇ／ｍ²に満たないと、十分な潤滑性、耐久性
が得られず、ヘッドやテープを傷つける場合がある。逆
に、１００ｍｇ／ｍ²を越えると、テープとテープ、テ
ープと磁気ヘッド、テープとガイドピンとの貼り付き
や、離脱物による磁気ヘッド目詰まり等を起こす場合が
ある。

【００２３】本発明において、上記含フッ素化合物は、
一種類単独で使用しても良く、２種類以上を併用しても
良い。更には、磁気記録媒体に通常用いられている潤滑
剤と併用しても良い。例えば、金属薄膜型磁気記録媒体
の場合、ＡＵＳＩＭＯＮＴＫ．Ｋ．製のＦＯＭＢＬＩＮ
や、特開平７−２２０２６７号公報、特開昭６２−１０
３８３８号公報などに記載の潤滑剤を併用できる。又、
必要に応じて、他の添加剤、例えばフェノール類、キノ
ン類、ナフトール類、及び窒素原子、酸素原子又は硫黄
原子を含む複素環化合物等と併用しても良い。これらの
場合、上記潤滑剤や添加剤は、上記含フッ素環化合物の
混合物１００重量部に対して１〜５００重量部添加する
ことができる。

【００２４】〔磁気記録媒体〕本発明の磁気記録媒体
は、支持体と、磁性層と、上記の含フッ素化合物を含む
層（潤滑剤層）とを具備する。特に、支持体と、前記支
持体の上に設けられた磁性層と、前記磁性層の上に設け
られた上記の含フッ素化合物を含む層（潤滑剤層）とを
具備する。或いは、支持体と、前記支持体の上に設けら
れた磁性層と、前記磁性層の上に設けられた保護層と、
前記保護層の上に設けられた上記の含フッ素化合物を含
む層（潤滑剤層）とを具備する。

【００２５】磁性層としては、例えば磁性粉及びバイン
ダを含有する磁性塗料を非磁性の支持体上に塗布して形
成した塗布型の磁性層や、無電解メッキ等の湿式メッキ
手段、あるいは真空蒸着、スパッタリング、イオンプレ
ーティング等のフィジカルベーパーデポジション（ＰＶ
Ｄ）を用いた乾式メッキ手段により形成された金属薄膜
型の磁性層がある。塗布型磁性層の場合には、本発明の
潤滑剤は磁性層中に含有される。金属薄膜型の磁性層の
場合には、磁性層の上に設けられる。本発明は、金属薄
膜型の磁性層の場合に特に効果的である。

【００２６】金属薄膜型の磁性層について説明する。該
磁性層を形成する金属としては、例えば、Ｆｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｃｏ−Ｐｔ系
合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ系合金、Ｆ
ｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｂ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ
系合金、或いはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの
等が用いられる。又、これらの金属からなる磁性層を酸
化、窒化、あるいは炭化したものであっても良い。更に
は、上記金属磁性層の形成時に酸化性ガスを供給して、
上記金属磁性薄膜の表面に、酸化膜からなる保護層を形
成しても良い。

【００２７】磁性層は、一層の金属薄膜から構成されて
いても、二層以上の金属薄膜が積層されたものでも良
い。磁性層が二層以上の金属薄膜から構成される場合、
各金属薄膜の材質は同一でも、異なっていても良い。
尚、上記金属薄膜型の磁性層は、その全体の厚さが５０
〜５００ｎｍであることが好ましい。磁性層がその上に
設けられる支持体としては、公知の支持体を特に制限な
く用いることが出来る。具体的には、ポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（Ｐ
ＥＮ）、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフォン、芳香族ポリアミド等の公知の樹脂、アルミ
ニウムや銅等の金属、紙、セラミックス等を使用するこ
とが出来る。形態は、フィルム、テープ、シート、ディ
スク、ドラム等のいずれでも良い。上記支持体には、磁
性層を設ける前に、大気中及び／又は真空中においてそ
の表面に予めコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処
理、熱処理、防塵処理、ボンバード処理などを行うこと
も出来る。上記支持体の好ましい厚さは、１〜３００μ
ｍである。

