JPH11202473A - Mask preparation device - Google Patents
Mask preparation deviceInfo
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- JPH11202473A JPH11202473A JP1827698A JP1827698A JPH11202473A JP H11202473 A JPH11202473 A JP H11202473A JP 1827698 A JP1827698 A JP 1827698A JP 1827698 A JP1827698 A JP 1827698A JP H11202473 A JPH11202473 A JP H11202473A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、パターニング露光
に用いられる大型のマスクの準備装置に関するもので、
特にプラズマディスプレイパネル用の基板のパターニン
グを行うために用いられる大型のマスクの準備装置に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for preparing a large mask used for patterning exposure,
In particular, the present invention relates to an apparatus for preparing a large-sized mask used for patterning a substrate for a plasma display panel.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（以
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
例えば、ＡＣ型のＰＤＰは、例えば、図７に示すような
構造をしており、２枚の対向するガラス基板７１０、７
２０にそれぞれ規則的に配列した一対の、バス電極であ
る金属電極７５０と透明電極７４０からなる複合電極と
アドレス７８０を設け、その間にネオン、キセノン等を
主体とするガスを封入した構造となっている。そして、
これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル
内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて
表示を行うようにしている。尚、図７はＰＤＰ構成斜視
図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス基板７
１０）、背面板（ガラス基板７２０）とを実際より離し
て示してある。また、ＤＣ型ＰＤＰにあっては、電極は
誘電体層で被膜されていない構造を有する点でＡＣ型と
相違するが、その放電効果は同じである。また、図７に
示すものは、ガラス基板７２０の一面に下地層７６７を
設けその上に誘電体層７６５を設けた構造となっている
が、下地層７６７、誘電体層７６５は必ずしも必要とし
ない。2. Description of the Related Art In recent years, plasma display panels (hereinafter, also referred to as PDPs) have been used in various display devices because of their small depth, light weight, clear display, and wide viewing angle compared to liquid crystal panels. It is being used.
For example, an AC-type PDP has a structure as shown in FIG. 7, for example, and has two opposing glass substrates 710 and 7.
20 is a structure in which a pair of regularly arranged metal electrodes 750 as bus electrodes and a composite electrode composed of a transparent electrode 740 and an address 780 are provided, and a gas mainly composed of neon, xenon or the like is sealed between them. I have. And
By applying a voltage between these electrodes and generating a discharge in minute cells around the electrodes, each cell emits light to perform display. FIG. 7 is a perspective view of the PDP structure.
10) and the rear plate (glass substrate 720) are shown apart from the actual state. Further, the DC type PDP is different from the AC type in that the electrodes have a structure not coated with a dielectric layer, but the discharge effect is the same. 7 has a structure in which a base layer 767 is provided on one surface of a glass substrate 720 and a dielectric layer 765 is provided thereon, but the base layer 767 and the dielectric layer 765 are not necessarily required. .
【０００３】そして、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）
は、ＡＣ型の場合、例えば、図６に示すようにして、背
面板、前面板をそれぞれ別個の工程で作製し、両者を用
いてＰＤＰをアセンブリして作製していた。以下、ＰＤ
Ｐ用の背面板、前面板の作製工程を簡単に説明する。先
ず、背面板の作製工程を説明する。はじめに、ガラス基
板を用意し（Ｓ６１１）、ガラス基板に厚膜印刷法によ
り陰極用（電極配線用）ペーストを所定パターンで印刷
し、これを乾燥、焼成し、電極配線を形成する。（Ｓ６
１２） 次いで、このガラス基板の電極配線形成側上に障壁（バ
リアリブとも言う）を、印刷法ないしサンドブラスト法
により形成する。（Ｓ６１３） 印刷法の場合、ガラス基板に厚膜印刷法により障壁（バ
リアリブ）形成用ペーストを所定のパターンに印刷し、
これを乾燥する。障壁の層厚は厚く（例えば１６０〜２
００μｍの厚さ）１回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られ
ないため、障壁形成用ペーストの印刷および乾燥は複数
回行う。所定の膜厚が得られた後、ペーストの焼成がな
される。サンドブラスト法の場合は、障壁形成材料をガ
ラス基板上に塗布し、更にこの上に所定のレジストパタ
ーンを形成した後、研磨砂を吹きかけレジストパターン
に対応した形状に障壁形成材料を加工して、これを焼成
して障壁を形成する。更に、障壁が形成された基板に厚
膜印刷法により蛍光体用ペースト（例えば、酸化インジ
ウム含有の螢光体用ペースト）を所定パターンに印刷
し、次いでその乾燥及び焼成を行い（Ｓ６１４）、背面
板を形成する。（Ｓ６１５）[0003] Plasma display (PDP)
In the case of the AC type, for example, as shown in FIG. 6, a back plate and a front plate are manufactured in separate steps, and a PDP is assembled using both. Below, PD
The process of manufacturing the back plate and front plate for P will be briefly described. First, the manufacturing process of the back plate will be described. First, a glass substrate is prepared (S611), and a paste for a cathode (for electrode wiring) is printed in a predetermined pattern on the glass substrate by a thick film printing method, and the paste is dried and fired to form electrode wiring. (S6
12) Next, a barrier (also referred to as a barrier rib) is formed on the electrode wiring formation side of the glass substrate by a printing method or a sandblast method. (S613) In the case of the printing method, a paste for forming a barrier (barrier rib) is printed in a predetermined pattern on a glass substrate by a thick film printing method,
This is dried. The thickness of the barrier is large (for example, 160-2
(Thickness of 00 μm) Since this film thickness cannot be obtained by one thick film printing, printing and drying of the barrier forming paste are performed a plurality of times. After a predetermined film thickness is obtained, the paste is fired. In the case of the sand blast method, a barrier forming material is applied on a glass substrate, and a predetermined resist pattern is further formed thereon. Then, abrasive sand is sprayed to process the barrier forming material into a shape corresponding to the resist pattern. Is fired to form a barrier. Further, a paste for a phosphor (for example, a paste for a phosphor containing indium oxide) is printed in a predetermined pattern on the substrate on which the barrier is formed by a thick film printing method, and then dried and fired (S614). Form a faceplate. (S615)
【０００４】次に、前面板の作製工程を説明する。先
ず、ガラス基板を用意し（Ｓ６２１）、ガラス基板に例
えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）の蒸
着層をパターニングする。（Ｓ６２１） パターニングは通常のフォトリソ工程（リゾグラフィー
技術）により行う。次いで、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ（クロ
ム、銅、クロム）の３層を蒸着やスパッタリングにより
成膜し（Ｓ６２２）、同様にフォトリソ工程（リゾグラ
フィー技術）によりパターニングして、あるいは電極配
線用ペーストを所定パターンで印刷して、パターニング
されたＩＴＯ膜とともに、放電用の電極配線を形成す
る。（Ｓ６２３） 次いで、ペースト状にした低融点ガラスのベタ印刷によ
り、透明誘電体層を形成して（Ｓ６２４）、前面板が得
られる。（Ｓ６２５）[0004] Next, a process for manufacturing the front plate will be described. First, a glass substrate is prepared (S621), and an evaporation layer of, for example, ITO (Indium Tin Oxide) is patterned on the glass substrate. (S621) The patterning is performed by a normal photolithography process (lithography technology). Next, three layers of Cr-Cu-Cr (chromium, copper, chromium) are formed by vapor deposition or sputtering (S622), and similarly patterned by a photolithography process (lithography technique), or a paste for electrode wiring is formed in a predetermined manner. An electrode wiring for electric discharge is formed together with the patterned ITO film by printing with a pattern. (S623) Next, a transparent dielectric layer is formed by solid printing of paste-like low melting point glass (S624), and a front plate is obtained. (S625)
