JPH11183711A

JPH11183711A - 反射防止材料及びそれを用いた偏光フィルム

Info

Publication number: JPH11183711A
Application number: JP9364126A
Authority: JP
Inventors: Tsutomu Murata; 力村田
Original assignee: Tomoegawa Paper Co Ltd
Current assignee: Tomoegawa Co Ltd
Priority date: 1997-12-17
Filing date: 1997-12-17
Publication date: 1999-07-09

Abstract

(57)【要約】【課題】優れた反射防止性を発揮し、画像コントラス
トを低下させることなく、ギラツキ等のない鮮明な画像
を得ることができるとともに、光学的に安定で優れた耐
摩耗性、耐薬品性を示し、かつ、粗面化層の密着性が優
れた反射防止材料と偏光フィルムとを提供する。【解決手段】透明基体１１の片面もしくは両面に、粗
面化層１２、表面層を順次設けた反射防止材料であり、
表面層は、粗面化層側の高屈折率層と、この高屈折率層
よりも屈折率が小さい表面側の低屈折率層とを有し、粗
面化層１２はエポキシ化合物と光カチオン重合開始剤を
含有する紫外線硬化型樹脂を含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＣＲＴ、ＥＬ
等の画像表示体等に好適に用いられ、特に、画像部の防
汚性、反射防止、耐薬品性、耐磨耗性に優れた反射防止
材料及びそれを使用した偏光フィルムに関するものであ
る。

【０００２】

【従来技術】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬに代表され
る画像表示装置（以下、これを「ディスプレイ」とい
う。）は、テレビやコンピューターを始めとして、様々
な分野で繁用されており、目覚ましい発展を遂げてい
る。このディスプレイの開発は、当初においてはカラー
化が開発のキーワードであったが、最近はハイビジョン
がキーワードのひとつになり、画像の高精細化、高画質
化、さらには低消費電力化等へ努力が傾注されている。
マン−マシンインターフェイスの重要な役割を担うこれ
らディスプレイは今後、マルチメディア時代の到来と共
に一層の普及が予想され、特に、携帯電話、ＰＨＳ、そ
の他各種携帯端末用としての普及が著しく拡大するもの
と予測される。

【０００３】携帯端末用ディスプレイとしては、軽量、
コンパクト、汎用性等の特徴を有するＬＣＤが市場を独
占するものと考えられているが、これらの携帯端末には
タッチパネルを搭載し、プラスチックのペンや指で直接
触れて操作するものが主流になってきている。そのた
め、ディスプレイ表面への耐磨耗性、耐薬品性、汚れ防
止に対する要求が高まっている。また、これらの機器を
屋外など比較的明るいところで使用した場合の太陽光や
蛍光等外部光のディスプレイへの映り込み防止、すなわ
ち反射防止に対する要求も強くなっている。中でも反射
防止への要望は、小型から大型に至るさまざまなディス
プレイに浸透しつつある。

【０００４】反射を防止する方法としては、従来、サン
ドブラスト法やエンボス法等により基材表面を直接粗面
化する方法、基材表面にフィラーを含有させた塗工層を
設ける方法及び基材表面に海島構造による多孔質膜を形
成する方法等により光を散乱もしくは拡散させて像をボ
カス手法が一般的に行われてきた。しかし、表面の反射
率は変わっていないので、粗面化の程度が大きくなる
と、表面が白くなり、ディスプレイの画像コントラスト
が低下するという問題を有していた。

【０００５】この問題を解決するため、屈折率の高い材
料と低い材料を交互に設け、ディスプレイ最表面の反射
率を抑える方法が知られている。屈折率の低い材料とし
てはＭｇＦやＳｉＯ₂など、屈折率が高い材料としては
ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂などがあげられ、通常これらの材料は
蒸着やスパッタリングなどの気相法や、ゾルゲル法等に
より形成される。しかし、気相法は、加工装置が高く、
大面積の加工に向かず、ゾルゲル法は塗布、焼成を繰り
返すため経済性に問題があった。また、成膜方法として
は、ウェットコーティング法で膜形成する提案もなされ
ているが、特性上必要な１０〜１０²ｎｍオーダーでの
膜厚コントロールが現状不充分で、色ムラ（干渉ムラ）
等の問題があった。

【０００６】基材表面にフィラータイプの粗面化層を設
ける方法は、フィラーの粒径やその含有量等により粗面
化層表面の凹凸の大きさを比較的簡単にコントロールで
き、かつ製造が容易である等の利点から現在、好んで用
いられている。塗工剤に使用する樹脂としては、透過
性、耐熱性、耐磨耗性、耐薬品性等に優れたものが望ま
しいが、基材が耐熱性に乏しい高透明なプラスチックフ
ィルムである場合が多いことから、ＵＶ硬化型樹脂が好
んで使用されている。その例として、ＵＶ硬化型樹脂と
シリカ顔料を構成要素とする特開平１−１０５７３８や
特開平５−１６２２６１などが報告されている。

【０００７】しかしながら、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔
料からなる系は、基材に塗料を塗布した後、ＵＶ照射に
より膜硬化するまでの間、低粘度の液状態を呈している
ため、粗面化層中のフィラーどうしが互いにくっつき合
ったりして、凝集（オレンジピール）するという問題を
有していた。この場合、フィラーの含有量を増加させた
り、塗料を溶剤等で希釈する場合には特に顕著であっ
た。

【０００８】粗面化層の凹凸の間隔がディスプレイの画
素ピッチより小さい場合は問題ないが、大きい場合は干
渉によるギラツキが発生する。ディスプレイの解像度が
高精細化の方向に向かっている昨今、上記粗面化層の凹
凸の高さや間隔にも緻密化が要求されるようになってき
た。上記で述べた凝集は、前記凹凸の緻密化の大きな足
かせになっていた。

