JPH11315045A - シクロプロピルアルキルケトンの製法 - Google Patents

シクロプロピルアルキルケトンの製法

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JPH11315045A
JPH11315045A JP11059231A JP5923199A JPH11315045A JP H11315045 A JPH11315045 A JP H11315045A JP 11059231 A JP11059231 A JP 11059231A JP 5923199 A JP5923199 A JP 5923199A JP H11315045 A JPH11315045 A JP H11315045A
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water
dihydro
acid
reaction
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JP11059231A
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Manfred Dr Kaufhold
カウフホルト マンフレート
Wolfgang Dr Kleemiss
クレーミス ヴォルフガング
Udo Jegelka
イェゲルカ ウド
Michael Dr Korell
コレル ミヒャエル
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Degussa GmbH
Degussa Huels AG
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 3−アシルテトラヒドロフラン−2−オンを
製造する際に、非常に反応性の4,5−ジヒドロ−2−
アルキルフランが生じる。この化合物を技術的にできる
だけ簡単で、安全な方法で、分離しかつ処理すること。 【解決手段】 反応生成物の蒸留前、間又は後に、アル
コール又は水のような求核性化合物と反応させることに
より、4,5−ジヒドロ−2−アルキルフランを高沸点
付加生成物として確実に分離することが達せられる。シ
クロプロピルアルキルケトンの製造工程において生じた
排ガスは反応性洗浄により簡単にかつ確実に浄化するこ
とができる。 【効果】 生産工程にとって処理の困難な副生物を確実
に除去することが可能となった。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は3−アシルテトラヒ
ドロフラン−2−オンからC1〜C4−アルキル基を有す
るシクロプロピルアルキルケトンを製造するための新規
方法に関する。
【0002】シクロプロピルケトンは医薬品及び農業化
学製品を製造するための重要な中間体である。
【0003】その製法は次の反応式により行なわれる:
【0004】
【化1】
【0005】すなわち、副生成物として4,5−ジヒド
ロ−2−アルキルフラン及び二酸化炭素も生じる。
【0006】
【従来の技術】シクロプロピルアルキルケトンの製法は
EP−A−0552586及びEP−A−072506
6により公知である。その際、3−アシルテトラヒドロ
フラン−2−オンをアルカリハロゲン化物と160〜2
20℃で反応させ、更にシクロプロピルアルキルケトン
及び副生成物4,5−ジヒドロ−2−アルキルフランを
蒸留し、かつ凝縮させる。
【0007】3−アセチルテトラヒドロフラン−2−オ
ンすなわちアセチルブチロラクトン(ABL)からのシ
クロプロピルメチルケトン(CPMK)の製造の際に、
4,5−ジヒドロ−2−メチルフラン(DHMF)が、
多くの場合、CPMK及びDHMFの合計量に対して5
〜30%の量で生じる。
【0008】高純度のCPMKを得るためには、CPM
K及びDHMFからなる混合物を分留しなければならな
い。従って、ドイツ特許出願P19710879.2に
はDHMFの蒸留による分離のための連続的方法が記載
されている。しかしながら、このためには高い分離能を
有する精留カラムが必要である。
【0009】更に、フーベンワイル(Houben-Weyl,Meth
oden der organischen Chemie BandVI/3,1965,p698)に
よれば、DHMFは酸の痕跡程度の存在において、求核
性基と多量の熱量を遊離して激しく反応することができ
る化合物である。従って、生産規模でのCPMKの製造
の際に、DHMFのような反応性の副生成物の処理は不
所望である。それというのも、DHMF又はDHMF−
含有フラクションとの不適切な対応によりヒト及び環境