【０００５】このように、ＰＤＰ用の背面板、前面板の
作製においては、フォトリソ工程（リソグラフィ技術を
伴う工程）が多くあり、これらの工程においては、基板
保持台に基板を保持し、マスクと密着させずに、マスク
と基板間に隙間をもたせ、マスクを介して平行な露光光
を基板に照射することにより、基板へのパターン露光を
行うプロキシミティー露光装置を用いて、基板のパター
ニングを行う場合が多かった。尚、この場合、露光は、
基板、マスクに自重によるたわみができるだけ発生しな
いように、基板、マスクとも面を略鉛直方向に立てた状
態で行われていた。しかし、ＰＤＰ用の基板は、対角で
１ｍを超えるような大型のものが多く、これを露光する
マスク（基板）も対角で１ｍを超えるような大型となる
ため、マスクの洗浄、検査、修正の処理における扱いが
難しく、露光に適用できるマスクの準備をうまく行うこ
とができなかった。処理毎に、マスク洗浄部、あるいは
検査修正部に、台車にてマスクを運び、人手や簡単な道
具による洗浄処理、人手による検査修正を処理を行って
いた。場合によっては、マスクを１枚づつ人手により、
マスク洗浄部や検査修正部に運び各作業を行っていた。As described above, there are many photolithography processes (processes involving lithography technology) in the production of a back plate and a front plate for a PDP. In these processes, a substrate is held on a substrate holding table, and a mask and a mask are formed. The substrate is patterned using a proximity exposure apparatus that performs pattern exposure on the substrate by providing a gap between the mask and the substrate without contacting the substrate and irradiating the substrate with parallel exposure light through the mask. In many cases. In this case, the exposure is
Conventionally, the substrate and the mask are both set in a substantially vertical direction so that the substrate and the mask are not bent by their own weight as much as possible. However, many PDP substrates are large, such as more than 1 m diagonally, and the mask (substrate) for exposing it is also large, more than 1 m diagonally. The handling of the correction process was difficult, and the preparation of a mask applicable to exposure could not be performed successfully. For each process, the mask is carried by a cart to a mask cleaning unit or an inspection correction unit, and the cleaning process is performed manually or with a simple tool, and the inspection correction is performed manually. In some cases, one mask at a time
They were transported to the mask cleaning department and the inspection and correction department for each work.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、ＰＤＰ
用の背面板、前面板の作製においては、フォトリソ工程
（リソグラフィ技術を伴う工程）が多くあり、これに用
いられる大型のマスクの準備を、品質的にも十分対応で
き、且つ、効率的にできるマスクの準備方法が求められ
ていた。本発明は、ＰＤＰの大型化、量産化がますます
求められる中、ＰＤＰ用の背面板、前面板の作製におけ
る、フォトリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備
を、品質的にも十分対応でき、且つ、効率的にできるマ
スク準備装置を提供しようとするものである。As described above, the PDP
There are many photolithography processes (processes involving lithography technology) in the production of back and front plates for use, and the preparation of large masks used in these processes can be performed sufficiently in terms of quality and can be performed efficiently. A method of preparing a mask was required. According to the present invention, while the demand for larger and mass-produced PDPs is increasing, the quality of the preparation of exposure masks used in the photolithography process in the production of back and front plates for PDPs can be sufficiently satisfied. Another object of the present invention is to provide a mask preparation device that can be made efficiently.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明のマスク準備装置
は、大型のエマルジョンマスクからなる露光用マスクの
準備装置であって、マスク面を鉛直方向にしてマスクを
保管するマスク保管庫と、マスク面が鉛直方向の状態か
ら、マスク面が鉛直方向と所定の角θ１をなす傾斜した
状態へと相互にマスク保持姿勢を変えることができ、且
つマスク面を鉛直な状態で、あるいはマスク面を傾斜さ
せた状態でマスクの取り入れ、取り出しができる、マス
クを搬送するためのマスク搬送台車と、マスク面を該所
定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マ
スク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態で、マスク
幅を跨ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘着ロールに
より、マスク面の洗浄を行うマスク洗浄部と、マスク面
を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送で
き、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマ
スクの凹欠陥、凸欠陥等の形状欠陥の検査修正を行うマ
スク検査修正部とを備え、マスク搬送台車とマスク洗浄
部、およびマスク洗浄部とマスク検査修正部とは、マス
ク面を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、それぞれ、
両者間でマスクの受け渡しができるものであることを特
徴とするものである。そして、上記において、所定の角
度θ１が９０°〜７５°の範囲であることを特徴とする
ものである。そしてまた、上記において、マスク搬送台
車におけるマスクの移動は、マスクの端部を挾み、回転
するガイドロールにより行われるものであることを特徴
とするものである。また、上記において、マスク洗浄部
は、粘着ロールの位置は固定し、マスクを自動で動かし
てマスク面を洗浄するものであることを特徴とするもの
である。また、上記において、マスクの搬送は回転ロー
ルにより搬送されるものであることを特徴とするもので
ある。また、上記において、マスク洗浄部は、粘着ロー
ルを自動で動かしてマスク面を洗浄するものであること
を特徴とするものである。また、上記における粘着ロー
ルは、表面部が、天然ゴム、ウレタンゴム、シリコーン
の１つない複数により成ることを特徴とするものであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION A mask preparation apparatus according to the present invention is an apparatus for preparing a mask for exposure comprising a large emulsion mask, comprising: a mask storage for storing a mask with a mask surface in a vertical direction; The mask holding posture can be changed mutually from the state in which the surface is in the vertical direction to the state in which the mask surface is inclined at a predetermined angle θ1 with the vertical direction, and the mask surface is in a vertical state or the mask surface is inclined. A mask transport cart for transporting the mask, which can take in and take out the mask in a state where the mask is made, and a mask which can transport the mask while the mask surface is inclined at the predetermined angle θ1, and the mask surface is moved at the predetermined angle θ1 A mask cleaning unit that cleans the mask surface with an adhesive roll provided along the mask surface while straddling the mask width in a state where the mask surface is inclined at a predetermined angle θ1 A mask inspection / correction unit for performing inspection / correction of a shape defect such as a concave defect or a convex defect of the mask with the mask surface inclined at the predetermined angle θ1; The trolley and the mask cleaning unit, and the mask cleaning unit and the mask inspection and correction unit, with the mask surface inclined at a predetermined angle θ1,
It is characterized in that a mask can be transferred between the two. In the above, the predetermined angle θ1 is in the range of 90 ° to 75 °. Further, in the above, the movement of the mask in the mask transport carriage is performed by a guide roll that rotates while sandwiching the end of the mask. In the above, the mask cleaning unit is characterized in that the position of the adhesive roll is fixed, and the mask is automatically moved to clean the mask surface. Further, in the above, the transport of the mask is performed by a rotary roll. In the above, the mask cleaning unit is characterized in that the mask surface is cleaned by automatically moving the adhesive roll. The adhesive roll described above is characterized in that the surface portion is made of one or more of natural rubber, urethane rubber and silicone.