【０００９】タッチパネルなどのようなディスプレイ表
面をペンや指で直接触れて操作する用途の表面部材に対
しては、その他、高度の耐磨耗性、耐薬品性、汚れ防止
が要求されている。これらの要求に対しては、基材、粗
面化層、表面層、それぞれの堅さの他に、各層界面の密
着性が重要である。これら表面部材の基材としては、通
常、安価で光学的特性等に優れているトリアセチルセル
ロース（以下、ＴＡＣ）やポリエチレンテレフタレート
（以下、ＰＥＴ）が使用されているが、従来、これら基
材への密着性が必ずしも十分でなかったことから、タッ
チパネルのような用途には供し得なかった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、ディスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映
り込みを防止することにより、優れた反射防止性を発揮
し、かつ、画像コントラストを低下させることなく、ギ
ラツキ等のない鮮明な画像を得ることができ、光学的に
安定で優れた耐薬品性を示すのは勿論のこと、基材と粗
面化層との密着強度が高く耐摩耗性に優れ、タッチパネ
ル等に用いても耐久性のある反射防止材料を提供するこ
とを目的としている。また、本発明は、上記反射防止材
料を使用した偏光フィルムを提供することにより、特
に、フルカラー液晶ディスプレイ等の性能を大幅に向上
させることを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】（１）反射防止材料の内
容本発明者は、ＰＥＴやＴＡＣなどからなる透明基体と粗
面化層との密着強度を高めるために、粗面化層の主たる
成分となる樹脂について検討を重ねた結果、樹脂にエポ
キシ化合物と光カチオン重合開始剤を含有する紫外線
（ＵＶ）硬化型樹脂を含めると極めて効果的であること
を見出した。よって、本発明の反射防止材料は、上記知
見に基づいてなされたもので、透明基体の片面もしくは
両面に、粗面化層、表面層を順次設けた反射防止材料に
おいて、表面層は、粗面化層側の高屈折率層と、この高
屈折率層よりも屈折率が小さい表面側の低屈折率層とを
有し、粗面化層は、エポキシ化合物と光カチオン重合開
始剤を含有する紫外線硬化型樹脂を含むことを特徴とし
ている。以下、本発明のより好適な実施の形態について
詳細に説明する。

【００１２】

【発明の実施の形態】Ａ．透明基体本発明の反射防止材料に使用する透明基体としては、公
知の透明なフィルム、ガラス等を使用することができ
る。その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリ
アリレート、ポリイミド、ポリエーテル、ポリカーボネ
ート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、
セロファン、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリビニルアルコール等の各種樹脂フィルム
及び石英ガラス、ソーダガラス等のガラス基材等をシー
ト状にして使用することができる。ＰＤＰ、ＬＣＤに用
いる場合は、ＰＥＴ、ＴＡＣ、ＰＣが望ましい。透明基
体の透明性は高いもの程良好であるが、光線透過率（Ｊ
ＩＳＣ−６７１４）としては８０％以上、より好ましく
は９０％以上が良い。透明基体の厚さは、軽量化の観点
から薄いほうが望ましいが、その生産性を考慮すると、
１０〜２００μｍの範囲のものを使用することが好適で
ある。また、透明基体に、コロナ処理、プラズマ処理、
フッ素処理、スパッタ処理等の表面処理や、界面活性
剤、シランカップリング剤等の塗布を行うと好適であ
る。このような処理を行うことにより、透明基体の表面
エネルギーが上昇し、粗面化層との密着強度を確実に高
めることができる。この場合、透明基体の表面エネルギ
ーは、３０〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲が好ましい。

【００１３】また、透明基体の表面には、ディスプレイ
表面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するため
に帯電防止層を設けても良い。帯電防止層は、アルミ、
錫等の金属、ＩＴＯ等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等
で極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子や
ウィスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をド
ープした微粒子やウィスカー、７，７，８，８−テトラ
シアノキノジメタンと金属イオンや有機カチオンなどの
電子供与体（ドナー）との間でできた電荷移動錯体をフ
ィラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング
等により設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等に
カンファースルホン酸等をドープしたものをソルベント
コーティング等により設ける方法等により設けることが
できる。帯電防止層の透過率は光学用途の場合、８０％
以上が好ましい。

【００１４】Ｂ．粗面化層次に本発明における粗面化層について説明する。本発明
における粗面化層は紫外線硬化型樹脂を含み、紫外線硬
化型樹脂は、主剤として、エポキシ系化合物、重合開始
剤として、光カチオン重合開始剤を必須構成要素とす
る。紫外線硬化型樹脂の粘度、架橋密度、耐熱性、耐薬
品性など塗料および塗工膜の特性をコントロールするた
めには、アクリル系化合物を混合することが好ましい。
本発明の紫外線硬化型樹脂を粗面化層に使用した場合の
利点を、従来のラジカル反応型紫外線硬化型樹脂と比較
すると以下のようになる。

【００１５】透明基体との密着性が良好である。特
に、密着性が殆どないと言われているけん化ＴＡＣで構
成した透明基体への密着性に優れているので、偏光基
体、透明基体および粗面化層を強固に密着させた積層体
を得ることができる。酸素阻害が少ない。硬化収縮が非常に少ない。顔料の分散性に優れている。

【００１６】前記エポキシ系化合物としては、テトラメ
チレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノール
Ａ−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステ
ルや、以下の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマ
ーおよびオリゴマーをあげることができる。

【００１７】

【化１】

【００１８】光カチオン重合開始剤としては、以下の化
学式からなる化合物をあげることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いても良く、複数混合で使用して
も良い。

【００１９】

【化２】

【００２０】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、０．１〜５．０重量％の範囲が望ましい。この配
合量は０．１より少なくても、５．０より多くても紫外
線硬化は不十分である。

【００２１】紫外線硬化型樹脂に混合するアクリル系化
合物としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチ
レングリコールアクリレート、メトキシトリエチレング
リコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ
−３−フェノキシアクリレート等の単官能アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロール
プロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等の
アクリル酸誘導体、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ｎ−ステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルアクリレート等の単官能メタクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、グリセリンジメタクリ
レート等の多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導
体、グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソ
シアネート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘ
キサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレー
ト等のモノマーおよびオリゴマーをあげることができ
る。

【００２２】前記紫外線硬化型樹脂を使用した粗面化層
の硬化に伴う体積収縮率（下記方法より算出）は、２０
％以下が望ましい。体積収縮率が２０％より大きくなる
と、透明基体がフィルムの場合はカールが著しくなり、
また基材がガラス等リジットな材料系の場合は粗面化層
の密着性が低下する。