に損害を与えることがあるためである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、危険性の高い4,5−ジヒドロ−2−アルキルフラ
ンを技術的にできるだけ簡単で、安全性の観点からも、
生成物の処理又は廃棄処理に関しても問題のない、十分
に効果のある方法で、分離しかつ無害にすることであ
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】この課題は本発明によ
り、反応の際に生じた4,5−ジヒドロ−2−アルキル
フランを反応生成物の蒸留の前、その間又はその後にア
ルコール、水又はアルコール/水混合物と酸性触媒反応
において反応させ、次いで分離することにより解決す
る。
【0012】このようにして、4,5−ジヒドロ−2−
アルキルフランを高い速度で十分に反応させ、問題なく
除去することができるということは、意外なことであ
る。遊離した反応熱を、アルコール、水又はアルコール
/水−混合物からなる捕捉媒体の過剰により取り込み、
かつ制御して放出する。このことは反応が均一相中で実
施される場合特に有利である。
【0013】捕捉媒体の過剰は任意に高くてよい。経済
的な理由から、4,5−ジヒドロ−2−アルキルフラン
対捕捉媒体の重量比は多くの場合1:2〜1:50であ
る。この際、1:5〜1:30の重量比に有利に調節さ
れる。
【0014】DHMFは水に対して特に高い反応性を示
す。DHMFと水との反応の際に、2相の形成を確実に
回避するために、水とアルコールとの混合物を有利に使
用する。従って、混合物の水含量はしばしば最高40重
量%及び有利には最高で僅かに20重量%である。有利
には無水のアルコールも使用される。
【0015】好適なアルコールは、例えばエタノール、
イソプロパノール、n−プロパノール、n−ブタノー
ル、ペンタノール、ヘキサノール、2−エチルヘキサノ
ール、ノナノール、デカノールならびに多価アルコー
ル、例えばエチレングリコール及びグリセリンである。
有利には沸点100〜300℃のアルコールを使用す
る。
【0016】4,5−ジヒドロ−2−アルキルフランと
の反応のために使用する溶媒も、他の有機溶剤、例えば
ケトン、エーテル又はエステルを、水及びアルコールの
合計量に対して20重量%まで含有していてよい。
【0017】シクロプロピルアルキルケトンにおいてア
ルキル基としてエチル、イソプロピル及びブチルを考慮
することもできるが、本発明においてはメチル基が有利
である。すなわち、有利にはABLがCPMK及びDH
MFに変換する。
【0018】捕捉媒体はその他に、触媒として水及びア
ルコールからの合計量に対して、有利に15重量%まで
のカルボン酸、スルホン酸又は鉱酸を有する。特に有利
には、10重量%を下回る含量であり、この際1〜6重
量%の量が特に有利である。酸性イオン交換体及び酸性
鉱物、例えばアルモシリケート(Alumosilikate)を使
用することができる。
【0019】好適なカルボン酸は例えば酢酸、プロピオ
ン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、アジピン酸、
p−トルエンスルホン酸又はメタンスルホン酸である。
【0020】鉱酸としては、塩酸、硫酸及びリン酸を挙
げることができる。
【0021】多くの場合、反応を10〜80℃の温度で
実施する。
【0022】捕捉媒体、求核性反応成分を精留の前に添
加する場合、蒸留の際に4,5−ジヒドロ−2−アルキ
ルフランを含有しないシクロプロピルアルキルケトンを
含有する前フラクションが得られる。
【0023】シクロプロピルアルキルケトン及び4,5
−ジヒドロ−2−アルキルフラン、特にCPMK及びD
HMFは比較的易揮発性化合物であり、これらは実際の
反応において著しい費用をかけて縮合を行なうことによ
り定量的に分離することができる。従って、多くの場
合、主に二酸化炭素からなる排ガスが、シクロプロピル
アルキルケトン及び4,5−ジヒドロ−2−アルキルフ
ランを、これを予め浄化することなしに放出することの
できない量で含有する。
【0024】ウルマンズ・エンシクロペディア・オブ・
インダストリアル・ケミストリー(Ullmann's Encyclop
edia of Industrial Chemistry,5th Ed.,Vol.B3,p8-7ff
及びp9-41ff)によれば、排ガスは吸着、例えば活性炭
への吸着、又は液体中への吸収により浄化される。しか
しながら、その際再び負荷した吸着剤もしくは吸収剤の
処理の問題が生じる、すなわちこの場合には異なる化学
的及び物理的性質の生成物を除去しなければならず、か
つ物質の一つが安全技術において重要のものであり、か
つ突燃又は爆発に導くことがある。
【0025】更に、二酸化炭素が多量に、すなわち前記