【０００８】また、上記において、検査修正部は、マス
クの修正面側でない裏面全体に拡散光からなる検査光を
照射し、且つ、マスクの一辺を下側に水平方向に沿わ
せ、マスク面を斜めないし垂直にした状態でマスクを載
せて置くマスク載置台と、マスクの修正面側を観察する
ために、マスク載置台上に保持されて、マスクのマスク
面に沿う水平方向であるＸ方向と、Ｘ方向に直交してマ
スク面に沿うＹ方向に移動可能な顕微鏡と、マスク載置
台を保持して且つマスク載置台の高さを変える載置台制
御部とを備えたもので、前記マスク載置台は、マスクの
下側の一辺を水平方向に沿わせてマスクを移動させる水
平移動部を設けたものであることを特徴とするものであ
り、該水平移動部は、マスクの一辺を下側にし、該辺を
水平方向に沿う複数個のコロ（回転するガイドロール
等）ないしロール上に載せて移動させるものであること
を特徴とするものである。また、上記において、顕微鏡
をＸ、Ｙ移動させるＸ、Ｙ移動軸をマスク載置台上に設
けていることを特徴とするものである。また、上記にお
いて、マスク載置台は、マスクの修正面側でない裏面全
体に拡散板を介して検査光を照射するものであることを
特徴とするものである。また、上記において、顕微鏡と
一体でＸ、Ｙ移動する、腕おき台を備えていることを特
徴とするものである。また、上記において、顕微鏡の
Ｘ、Ｙ位置を数値表示するカウンターを備えていること
を特徴とするものである。また、上記において、マスク
の顕微鏡像を観察するモニターを備えていることを特徴
とするものである。In the above, the inspection correcting section irradiates the entire back surface, not the correction surface side, of the mask with inspection light composed of diffused light, and makes one side of the mask downward along the horizontal direction to change the mask surface. A mask mounting table on which the mask is mounted in an oblique or vertical state, and an X direction which is held on the mask mounting table and is a horizontal direction along the mask surface of the mask for observing the correction surface side of the mask. A microscope movable in a Y direction orthogonal to the X direction along a mask surface, and a mounting table control unit that holds the mask mounting table and changes the height of the mask mounting table. The mounting table is characterized in that a horizontal moving unit that moves the mask with one side of the lower side of the mask in the horizontal direction is provided, and the horizontal moving unit is configured to move one side of the mask to the lower side. And a plurality of the sides along the horizontal direction. Is characterized in that is to move the roller (rotating guide roll or the like) or put on a roll. In the above, the X and Y movement axes for moving the microscope in the X and Y directions are provided on the mask mounting table. Further, in the above, the mask mounting table irradiates the inspection light via the diffusion plate to the entire back surface other than the correction surface side of the mask. Further, in the above, the present invention is characterized in that an arm rest that moves in X and Y directions integrally with the microscope is provided. Further, in the above, a counter for numerically displaying the X and Y positions of the microscope is provided. Further, in the above, there is provided a monitor for observing a microscope image of the mask.
【０００９】尚、ここでは、マスクの正規のパターン形
状よりも凹んだ形状のものを凹欠陥と言い、正規のパタ
ーン形状より出っ張った凸状の形状のものあるいは正規
のパタ−ン以外の余分の絵柄や汚れを凸欠陥と言う。通
常、これらの欠陥は透過光で検査された場合、欠陥部が
白ないし黒に見えるので白欠陥ないし黒欠陥とも言われ
る。Here, a mask having a shape that is more concave than the regular pattern shape is referred to as a concave defect, and a mask having a convex shape protruding from the regular pattern shape or an extra pattern other than the regular pattern. Patterns and dirt are called convex defects. Usually, these defects are also referred to as white defects or black defects because the defect portion looks white or black when inspected with transmitted light.
【００１０】[0010]
【作用】本発明のマスク準備装置は、このような構成に
することにより、ＰＤＰの大型化、量産化がますます求
められる中、ＰＤＰ用の背面板、前面板の作製におけ
る、フォトリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備
を、品質的にも十分対応でき、且つ、効率的にできるマ
スク準備装置の提供を可能としている。具体的には、マ
スク面を鉛直方向にしてマスクを保管するマスク保管庫
と、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面が鉛直方
向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へと相互にマスク
保持姿勢を変えることができ、且つマスク面を鉛直な状
態で、あるいはマスク面を傾斜させた状態でマスクの取
り入れ、取り出しができる、マスクを搬送するためのマ
スク搬送台車と、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、マスク面を該所定の角度
θ１に傾斜させた状態で、マスク幅を跨ぎ、該マスク面
に沿うように設けた粘着ロールにより、マスク面の洗浄
を行うマスク洗浄部と、マスク面を該所定の角度θ１に
傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マスク面を該所定
の角度θ１に傾斜させた状態でマスクの凹欠陥、凸欠陥
等の形状欠陥の検査修正を行うマスク検査修正部とを備
え、マスク搬送台車とマスク洗浄部、およびマスク洗浄
部とマスク検査修正部とは、マスク面を所定の角度θ１
に傾斜させた状態で、それぞれ、両者間でマスクの受け
渡しができるものであることにより、これを達成してい
る。即ち、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面が
鉛直方向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へとマスク
保持姿勢を変えることができ、且つ、マスク面を傾斜さ
せた状態でマスクを移動させて、取り入れ、取り出しが
できる、マスク搬送台車を用いていることにより、マス
ク搬送台車をマスク洗浄部に移動し、マスク面をマスク
洗浄部のマスクを移動させる平面に合わせて、保管庫か
らマスク洗浄部へのマスクの移動を行うことができ、人
手による移動の場合におけるマスクの落下事故等を防止
できるものとしている。そして、マスク洗浄部とマスク
検査修正部とは、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、且つ、ガラス移動面を略
同一平面上に設けて、両者間で直接マスクの受け渡しが
できるようにしていることにより、両者の間で、マスク
の落下事故の発生は無く、作業性の良いものとしてい
る。マスク搬送台車とマスク洗浄部、マスク洗浄部とマ
スク検査修正部とを連結させてて使用でき、あたかも一
つの搬送装置において、マスクを準備する構成となり、
装置全体の設置面積を小さくできる。The mask preparing apparatus of the present invention is used in a photolithography process in manufacturing a back panel and a front panel for a PDP, while the size and mass production of the PDP are increasingly required by adopting such a configuration. This makes it possible to provide a mask preparation apparatus that can sufficiently cope with the quality of a mask for exposure to be performed in terms of quality as well as efficiently. More specifically, a mask storage for storing a mask with the mask surface in the vertical direction, and a mask storage in which the mask surface is in the vertical direction and the mask surface is inclined to form a predetermined angle θ1 with the vertical direction. A mask transport carriage for transporting a mask, wherein a mask attitude can be changed, and a mask can be taken in and out with the mask surface being vertical or the mask surface being inclined, The mask can be transported in a state in which the mask surface is inclined at an angle θ1, and the mask surface is inclined by the adhesive roll provided along the mask surface while straddling the mask width in a state in which the mask surface is inclined at the predetermined angle θ1. A mask cleaning unit for cleaning and a mask can be transported with the mask surface inclined at the predetermined angle θ1, and a mask defect such as a concave defect or a convex defect can be transported with the mask surface inclined at the predetermined angle θ1. form A mask inspection and correction unit for inspecting and correcting a shape defect. The mask transporting trolley and the mask cleaning unit, and the mask cleaning unit and the mask inspection and correction unit make the mask surface a predetermined angle θ1.