【００２３】

【数１】体積収縮率：Ｄ＝（Ｓ−Ｓ'）／Ｓ×１００Ｓ：硬化前の比重Ｓ'：硬化後の比重（比重はＪＩＳＫ−７１１２のＢ法ピクノメーター法
により測定）

【００２４】また、紫外線硬化型樹脂の透明性は高いほ
ど良く、光線透過率（ＪＩＳＣ−６７１４）として
は、透明基体同様、８０％以上、好ましくは９０％以上
が好ましい。

【００２５】粗面化する方法としては、上記樹脂中にフ
ィラーを含有させるタイプが好ましい。フィラーとして
はシリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸
化マグネシウム、クレー、タルク、二酸化チタン等の無
機系白色顔料、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
エチレン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ビーズ等
有機系の透明または白色顔料等をあげることができる。
特に、球状で給油性を示さない有機フィラーが好まし
く、球状のフィラーを用いることによって、粗面化層の
表面から突出する部分がなだらかになり、油分等の汚れ
が付着し難くなるとともに付着した汚れを拭い易くな
る。

【００２６】このようなフィラーの粒子径Ｄ（ＪＩＳ
Ｂ９９２１）は、０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の
ものが６０重量％以上、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍ
の範囲のものが２０重量％未満、１０μｍ＜Ｄ≦１５．
０μｍの範囲のものが５重量％以下、１５．０μｍより
大きいものが１重量％以下であることが望ましい。さら
に、１５．０μｍより大きい粒子は、できれば含有され
ない（０％）ことが好ましく、特に、０．５μｍ≦Ｄ≦
６．０μｍの範囲のものが８０重量％以上、６．０μｍ
＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲のものが１０重量％未満、１
０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲のものは全く含まない
ことが好ましい。０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲に
あるフィラーの重量％と、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μ
ｍの範囲にあるフィラーの重量％、さらに、１０μｍ＜
Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフィラーの重量％が、そ
れぞれ６０％未満、２０％未満、５％未満の場合は、デ
ィスプレイの反射防止効果が悪くなり、６．０μｍ＜Ｄ
≦１０．０μｍの範囲にあるフィラーが２０重量％以上
もしくは、１０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフ
ィラーが５重量％の場合は、ディスプレイの画像にギラ
ツキが発生する。フィラーの配合量については、粗面化
層の全固形分比で、０．５〜３０％の範囲が良い。特
に、１〜１５％の範囲が好ましい。配合量が０．５％以
下では、反射防止効果が不充分となり、３０％以上で
は、透明性、画像のコントラストが劣るばかりでなく、
耐摩耗性や耐環境性等の耐久性が悪くなる。また、フィ
ラーの屈折率（ＪＩＳＫ−７１４２によるＢ法）は、
硬化型樹脂の屈折率に近いほど好ましい。フィラーの屈
折率が硬化型樹脂の屈折率と異なる場合は、フィラーと
樹脂界面で光が拡散し、透明性が損なわれる。これらの
特性を有するフィラーの例としては、有機系のフィラ
ー、特に、架橋アクリルビーズが好適である。

【００２７】架橋アクリルビーズとしては、アクリル酸
及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等のアクリル系モノマ
ーと過硫酸等の重合開始剤、エチレングリコールジメタ
クリレート等の架橋剤を用い、懸濁重合法等により重合
して得られる重合体及び共重合体からなる架橋アクリル
系ビーズが好適に使用できる。特にアクリル系のモノマ
ーとして、メチルメタクリレートを使用した構成が好ま
しい。この様にして得られた架橋アクリルビーズは球状
で吸油性を示さないことから、粗面化層に使用した場
合、優れた耐汚染性を発現できる。

【００２８】本発明において、粗面化層を設ける方法と
しては、上記で述べた紫外線硬化型樹脂中に、必要に応
じて架橋アクリルビーズ等のフィラーと、水或は有機溶
剤を混合し、これをペイントシェーカー、サンドミル、
パールミル、ボールミル、アトライター、ロールミル、
高速インペラー分散機、ジェットミル、高速衝撃ミル、
超音波分散機等によって分散して塗料またはインキと
し、これをエアドクターコーティング、ブレードコーテ
ィング、ナイフコーティング、リバースコーティング、
トランスファロールコーティング、グラビアロールコー
ティング、キスコーティング、キャストコーティング、
スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティン
グ、カレンダーコーティング、電着コーティング、ディ
ップコーティング、ダイコーティング等のコーティング
やフレキソ印刷等の凸版印刷、ダイレクトグラビア印
刷、オフセットグラビア印刷等の凹版印刷、オフセット
印刷等の平版印刷、スクリーン印刷等の孔版印刷等の印
刷手法により透明基体の片面もしくは両面上に単層もし
くは多層に分けて設け、溶媒を含んでいる場合は、熱乾
燥工程を経て、紫外線照射により塗工層もしくは印刷層
を硬化させることによって得る方法等挙げられる。な
お、照射する紫外線としては、超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用
できる。塗料の分散性を向上させるために上記フィラー
を、油脂類、シランカップリング剤、金属酸化物等有機
・無機材料で表面改質しても良い。

【００２９】塗料、インクの塗工適性または印刷適性を
向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル等の
レベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワック
ス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油
脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリ
カゾル、合成雲母等０．１μｍ以下の超微粒子等の添加
剤を適宜使用することができる。また、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止剤を添加しても良い。帯電防止剤は、上述の帯
電防止層で説明した材料がそのまま適用できる。

【００３０】粗面化層の厚さは０．５〜１０μｍの範囲
が、好ましくは１〜５μｍの範囲が良い。粗面化層が
０．５μｍより薄い場合は、粗面化層の耐磨耗性が悪く
なったり、紫外線硬化型樹脂を使用した場合など、酸素
阻害により硬化不良を起こす。１０μｍより厚い場合
は、樹脂の硬化収縮によりカールが発生したり、粗面化
層にマイクロクラックが発生したり、さらに、透明基体
との密着性が低下したりする。反射防止材料の透明性は
粗面化層の屈折率によって影響を受けるが、屈折率は、
透明基体の屈折率に近いほど良く、その範囲は、１．４
５〜１．７０が好ましい。この範囲を超えると反射防止
効果が損なわれる。