の平衡式により化学量論量で形成されるということが、
困難にしている。ケトン及びジヒドロフランの物理的溶
解性の利用は、前記成分を十分に分離するためにはここ
ではしばしば十分ではない。更に、多量の二酸化炭素の
ために水性アルカリ性洗浄は、著しい量の塩を生じるの
で、実施することはできない。
【0026】本発明による方法は、3−アセチルテトラ
ヒドロフラン−2−オンからシクロプロピルアルキルケ
トンを製造する反応の排ガスに関しても成功裏に適用す
ることができる。その際、反応性洗浄としてアルコー
ル、水又はアルコール/水混合物との酸性触媒反応を実
施する。
【0027】分離すべき化合物に比較して洗浄液の過剰
は排ガス浄化において任意に高くてよい。
【0028】有利には排ガスを2工程で浄化する。第一
工程においては4,5−ジヒドロ−2−アルキルフラン
の50%以上をアルコール、水又はアルコール/水混合
物を用いて分離する。引き続き、第二工程では硫酸で洗
浄する。
【0029】第二工程の洗浄液としては、本発明方法に
おいて60〜100%濃度の、有利には70〜100%
濃度の硫酸を使用する。
【0030】この硫酸は第一の洗浄工程の排ガスからな
お残留している量のシクロプロピルアルキルケトン及び
4,5−ジヒドロ−2−アルキルフランを実質的に定量
的に取り出すことができる。
【0031】洗出された有機化合物の分解生成物の量と
は独立して、洗浄硫酸を硫酸を獲得するための通常の製
造工程に原料として使用することができ、かつこうして
含有する硫酸を環境を汚染することなく回収することが
できる。
【0032】アルコール又はアルコール/水混合物での
反応性洗浄は一般に15〜70℃で、硫酸での洗浄は1
0〜50℃で実施される。
【0033】本発明方法により、4,5−ジヒドロ−2
−アルキルフランを安全にかつ制御された反応熱の遊離
下に付加生成物に反応させ、かつ実質的に定量的に分離
することが達せられる。
【0034】有利に使用した有機溶媒の処理は燃焼によ
る熱エネルギーの利用下に行なうことができる。この場
合、使用する液体の純度に関して高い要求は全くなされ
ないので、他の製造工程からの好適な廃棄生成物、例え
ば経済的にあまり興味のない、場合により好適な組成の
水含有中間フラクションもこのために使用することがで
きる。
【0035】次に、実施例につき本発明をより明らかに
する。
【0036】
【実施例】実施例1:4,5−ジヒドロ−2−メチルフ
ラン(DHMF)97.0g(1.15モル)、シクロプ
ロピルメチルケトン(CPMK)483.6g(5.75
モル)及びモンモリロン石K10(Fa.Suedchemie,D-80
333 Muenchen)1.0gからなる混合物を25℃で撹拌
する。エチレングリコール71.5g(1.15モル)を
ゆっくりと添加し、この際反応温度を最高30℃に保持
する。1時間後撹拌し、次いで触媒を濾別する。この混
合物を炭酸ナトリウム2gと混合し、引き続き0.5m
のマルチフィラメント(Multifil)カラムを介して常圧
で分留する。この蒸留のあいだカン部温度は200℃を
越えてはならない。前流出物を有しない、GC純度>9
9%のCPMK435.2g(90%)が得られる。
【0037】実施例2:CPMK195.0g(2.3モ
ル)、DHMF38.7g(0.46モル)及びK10
1.0gからなる混合物を25℃で撹拌下に装入する。
エチレングリコール29.2g(0.46モル)を配量添
加し、この際温度は40℃に上昇する。1時間後撹拌
し、次いで酸性触媒を濾別し、炭酸ナトリウム2gをこ
の混合物に添加する。引き続き、この混合物を0.5m
のマルチフィラメント・カラムを介して約100ミリバ
ールの圧力で分留する。最高で80℃のカン部温度で、
前流出物を有しない、GC純度>98%のCPMK16
8.5g(85%)が得られる。
【0038】実施例3:反応カロリメータ(Mettler RC
-1)中に、25℃でブタノール360.0g及び10%
濃度の水性硫酸40.0gからなる混合物を撹拌下に装
入した。160.0g/hの速度でDHMFを0.5時間
導入し、その際生じた反応熱/時間を各時間に関して、
理論的に予期される熱量/時間(断熱的実験実施下に予
め、DHMFとブタノール/10%硫酸との反応の反応
熱を40kJ/モルと測定した)と比較する。両方の熱
量/時間(20J/s)は各時間に関して一致する。す
なわち、DHMFの供給の際に、DHMFのDHMF−
付加生成物への瞬間的な反応が生じる。
【0039】実施例4:反応カロリメータ(Mettler RC
-1)中に、25℃で50%濃度の水性酢酸400.0g
を撹拌下に装入した。160.0g/hの速度でDHM
Fを0.5時間導入し、その際生じた反応熱/時間を各