【００２８】上記磁性層上に保護層を設けることもでき
る。この場合、該保護層は、例えばダイヤモンドライク
カーボン、ダイヤモンド、炭化ホウ素、炭化ケイ素など
のカーボン或いは炭化物、窒化ホウ素、窒化ケイ素など
の窒化物、又は酸化ケイ素、酸化クロム、酸化アルミニ
ウムなどの酸化物で構成される。保護層としては、アモ
ルファス状、グラファイト状、ダイアモンド状、若しく
はそれらの混合状態、又は積層状態のカーボン薄膜層か
らなるのが特に好ましい。保護層の厚さに特に制限はな
いが、３〜３０ｎｍであるのが好ましい。上記保護層の
形成法としては、ＣＶＤ（ケミカルベーパーデポジショ
ン）法、或いはＰＶＤ法の何れでも良い。ＣＶＤ法では
マイクロ波を用いたＥＣＲ（ＥｌｅｃｔｒｏｎＣｙｃ
ｌｏｔｒｏｎＲｅｓｏｎａｎｃｅ）法や、高周波（Ｒ
Ｆ）を用いた方法が特に有効である。ＣＶＤ法により上
記保護層を形成する場合、原料はガス、液体及び固体の
何れのものを用いても良い。

【００２９】本発明の磁気記録媒体においては、上記保
護層の他に、必要に応じて、他の層を設けることも出来
る。例えば、上記支持体と磁性層との間に、両者の密着
性を向上せしめる為のアンダーコート層を設けたり、上
記支持体の面における磁性層が形成される面とは反対側
の面に、磁気記録媒体の走行性や耐久性等を向上せしめ
る為のバックコート層を設けることが出来る。この場
合、該バックコート層としては、塗布型あるいは金属薄
膜型の何れでも良い。該金属薄膜型のバックコート層
は、一般に、Ａｌ，Ｃｕ，Ｓｉ，Ｆｅ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｚ
ｎ等、又はこれらの合金若しくは酸化物、窒化物、炭化
物などを成膜することにより形成される。バックコート
層の厚さは５０〜１０００ｎｍであることが好ましい。

【００３０】本発明の潤滑剤は、必要に応じて、上記バ
ックコート層中、若しくはバックコート層上に適用する
ことも出来る。バックコート層における上記含フッ素化
合物の付着量や形成方法などについては、磁性層に関し
て詳述した説明が同様に適用される。本発明の含フッ素
化合物を磁気記録媒体の潤滑剤に用いた場合、該含フッ
素化合物の極性基Ｚは強固に下地膜に結合し、エステル
部が弱く下地膜に結合しており、磁気ヘッドやガイドピ
ンとの間で強い衝撃が起きると、エステル部が付いたり
離れたりすることで衝撃力を吸収する機能を発揮すると
考えられる。

【００３１】又、低温低湿下から高温高湿下までの幅広
い環境下において、走行性および耐久性に優れた特長を
奏し、長期間にわたって潤滑効果が維持される。以下、
具体的実施例を挙げて本発明を説明する。

【００３２】

【実施例１】〔含フッ素化合物〕下記の反応式に従って本発明の含フ
ッ素化合物を合成した。

【００３３】

【化７】

【００３４】平均分子量６５０の化合物（Ｉ）（ｍ
＝２，ｎ＝３）６５ｇを過剰な量（４８ｇ）の塩化チオ
ニルの下で還流（１１０℃、３時間）した。そして、塩
化チオニルを減圧により除き、蒸留を続けて化合物
（Ａ）を６０．１ｇ（収率９０％）得た。オレイルアルコール２６．８ｇを２７０ｍｌのテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）中に溶解し、ピリジン１１．
９ｇを加え、０℃においてＴｓ−Ｃｌ２８．６ｇを徐々
に滴下した。１時間後、室温に昇温してヘキサンで抽出
し、減圧濃縮して化合物（Ｂ）を４０．５ｇ（収率９６
％）得た。アリルグリセルエーテル１１．８ｇを１２０ｍｌの
ジメチルフラン（ＤＭＦ）中に溶解し、０℃においてＮ
ａＨ２．１６ｇを加えた。

【００３５】１時間後、化合物（Ｂ）３８ｇを徐々に滴
下し、滴下後、室温までゆっくり昇温した。そして、ヘ
キサンで抽出し、減圧濃縮して目的化合物（ＩＩ）を２
６．３ｇ（収率７６％）得た。化合物（ＩＩ）３０．８ｇを３１０ｇのトルエンに
溶解し、トリエチルアミン（ＮＥｔ₃）１２．１２ｇを
加え、室温にて化合物（Ａ）５６．１５ｇを滴下した。