【００３１】Ｃ．表面層 (a)高屈折率層高屈折率層は、前記粗面化層の表面に直接あるいは接着
剤層など他の層を介して設けられる。屈折率を高くする
ためには高屈折率を持つバインダー樹脂を使用するか、
高い屈折率を有する超微粒子をバインダー樹脂に添加す
ることによって行うか、あるいはこれらを併用すること
によって行う。高屈折率層の屈折率は粗面化層より必ず
高く、１．５５〜２．７０の範囲にあることが好まし
い。屈折率が粗面化層より低い場合、もしくは前記範囲
外の場合は、反射防止効果が損なわれる。高屈折率層に
用いる樹脂は、透明なものであれば任意であり、熱硬化
型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型
樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂として
は、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、
メラミン−尿素共縮合樹脂、グアナミン樹脂、珪素樹
脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これら
の樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化
剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることがで
きる。

【００３２】放射線硬化型樹脂としては、ポリエステル
樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、アルキッド樹脂、ポリブタジエン樹脂、スピロール
アセタール樹脂、ウレタン樹脂、多価アルコール等の多
官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまた
はプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メ
タ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、スチレン、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニル
ピロリドン等の単官能モノマー及び多官能モノマー等を
用いることができる。

【００３３】上記樹脂を紫外線硬化型樹脂として用いる
場合には、光重合開始剤として、アセチフェノン類、ベ
ンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、ミヒラー
ベンゾイルベンゾエート、テトラメチルチウラムモノサ
ルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−
ブチルアミン、トリエチルアミンなどを混合して用いる
ことができる。

【００３４】上記樹脂を高屈折率とするためには、芳香
環やＢｒ、Ｉ、Ｃｌ等のハロゲン化元素を含むものを選
定する。芳香環を含む樹脂の例としては、ポリスチレン
等のスチロール樹脂、ＰＥＴ、ビスフェノールＡのポリ
カーボネート等が挙げられる。また、ハロゲン化元素を
含む樹脂の例としては、ポリ塩化ビニル、ポリテトラブ
ロモビスフェノールＡグリシジルエーテル等が挙げられ
る。また、Ｓ、Ｎ、Ｐ等を含む樹脂も高屈折率であり、
例えば、ポリビニルピリジン、ポリビスフェノールＳグ
リシジルエーテル等が挙げられる。

【００３５】高屈折超微粒子としては、たとえば、Ｚｎ
Ｏ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ₂（ｎ＝２．３〜２．
７）、ＣｅＯ₂（ｎ＝１．９５）の微粒子を含有させる
ことで、紫外線遮蔽の効果を得ることができる。また、
アンチモンがドープされたＳｎＯ₂（ｎ＝１．９５）ま
たはＩＴＯ（ｎ＝１．９５）の微粒子を含有させること
により、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止する
ことができる。その他の微粒子としては、Ａｌ₂Ｏ₃（ｎ
＝１．６３）、Ｌａ₂Ｏ₃（ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ
₂（ｎ＝２．０５）、Ｙ₂Ｏ₃（ｎ＝１．８７）等を挙げ
ることができる。これらの超微粒子は単独または混合し
て使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状に
なったものが分散性の点において良好であり、その粒径
としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましく
は、５〜２０ｎｍであることが望ましい。

【００３６】高屈折率層を粗面化層に直接設けるには、
上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコータ
ー、ロールコーター、印刷等の方法で粗面化層上に設け
て乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開
始剤を使用する）等により硬化させれば良い。また、そ
の際には、乾燥後の高屈折率層の厚さが０．０５〜０．
１５μｍとなるように塗工厚さを調節する。高屈折率層
の厚さがこの範囲外となる場合は、反射防止の効果が損
なわれるおそれがある。

【００３７】(b)低屈折率層本発明においては、より優れた反射防止機能を得るため
に、高屈折率層上に、これよりも屈折率の小さい低屈折
率層を設けている。以下、低屈折率層について説明す
る。低屈折率層の組成は特に限定されるものではない
が、その臨海表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下となる
ように構成されることが好ましい。臨界表面張力が２０
ｄｙｎｅ／ｃｍより大きい場合は、低屈折率層に付着し
た汚れが取れにくくなる。また、反射防止効果を向上さ
せるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下で
あることが好ましい。これらの特徴を有する材料として
は、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ₂（ｎ
＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ₃（ｎ＝１．４）、Ａｌ
Ｆ₃（ｎ＝１．４）Ｎａ₃ＡｌＦ₆（ｎ＝１．３３）Ｓｉ
Ｏ₂（ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アク
リル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反
射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可塑
性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反
射材料を挙げることができる。その中で、特に、フッ素
系の含フッ素材料が汚れ防止の点において好ましい。

【００３８】前記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、ＴＥＦＲＯＮＡＦ１６００（デュポン
社製、ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社
製、ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社
製、屈折率ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２
（日本合成ゴム（株）社製、ｎ＝１．４０）、ＬＲ２０
１（日産化学工業（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙げ
ることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使
用することも可能である。

【００３９】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフロロ−７−メチルオクチ
ル）エチルメタクリレート、３−（パーフロロ−７−メ
チルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−（パーフロロ−９−メチルデシル）エチルメタ
クリレート、３−（パーフロロ−８−メチルデシル）２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、３−パフロロオクチル−２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチ
ルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシ
ル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、３
−パーフルオロデシル１，２−エポキシプロパン、３−
（パーフロロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキシ
プロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等の
放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポ
リマー等を挙げることができる。これらは単独もしくは
複数種類混合して使用することも可能である。

【００４０】さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。該
５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に
分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イ
オンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸ア
ルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸
を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラ
ンを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合
することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上
記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に
置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル
（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカ
ゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することが
できる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水
を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳ
ｉＯ₂として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有す
る。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針
状、板状等様々なものが使用可能である。

【００４１】また、被膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。上記のような被膜形成剤を用いることにより、低
屈折率層の臨界表面張力が低下して油分の付着を抑制す
ることができる。本発明において低屈折率層は、上記で
述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーター、ロ
ールコーター、印刷等の方法で高屈折率層上に設けて乾
燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤
を使用する）等により硬化させることによって得ること
ができる。放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマ
ー、プレポリマーは耐汚染性には優れているが、ヌレ性
が悪いため、組成によっては高屈折率層上で低屈折率層
をはじくという問題や、低屈折率層が高屈折率層から剥
がれるという問題が生じるおそれがあるため、粗面化層
に使用する前述の放射線硬化型樹脂として説明した、ア
クリロイル基、メタアクリロイル基、アクリロイルオキ
シ基、メタアクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を
有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合
し、使用することが望ましい。なお、透明基体がＴＡ
Ｃ、ＰＥＴ等樹脂フィルムの場合は、熱によるダメージ
を受けやすいことから、低屈折率層の材料は、放射線硬
化型樹脂が好ましい。