This is achieved because the mask can be transferred between the two in a state where the masks are inclined at the same angle. That is, the mask holding posture can be changed from a state in which the mask surface is vertical to a state in which the mask surface is inclined at a predetermined angle θ1 with the vertical direction, and the mask is moved while the mask surface is inclined. By using a mask transport trolley that can be taken in and taken out, the mask transport trolley is moved to the mask cleaning section, the mask surface is adjusted to the plane where the mask of the mask cleaning section is moved, and the mask is stored from the storage. The mask can be moved to the cleaning unit, and a fall accident of the mask in the case of manual movement can be prevented. The mask cleaning unit and the mask inspection and correction unit can transport the mask with the mask surface inclined at the predetermined angle θ1, and provide a glass moving surface on substantially the same plane, and directly between the two. Since the mask can be delivered, there is no occurrence of a mask falling accident between the two, and the workability is improved. The mask transport cart and mask cleaning unit, the mask cleaning unit and the mask inspection and correction unit can be used in connection with each other, as if a single transport device is used to prepare the mask,
The installation area of the entire apparatus can be reduced.
【００１１】また、マスク洗浄部とマスク検査修正部に
おけるマスクの搬送面の傾き（該所定角θ１に相当）を
９０°〜７５°の範囲にしておくことにより、装置自体
からの発塵物のマスクへの付着を抑えることができ、且
つ、作業者の作業性の面で好まい。尚、通常、該所定の
角θ１が８０°である場合が、発塵物のマスクへの付着
の点から最も好ましいとされている。また、このよう
に、搬送面の傾き（所定角θ１に相当）を、鉛直方向に
近い角度にしておくことにより、マスクの自重によるた
わみの影響をうけることなく、洗浄、検査修正ができ
る。Further, by setting the inclination (corresponding to the predetermined angle θ1) of the transfer surface of the mask in the mask cleaning section and the mask inspection and correction section to a range of 90 ° to 75 °, dust generated from the apparatus itself can be reduced. Adhesion to the mask can be suppressed, and the workability of the operator is favorable. In general, it is considered that the case where the predetermined angle θ1 is 80 ° is most preferable from the viewpoint of the adhesion of the dust to the mask. In addition, by setting the inclination of the transport surface (corresponding to the predetermined angle θ1) to an angle close to the vertical direction, cleaning and inspection correction can be performed without being affected by the deflection of the mask due to its own weight.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】本発明のマスク準備装置の実施の
形態の１例を挙げて説明する。図１は本発明のマスク準
備装置の実施の形態の１例の全体構成を示す概略図であ
り、図２（ａ）はマスク保管庫の断面図で、図２（ｂ）
は図２（ａ）のＡ１−Ａ２位置からみた保管庫の断面図
で、図３（ａ）はマスク搬送台車の概略図で、図３
（ｂ）は（図３（ａ）のＢ１からみた図で、図３（ｃ）
は（下側の）コロ部の状態を拡大して示した図で、図４
（ａ）はマスク洗浄部の概略図で、図４（ｂ）は図４
（ａ）Ｃ１−Ｃ２からみた断面図で、図４（ｃ）は図４
（ａ）のＣ３−Ｃ４における断面図で、図５（ａ）はマ
スク検査修正部の正面図で、図５（ｂ）は図５（ａ）の
Ｄ１−Ｄ２における断面図である。図１〜図５中、１０
０はマスク準備装置、１１０はマスク保管庫、１１５は
ローラ、１１６はガイド、１１７は扉、１１９はフィル
ター、１２０はマスク搬送台車、１２１は回転軸、１２
２は運搬用ハンドル、１２３は車輪、１２３Ａは台車ス
トッパー、１２４はマスク留め、１２５はガイドロー
ル、１２５Ａはガイドロール固定部、１２７は回転スト
ッパー、１２８は位置決めピン、１３０はマスク洗浄
部、１３１は洗浄部、１３１Ａは粘着ロール、１３１Ｂ
は回転ロール、１３３回転ロール、１３４は回転ロール
駆動部、１３５はコロ（ガイドロール）、１４０はマス
ク検査修正部、１４１は顕微鏡、１４１Ａは腕置き台、
１４２はＹ方向移動台、１４３はＹ方向レール、１４３
Ａは配線収納部、１４４はＸ方向レール、１４４Ａは配
線収納部、１４５はコロ（ガイドロール）、１４６はリ
フター、１４７はカウンター、１４８は検査光（バック
ライト）、１４９はマスク載置台、１８０はマスクであ
る。図１に示すマスク準備装置１００は、ＰＤＰ用の基
板をパターニングする際に用いられる露光用マスクを準
備するための装置で、対角１ｍを超える大型のエマルジ
ョンマスクからなる露光用マスクの準備装置で、マスク
の保管、マスク洗浄、マスク検査、修正を、ほぼ一体と
なった、効率的な一貫ラインにて行うことができる。そ
して、マスクを鉛直にして保管するマスク保管庫１１０
と、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面を鉛直方
向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へと、そのマスク
保持姿勢を変えることができ、且つ、マスク面を傾斜さ
せた状態でマスクを移動させて、取り入れ、取り出しが
できる、マスク搬送台車１２０と、マスク面を所定の角
度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マスク面
を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、マスク幅を跨
ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘着ロール（図４
（ｃ）の１３１Ａ）により、マスク面の洗浄を行うマス
ク洗浄部１３０と、マスク面を所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、マスク面を所定の角度θ
１に傾斜させた状態でマスクの凹欠陥、凸欠陥等の形状
欠陥の検査修正を行うマスク検査修正部１４０とを備え
ている。マスク搬送台車１２０とマスク洗浄部１３０、
およびマスク洗浄部１３０とマスク検査修正部１４０と
は、マスク面を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、そ
れぞれ、両者間でマスクの受け渡しができるものであ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A description will be given of an embodiment of a mask preparation apparatus according to the present invention. FIG. 1 is a schematic view showing an entire configuration of an example of an embodiment of a mask preparation apparatus according to the present invention. FIG. 2A is a cross-sectional view of a mask storage, and FIG.
