JPH11183711A - Antireflection material and polarizing film using the same - Google Patents
Antireflection material and polarizing film using the sameInfo
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- JPH11183711A JPH11183711A JP9364126A JP36412697A JPH11183711A JP H11183711 A JPH11183711 A JP H11183711A JP 9364126 A JP9364126 A JP 9364126A JP 36412697 A JP36412697 A JP 36412697A JP H11183711 A JPH11183711 A JP H11183711A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＣＲＴ、ＥＬ
等の画像表示体等に好適に用いられ、特に、画像部の防
汚性、反射防止、耐薬品性、耐磨耗性に優れた反射防止
材料及びそれを使用した偏光フィルムに関するものであ
る。The present invention relates to a liquid crystal display (LC).
D), plasma display (PDP), CRT, EL
The present invention relates to an antireflection material having excellent antifouling properties, antireflection properties, chemical resistance, and abrasion resistance in an image area, and a polarizing film using the same.
【０００２】[0002]
【従来技術】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬに代表され
る画像表示装置（以下、これを「ディスプレイ」とい
う。）は、テレビやコンピューターを始めとして、様々
な分野で繁用されており、目覚ましい発展を遂げてい
る。このディスプレイの開発は、当初においてはカラー
化が開発のキーワードであったが、最近はハイビジョン
がキーワードのひとつになり、画像の高精細化、高画質
化、さらには低消費電力化等へ努力が傾注されている。
マン−マシンインターフェイスの重要な役割を担うこれ
らディスプレイは今後、マルチメディア時代の到来と共
に一層の普及が予想され、特に、携帯電話、ＰＨＳ、そ
の他各種携帯端末用としての普及が著しく拡大するもの
と予測される。2. Description of the Related Art Image display devices represented by LCDs, PDPs, CRTs, and ELs (hereinafter referred to as "displays") are widely used in various fields including televisions and computers, and have remarkable developments. Has achieved. At the beginning of the development of this display, colorization was a keyword of development, but recently Hi-Vision has become one of the keywords, and efforts have been made to improve image definition, image quality, and power consumption. Has been devoted.
These displays, which play an important role in the man-machine interface, are expected to become more widespread with the arrival of the multimedia age, and in particular, the use of mobile phones, PHS, and other various types of mobile terminals is expected to significantly expand. Is done.
【０００３】携帯端末用ディスプレイとしては、軽量、
コンパクト、汎用性等の特徴を有するＬＣＤが市場を独
占するものと考えられているが、これらの携帯端末には
タッチパネルを搭載し、プラスチックのペンや指で直接
触れて操作するものが主流になってきている。そのた
め、ディスプレイ表面への耐磨耗性、耐薬品性、汚れ防
止に対する要求が高まっている。また、これらの機器を
屋外など比較的明るいところで使用した場合の太陽光や
蛍光等外部光のディスプレイへの映り込み防止、すなわ
ち反射防止に対する要求も強くなっている。中でも反射
防止への要望は、小型から大型に至るさまざまなディス
プレイに浸透しつつある。As a display for a portable terminal, a lightweight,
LCDs with features such as compactness and versatility are considered to dominate the market, but these mobile terminals are equipped with a touch panel and can be operated directly with a plastic pen or finger. Is coming. Therefore, demands for abrasion resistance, chemical resistance, and prevention of dirt on the display surface are increasing. In addition, when these devices are used in relatively bright places such as outdoors, there is an increasing demand for prevention of reflection of external light such as sunlight or fluorescent light on a display, that is, prevention of reflection. In particular, the demand for antireflection is permeating various displays from small to large.
【０００４】反射を防止する方法としては、従来、サン
ドブラスト法やエンボス法等により基材表面を直接粗面
化する方法、基材表面にフィラーを含有させた塗工層を
設ける方法及び基材表面に海島構造による多孔質膜を形
成する方法等により光を散乱もしくは拡散させて像をボ
カス手法が一般的に行われてきた。しかし、表面の反射
率は変わっていないので、粗面化の程度が大きくなる
と、表面が白くなり、ディスプレイの画像コントラスト
が低下するという問題を有していた。[0004] As a method for preventing reflection, a method of directly roughening the surface of a substrate by a sand blast method or an embossing method, a method of providing a coating layer containing a filler on the surface of the substrate, and a method of preventing the reflection of the substrate surface In general, the image is blurred by scattering or diffusing light by a method of forming a porous film having a sea-island structure. However, since the reflectance of the surface has not changed, there has been a problem that when the degree of surface roughening is large, the surface becomes white and the image contrast of the display is reduced.
【０００５】この問題を解決するため、屈折率の高い材
料と低い材料を交互に設け、ディスプレイ最表面の反射
率を抑える方法が知られている。屈折率の低い材料とし
てはＭｇＦやＳｉＯ2など、屈折率が高い材料としては
ＴｉＯ2、ＺｒＯ2などがあげられ、通常これらの材料は
蒸着やスパッタリングなどの気相法や、ゾルゲル法等に
より形成される。しかし、気相法は、加工装置が高く、
大面積の加工に向かず、ゾルゲル法は塗布、焼成を繰り
返すため経済性に問題があった。また、成膜方法として
は、ウェットコーティング法で膜形成する提案もなされ
ているが、特性上必要な１０〜１０2ｎｍオーダーでの
膜厚コントロールが現状不充分で、色ムラ（干渉ムラ）
等の問題があった。[0005] In order to solve this problem, there is known a method in which a material having a high refractive index and a material having a low refractive index are alternately provided to suppress the reflectance on the outermost surface of the display. Forming a low refractive index material such as MgF or SiO 2, etc. TiO 2, ZrO 2 may be mentioned as a high refractive index material, typically and gas phase method, such as those materials deposition or sputtering, a sol-gel method or the like Is done. However, the vapor phase method requires expensive processing equipment,
The sol-gel method is not suitable for processing a large area, and has a problem in economical efficiency because coating and firing are repeated. Furthermore, as a deposition method, although it is also suggested to film formation by the wet coating method, the film thickness control in characteristics necessary for 10 to 10 2 nm order is insufficient current, color unevenness (interference unevenness)
And so on.