【００４２】低屈折率層はこれらの低反射材料を用い、
ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティン
グ法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、
イオンプレーティング等による気相法により、高屈折率
層上に設けられる。ウェットコーティング法で設ける場
合は、塗工適性または印刷適性を向上させるために、必
要に応じ、粗面化層同様、シリコーンオイル等のレベリ
ング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、高
級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油脂、イ
ソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリカゾ
ル、合成雲母等０．０５μｍ以下の超微粒子等の添加剤
を適宜使用することができる。

【００４３】低屈折率層が良好な反射防止機能を発揮す
るための厚さについては、公知の計算式で算出すること
ができる。公知の文献（サイエンスライブラリ、物理学
９「光学」７０〜７２頁）によれば、入射光が低屈折率
層に垂直に入射する場合に、低屈折率層が光を反射せ
ず、かつ１００％透過するための条件は次の関係式を満
たせば良いとされている。なお、式中Ｎ₀は低屈折率層
の屈折率、Ｎｓは高屈折率層の屈折率、ｈは低屈折率層
の厚さ、λ₀は光の波長を示す。

【００４４】

【数２】Ｎ₀＝Ｎｓ^1/2 式（１）Ｎ₀ｈ＝λ₀／４式（２）

【００４５】前記（１）式によれば、光の反射を１００
％防止するためには、低屈折率層の屈折率が下層（高屈
折率層）の屈折率の平方根になるような材料を選択すれ
ばよいことが分かる。但し、実際は、この数式を完全に
満たす材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択する
ことになる。前記（２）式では（１）式で選択した低屈
折率層の屈折率と、光の波長から低屈折率層の反射防止
膜としての最適な厚さが計算される。たとえば、高屈折
率層、低屈折率層の屈折率をそれぞれ１．５０、１．３
８、光の波長を５５０ｎｍ（視感度の基準）とし、これ
らの値を前記（２）式に代入すると、低屈折率層の厚さ
は０．１μｍ前後の光学膜厚、好ましくは０．１０±
０．０１μｍの範囲が最適であると計算される。このよ
うに、低屈折率層は極めて薄く、そして極めて均一に設
ける必要がある（厚さの面内バラツキは高屈折率層との
干渉により、色ムラになる）。よって、低屈折率層を設
ける方法としては、気相法が好ましい。

【００４６】また、ディスプレイ表面に静電的に付着す
るホコリ等の汚れを防止するために帯電防止剤を低屈折
率層に添加したり、もしくは低屈折率層上に静電防止層
を設けても良い。帯電防止剤は、前述の帯電防止層で説
明した材料がそのまま適用できる。

【００４７】このようにして作製した本発明の反射防止
材料のＪＩＳＫ７１０５によるＨＡＺＥ値は、３〜３
０の範囲、特に好ましくは５〜１５の範囲であることが
好ましい。この場合、この値が３未満では、光拡散の効
果が少なくそれ程大きな反射防止効果を得ることができ
ない。一方、ＨＡＺＥ値が３０を超えると、画像コント
ラストが悪く視認性不良となり、ディスプレイとしての
機能低下を招くことから好ましくない。なお、ＨＡＺＥ
値とは、曇価を意味するものであり、積分球式光線透過
率測定装置を用いて、拡散透過率（Ｈｄ％）と全光線透
過率（Ｈｔ％）を測定し、下記式にて算出する。

【００４８】

【数３】ＨＡＺＥ値＝Ｈｄ／Ｈｔ×１００

【００４９】また、表面粗さは、Ｒａ；０．０３〜０．
３０μｍ、Ｓｍ；１０〜５０μｍ、好ましくは１５〜２
５μｍの範囲が良い。Ｒａが０．０３μｍより小さい場
合は、光拡散性の低下に伴い、防眩性が悪くなる。０．
３０μｍより大きい場合は、ＨＡＺＥが高くなり画像コ
ントラストが悪くなる。Ｓｍが１０μｍより小さい場合
は、防眩性が悪くなる。５０μｍより大きい場合は、画
像のギラツキがひどくなる。（２）偏光フィルムの内容上記構成の反射防止材料をフィルム状の偏光基体の片面
に設けることにより、偏光フィルムを構成することがで
きる。また、偏光基体の他方の面に保護材を積層するこ
とも可能である。以下、本発明の偏光フィルムの詳細に
ついて説明する。

【００５０】Ａ．偏光基体偏光基体は、透明フィルムを形成できる材料で構成さ
れ、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニレン
等が使用できる。そして、このような材料を延伸させて
フィルム化することにより偏光基体を得ることができ
る。例えば、２色性素子として沃素または染料を吸着さ
せたポリビニルアルコールを一軸延伸して得られたポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ)フィルムを用いることが好
ましい。偏光基体は１０〜８０μｍの厚みを有するもの
が使用される。具体的には、ＰＶＡフィルムを一軸方向
に３〜４倍程度延伸し、高次の沃素イオン中に延伸した
ＰＶＡフィルムを含浸させることにより偏光基体を得る
ことができる。

【００５１】Ｂ．透明基体及び保護材上記で得られるＰＶＡフィルムは、強度等が不足してい
ることから、裂け易く、湿度変化に対して収縮率が大き
いという欠点を有していることから、偏光基体の両面に
透明基体及び保護材がそれぞれ積層される。これらは偏
光基体の両面に、ポリエステル系接着剤、ポリアクリル
系接着剤、ポリウレタン系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接
着剤等により接着される。

【００５２】透明基体には、前述した材料が用いられ、
保護材としては、透明な高分子化合物のフィルム、例え
ば、ＴＡＣ等のセルロース系フィルム、ポリエステルフ
ィルム、ポリカーボネートフィルム等が使用される。そ
の中でも特にＴＡＣが好ましい。これらのフィルムの厚
さは１０〜２０００μｍが好ましい。また、これらのフ
ィルムには特にほう酸等のゲル化剤を使用したり、熱処
理やホルマール化を行うことによって、フィルムの耐水
性を向上させることが好ましい。また、偏光基体との密
着性を向上させるために、偏光基体との接着面の表面エ
ネルギーが５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上になるように、けん
化処理やコロナ処理等の表面処理を行うことが好まし
い。