3A is a cross-sectional view of the storage as viewed from the position A1-A2 in FIG. 2A, and FIG.
FIG. 3B is a diagram viewed from B1 in FIG. 3A, and FIG.
FIG. 4 is an enlarged view of the state of the roller portion (lower side).
4A is a schematic view of a mask cleaning unit, and FIG.
4A is a cross-sectional view as viewed from C1-C2, and FIG.
5A is a cross-sectional view taken along line C3-C4, FIG. 5A is a front view of a mask inspection correcting unit, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line D1-D2 of FIG. 1 to 5, 10
0 is a mask preparation device, 110 is a mask storage, 115 is a roller, 116 is a guide, 117 is a door, 119 is a filter, 120 is a mask carrier, 121 is a rotary shaft, 12
2 is a carrying handle, 123 is a wheel, 123A is a truck stopper, 124 is a mask fastening, 125 is a guide roll, 125A is a guide roll fixing part, 127 is a rotation stopper, 128 is a positioning pin, 130 is a mask cleaning part, and 131 is a mask cleaning part. Cleaning unit, 131A is an adhesive roll, 131B
Is a rotating roll, 133 rotating roll, 134 is a rotating roll driving unit, 135 is a roller (guide roll), 140 is a mask inspection correcting unit, 141 is a microscope, 141A is an arm rest,
142 is a Y-direction moving table, 143 is a Y-direction rail, 143
A is a wiring storage section, 144 is an X-direction rail, 144A is a wiring storage section, 145 is a roller (guide roll), 146 is a lifter, 147 is a counter, 148 is inspection light (backlight), 149 is a mask mounting table, and 180 Is a mask. The mask preparation apparatus 100 shown in FIG. 1 is an apparatus for preparing an exposure mask used when patterning a substrate for a PDP, and is an apparatus for preparing an exposure mask composed of a large emulsion mask having a diagonal width of more than 1 m. , Mask storage, mask cleaning, mask inspection, and correction can be performed on an almost integrated and efficient integrated line. The mask storage 110 for storing the mask in a vertical position.
The mask holding posture can be changed from a state in which the mask surface is in the vertical direction to a state in which the mask surface is inclined at a predetermined angle θ1 with the vertical direction, and the mask is in a state in which the mask surface is inclined. Can be moved to take in and take out the mask, and the mask can be transferred with the mask surface inclined at a predetermined angle θ1, and the mask can be transferred with the mask surface inclined at a predetermined angle θ1. An adhesive roll provided across the width and along the mask surface (Fig. 4
By (A) 131A), the mask cleaning unit 130 for cleaning the mask surface and the mask can be transported while the mask surface is inclined at a predetermined angle θ1, and the mask surface is set at a predetermined angle θ.
A mask inspection / correction unit 140 for inspecting / correcting a shape defect such as a concave defect or a convex defect of the mask in a state where the mask is inclined at 1; A mask transport trolley 120 and a mask cleaning unit 130,
The mask cleaning unit 130 and the mask inspection / correction unit 140 can transfer a mask between them, with the mask surface inclined at a predetermined angle θ1.
【００１３】マスク搬送台車１２０は、通常、マスク保
管庫１１０から、マスク面をほぼ鉛直の状態にしてマス
ク１８０を受け取り、これをマスク洗浄部１１０のマス
ク処理におけるマスク面の角度θ１やマスク検査修正部
のマスク処理におけるマスク面の角度θ１に合わせた状
態にして、これをマスク洗浄部１３０へと引き渡す。マ
スク洗浄部１３０は、処理後、マスク面の角度θ１をそ
のままにした状態で、マスク１８０をマスク検査修正部
１４０へと順に引き渡す。マスク洗浄部１３０はマスク
洗浄、マスク検査修正部１４０はマスク検査修正を行う
が、各作業をマスク面が鉛直方向から若干傾いた、マス
ク面の傾きがθ１の状態で、行えるようにしており、且
つ、各部におけるマスク１８０の受け渡しを、各部が接
近した状態にして、回転ロールないしコロ（回転するガ
イドロール）を介して行うことができるため、作業性も
良く、マスク受け渡しによるマスクの落下事故の発生を
防止できる。通常、マスク１８０は、マスク保管庫１１
０から、マスク搬送台車１２０へ送られ、マスク搬送台
車１２０にて、マスク面を、略所定の角θ１に傾斜させ
た状態で、マスク搬送台車１２０から、順に、マスク洗
浄部１３０、マスク検査修正部１４０へと順に送られる
が、マスク検査修正部１４０にて、再度洗浄処理が必要
と判断された場合には、再度マスク洗浄部１３０へマス
ク１８０を戻し、更に、マスク洗浄後、マスク検査修正
部１４０へマスク１８０を渡し、再度検査修正を行うこ
ともできる。マスク洗浄部１３０とマスク検査修正部１
４０間を交互にマスク１８０を行き来させて、洗浄処
理、検査修正処理を交互に繰り返すこともできる。ま
た、必要に応じ、マスク搬送台車１２０とマスク洗浄部
１３０間でも、相互にマスク１８０の受け渡しができ
る。The mask transporting trolley 120 normally receives the mask 180 from the mask storage 110 with the mask surface in a substantially vertical state, and corrects the mask 180 in the mask processing of the mask cleaning unit 110 and corrects the mask inspection angle θ1 and mask inspection correction. In a state where the angle is adjusted to the angle θ1 of the mask surface in the mask processing of the section, this is delivered to the mask cleaning section 130. After the processing, the mask cleaning unit 130 sequentially delivers the mask 180 to the mask inspection correction unit 140 while keeping the mask surface angle θ1 as it is. The mask cleaning unit 130 performs mask cleaning, and the mask inspection correction unit 140 performs mask inspection correction. Each operation can be performed in a state where the mask surface is slightly inclined from the vertical direction and the mask surface is inclined at θ1. In addition, since the delivery of the mask 180 in each part can be performed through a rotating roll or a roller (a rotating guide roll) in a state where the parts are close to each other, workability is good, and a mask falling accident due to mask delivery is achieved. Occurrence can be prevented. Usually, the mask 180 is in the mask storage 11
0, the mask is transported to the mask transport vehicle 120, and the mask cleaning unit 130 and the mask inspection correction are sequentially performed from the mask transport vehicle 120 in a state where the mask surface is inclined at a substantially predetermined angle θ1 by the mask transport vehicle 120. The masks are sent to the unit 140 in order. If the mask inspection / correction unit 140 determines that the cleaning process is necessary again, the mask 180 is returned to the mask cleaning unit 130 again. The mask 180 can be transferred to the unit 140 and inspection and correction can be performed again. Mask cleaning unit 130 and mask inspection correction unit 1
It is also possible to alternately repeat the cleaning process and the inspection correction process by alternately moving the mask 180 back and forth between the intervals 40. In addition, the mask 180 can be exchanged between the mask transport trolley 120 and the mask cleaning unit 130 as needed.