【０００６】基材表面にフィラータイプの粗面化層を設
ける方法は、フィラーの粒径やその含有量等により粗面
化層表面の凹凸の大きさを比較的簡単にコントロールで
き、かつ製造が容易である等の利点から現在、好んで用
いられている。塗工剤に使用する樹脂としては、透過
性、耐熱性、耐磨耗性、耐薬品性等に優れたものが望ま
しいが、基材が耐熱性に乏しい高透明なプラスチックフ
ィルムである場合が多いことから、ＵＶ硬化型樹脂が好
んで使用されている。その例として、ＵＶ硬化型樹脂と
シリカ顔料を構成要素とする特開平１−１０５７３８や
特開平５−１６２２６１などが報告されている。The method of providing a filler-type roughened layer on the surface of a base material can relatively easily control the size of the irregularities on the surface of the roughened layer by controlling the particle size and the content of the filler, and the production can be performed easily. Currently, it is used favorably because of its advantages such as easiness. As the resin used for the coating agent, those having excellent permeability, heat resistance, abrasion resistance, chemical resistance, etc. are desirable, but the base material is often a highly transparent plastic film having poor heat resistance. For this reason, UV curable resins are preferably used. As examples thereof, JP-A-1-105738 and JP-A-5-162261 using UV curable resin and silica pigment as constituents have been reported.
【０００７】しかしながら、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔
料からなる系は、基材に塗料を塗布した後、ＵＶ照射に
より膜硬化するまでの間、低粘度の液状態を呈している
ため、粗面化層中のフィラーどうしが互いにくっつき合
ったりして、凝集（オレンジピール）するという問題を
有していた。この場合、フィラーの含有量を増加させた
り、塗料を溶剤等で希釈する場合には特に顕著であっ
た。However, the system composed of a UV-curable resin and a silica pigment exhibits a low-viscosity liquid state until the film is cured by UV irradiation after the coating is applied to the substrate, so that the surface is roughened. There was a problem that the fillers in the layer adhered to each other and aggregated (orange peel). In this case, it was particularly remarkable when the content of the filler was increased or when the coating material was diluted with a solvent or the like.
【０００８】粗面化層の凹凸の間隔がディスプレイの画
素ピッチより小さい場合は問題ないが、大きい場合は干
渉によるギラツキが発生する。ディスプレイの解像度が
高精細化の方向に向かっている昨今、上記粗面化層の凹
凸の高さや間隔にも緻密化が要求されるようになってき
た。上記で述べた凝集は、前記凹凸の緻密化の大きな足
かせになっていた。There is no problem if the distance between the irregularities of the roughened layer is smaller than the pixel pitch of the display, but if it is larger, glare occurs due to interference. In recent years, as the resolution of the display is moving toward higher definition, the height and spacing of the irregularities of the roughened layer have also been required to be finer. The agglomeration described above has been a major hindrance to the densification of the irregularities.
【０００９】タッチパネルなどのようなディスプレイ表
面をペンや指で直接触れて操作する用途の表面部材に対
しては、その他、高度の耐磨耗性、耐薬品性、汚れ防止
が要求されている。これらの要求に対しては、基材、粗
面化層、表面層、それぞれの堅さの他に、各層界面の密
着性が重要である。これら表面部材の基材としては、通
常、安価で光学的特性等に優れているトリアセチルセル
ロース（以下、ＴＡＣ）やポリエチレンテレフタレート
（以下、ＰＥＴ）が使用されているが、従来、これら基
材への密着性が必ずしも十分でなかったことから、タッ
チパネルのような用途には供し得なかった。[0009] Surface members for applications such as touch panels, which are operated by directly touching the display surface with a pen or finger, are required to have high abrasion resistance, chemical resistance, and contamination prevention. For these requirements, the adhesion at the interface between the layers is important in addition to the hardness of the substrate, the roughened layer, the surface layer, and the respective hardness. As a base material for these surface members, triacetyl cellulose (hereinafter, TAC) or polyethylene terephthalate (hereinafter, PET), which is inexpensive and has excellent optical characteristics, is usually used. Cannot be used for applications such as touch panels because the adhesiveness of these was not always sufficient.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、ディスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映
り込みを防止することにより、優れた反射防止性を発揮
し、かつ、画像コントラストを低下させることなく、ギ
ラツキ等のない鮮明な画像を得ることができ、光学的に
安定で優れた耐薬品性を示すのは勿論のこと、基材と粗
面化層との密着強度が高く耐摩耗性に優れ、タッチパネ
ル等に用いても耐久性のある反射防止材料を提供するこ
とを目的としている。また、本発明は、上記反射防止材
料を使用した偏光フィルムを提供することにより、特
に、フルカラー液晶ディスプレイ等の性能を大幅に向上
させることを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention provides an excellent anti-reflection property and a high image contrast by preventing reflection of external light such as sunlight and fluorescent light on a display. Without lowering, it is possible to obtain a clear image without glare and the like, and it is not only optically stable and shows excellent chemical resistance, but also has a high adhesion strength between the base material and the roughened layer. It is an object of the present invention to provide an antireflective material which is excellent in abrasion property and durable even when used for a touch panel or the like. Another object of the present invention is to provide a polarizing film using the above-mentioned antireflection material, and particularly to significantly improve the performance of a full-color liquid crystal display and the like.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】（１）反射防止材料の内
容 本発明者は、ＰＥＴやＴＡＣなどからなる透明基体と粗
面化層との密着強度を高めるために、粗面化層の主たる
成分となる樹脂について検討を重ねた結果、樹脂にエポ
キシ化合物と光カチオン重合開始剤を含有する紫外線
（ＵＶ）硬化型樹脂を含めると極めて効果的であること
を見出した。よって、本発明の反射防止材料は、上記知
見に基づいてなされたもので、透明基体の片面もしくは
両面に、粗面化層、表面層を順次設けた反射防止材料に
おいて、表面層は、粗面化層側の高屈折率層と、この高
屈折率層よりも屈折率が小さい表面側の低屈折率層とを
有し、粗面化層は、エポキシ化合物と光カチオン重合開
始剤を含有する紫外線硬化型樹脂を含むことを特徴とし
ている。以下、本発明のより好適な実施の形態について