【００５３】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図１は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料１０は、透明基体１１の片面上に粗面化層１２
を有する構成である。なお、粗面化層１２の表面には高
屈折率層および低屈折率層からなる表面層が形成されて
いるが、表面層は極めて薄いために図示を省略している
（以下においても同じ）。図２は、本発明の偏光フィル
ム２０の構成を示す概略断面図であり、偏光基体２４の
片面に、透明基体２１と粗面化層２２とを有する反射防
止材料２３が設けられ、偏光基体２４の他の面に保護材
２５が設けられていることを示している。

【００５４】図３は本発明の反射防止材料により防眩性
を改善した液晶表示体３０の構成を示している。この液
晶表示体３０は、上面の液晶パネル３１と下面の導光板
装置（ＥＬ）やランプ等の背面光源３２とを積層して形
成されている。液晶パネル３１には、例えば、ツイステ
ッドネマチック（ＴＮ）液晶セルなどが使用可能であ
る。

【００５５】ＴＮ液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの２枚のガラス基板３３，３４の透明電極
面３３'、及び３４'上に、ポリイミドの溶液を塗布して
配向膜を形成し、これをラビング操作により配向させ、
その後、このガラス基板３３，３４間にネマチック液晶
３５を注入し、ガラス基板３３，３４周辺部をエポキシ
樹脂等で封着することにより形成される。このネマチッ
ク液晶３５は、配向膜の作用により９０゜捻れ配向す
る。このようなＴＮ液晶セルの２枚のガラス基板３３，
３４の背面光源とは反対側には、図２に示される粗面化
層２２を有する反射防止材料２３と保護材２５とで偏光
基体２４の両面を保護された偏光フィルム３６を、ま
た、その背面光源側には、粗面化層のない偏光フィルム
３７を、偏光角度が互いに９０゜捻れるように貼ること
で液晶パネル３１が形成される。

【００５６】上記ＴＮ液晶パネル３１の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体３０においては、
液晶パネル３１に透過させ、液晶パネル３１の光の透過
する部分と透過しない部分にコントラストを持たせるこ
とにより画像表示を可能とするものである。

【００５７】図４は、本発明の反射防止材料１０を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図４に
おいて、液晶パネル４１は、２枚のガラス基板４３、４
４及びその間に介在するネマチック液晶４５と、ガラス
基板４３，４４の外側に位置する粗面化層を有しない上
部の偏光フィルム４６、粗面化層を有しない下部の偏光
フィルム４７及び該上部の偏光フィルム４６の上に積層
された反射防止材料１０より構成されている。また、液
晶表示体４０は、液晶パネル４１とその下面に位置する
背面光源３２を積層して形成されている。

【００５８】

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において、「部」は「重量部」を
意味するものとする。＜実施例１＞まず、架橋アクリルビーズとトルエンの混
合物をサンドミルにて３０分間分散することによって得
られた下記分散液と、下記ベース塗料をディスパーにて
１５分間撹拌、混合した塗料を、膜厚８０μｍ、透過率
９２％からなる透明基体であるけん化ＴＡＣの片面上
に、リバースコーティング方式にて塗布し、１００℃で
２分間乾燥後、ＵＶランプ出力１２０ｗ／ｃｍの集光型
高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離（ランプ中心から塗
工面までの距離）１０ｃｍ、処理速度（塗工基体側のＵ
Ｖランプに対する速度）５ｍ／分でＵＶ照射を行い、塗
工膜を硬化させた。このようにして、厚さ２．５μｍ、
ＨＡＺＥ値１６．５、屈折率１．５３の粗面化層を形成
した。

【００５９】その後、下記配合からなる高屈折率層塗料
を前記粗面化層上にリバースグラビアコーティングによ
り塗布し、１００℃で２分間乾燥後、ＵＶランプ出力１
２０ｗ／ｃｍの集光型高圧水銀灯１灯を用いて、照射距
離（ランプ中心から塗工面までの距離）１０ｃｍ、処理
速度（塗工基体側のＵＶランプに対する速度）５ｍ／分
でＵＶ照射を行い、塗工膜を硬化させた。厚さが０．１
μｍ、屈折率１．７０の高屈折率層を形成した。

【００６０】次に、下記配合からなる低屈折率層塗料を
前記高屈折率層上にリバースグラビアコーティングによ
り塗布し、１２０℃で６時間乾燥キュアーして、厚さが
０．１μｍ、屈折率１．３８の表面層を形成して本発明
の反射防止材料を得た。

【００６１】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ９部 (商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン２１０部

【００６２】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物ジペンタエリスリトールトリアクリレート４５部・エポキシ系化合物４５部（商品名：セロキサイト２０２１、ダイセル化学工業社製）・下記化学式の光カチオン重合開始剤２部

【００６３】

【化３】

【００６４】・イソプロピルアルコール５部 [高屈折率層塗料の配合] ・ＵＶモノマー５０部（商品名：ＭＰＧ住友精化社製）・光カチオン重合開始剤１部（商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製）・ＩＴＯ３０部・分散剤３部（商品名：ＰＣ３０日清製油社製）・ＭＩＢＫ３２０部・トルエン３２０部 [低屈折率層塗料の配合] ・シリカゾル１０部（粒子径１５ｎｍでＳｉＯ₂として３０重量％のシリカ粒子を含有するエタノール分散液）・被膜形成剤１５部（テトラエトキシシランの加水分解物：ＳｉＯ₂として計算して固形分濃度６％）・溶剤：エタノール５３部

【００６５】＜実施例２＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値２２．０、屈折率１．５５の粗面化層を有する
反射防止材料を得た。

【００６６】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ４部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン２０５部

【００６７】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物４５部（トリペンタエリスリトールポリアクリレート）・エポキシ系化合物４５部（商品名：サイラキュアＵＶＲ−６１１０、ユニオンカーバイド（株）社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド（株）社製）・イソプロピルアルコール５部

【００６８】＜実施例３＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１３．０、屈折率１．５４の粗面化層を有する
反射防止材料を得た。

【００６９】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ (商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ３部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ３部・トルエン２１０部