【００１４】図２に示すマスク保管庫１１０は、扉１１
７を開けた状態で、ローラ１１５を転がして、図１に示
すように、マスク搬送台車１２０との間で、マスク１８
０の出し入れを行うもので、上部にはガイド１１６が設
けられており、ガイド１１６とローラ１１５の凹部によ
りマスク１８０は垂直に保持される。The mask storage 110 shown in FIG.
7 is opened, the roller 115 is rolled, and as shown in FIG.
A guide 116 is provided at an upper portion, and the mask 180 is held vertically by the concave portion of the guide 116 and the roller 115.
【００１５】マスク搬送台車１２０は、図３に示すよう
に、ガイドロール固定部１２５Ａに固定された、回転す
るガイドロール１２５により、保持され、且つ、マスク
出し入れの際のマスク１８０の移動動作を行うものであ
る。上下のガイドロール固定部１２５を一平面内で支持
しながら、回転軸１２１を中心として、ガイドロール固
定部１２５Ａを回転させることにより、ガイドロール固
定部１２５Ａに固定された上下のガイドロール１２５の
位置を変化させ、ガイドロール１２５に保持されるマス
ク１８０の面角度を変えるもので、図３（ｂ）に示すよ
うに、マスク面の位置（角度θ１）は位置決めピン１２
８により固定されて決められる。図３に示すマスク搬送
台車１２０においては、位置決めピンは、マスク面が垂
直の場合と、面角度がθ１の場合にのみ嵌まるようにし
て固定されるが、必要に応じ面角度を所定の範囲内で自
由に固定できる構造としても良い。θ１としては、洗浄
した際のコミの再度の付着を防止するという点からは、
９０°〜７５°の範囲が好ましく、特に８０°が好まし
い。尚、ガイドロール固定部１２５Ａは、図３（ａ）に
示すように、複数個設けられており、マスクのサイズに
応じて、上側のガイドロール１２５の固定する位置を変
えることができるようになっている。As shown in FIG. 3, the mask transport carriage 120 is held by a rotating guide roll 125 fixed to a guide roll fixing portion 125A, and moves the mask 180 when the mask is taken in and out. Things. The position of the upper and lower guide rolls 125 fixed to the guide roll fixing part 125A is controlled by rotating the guide roll fixing part 125A about the rotation shaft 121 while supporting the upper and lower guide roll fixing parts 125 in one plane. Is changed to change the surface angle of the mask 180 held by the guide roll 125. As shown in FIG. 3B, the position of the mask surface (angle θ1) is
8 and fixed. In the mask transport carriage 120 shown in FIG. 3, the positioning pins are fixed so as to fit only when the mask surface is vertical and when the surface angle is θ1, but if necessary, the surface angle can be set within a predetermined range. It is good also as a structure which can be fixed freely inside. In terms of θ1, from the viewpoint of preventing the re-adhesion of the dust when washed,
It is preferably in the range of 90 ° to 75 °, particularly preferably 80 °. As shown in FIG. 3A, a plurality of guide roll fixing portions 125A are provided, and the position where the upper guide roll 125 is fixed can be changed according to the size of the mask. ing.
【００１６】マスク洗浄部１３０は、図４に示すよう
に、マスクを回転ロール１３３にて搬送させながら、洗
浄部１３１中に送り込み、図４（ｃ）に示すように、粘
着ロール１３１Ａにより、その面を洗浄するものであ
る。回転ロール駆動部１３４にて、各回転ロール１３３
が回転するようになっており、マスク１８０は自動で動
かされてマスク面が洗浄される。図４（ｃ）に示すよう
に、粘着ロール１３１Ａを自動で回転させながら、マス
ク１８０の面を洗浄する。粘着ロール１３１Ｂはマスク
の裏面（ガラス面）側を回転しながら洗浄する。図４
（ｃ）においては、粘着ロール３種の粘着力の大きい順
に示すと、１３１Ｃ、１３１Ａ、１３１Ｂの順になって
おり、マスクに接する１３１Ａ、１３１Ｂは表面のゴミ
等が、洗浄中にマスクに転写せぬよう、より強い粘着力
を持つ粘着ロール１３１Ｃに移行させる。粘着ロール１
３１Ａ、１３１Ｂ、１３１Ｃの材質としては、天然ゴ
ム、ウレタンゴム、シリコーンの１つない複数により成
るものが好ましい。As shown in FIG. 4, the mask cleaning section 130 sends the mask into the cleaning section 131 while transporting the mask by the rotating roll 133, and as shown in FIG. This is for cleaning the surface. Each rotating roll 133 is rotated by the rotating roll driving unit 134.
Are rotated, and the mask 180 is automatically moved to clean the mask surface. As shown in FIG. 4C, the surface of the mask 180 is cleaned while automatically rotating the adhesive roll 131A. The adhesive roll 131B is cleaned while rotating the back surface (glass surface) of the mask. FIG.
In (c), when the three types of adhesive rolls are shown in descending order of the adhesive strength, they are in the order of 131C, 131A, and 131B, and 131A and 131B that are in contact with the mask can transfer dust and the like on the surface to the mask during cleaning. The adhesive is transferred to an adhesive roll 131C having a stronger adhesive strength. Adhesive roll 1
As the material of 31A, 131B, and 131C, a material made of one or more of natural rubber, urethane rubber, and silicone is preferable.