詳細に説明する。Means for Solving the Problems (1) Contents of antireflection material The present inventor has mainly used a roughened layer in order to increase the adhesion strength between a transparent substrate made of PET or TAC and the roughened layer. As a result of repeated studies on the resin as a component, it has been found that it is extremely effective to include an ultraviolet (UV) curable resin containing an epoxy compound and a cationic photopolymerization initiator in the resin. Therefore, the antireflection material of the present invention has been made based on the above findings. In an antireflection material in which a roughened layer and a surface layer are sequentially provided on one or both surfaces of a transparent substrate, the surface layer has a rough surface. A high-refractive-index layer on the roughened layer side, and a low-refractive-index layer on the surface side having a smaller refractive index than the high-refractive-index layer. The roughened layer contains an epoxy compound and a cationic photopolymerization initiator. It is characterized by containing an ultraviolet curable resin. Hereinafter, more preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】Ａ．透明基体 本発明の反射防止材料に使用する透明基体としては、公
知の透明なフィルム、ガラス等を使用することができ
る。その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリ
アリレート、ポリイミド、ポリエーテル、ポリカーボネ
ート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、
セロファン、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリビニルアルコール等の各種樹脂フィルム
及び石英ガラス、ソーダガラス等のガラス基材等をシー
ト状にして使用することができる。ＰＤＰ、ＬＣＤに用
いる場合は、ＰＥＴ、ＴＡＣ、ＰＣが望ましい。透明基
体の透明性は高いもの程良好であるが、光線透過率（Ｊ
ＩＳＣ−６７１４）としては８０％以上、より好ましく
は９０％以上が良い。透明基体の厚さは、軽量化の観点
から薄いほうが望ましいが、その生産性を考慮すると、
１０〜２００μｍの範囲のものを使用することが好適で
ある。また、透明基体に、コロナ処理、プラズマ処理、
フッ素処理、スパッタ処理等の表面処理や、界面活性
剤、シランカップリング剤等の塗布を行うと好適であ
る。このような処理を行うことにより、透明基体の表面
エネルギーが上昇し、粗面化層との密着強度を確実に高
めることができる。この場合、透明基体の表面エネルギ
ーは、３０〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲が好ましい。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Transparent substrate As the transparent substrate used for the antireflection material of the present invention, a known transparent film, glass, or the like can be used. Specific examples thereof include polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyarylate, polyimide, polyether, polycarbonate (PC), polysulfone, polyether sulfone,
Various resin films, such as cellophane, aromatic polyamide, polyethylene, polypropylene, and polyvinyl alcohol, and glass substrates, such as quartz glass and soda glass, can be used in sheet form. When used for PDP and LCD, PET, TAC and PC are desirable. The higher the transparency of the transparent substrate, the better, but the light transmittance (J
ISC-6714) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. The thickness of the transparent substrate is preferably thinner from the viewpoint of weight reduction, but in consideration of its productivity,
It is preferable to use one having a range of 10 to 200 μm. Moreover, corona treatment, plasma treatment,
It is preferable to perform a surface treatment such as a fluorine treatment or a sputter treatment, or to apply a surfactant, a silane coupling agent, or the like. By performing such a treatment, the surface energy of the transparent substrate increases, and the adhesion strength to the roughened layer can be reliably increased. In this case, the surface energy of the transparent substrate is preferably in the range of 30 to 60 dyne / cm.
【００１３】また、透明基体の表面には、ディスプレイ
表面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するため
に帯電防止層を設けても良い。帯電防止層は、アルミ、
錫等の金属、ＩＴＯ等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等
で極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子や
ウィスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をド
ープした微粒子やウィスカー、７，７，８，８−テトラ
シアノキノジメタンと金属イオンや有機カチオンなどの
電子供与体（ドナー）との間でできた電荷移動錯体をフ
ィラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング
等により設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等に
カンファースルホン酸等をドープしたものをソルベント
コーティング等により設ける方法等により設けることが
できる。帯電防止層の透過率は光学用途の場合、８０％
以上が好ましい。Further, an antistatic layer may be provided on the surface of the transparent substrate in order to prevent dirt such as dust electrostatically adhering to the display surface. The antistatic layer is made of aluminum,
A method of providing a metal oxide film such as a metal such as tin or ITO or the like by vapor deposition or sputtering, etc .; a metal fine particle or whisker such as aluminum or tin; a fine particle or whisker obtained by doping a metal oxide such as tin oxide with antimony; , 7,8,8-tetracyanoquinodimethane and charge transfer complex formed between electron donor (donor) such as metal ion and organic cation as filler, polyester resin, acrylic resin, epoxy resin Etc. and provided by solvent coating or the like, or a method in which polypyrrole, polyaniline or the like doped with camphorsulfonic acid or the like is provided by solvent coating or the like. The transmittance of the antistatic layer is 80% for optical applications
The above is preferred.
【００１４】Ｂ．粗面化層 次に本発明における粗面化層について説明する。本発明
における粗面化層は紫外線硬化型樹脂を含み、紫外線硬
化型樹脂は、主剤として、エポキシ系化合物、重合開始
剤として、光カチオン重合開始剤を必須構成要素とす
る。紫外線硬化型樹脂の粘度、架橋密度、耐熱性、耐薬
品性など塗料および塗工膜の特性をコントロールするた
めには、アクリル系化合物を混合することが好ましい。
本発明の紫外線硬化型樹脂を粗面化層に使用した場合の
利点を、従来のラジカル反応型紫外線硬化型樹脂と比較
すると以下のようになる。B. Next, the roughened layer in the present invention will be described. The surface-roughened layer in the present invention contains an ultraviolet-curable resin, and the ultraviolet-curable resin has an epoxy compound as a main component, and a cationic photopolymerization initiator as a polymerization initiator as essential components. In order to control the properties of the paint and the coating film such as the viscosity, crosslink density, heat resistance and chemical resistance of the ultraviolet curable resin, it is preferable to mix an acrylic compound.
The advantages of using the UV-curable resin of the present invention for the roughened layer are as follows when compared with conventional radical-reaction-type UV-curable resins.