【００７０】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物テトラジペンタエリスリトールポリアクリレート１５部ネオペンチルグリコールジアクリレート３０部・エポキシ系化合物４５部（商品名：エピコート８２８、油化シェルエポキシ社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド社製）・イソプロピルアルコール５部

【００７１】＜実施例４＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値９．０、屈折率１．５４の粗面化層を有する反
射防止材料を得た。

【００７２】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ（商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製）３部（商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製）３部・トルエン２１０部

【００７３】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物ジペンタエリスリトールポリアクリレート１５部トリペンタエリスリトールポリアクリレート３０部・エポキシ系化合物４５部（商品名：ラピキュアＤＶＥ−３、ＩＳＰ社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：ＢＢＩ−１０２、みどり化学社製）・イソプロピルアルコール５部

【００７４】＜実施例５＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ２．５μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値６．７、屈折率１．５３の粗面化層を有する反
射防止材料を得た。

【００７５】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ３部（商品名：ＭＸ３００、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製）・トルエン２１０部

【００７６】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物１，６ヘキサンジオールジメタクリレート２０部ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート３０部・エポキシ化合物４５部（商品名：エポライト４０Ｅ共栄社化学社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製）・イソプロピルアルコール５部＜実施例６＞高屈折率層の成分を下記に変更した以外は
実施例１と同様にして、厚さ０．１μｍ、屈折率１．９
６を有する反射防止材料を得た。 [高屈折率層塗料の配合] ・ＵＶモノマー５０部（商品名：ＭＰＧ住友精化社製）・光カチオン重合開始剤１部（商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製）・ＴｉＯ₂ ３０部・分散剤３部（商品名：ＰＣ３０日清製油社製）・ＭＩＢＫ３２０部・トルエン３２０部＜実施例７＞低屈折率層を以下のようにして設けた以外
は実施例６と同様にして、本発明の反射防止材料を得
た。低屈折率層の形成：ＳｉＯ₂をスパッタリング法によ
り、層厚０．１μｍになるように高屈折率層上に設け
た。この実施例の低屈折率層の屈折率は１．４５であっ
た。

【００７７】（比較例１）粗面化層の成分を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１１．０、屈折率１．５１の粗面化層を有する
反射防止材料を得た。

【００７８】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ３部 (商品名：ＭＸ３００粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン２００部

【００７９】 [ベース塗料の配合] ・アクリレート系化合物ジペンタエリスリトールポリアクリレート５０部ペンタエリスリトールテトラアクリレート２０部ヒドロキシエチルアクリレート２２部・ラジカル系光重合開始剤５部（商品名：イルガキュア１８４、チバガイギー社製）・イソプロピルアルコール５０部

【００８０】（比較例２）厚さ８０μｍ、透過率９２％
のＴＡＣをそのまま比較用の反射防止材料とした。

【００８１】（比較例３）粗面化層の組成を以下に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．２μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１７．５、屈折率１．５４の粗面化層を有する
反射防止材料を得た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ６部（商品名：ＭＲ−７Ｇ、綜研化学社製粒径：０．５〜６．０μｍの範囲のもの６０重量％粒径：６．０μｍを越えるもの２５重量％）・トルエン２１０部

【００８２】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物４２部ジペンタエリストリールトリアクリレート・トリメチロールプロパントリアクリレート４２部・下記化学式の光カチオン重合開始剤１０部

【００８３】

【化４】

【００８４】・イソプロピルアルコール５部

【００８５】（比較例４）粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例５と同様にして、厚さ３．０μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１３．０、屈折率１．５０の粗面化層を有する
反射防止剤を得た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ２部（商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製）・トルエン１００部

【００８６】 [ベース塗料の配合] ・ポリエステル系熱可塑性樹脂４０部（商品名：バイロン２００、東洋紡社製）・トルエン７０部・ＭＥＫ１００部（比較例５）実施例１の粗面化層まで設けたものを比較
用の反射防止材料とした。（比較例６）粗面化層のフィラーの種類及び配合量を下
記の通りに変更し、かつ、高屈折率層を設けない以外
は、実施例１と同様にして、厚さ３．０μｍ、ＨＡＺＥ
値３５．０、屈折率１．５３の粗面化層を有する反射防
止材料を得た。・フィラー２０部（商品名：ＭＸ３００、粒子径３．０±０．５μｍ、綜研化学社製）

【００８７】実施例１〜７、比較例１〜６で得られた反
射防止材料１０を用いて図２に示される構成の偏光フィ
ルム２０を作製した。次いで、前記偏光フィルム２０
（図３では符号３６で示す）を図３に示されるようにガ
ラス基板３３に貼り付け、液晶表示体３０を得た。ま
た、比較例２で得られた反射防止材料１０に関しても、
粗面化処理をしていない偏光フィルムにけん化ＴＡＣ面
側が貼り合わせ面になるように粘着剤を介して貼り合わ
せた積層体を作製し、この積層体を図４に示されるよう
に偏光フィルム４６に貼り付け、液晶表示体４０を得
た。

【００８８】なお、これらの各液晶表示体３０の画像サ
イズは例えば１０．４インチとし、解像度は例えば８０
０ドット×６００ドットとして、下記方法によって、画
像コントラスト、画像ギラツキ、防眩性、各項目につい
て、評価を行った。また、耐摩耗性（透明基体と粗面化
層との密着性）、耐薬品性の評価も下記方法に基づき行
った。

【００８９】画像コントラストはＪＩＳＣ７０７２
１９８８に於ける液晶表示パネルのコントラスト比（Ｃ
Ｒ）測定方法に準拠し、評価した。画像コントラストの
評価における光源６０−液晶パネル６１−測光器６２の
位置関係を図５に示す。この場合、光源６０と液晶パネ
ル６１との間は例えば１ｃｍ、液晶パネル６１と測光器
６２との間は例えば５０ｃｍ、測光器６２の開口角は例
えば５゜に設定した。なお、光源６０には５ＷのＥＬを
使用し、測光器６２にはミノルタカメラ社製のＬＳ−１
００を使用した。ＣＲが４以上の場合を◎、３以上、４
未満の場合を○、２以上〜３未満を△、２未満を×とし
た。

【００９０】画像ギラツキについては、液晶表示体４０
をウィンドウズ、バージョン３．１のペイントブラシの
オープニング画面が表示できるようにパーソナルコンピ
ュータとの接続を行い、この白黒表示における画像ギラ
ツキの有無を任意の１０人の目視判定により評価した。
ギラツキを感じた人が３人未満の場合を○、３人以上、
７人未満の人がギラツキを感じた場合を△、７人以上が
ギラツキを感じた場合を×とした。