【００３６】２時間後、水を加えて抽出後、減圧濃縮し
て目的化合物（ＩＩＩ）を７６．５５ｇ（収率９４％）
得た。化合物（ＩＩＩ）７６．３５ｇを７７０ｍｌ中のメ
タノール中に溶解し、１．２９ｇのＴｓ−ＯＨと０．１
３ｇのパラジウムカーボン（Ｐｄ／Ｃ）を加え、６時間
攪拌した。

【００３７】Ｐｄ／Ｃを濾別後、減圧濃縮して目的化合
物（ＩＶ）を６０．６３ｇ（収率８３％）得た。この化
合物（ＩＶ）を赤外吸収分光（ＩＲ）法、核磁気共鳴
（ＮＭＲ）法、及び質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）法を用い
て調べた処、〔Ｍ＋Ｈ⁺〕＝９７５であり、上記構造式
で表されたものであることが確認できた。

【００３８】尚、上記含フッ素化合物（ＩＶ）のＩＲを
図１に示す。〔潤滑剤、磁気記録媒体（磁気テープ）〕６．３μｍ厚
のＰＥＴフィルム上に、斜め蒸着法を用いて１８０ｎｍ
厚のＣｏ金属薄膜型の磁性層を設けた。尚、酸素ガスを
導入しながら磁性層を形成したので、磁性層はＣｏ−Ｏ
型のものとなっている。この磁性層の磁気特性は、保磁
力Ｈｃが１５６０Ｏｅ、飽和磁束密度Ｂｓが５９００Ｇ
であった。

【００３９】上記Ｃｏ金属薄膜型磁性層の上に、ベンゼ
ンを原料とし、マイクロ波を用いたＥＣＲ−ＣＶＤ法に
より、８ｎｍ厚のダイヤモンドライクカーボン層（保護
層）を形成した。又、ＰＥＴフィルムの裏面に、カーボ
ンブラックとバインダとを含む塗料を、乾燥後の厚さが
０．４μｍとなるよう塗布し、バックコート層を形成し
た。

【００４０】そして、上記含フッ素化合物（ＩＶ）をト
ルエンに溶解させ、これを乾燥後の厚さが８ｍｇ／ｍ²
となるようダイヤモンドライクカーボン層の上に塗布
し、潤滑剤の層を形成した。この後、通常の工程を経て
１／４インチ幅にスリットし、ＤＶＣ用磁気テープを得
た。

【００４１】

【実施例２】実施例１におけるＣＦ₃（ＯＣ（ＣＦ₃）
ＦＣＦ₂）_m−（ＯＣＦ₂）_n−ＣＯＯＨの代わりにＣ
Ｆ₃Ｏ−（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_m−（ＣＦ₂Ｏ）_n−ＣＯ
ＯＨを用いた以外は実施例１の合成方法に準じ、本発明
になる含フッ素化合物ＣＦ₃Ｏ−（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_m
−（ＣＦ₂Ｏ）_n−ＣＯＯ−Ｃ（ＣＨ₂ＯＨ）ＨＣＨ ₂
Ｏ（ＣＨ₂）₈ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₈Ｈ（但し、ｍ＝
ｎ＝２）を得た。

【００４２】又、この含フッ素化合物を用いて実施例１
の方法に準じ、ＤＶＣ用磁気テープを得た。

【００４３】

【実施例３】実施例１におけるＣＦ₃（ＯＣ（ＣＦ₃）
ＦＣＦ₂）_m−（ＯＣＦ₂）_n−ＣＯＯＨの代わりにＦ
（ＣＦ₂Ｃ（ＣＦ₃）ＦＯ）_m−（ＣＦ₂Ｏ）_n−ＣＯ
ＯＨを用い、又、ＨＯ（ＣＨ₂）₈ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₈Ｈの代わりにＨＯ（ＣＨ ₂）₃ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₁₇Ｈを用いた以外は実施例１の合成方法に準じ、
本発明になる含フッ素化合物Ｆ（ＣＦ₂Ｃ（ＣＦ₃）Ｆ
Ｏ）_m−（ＣＦ₂Ｏ）_n−ＣＯＯ−Ｃ（ＣＨ₂ＯＨ）Ｈ
ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）₃ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₁₇Ｈ（但
し、ｍ＝３，ｎ＝４）を得た。