【００１５】透明基体との密着性が良好である。特
に、密着性が殆どないと言われているけん化ＴＡＣで構
成した透明基体への密着性に優れているので、偏光基
体、透明基体および粗面化層を強固に密着させた積層体
を得ることができる。 酸素阻害が少ない。 硬化収縮が非常に少ない。 顔料の分散性に優れている。Good adhesion to the transparent substrate. In particular, since it has excellent adhesion to a transparent substrate composed of saponified TAC, which is said to have little adhesion, it is necessary to obtain a laminate in which a polarizing substrate, a transparent substrate, and a roughened layer are firmly adhered. Can be. Less oxygen inhibition. Very little cure shrinkage. Excellent pigment dispersibility.
【００１６】前記エポキシ系化合物としては、テトラメ
チレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノール
Ａ−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステ
ルや、以下の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマ
ーおよびオリゴマーをあげることができる。Examples of the epoxy compound include glycidyl ethers such as tetramethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether and bisphenol A diglycidyl ether;
Examples include monomers and oligomers such as epoxy esters such as 3-phenoxypropyl acrylate and bisphenol A-diepoxy-acrylic acid adduct, and alicyclic epoxies represented by the following chemical formula.
【００１７】[0017]
【化１】 Embedded image
【００１８】光カチオン重合開始剤としては、以下の化
学式からなる化合物をあげることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いても良く、複数混合で使用して
も良い。Examples of the cationic photopolymerization initiator include compounds having the following chemical formula. These compounds may be used alone or as a mixture of two or more.
【００１９】[0019]
【化２】 Embedded image
【００２０】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、０．１〜５．０重量％の範囲が望ましい。この配
合量は０．１より少なくても、５．０より多くても紫外
線硬化は不十分である。The amount of the cationic photopolymerization initiator is desirably in the range of 0.1 to 5.0% by weight based on the main component. If the amount is less than 0.1 or more than 5.0, ultraviolet curing is insufficient.
【００２１】紫外線硬化型樹脂に混合するアクリル系化
合物としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチ
レングリコールアクリレート、メトキシトリエチレング
リコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ
−３−フェノキシアクリレート等の単官能アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロール
プロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等の
アクリル酸誘導体、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ｎ−ステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルアクリレート等の単官能メタクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、グリセリンジメタクリ
レート等の多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導
体、グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソ
シアネート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘ
キサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレー
ト等のモノマーおよびオリゴマーをあげることができ
る。The acrylic compound to be mixed with the ultraviolet-curable resin includes lauryl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate,
Monofunctional acrylates such as 2-hydroxypropyl acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxy acrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-
Acrylic acids such as polyfunctional acrylates such as hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane acrylate benzoate, and trimethylolpropane benzoate. Monofunctional methacrylates such as derivatives, 2-ethylhexyl methacrylate, n-stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxybutyl acrylate;
Monomers and oligomers such as methacrylic acid derivatives such as polyfunctional methacrylates such as 6-hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, and glycerin dimethacrylate; glycerin dimethacrylate hexamethylene diisocyanate; pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate; Can be given.
【００２２】前記紫外線硬化型樹脂を使用した粗面化層
の硬化に伴う体積収縮率（下記方法より算出）は、２０
％以下が望ましい。体積収縮率が２０％より大きくなる
と、透明基体がフィルムの場合はカールが著しくなり、
また基材がガラス等リジットな材料系の場合は粗面化層
の密着性が低下する。The volume shrinkage rate (calculated by the following method) associated with the curing of the roughened layer using the ultraviolet-curable resin is 20
% Is desirable. If the volume shrinkage is more than 20%, the curl becomes remarkable when the transparent substrate is a film,
When the substrate is made of a rigid material such as glass, the adhesion of the roughened layer is reduced.
【００２３】[0023]
【数１】体積収縮率：Ｄ＝（Ｓ−Ｓ'）／Ｓ×１００ Ｓ：硬化前の比重 Ｓ'：硬化後の比重 （比重はＪＩＳ Ｋ−７１１２のＢ法ピクノメーター法
により測定）## EQU1 ## Volume shrinkage: D = (S−S ′) / S × 100 S: specific gravity before curing S ′: specific gravity after curing (specific gravity is measured by the B method pycnometer method of JIS K-7112)
【００２４】また、紫外線硬化型樹脂の透明性は高いほ
ど良く、光線透過率（ＪＩＳ Ｃ−６７１４）として
は、透明基体同様、８０％以上、好ましくは９０％以上
が好ましい。The higher the transparency of the UV-curable resin, the better, and the light transmittance (JIS C-6714) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, like the transparent substrate.
【００２５】粗面化する方法としては、上記樹脂中にフ
ィラーを含有させるタイプが好ましい。フィラーとして
はシリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸
化マグネシウム、クレー、タルク、二酸化チタン等の無
機系白色顔料、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
エチレン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ビーズ等
有機系の透明または白色顔料等をあげることができる。
特に、球状で給油性を示さない有機フィラーが好まし
く、球状のフィラーを用いることによって、粗面化層の
表面から突出する部分がなだらかになり、油分等の汚れ
が付着し難くなるとともに付着した汚れを拭い易くな
る。As a method for roughening, a type in which a filler is contained in the above resin is preferable. Fillers include inorganic white pigments such as silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, clay, talc, and titanium dioxide, acrylic resins, polystyrene resins, polyethylene resins, epoxy resins, silicone resins, and organic transparent materials such as beads. Alternatively, white pigments and the like can be given.
In particular, organic fillers that are spherical and do not exhibit lubricating properties are preferable.By using spherical fillers, the portions that protrude from the surface of the roughened layer become gentle, so that dirt such as oil becomes less likely to adhere and dirt that adheres. Easier to wipe.