【００９１】防眩性については、スガ試験機社製の写像
性測定器ＩＣＭ−１ＤＰ（ＪＩＳＫ７１０５）を使用
し、透過モードで、光学クシ幅２ｍｍにおける写像性を
測定した。なお、この測定試験では、測定データの数値
が小さいほど防眩性が高い。ここでは、５０％未満を
○、５０％以上、７０％未満を△、７０％以上を×とし
て評価した。表面反射率は、反射防止材料の表面層裏面
からの反射を防ぐために、裏面を日本スチールウール社
製のスチールウール＃００００で擦った後、黒マジック
で塗りつぶし、５゜の正反射を測定した。測定は、ＪＩ
ＳＺ８７０１に準拠し、波長範囲４００〜７００ｎｍ
のＣ光源によるＹ値の平均値を表面の反射率とした。良
好な反射防止効果を得るには、１．０％以下であること
が必要で、０．５％以下であれば特性はかなり良い。

【００９２】密着性については、透明基体と粗面化層と
が密着しているかどうかを観察し、両者が密着している
場合を○、密着していない場合を×として評価した。な
お、この評価は、粗面化層を有しない比較例２は対象外
とした。また、実施例および比較例について耐摩耗性を
試験した。耐摩耗性の試験は、日本スチールウール社製
のスチールウール＃００００を板紙耐摩耗試験機（熊谷
理機工業社製）に取り付け、反射防止材料の低屈折率層
面（低屈折率層が形成されていない比較例は最表面層）
を荷重２００ｇにて５０回往復させた。その後、その部
分のＨＡＺＥ値の変化δＨ（下記計算に基づく）を東洋
精機社製ＨＡＺＥメーターで測定した。この測定試験で
は、測定値が大きいほど耐摩耗性が悪い。なお、ＨＡＺ
Ｅ値の測定は反射防止材料単体で行った。また、ＨＡＺ
Ｅ値変化δＨは、試験後のＨＡＺＥ値から試験前のＨＡ
ＺＥ値を除算して算出した。ＨＡＺＥ値変化δＨ＝試験後のＨＡＺＥ値−試験前のＨ
ＡＺＥ値

【００９３】また、耐薬品性については、表面層をイソ
プロピルアルコールとアセトンを含ませた綿棒（ジョン
ソン社製）それぞれで、５０往復擦った後に、各層に剥
がれ等著しい変化があった場合を×、変化がない場合を
○、その中間を△として評価した。粗面化層の屈折率は
アッベ屈折率（アタゴ社製）で測定した。また、高屈折
率層及び低屈折率層の屈折率は、屈折率が既知のガラス
にスピンコートで各層それぞれ塗工したものを、エリプ
ソメーター（溝尻工業社製）にて測定した。

【００９４】

【表１】

【００９５】表１から明らかなように、粗面化層にエポ
キシ化合物と光カチオン重合開始剤を含有する実施例１
〜７では、透明基体と粗面化層の密着性に優れ、光学特
性、耐久性が良好であった。これに対して、比較例１〜
４では、粗面化層に実施例のような紫外線硬化型樹脂を
含まないために、全て透明基体と粗面化層との密着性が
悪くて剥離してしまい、耐摩耗性が得られないばかり
か、フィラーの分散が悪く、ギラツキの問題を生じたり
（比較例１及び３）、耐薬品性の問題を有する（比較例
３及び４）ものであった。また、比較例２は粗面化層が
ないため、防眩性に劣るものであった。さらに、比較例
５では、高屈折率層および低屈折率層を有していないた
めに反射率が高く、比較例６では、フィラーの含有率が
高く、しかも高屈折率層が設けられていないため、ＨＡ
ＺＥ値が大きく、また、画像コントラストが低下した。

【００９６】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、デ
ィスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込み
を防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画像
コントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない
鮮明な画像を得ることができるとともに、光学的に安定
で優れた耐磨耗性、耐薬品性を示し、かつ、粗面化層の
密着に優れた反射防止材料と偏光フィルムを得ることが
できる。

【図面の簡単な発明】

【図１】本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。

【図２】本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。

【図３】反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図４】反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図５】画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。

【符号の説明】

１０…反射防止材料、１１…透明基体、１２…粗面化
層、２０…粗面化層付偏光フィルム、２１…透明基体、
２２…粗面化層、２３…表面層、２４…偏光基体、２５
…保護材、３０…液晶表示体、３１…液晶パネル、３２
…背面光源、３３，３４…ガラス基板、３３´，３４´
…透明電極面、３５…ネマチック液晶、３６…偏光フィ
ルム、４０…液晶表示体、４１…液晶パネル、４２…背
面光源、４３，４４…ガラス基板、４５…ネマチック液
晶、４６，４７…偏光フィルム、６０…光源、６１…液
晶パネル、６２…測光器。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基体の片面もしくは両面に、少なく
とも粗面化層、表面層を順次設けた反射防止材料におい
て、前記表面層は、前記粗面化層側の高屈折率層と、こ
の高屈折率層よりも屈折率が小さい表面側の低屈折率層
とを有し、前記粗面化層はエポキシ化合物と光カチオン
重合開始剤を含有する紫外線硬化型樹脂を含むことを特
徴とする反射防止材料。
【請求項２】前記高屈折率層を塗工法により前記粗面
化層上に設け、前記低屈折率層を気相法により前記高屈
折率層上に設けたことを特徴とする請求項１に記載の反
射防止材料。
【請求項３】前記粗面化層は球状フィラーを含有し、
前記球状フィラーの粒子径Ｄは、０．５μｍ≦Ｄ≦６．
０μｍの範囲の粒子が６０重量％以上、６．０μｍ＜Ｄ
≦１０．０μｍの範囲の粒子が２０重量％未満、１０．
０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲の粒子が５重量％以
下、さらに、１５μｍより大きい粒子が１．０重量％以
下である粒度分布を有すことを特徴とする請求項１また
は２に記載の反射防止材料。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載の反射防
止材料の前記透明基体の前記粗面化層および前記表面層
が設けられていない他方の面に、偏光基体を介して保護
材を積層したことを特徴とする偏光フィルム。