時間に関して、理論的に予期される熱量/時間(断熱的
実験実施下に予め、DHMFと50%濃度の酢酸との反
応の反応熱を40kJ/モルと測定した)と比較する。
両方の熱量/時間(20J/s)は各時間に関して一致
する。すなわち、DHMFの供給の際に、DHMFのD
HMF−付加生成物への瞬間的な反応が生じる。
【0040】実施例5:CPMK17g/m3及びDH
MF34g/m3を含有する二酸化炭素350l/hの
排ガス流を温度25℃で長さ300mm及び直径30m
mのカラムの底部に導入する。該カラムはラッシヒリン
グ(直径6mm)200mm充填を有する。洗浄溶媒で
ある、アジピン酸1.35%を含有する2−エチルヘキ
サノールからなる混合物260g、を循環速度12 l
/hの循環ポンプを介して塔底で取り出し、再び塔頂部
に供給する。この洗浄カラムを通過したCPMK5.4
g/m3及びDHMF11.2g/m3を含有するガス混
合物をガラスフリットを介して濃硫酸(100%濃度)
500g中を導入する。
【0041】この二工程の洗浄組合せの出口では、16
時間にわたってガス相中に全く有機成分を検出すること
はできなかった。
【0042】実施例6:実験装置は実施例5中に記載さ
れたと同じものであるが、第一の工程のための洗浄溶媒
としてはp−トルエンスルホン酸5%を含有するエチレ
ングリコールからなる混合物260gを使用する。第一
の洗浄の後、含有量はCPMK6.5g/m3及びDHM
F6.7g/m3である。第二の洗浄後は同様に全く含有
を検出しなかった。
フロントページの続き (72)発明者 ウド イェゲルカ ドイツ連邦共和国 レックリングハウゼン フンスリュックシュトラーセ 30 (72)発明者 ミヒャエル コレル ドイツ連邦共和国 ボーフム アム エル レンカムプ 46

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 3−アシルテトラヒドロフラン−2−オ
    ンからC1〜C4−アルキル基を有するシクロプロピルア
    ルキルケトンを製造する方法において、その際に同様に
    生じる4,5−ジヒドロ−2−アルキルフランを反応生
    成物の蒸留の前、その間又はその後にアルコール、水又
    はアルコール/水混合物と酸性触媒の存在において反応
    させ、次いで分離することを特徴とする、シクロプロピ
    ルアルキルケトンの製法。
  2. 【請求項2】 4,5−ジヒドロ−2−アルキルフラン
    対アルコール、水又はアルコール/水混合物との重量比
    が1:2〜1:50である請求項1記載の製法。
  3. 【請求項3】 重量比を1:5〜1:30に調節する請
    求項2記載の製法。
  4. 【請求項4】 アルコール/水混合物が40重量%まで
    の水含量を有する請求項1記載の製法。
  5. 【請求項5】 アルコールが沸点100〜300℃を有
    する請求項1記載の製法。
  6. 【請求項6】 3−アセチルテトラヒドロフラン−2−
    オンからシクロプロピルメチルケトンを製造する際に、
    4,5−ジヒドロ−2−メチルフランを分離する請求項
    1記載の製法。
  7. 【請求項7】 触媒として、カルボン酸、スルホン酸又
    は鉱酸をアルコール及び水の合計量に対して15重量%
    まで使用する請求項1記載の製法。
  8. 【請求項8】 カルボン酸、スルホン酸又は鉱酸を1〜
    6重量%含有している請求項7記載の製法。
  9. 【請求項9】 触媒として酸性イオン交換体又は酸性鉱
    物を使用する請求項1記載の製法。
  10. 【請求項10】 反応生成物の蒸留の前、その間又はそ
    の後に、反応を排ガスに対して適用し、かつその際反応
    性洗浄を実施する請求項1記載の製法。
  11. 【請求項11】 第1工程において4,5−ジヒドロ−
    2−アルキルフランの50%以上をアルコール又はアル
    コール/水−混合物での反応性洗浄により除去し、かつ
    第2工程で60〜100%硫酸で洗浄する請求項10記
    載の製法。
JP11059231A 1998-03-06 1999-03-05 シクロプロピルアルキルケトンの製法 Ceased JPH11315045A (ja)

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DE19809775A DE19809775A1 (de) 1998-03-06 1998-03-06 Verfahren zur Herstellung von Cyclopropylalkylketonen

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