【００２６】このようなフィラーの粒子径Ｄ（ＪＩＳ
Ｂ９９２１）は、０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の
ものが６０重量％以上、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍ
の範囲のものが２０重量％未満、１０μｍ＜Ｄ≦１５．
０μｍの範囲のものが５重量％以下、１５．０μｍより
大きいものが１重量％以下であることが望ましい。さら
に、１５．０μｍより大きい粒子は、できれば含有され
ない（０％）ことが好ましく、特に、０．５μｍ≦Ｄ≦
６．０μｍの範囲のものが８０重量％以上、６．０μｍ
＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲のものが１０重量％未満、１
０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲のものは全く含まない
ことが好ましい。０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲に
あるフィラーの重量％と、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μ
ｍの範囲にあるフィラーの重量％、さらに、１０μｍ＜
Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフィラーの重量％が、そ
れぞれ６０％未満、２０％未満、５％未満の場合は、デ
ィスプレイの反射防止効果が悪くなり、６．０μｍ＜Ｄ
≦１０．０μｍの範囲にあるフィラーが２０重量％以上
もしくは、１０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフ
ィラーが５重量％の場合は、ディスプレイの画像にギラ
ツキが発生する。フィラーの配合量については、粗面化
層の全固形分比で、０．５〜３０％の範囲が良い。特
に、１〜１５％の範囲が好ましい。配合量が０．５％以
下では、反射防止効果が不充分となり、３０％以上で
は、透明性、画像のコントラストが劣るばかりでなく、
耐摩耗性や耐環境性等の耐久性が悪くなる。また、フィ
ラーの屈折率（ＪＩＳ Ｋ−７１４２によるＢ法）は、
硬化型樹脂の屈折率に近いほど好ましい。フィラーの屈
折率が硬化型樹脂の屈折率と異なる場合は、フィラーと
樹脂界面で光が拡散し、透明性が損なわれる。これらの
特性を有するフィラーの例としては、有機系のフィラ
ー、特に、架橋アクリルビーズが好適である。The particle diameter D of such a filler (JIS
B9921) is 60% by weight or more in the range of 0.5 μm ≦ D ≦ 6.0 μm, and 6.0 μm <D ≦ 10.0 μm.
Is less than 20% by weight, 10 μm <D ≦ 15.
It is desirable that those in the range of 0 μm are 5% by weight or less, and those of more than 15.0 μm are 1% by weight or less. Furthermore, particles larger than 15.0 μm are preferably not contained (0%) if possible, and in particular, 0.5 μm ≦ D ≦
80% by weight or more in the range of 6.0 μm, 6.0 μm
<D ≦ 10.0 μm is less than 10% by weight,
It is preferable not to include those in the range of 0 μm <D ≦ 15.0 μm at all. 0.5% by weight of the filler in the range of 0.5 μm ≦ D ≦ 6.0 μm, and 6.0 μm <D ≦ 10.0 μm
weight% of fillers in the range of m, further 10 μm <
When the weight% of the filler in the range of D ≦ 15.0 μm is less than 60%, less than 20%, and less than 5%, respectively, the antireflection effect of the display deteriorates and 6.0 μm <D
When the filler in the range of ≦ 10.0 μm is 20% by weight or more, or the filler in the range of 10 μm <D ≦ 15.0 μm is 5% by weight, glare is generated on the display image. The amount of the filler is preferably in the range of 0.5 to 30% in terms of the total solid content of the roughened layer. In particular, a range of 1 to 15% is preferable. When the amount is 0.5% or less, the antireflection effect becomes insufficient. When the amount is 30% or more, not only transparency and image contrast are deteriorated, but also
The durability such as wear resistance and environmental resistance is deteriorated. The refractive index of the filler (B method according to JIS K-7142)
The closer to the refractive index of the curable resin, the better. If the refractive index of the filler is different from the refractive index of the curable resin, light is diffused at the interface between the filler and the resin, and transparency is impaired. As an example of the filler having these characteristics, an organic filler, particularly, a crosslinked acrylic bead is suitable.
【００２７】架橋アクリルビーズとしては、アクリル酸
及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等のアクリル系モノマ
ーと過硫酸等の重合開始剤、エチレングリコールジメタ
クリレート等の架橋剤を用い、懸濁重合法等により重合
して得られる重合体及び共重合体からなる架橋アクリル
系ビーズが好適に使用できる。特にアクリル系のモノマ
ーとして、メチルメタクリレートを使用した構成が好ま
しい。この様にして得られた架橋アクリルビーズは球状
で吸油性を示さないことから、粗面化層に使用した場
合、優れた耐汚染性を発現できる。As the crosslinked acrylic beads, an acrylic monomer such as acrylic acid and its ester, methacrylic acid and its ester, acrylamide, acrylonitrile and the like, a polymerization initiator such as persulfuric acid, and a crosslinking agent such as ethylene glycol dimethacrylate are used. Crosslinked acrylic beads comprising a polymer and a copolymer obtained by polymerization by a suspension polymerization method or the like can be suitably used. In particular, a configuration using methyl methacrylate as the acrylic monomer is preferable. Since the crosslinked acrylic beads thus obtained are spherical and do not exhibit oil absorption, when used in a roughened layer, excellent stain resistance can be exhibited.
【００２８】本発明において、粗面化層を設ける方法と
しては、上記で述べた紫外線硬化型樹脂中に、必要に応
じて架橋アクリルビーズ等のフィラーと、水或は有機溶
剤を混合し、これをペイントシェーカー、サンドミル、
パールミル、ボールミル、アトライター、ロールミル、
高速インペラー分散機、ジェットミル、高速衝撃ミル、
超音波分散機等によって分散して塗料またはインキと
し、これをエアドクターコーティング、ブレードコーテ
ィング、ナイフコーティング、リバースコーティング、
トランスファロールコーティング、グラビアロールコー
ティング、キスコーティング、キャストコーティング、
スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティン
グ、カレンダーコーティング、電着コーティング、ディ
ップコーティング、ダイコーティング等のコーティング
やフレキソ印刷等の凸版印刷、ダイレクトグラビア印
刷、オフセットグラビア印刷等の凹版印刷、オフセット
印刷等の平版印刷、スクリーン印刷等の孔版印刷等の印
刷手法により透明基体の片面もしくは両面上に単層もし
くは多層に分けて設け、溶媒を含んでいる場合は、熱乾
燥工程を経て、紫外線照射により塗工層もしくは印刷層
を硬化させることによって得る方法等挙げられる。な
お、照射する紫外線としては、超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用
できる。塗料の分散性を向上させるために上記フィラー
を、油脂類、シランカップリング剤、金属酸化物等有機
・無機材料で表面改質しても良い。In the present invention, as a method for providing a roughened layer, a filler such as cross-linked acrylic beads and, if necessary, water or an organic solvent are mixed in the above-mentioned ultraviolet-curable resin. The paint shaker, sand mill,
Pearl mill, ball mill, attritor, roll mill,
High-speed impeller disperser, jet mill, high-speed impact mill,
It is dispersed by ultrasonic dispersing machine etc. to make paint or ink, which is air doctor coating, blade coating, knife coating, reverse coating,
Transfer roll coating, gravure roll coating, kiss coating, cast coating,
Coating such as spray coating, slot orifice coating, calendar coating, electrodeposition coating, dip coating, die coating, relief printing such as flexo printing, intaglio printing such as direct gravure printing, offset gravure printing, lithographic printing such as offset printing, screen A single layer or multiple layers are provided on one or both sides of the transparent substrate by a printing method such as stencil printing such as printing, and when a solvent is contained, a coating layer or a printing layer is irradiated by ultraviolet irradiation through a heat drying process. And the like. In addition, as the ultraviolet rays to be radiated, ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultrahigh-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used. In order to improve the dispersibility of the paint, the filler may be surface-modified with an organic or inorganic material such as a fat or oil, a silane coupling agent, or a metal oxide.