【００４４】又、この含フッ素化合物を用いて実施例１
の方法に準じ、ＤＶＣ用磁気テープを得た。

【００４５】

【実施例４】実施例１におけるＣＦ₃（ＯＣ（ＣＦ₃）
ＦＣＦ₂）_m−（ＯＣＦ₂）_n−ＣＯＯＨの代わりにＦ
（Ｃ（ＣＦ₃）ＦＣＦ₂Ｏ）_m−ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＯＯ
Ｈを用い、又、ＨＯ（ＣＨ₂）₈ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）
₈Ｈの代わりにＨＯ（ＣＨ₂）₂ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）
₆ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₆Ｈを用いた以外は実施例１の
合成方法に準じ、本発明になる含フッ素化合物Ｆ（Ｃ
（ＣＦ₃）ＦＣＦ₂Ｏ） _m−ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＯＯ−Ｃ
（ＣＨ₂ＯＨ）ＨＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）₂ＣＨ＝ＣＨ（Ｃ
Ｈ₂）₆ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₆Ｈ（但し、ｍ＝３）を
得た。

【００４６】又、この含フッ素化合物を用いて実施例１
の方法に準じ、ＤＶＣ用磁気テープを得た。

【００４７】

【実施例５】実施例１におけるＣＦ₃（ＯＣ（ＣＦ₃）
ＦＣＦ₂）_m−（ＯＣＦ₂）_n−ＣＯＯＨの代わりに
（ＣＦ₃）₂ＣＦＯ（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_m−（ＣＦ
₂Ｏ）_n−ＣＯＯＨを用い、又、ＨＯ（ＣＨ₂）₈ＣＨ
＝ＣＨ（ＣＨ₂）₈Ｈの代わりにＨＯ（ＣＨ₂）₈ＣＨ
＝ＣＨ（ＣＨ₂）₁₂Ｈを用いた以外は実施例１の合成方
法に準じ、本発明になる含フッ素化合物（ＣＦ₃）₂Ｃ
ＦＯ（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_m−（ＣＦ₂Ｏ）_n−ＣＯＯ−
Ｃ（ＣＨ₂ＯＨ）ＨＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）₈ＣＨ＝ＣＨ
（ＣＨ₂）₁₂Ｈ（但し、ｍ＝４，ｎ＝３）を得た。

【００４８】又、この含フッ素化合物を用いて実施例１
の方法に準じ、ＤＶＣ用磁気テープを得た。

【００４９】

【比較例１】実施例１の含フッ素化合物を用いることな
く、すなわち潤滑剤の層を形成していない他は実施例１
の方法に準じ、ＤＶＣ用磁気テープを得た。

【００５０】

【比較例２】実施例１の潤滑剤として用いた含フッ素化
合物（ＩＶ）の代わりにアウジモント社のパーフルオロ
ポリエーテル系潤滑剤（商品名ＦＯＭＢＬＩＮ，ＣＦ₃
−ＯＣ（ＣＦ₃）Ｆ−ＣＦ₂）_m−（ＯＣＦ₂）_n−Ｏ
ＣＦ₃）を用い、又、溶剤としてフッ素系の溶剤（アウ
ジモント社の商品名ＳＶ−１１０）を用いた以外は実施
例１の方法に準じ、ＤＶＣ用磁気テープを得た。

【００５１】

【比較例３】実施例１の潤滑剤として用いた含フッ素化
合物（ＩＶ）の代わりにデュポン社のパーフルオロポリ
エーテル系潤滑剤（商品名ＫＲＹＴＯＸ，Ｆ（Ｃ（ＣＦ
₃）ＦＣＦ₂Ｏ）_m−ＣＦ₂ＣＦ₃）を用い、又、溶剤
としてフッ素系の溶剤（アウジモント社の商品名ＳＶ−
１１０）を用いた以外は実施例１の方法に準じ、ＤＶＣ
用磁気テープを得た。

【００５２】

【特性】上記各例で得た磁気テープを、６０℃，９０％
ＲＨの環境下に１４日間放置した後、市販のＤＶＣカム
コーダーを改造した装置に装着し、５℃，５０％ＲＨ並
びに４０℃，８０％ＲＨの環境下でスチル耐久性（出力
が３ｄＢ低下するまでの時間）を調べた。又、同じ環境
下で動摩擦係数μを調べたので、その結果を下記の表−
１に示す。尚、動摩擦係数μは、ＳＵＳ３０４製ガイド
ピン（直径２．０ｍｍ）に張力Ｔ₁（１０ｇ）、抱き角
π／２で巻き付け、走行速度１８．８ｍｍ／ｓｅｃで走
行させるのに必要な張力Ｔ₂を測定し、μ＝１／π・ｌ
ｎ（Ｔ₂／Ｔ₁）より求めた。