【００１７】マスク検査修正部１４０は、図５に示すよ
うに、マスク１８０の修正面側でない裏面全体に拡散光
からなる検査光（バックライト）１４８を照射し、且
つ、マスク１８０の一辺を下側に水平方向に沿わせ、マ
スク面を斜めないし垂直にした状態でマスクを載せて置
くマスク載置台１４９と、マスクの修正面側を観察する
ために、マスク載置台１４９上に保持されて、マスク面
に沿う水平方向であるＸ方向と、Ｘ方向に直交してマス
ク面に沿うＹ方向に移動可能な顕微鏡１４１と、マスク
載置台を保持して且つマスク載置台の高さを変えるリフ
ター（載置台制御部）１４６とを備えている。マスク載
置台１４９は、マスク１８０の下側の一辺を水平方向に
沿わせてマスクを移動させるコロ（ガイドロール）１４
５を設けたものである。尚、図５には図示していない
が、図４に示す洗浄部１３０と同じように、マスクを搬
送させるための回転ロールが備えられている。顕微鏡１
４１をＸ、Ｙ移動させるＸ、Ｙ移動軸（Ｘ方向レール１
４４、Ｙ方向レール１４３）をマスク載置台１４９上に
設けている。顕微鏡１４１と一体でＸ、Ｙ移動する、腕
おき台１４１Ａを備えている。マスク載置台１４９は、
マスクの修正面側でない裏面全体に接し、裏面全体に拡
散板を介して検査光を照射する。また、顕微鏡１４１の
Ｘ、Ｙ位置を数値表示するカウンター１４７を備えてい
る。また、必要に応じ、マスク１８０の顕微鏡像を観察
するモニターを備えても良い。マスク検査修正部１４０
は、このような構造をしており、作業者の姿勢に無理が
なく、検査、修正作業ができるものとしている。As shown in FIG. 5, the mask inspection / correction unit 140 irradiates inspection light (backlight) 148 made of diffused light on the entire back surface other than the correction surface side of the mask 180, and lowers one side of the mask 180 downward. A mask mounting table 149 on which a mask is mounted in a state where the mask surface is oblique or vertical along the horizontal direction, and a mask mounting table 149 for observing the correction surface side of the mask, A microscope 141 movable in an X direction which is a horizontal direction along the mask surface, a Y direction orthogonal to the X direction along the mask surface, and a lifter which holds the mask mounting table and changes the height of the mask mounting table ( (Mounting table controller) 146. Rollers (guide rolls) 14 for moving the mask with the lower side of the mask 180 along the horizontal direction are provided on the mask mounting table 149.
5 is provided. Although not shown in FIG. 5, similar to the cleaning unit 130 shown in FIG. 4, a rotating roll for transporting the mask is provided. Microscope 1
X, Y movement axis (X direction rail 1)
44, the Y-direction rail 143) is provided on the mask mounting table 149. An arm stand 141A that moves X and Y integrally with the microscope 141 is provided. The mask mounting table 149 is
Inspection light is applied to the entire back surface of the mask via the diffusion plate, in contact with the entire back surface other than the correction surface side. Further, a counter 147 for numerically displaying the X and Y positions of the microscope 141 is provided. If necessary, a monitor for observing a microscope image of the mask 180 may be provided. Mask inspection correction unit 140
Has such a structure, and can inspect and correct the work without any difficulty in the posture of the worker.
【００１８】[0018]
【発明の効果】本発明は、上記のように、ＰＤＰの大型
化、量産化がますます求められる中、ＰＤＰ用の背面
板、前面板の作製における、フォトリソ工程に用いられ
る露光用のマスクの準備を、品質的にも十分対応でき、
且つ、効率的にできる、マスク準備装置の提供を可能と
した。ＰＤＰ用の基板と同様に、ＬＣＤ用の基板のフォ
トリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備にも本発
明のマスク準備装置は適用でき、ＰＤＰやＬＣＤの量産
に対応できるものとしている。As described above, according to the present invention, as PDPs are increasingly required to be large-sized and mass-produced, a mask for exposure used in a photolithography process in manufacturing a back plate and a front plate for PDPs. Preparation can be fully handled in terms of quality,
In addition, it is possible to provide a mask preparation device that can be efficiently performed. Like the PDP substrate, the mask preparation apparatus of the present invention can be applied to the preparation of an exposure mask used in the photolithography process of the LCD substrate, and can be used for mass production of PDPs and LCDs.
【図１】本発明のマスク準備装置の実施の形態の１例の
示す概略構成図FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of an embodiment of a mask preparation device of the present invention.
【図２】マスク保管庫の概略図FIG. 2 is a schematic diagram of a mask storage.
【図３】マスク搬送台車の概略図FIG. 3 is a schematic view of a mask transport cart.
【図４】マスク洗浄部の概略図FIG. 4 is a schematic diagram of a mask cleaning unit.
【図５】マスク検査修正部の概略図FIG. 5 is a schematic diagram of a mask inspection correction unit.
【図６】ＰＤＰ用基板の作製方法を説明するための工程
図FIG. 6 is a process chart for explaining a method for manufacturing a PDP substrate.
【図７】ＰＤＰを説明するための斜視図FIG. 7 is a perspective view illustrating a PDP.