【００２９】塗料、インクの塗工適性または印刷適性を
向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル等の
レベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワック
ス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油
脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリ
カゾル、合成雲母等０．１μｍ以下の超微粒子等の添加
剤を適宜使用することができる。また、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止剤を添加しても良い。帯電防止剤は、上述の帯
電防止層で説明した材料がそのまま適用できる。In order to improve the coating suitability or printing suitability of paints and inks, if necessary, a leveling agent such as silicone oil, polyethylene wax, carnauba wax, higher alcohols, bisamides, oils and fats such as higher fatty acids, isocyanates, etc. Additives such as hardening agents, ultrafine particles of 0.1 μm or less, such as calcium carbonate, silica sol, and synthetic mica, can be used as appropriate. Further, an antistatic agent may be added to prevent dirt such as dust electrostatically adhering to the display surface. As the antistatic agent, the materials described for the above antistatic layer can be applied as they are.
【００３０】粗面化層の厚さは０．５〜１０μｍの範囲
が、好ましくは１〜５μｍの範囲が良い。粗面化層が
０．５μｍより薄い場合は、粗面化層の耐磨耗性が悪く
なったり、紫外線硬化型樹脂を使用した場合など、酸素
阻害により硬化不良を起こす。１０μｍより厚い場合
は、樹脂の硬化収縮によりカールが発生したり、粗面化
層にマイクロクラックが発生したり、さらに、透明基体
との密着性が低下したりする。反射防止材料の透明性は
粗面化層の屈折率によって影響を受けるが、屈折率は、
透明基体の屈折率に近いほど良く、その範囲は、１．４
５〜１．７０が好ましい。この範囲を超えると反射防止
効果が損なわれる。The thickness of the roughened layer is in the range of 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. When the roughened layer is thinner than 0.5 μm, the abrasion resistance of the roughened layer is deteriorated, and poor curing is caused by oxygen inhibition such as when an ultraviolet curable resin is used. When the thickness is more than 10 μm, curling is caused by curing shrinkage of the resin, microcracks are generated in the roughened layer, and adhesion to the transparent substrate is reduced. Although the transparency of the anti-reflective material is affected by the refractive index of the roughened layer, the refractive index is
The closer to the refractive index of the transparent substrate, the better, and the range is 1.4.
5 to 1.70 is preferred. If it exceeds this range, the antireflection effect will be impaired.
【００３１】Ｃ．表面層 (a)高屈折率層 高屈折率層は、前記粗面化層の表面に直接あるいは接着
剤層など他の層を介して設けられる。屈折率を高くする
ためには高屈折率を持つバインダー樹脂を使用するか、
高い屈折率を有する超微粒子をバインダー樹脂に添加す
ることによって行うか、あるいはこれらを併用すること
によって行う。高屈折率層の屈折率は粗面化層より必ず
高く、１．５５〜２．７０の範囲にあることが好まし
い。屈折率が粗面化層より低い場合、もしくは前記範囲
外の場合は、反射防止効果が損なわれる。高屈折率層に
用いる樹脂は、透明なものであれば任意であり、熱硬化
型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型
樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂として
は、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、
メラミン−尿素共縮合樹脂、グアナミン樹脂、珪素樹
脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これら
の樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化
剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることがで
きる。C. Surface layer (a) High refractive index layer The high refractive index layer is provided directly on the surface of the roughened layer or via another layer such as an adhesive layer. Use a binder resin with a high refractive index to increase the refractive index,
It is carried out by adding ultrafine particles having a high refractive index to the binder resin, or by using them in combination. The refractive index of the high refractive index layer is always higher than that of the roughened layer, and is preferably in the range of 1.55 to 2.70. If the refractive index is lower than that of the roughened layer, or if the refractive index is out of the range, the antireflection effect is impaired. The resin used for the high refractive index layer is arbitrary as long as it is transparent, and a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a radiation (including ultraviolet) curable resin, or the like can be used. As thermosetting resins, phenolic resins, melamine resins, polyurethane resins, urea resins, diallyl phthalate resins, guanamine resins, unsaturated polyester resins, amino alkyd resins,
Melamine-urea co-condensation resin, guanamine resin, silicon resin, polysiloxane resin and the like can be used, and if necessary, a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, Adjusters and the like can be added.
【００３２】放射線硬化型樹脂としては、ポリエステル
樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、アルキッド樹脂、ポリブタジエン樹脂、スピロール
アセタール樹脂、ウレタン樹脂、多価アルコール等の多
官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまた
はプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メ
タ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、スチレン、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニル
ピロリドン等の単官能モノマー及び多官能モノマー等を
用いることができる。Examples of the radiation-curable resin include (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, alkyd resins, polybutadiene resins, spirol acetal resins, urethane resins, and polyhydric alcohols. And monofunctional monomers and polyfunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone as reactive diluents. .
【００３３】上記樹脂を紫外線硬化型樹脂として用いる
場合には、光重合開始剤として、アセチフェノン類、ベ
ンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、ミヒラー
ベンゾイルベンゾエート、テトラメチルチウラムモノサ
ルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−
ブチルアミン、トリエチルアミンなどを混合して用いる
ことができる。When the above resin is used as an ultraviolet-curable resin, acetylenone, benzophenone, α-amyloxime ester, Michler benzoyl benzoate, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthone, or the like may be used as a photopolymerization initiator. N- as sensitizer
Butylamine, triethylamine and the like can be used as a mixture.