【００５３】表−１スチル耐久性動摩擦係数μ ５℃，50％RH 40℃，80％RH ５℃，50％RH 40℃，80％RH 実施例１＞６０分＞６０分０．２４０．２５実施例２＞６０分＞６０分０．２６０．２７実施例３＞６０分＞６０分０．２５０．２６実施例４＞６０分＞６０分０．２５０．２６実施例５＞６０分＞６０分０．２４０．２６比較例１０００．９５測定不能比較例２６分３分０．４２０．５２比較例３３分１分０．４６０．５４又、上記各例で用いた潤滑剤について、ＡＳＴＭＤ４
１７２Ｂに準じて四球摩耗試験を行った。具体的には、
７５℃に加熱した球に上記潤滑剤を滴下し、上部の球に
４０ｋｇ加重しながら１２００ｒｐｍで１時間回転した
後の下部の３球の磨耗痕直径を測定し、平均値を得たの
で、その結果を表−２に示す。

【００５４】表−２平均摩耗痕直径（ｍｍ）実施例１の潤滑剤０．５５実施例２の潤滑剤０．５３実施例３の潤滑剤０．５５実施例４の潤滑剤０．５４実施例５の潤滑剤０．５７比較例１（潤滑剤なし）破損比較例２の潤滑剤（商品名ＦＯＭＢＬＩＮ）０．６８比較例３の潤滑剤（商品名ＫＲＹＴＯＸ）０．７１上記表−１や表−２から判る通り、本発明の化合物は潤
滑特性に優れたものであり、そして記録媒体に用いられ
た場合、その走行特性が良好な特長を奏する。

【００５５】又、本発明の化合物は、通常の炭化水素系
の溶剤に溶けるものであり、特殊なフッ素系の溶剤を用
いなくても済むので、極めて好都合である。

【００５６】

【発明の効果】本発明の化合物は、フルオロアルキルエ
ーテル基（Ｒf ）と、アルキル基またはアルケニル基
（Ｒ）と、極性基（Ｚ）とを持ち、Ｒf がＲと極性基Ｚ
を有するアルキレン基とカルボン酸エステルとで結合さ
れている構造を有する構造のであるから、通常の安価な
炭化水素系の溶剤に溶けるものであり、高価なフッ素系
の溶剤を用いなくても済むので、極めて好都合である。

【００５７】そして、本発明の化合物は潤滑特性に優れ
たものである。特に、記録媒体に用いた場合、その走行
特性を向上させ、例えばスチル耐久性に優れた特長を奏
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】含フッ素化合物のＩＲスペクトル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０７Ｃ 309/41 Ｃ０７Ｃ 309/41 Ｃ０７Ｄ 317/54 Ｃ０７Ｄ 317/54 Ｃ０７Ｆ 9/09 Ｃ０７Ｆ 9/09 Ｋ 9/38 9/38 ＢＣ１０Ｍ 105/54 Ｃ１０Ｍ 105/54 Ｇ１１Ｂ 5/72 Ｇ１１Ｂ 5/72 // Ｃ１０Ｎ 40:18

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の一般式で表されることを特徴とす
る含フッ素化合物。【化１】〔但し、Ｒf は、フルオロアルキルエーテル基、Ｒは、アルキル基またはアルケニル基、Ｘは、−Ｏ−又は存在しない、Ｚは、極性基、ｋ，ｍ，ｎは０〜３０の整数である。〕
【請求項２】下記の一般式で表される含フッ素化合物
を含有することを特徴とする潤滑剤。【化２】〔但し、Ｒf は、フルオロアルキルエーテル基、Ｒは、アルキル基またはアルケニル基、Ｘは、−Ｏ−又は存在しない、Ｚは、極性基、ｋ，ｍ，ｎは０〜３０の整数である。〕
【請求項３】支持体と、記録層と、下記の一般式で表
される含フッ素化合物を含有する層とを具備することを
特徴とする記録媒体。【化３】〔但し、Ｒf は、フルオロアルキルエーテル基、Ｒは、アルキル基またはアルケニル基、Ｘは、−Ｏ−又は存在しない、Ｚは、極性基、ｋ，ｍ，ｎは０〜３０の整数である。〕