１００ マスク準備装置 １１０ マスク保管庫 １１５ ローラ １１６ ガイド １１７ 扉 １１９ フィルター １２０ マスク搬送台車 １２１ 回転軸 １２２ 運搬用ハンドル １２３ 車輪 １２３Ａ 台車ストッパー １２４ マスク留め １２５ ガイドロール １２５Ａ ガイドロール固定部 １２７ 回転ストッパー １２８ 位置決めピン １３０ マスク洗浄部 １３１ 洗浄部 １３１Ａ 粘着ロール １３１Ｂ 回転ロール １３３ 回転ロール １３４ 回転ロール駆動部 １３５ コロ（ガイドロール） １４０ マスク検査修正部 １４１ 顕微鏡 １４１Ａ 腕置き台 １４２ Ｙ方向移動台 １４３ Ｙ方向レール １４３Ａ 配線収納部 １４４ Ｘ方向レール １４４Ａ 配線収納部 １４５ コロ（ガイドロール） １４６ リフター（マスク載置台制御
部） １４７ カウンター １４８ 検査光（バックライト） １４８ マスク載置台 １８０ マスクREFERENCE SIGNS LIST 100 Mask preparation device 110 Mask storage 115 Roller 116 Guide 117 Door 119 Filter 120 Mask transporting trolley 121 Rotating shaft 122 Transport handle 123 Wheel 123A Truck stopper 124 Mask fastening 125 Guide roll 125A Guide roll fixing part 127 Rotation stopper 128 Positioning pin 130 Mask cleaning unit 131 Cleaning unit 131A Adhesive roll 131B Rotating roll 133 Rotating roll 134 Rotating roll driving unit 135 Roller (guide roll) 140 Mask inspection correction unit 141 Microscope 141A Arm holder 142 Y-direction moving table 143 Y-direction rail 143A Wiring storage unit 144 X-direction rail 144A Wiring storage unit 145 Roller (guide roll) 146 Lifter (mask mounting table control unit) 147 Counter 14 Inspection light (backlight) 148 mask table 180 Mask
Claims (14)
用マスクの準備装置であって、マスク面を鉛直方向にし
てマスクを保管するマスク保管庫と、マスク面が鉛直方
向の状態から、マスク面が鉛直方向と所定の角θ１をな
す傾斜した状態へと相互にマスク保持姿勢を変えること
ができ、且つマスク面を鉛直な状態で、あるいはマスク
面を傾斜させた状態でマスクの取り入れ、取り出しがで
きる、マスクを搬送するためのマスク搬送台車と、マス
ク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬
送でき、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態
で、マスク幅を跨ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘
着ロールにより、マスク面の洗浄を行うマスク洗浄部
と、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマ
スクを搬送でき、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクの凹欠陥、凸欠陥等の形状欠陥の検査
修正を行うマスク検査修正部とを備え、マスク搬送台車
とマスク洗浄部、およびマスク洗浄部とマスク検査修正
部とは、マスク面を所定の角度θ１に傾斜させた状態
で、それぞれ、両者間でマスクの受け渡しができるもの
であることを特徴とするマスク準備装置。1. An apparatus for preparing an exposure mask comprising a large emulsion mask, comprising: a mask storage for storing a mask with a mask surface in a vertical direction; and a mask surface in a vertical state from a state in which the mask surface is in a vertical direction. The mask holding posture can be mutually changed to an inclined state forming a predetermined angle θ1 with the direction, and the mask can be taken in and out while the mask surface is vertical or the mask surface is inclined. A mask transport carriage for transporting the mask, and the mask can be transported in a state where the mask surface is inclined at the predetermined angle θ1, and in a state where the mask surface is inclined at the predetermined angle θ1, straddling the mask width; A mask cleaning unit for cleaning the mask surface is provided by an adhesive roll provided along the mask surface, and the mask can be transported with the mask surface inclined at the predetermined angle θ1. A mask inspection and correction unit for inspecting and correcting a shape defect such as a concave defect or a convex defect of the mask in a state in which the mask is inclined at the predetermined angle θ1, The inspection preparing unit is characterized in that the inspection correction unit is capable of transferring a mask between the two while the mask surface is inclined at a predetermined angle θ1.
０°〜７５°の範囲であることを特徴とするマスク準備
装置。2. The method according to claim 1, wherein the predetermined angle θ1 is 9
A mask preparation apparatus characterized by being in a range of 0 ° to 75 °.
台車におけるマスクの移動は、マスクの端部を挾み、回
転するガイドロールにより行われるものであることを特
徴とするマスク準備装置。3. The mask preparation apparatus according to claim 1, wherein the movement of the mask in the mask transport carriage is performed by a guide roll that rotates while sandwiching an end of the mask.
部は、粘着ロールの位置は固定し、マスクを自動で動か
してマスク面を洗浄するものであることを特徴とするマ
スク準備装置。4. The mask preparation apparatus according to claim 1, wherein the mask cleaning section is configured to fix the position of the adhesive roll and automatically move the mask to clean the mask surface.
ロールにより搬送されるものであることを特徴とするマ
スク準備装置。5. The mask preparation apparatus according to claim 4, wherein the mask is transported by a rotating roll.
部は、粘着ロールを自動で動かしてマスク面を洗浄する
ものであることを特徴とするマスク準備装置。6. The mask preparation apparatus according to claim 1, wherein the mask cleaning section cleans the mask surface by automatically moving an adhesive roll.
は、表面部が、天然ゴム、ウレタンゴム、シリコーンの
１つないし複数により成ることを特徴とするマスク準備
装置。7. A mask preparation apparatus according to claim 4, wherein the surface portion of the adhesive roll according to claim 4 or 6 is made of one or more of natural rubber, urethane rubber and silicone.
は、マスクの修正面側でない裏面全体に拡散光からなる
検査光を照射し、且つ、マスクの一辺を下側に水平方向
に沿わせ、マスク面を斜めないし垂直にした状態でマス
クを載せて置くマスク載置台と、マスクの修正面側を観
察するために、マスク載置台上に保持されて、マスクの
マスク面に沿う水平方向であるＸ方向と、Ｘ方向に直交
してマスク面に沿うＹ方向に移動可能な顕微鏡と、マス
ク載置台を保持して且つマスク載置台の高さを変える載
置台制御部とを備えたもので、前記マスク載置台は、マ
スクの下側の一辺を水平方向に沿わせてマスクを移動さ
せる水平移動部を設けたものであることを特徴とするマ
スク準備装置。8. The inspection correcting unit according to claim 1, wherein the inspection correction unit irradiates the inspection light including the diffused light to the entire back surface other than the correction surface side of the mask, and aligns one side of the mask downward in the horizontal direction. A mask mounting table on which the mask is mounted with the mask surface being oblique or vertical, and a mask mounting table for observing the correction surface side of the mask, which is held on the mask mounting table in a horizontal direction along the mask surface of the mask. The microscope includes a microscope movable in a certain X direction and a Y direction orthogonal to the X direction along the mask surface, and a mounting table control unit that holds the mask mounting table and changes the height of the mask mounting table. The mask mounting table is provided with a horizontal moving unit for moving the mask with one side of the lower side of the mask in the horizontal direction.
の一辺を下側にし、該辺を水平方向に沿う複数個のコロ
ないしロール上に載せて移動させるものであることを特
徴とするマスク準備装置。9. The mask according to claim 8, wherein one side of the mask is on the lower side, and the side is placed on a plurality of rollers or rolls along the horizontal direction to move the mask. Preparation equipment.
Ｘ、Ｙ移動させるＸ、Ｙ移動軸をマスク載置台上に設け
ていることを特徴とするマスク準備装置。10. A mask preparation apparatus according to claim 8, wherein X and Y movement axes for moving the microscope in X and Y directions are provided on the mask mounting table.
載置台は、マスクの修正面側でない裏面全体に拡散板を
介して検査光を照射するものであることを特徴とするマ
スク準備装置。11. The mask preparation apparatus according to claim 8, wherein the mask mounting table irradiates inspection light via a diffusion plate to the entire back surface other than the correction surface side of the mask.
と一体でＸ、Ｙ移動する、腕おき台を備えていることを
特徴とするマスク準備装置。12. The mask preparation apparatus according to claim 8, further comprising an arm rest that moves in X and Y directions integrally with the microscope.
のＸ、Ｙ位置を数値表示するカウンターを備えているこ
とを特徴とするマスク準備装置。13. A mask preparation apparatus according to claim 8, further comprising a counter for numerically displaying the X and Y positions of the microscope.
の顕微鏡像を観察するモニターを備えていることを特徴
とするマスク準備装置。14. A mask preparation apparatus according to claim 8, further comprising a monitor for observing a microscope image of the mask.
Priority Applications (1)
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