【００３４】上記樹脂を高屈折率とするためには、芳香
環やＢｒ、Ｉ、Ｃｌ等のハロゲン化元素を含むものを選
定する。芳香環を含む樹脂の例としては、ポリスチレン
等のスチロール樹脂、ＰＥＴ、ビスフェノールＡのポリ
カーボネート等が挙げられる。また、ハロゲン化元素を
含む樹脂の例としては、ポリ塩化ビニル、ポリテトラブ
ロモビスフェノールＡグリシジルエーテル等が挙げられ
る。また、Ｓ、Ｎ、Ｐ等を含む樹脂も高屈折率であり、
例えば、ポリビニルピリジン、ポリビスフェノールＳグ
リシジルエーテル等が挙げられる。In order to increase the refractive index of the resin, a resin containing an aromatic ring or a halogenated element such as Br, I, or Cl is selected. Examples of the resin containing an aromatic ring include styrene resins such as polystyrene, PET, and polycarbonate of bisphenol A. Examples of the resin containing a halogenated element include polyvinyl chloride and polytetrabromobisphenol A glycidyl ether. Resins containing S, N, P, etc. also have a high refractive index,
For example, polyvinyl pyridine, polybisphenol S glycidyl ether and the like can be mentioned.
【００３５】高屈折超微粒子としては、たとえば、Ｚｎ
Ｏ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2（ｎ＝２．３〜２．
７）、ＣｅＯ2（ｎ＝１．９５）の微粒子を含有させる
ことで、紫外線遮蔽の効果を得ることができる。また、
アンチモンがドープされたＳｎＯ2（ｎ＝１．９５）ま
たはＩＴＯ（ｎ＝１．９５）の微粒子を含有させること
により、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止する
ことができる。その他の微粒子としては、Ａｌ2Ｏ3（ｎ
＝１．６３）、Ｌａ2Ｏ3（ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ
2（ｎ＝２．０５）、Ｙ2Ｏ3（ｎ＝１．８７）等を挙げ
ることができる。これらの超微粒子は単独または混合し
て使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状に
なったものが分散性の点において良好であり、その粒径
としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましく
は、５〜２０ｎｍであることが望ましい。As the high refraction ultrafine particles, for example, Zn
O (refractive index n = 1.9), TiO 2 (n = 2.3 to 2 .
7) By containing fine particles of CeO 2 (n = 1.95), an effect of shielding ultraviolet rays can be obtained. Also,
By containing fine particles of SnO 2 (n = 1.95) or ITO (n = 1.95) doped with antimony, an antistatic effect is imparted and dust adhesion can be prevented. Other fine particles include Al 2 O 3 (n
= 1.63), La 2 O 3 (n = 1.95), ZrO
2 (n = 2.05) and Y 2 O 3 (n = 1.87). These ultrafine particles are used singly or as a mixture, and those in the form of a colloid dispersed in an organic solvent or water are good in terms of dispersibility. Preferably, the thickness is 5 to 20 nm.
【００３６】高屈折率層を粗面化層に直接設けるには、
上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコータ
ー、ロールコーター、印刷等の方法で粗面化層上に設け
て乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開
始剤を使用する）等により硬化させれば良い。また、そ
の際には、乾燥後の高屈折率層の厚さが０．０５〜０．
１５μｍとなるように塗工厚さを調節する。高屈折率層
の厚さがこの範囲外となる場合は、反射防止の効果が損
なわれるおそれがある。In order to provide the high refractive index layer directly on the roughened layer,
The above-mentioned materials are diluted in a solvent, for example, provided on the surface-roughened layer by a method such as spin coater, roll coater, printing, etc., and dried, and then heat or radiation (in the case of ultraviolet light, use the above-described photopolymerization initiator. Do) or the like. In this case, the thickness of the high refractive index layer after drying is 0.05 to 0.5 mm.
The coating thickness is adjusted to be 15 μm. If the thickness of the high refractive index layer is out of this range, the antireflection effect may be impaired.
【００３７】(b)低屈折率層 本発明においては、より優れた反射防止機能を得るため
に、高屈折率層上に、これよりも屈折率の小さい低屈折
率層を設けている。以下、低屈折率層について説明す
る。低屈折率層の組成は特に限定されるものではない
が、その臨海表面張力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下となる
ように構成されることが好ましい。臨界表面張力が２０
ｄｙｎｅ／ｃｍより大きい場合は、低屈折率層に付着し
た汚れが取れにくくなる。また、反射防止効果を向上さ
せるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下で
あることが好ましい。これらの特徴を有する材料として
は、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ2（ｎ
＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3（ｎ＝１．４）、Ａｌ
Ｆ3（ｎ＝１．４）Ｎａ3ＡｌＦ6（ｎ＝１．３３）Ｓｉ
Ｏ2（ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アク
リル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反
射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可塑
性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反
射材料を挙げることができる。その中で、特に、フッ素
系の含フッ素材料が汚れ防止の点において好ましい。(B) Low Refractive Index Layer In the present invention, a low refractive index layer having a smaller refractive index is provided on the high refractive index layer in order to obtain a better antireflection function. Hereinafter, the low refractive index layer will be described. Although the composition of the low refractive index layer is not particularly limited, it is preferable that the low refractive index layer be configured so that its critical surface tension is 20 dyne / cm or less. Critical surface tension is 20
When it is larger than dyne / cm, it becomes difficult to remove the dirt attached to the low refractive index layer. Further, in order to improve the antireflection effect, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.45 or less. Examples of materials having these characteristics include LiF (refractive index n = 1.4), MgF 2 (n
= 1.4), 3NaF.AlF 3 (n = 1.4), Al
F 3 (n = 1.4) Na 3 AlF 6 (n = 1.33) Si
Inorganic materials such as O 2 (n = 1.45) are finely divided, and inorganic low-reflection materials, fluorine-based and silicone-based organic compounds, thermoplastic resins, and thermosetting, which are contained in an acrylic resin or an epoxy resin, etc. Organic low-reflection materials such as a mold resin and a radiation-curable resin. Among them, a fluorine-based fluorinated material is particularly preferable in terms of preventing contamination.
【００３８】前記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、ＴＥＦＲＯＮ ＡＦ１６００（デュポン
社製、ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社
製、ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社
製、屈折率ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２
（日本合成ゴム（株）社製、ｎ＝１．４０）、ＬＲ２０
１（日産化学工業（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙げ
ることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使
用することも可能である。Examples of the fluorine-containing material include a vinylidene fluoride copolymer, a fluoroolefin / hydrocarbon olefin copolymer, a fluorine-containing epoxy resin, and a fluorine-containing epoxy acrylate which are dissolved in an organic solvent and are easy to handle. , Fluorinated silicone, fluorinated alkoxysilane, TFRON AF1600 (manufactured by DuPont, n = 1.30), CYTOP (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., n = 1.34), 17FM (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Refractive index n = 1.35), Opstar JN-7212
(Manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., n = 1.40), LR20
1 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., n = 1.38). These can be used alone or in combination of two or more.
【００３９】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフロロ−７−メチルオクチ
ル）エチルメタクリレート、３−（パーフロロ−７−メ
チルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−（パーフロロ−９−メチルデシル）エチルメタ
クリレート、３−（パーフロロ−８−メチルデシル）２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、３−パフロロオクチル−２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチ
ルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシ
ル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、３
−パーフルオロデシル１，２−エポキシプロパン、３−
（パーフロロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキシ
プロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等の
放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポ
リマー等を挙げることができる。これらは単独もしくは
複数種類混合して使用することも可能である。Also, 2- (perfluorodecyl) ethyl methacrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluoro- 9-methyldecyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-8-methyldecyl) 2
A fluorine-containing methacrylate such as -hydroxypropyl methacrylate, a fluorine-containing acrylate such as 3-pafluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl acrylate, or 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl acrylate; 3
-Perfluorodecyl 1,2-epoxypropane, 3-
Examples thereof include epoxides such as (perfluoro-9-methyldecyl) -1,2-epoxypropane, radiation-curable fluorine-containing monomers such as epoxy acrylate, oligomers, and prepolymers. These can be used alone or in combination of two or more.
【００４０】さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。該
５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に
分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イ
オンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸ア
ルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸
を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラ
ンを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合
することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上
記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に
置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル
（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカ
ゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することが
できる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水
を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳ
ｉＯ2として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有す
る。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針
状、板状等様々なものが使用可能である。Further, a low-reflection material in which a sol in which ultrafine silica particles of 5 to 30 nm are dispersed in water or an organic solvent and a fluorine-based film-forming agent are mixed may be used. The sol obtained by dispersing the ultrafine silica particles of 5 to 30 nm in water or an organic solvent can be prepared by dealkalizing alkali metal ions in an alkali silicate by ion exchange or neutralizing the alkali silicate with a mineral acid. A known silica sol obtained by condensing an active silicic acid known by a method, etc., a known silica sol obtained by condensing an alkoxysilane with hydrolysis in an organic solvent in the presence of a basic catalyst, An organic solvent-based silica sol (organo silica sol) obtained by substituting water in the aqueous silica sol with an organic solvent by a distillation method or the like is used. These silica sols can be used in both aqueous and organic solvent systems. It is not necessary to completely replace water with an organic solvent when producing an organic solvent-based silica sol. The silica sol is S
a solid content of 0.5 to 50 wt% concentration as iO 2. Various structures such as spherical, needle-like, and plate-like structures can be used for the ultrafine silica particles in the silica sol.
【００４１】また、被膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。上記のような被膜形成剤を用いることにより、低
屈折率層の臨界表面張力が低下して油分の付着を抑制す
ることができる。本発明において低屈折率層は、上記で
述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーター、ロ
ールコーター、印刷等の方法で高屈折率層上に設けて乾
燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤
を使用する）等により硬化させることによって得ること
ができる。放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマ
ー、プレポリマーは耐汚染性には優れているが、ヌレ性
が悪いため、組成によっては高屈折率層上で低屈折率層
をはじくという問題や、低屈折率層が高屈折率層から剥
がれるという問題が生じるおそれがあるため、粗面化層
に使用する前述の放射線硬化型樹脂として説明した、ア
クリロイル基、メタアクリロイル基、アクリロイルオキ
シ基、メタアクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を
有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合
し、使用することが望ましい。なお、透明基体がＴＡ
Ｃ、ＰＥＴ等樹脂フィルムの場合は、熱によるダメージ
を受けやすいことから、低屈折率層の材料は、放射線硬
化型樹脂が好ましい。As the film-forming agent, alkoxysilane, hydrolyzate of metal alkoxide or metal salt, fluorine-modified polysiloxane and the like can be used. By using such a film-forming agent, the critical surface tension of the low refractive index layer is reduced, and the adhesion of oil can be suppressed. In the present invention, the low-refractive-index layer is prepared by diluting the above-mentioned material in, for example, a solvent, spin-coater, roll-coater, and printing on the high-refractive-index layer by a method such as printing. Can be obtained by using the above-mentioned photopolymerization initiator). Radiation-curable fluorine-containing monomers, oligomers, and prepolymers are excellent in stain resistance, but have poor wetting properties, and depending on the composition, may cause problems such as repelling a low refractive index layer on a high refractive index layer, or a low refractive index. The acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, and methacryloyloxy group described as the above-mentioned radiation-curable resin used for the surface-roughening layer may cause a problem that the refractive index layer is peeled off from the high refractive index layer. It is desirable to appropriately mix and use monomers, oligomers and prepolymers having an isomerizable unsaturated bond. When the transparent substrate is TA
In the case of a resin film such as C or PET, the material of the low refractive index layer is preferably a radiation-curable resin because it is easily damaged by heat.
【００４２】低屈折率層はこれらの低反射材料を用い、
ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティン
グ法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、
イオンプレーティング等による気相法により、高屈折率
層上に設けられる。ウェットコーティング法で設ける場
合は、塗工適性または印刷適性を向上させるために、必
要に応じ、粗面化層同様、シリコーンオイル等のレベリ
ング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、高
級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油脂、イ
ソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリカゾ
ル、合成雲母等０．０５μｍ以下の超微粒子等の添加剤
を適宜使用することができる。The low refractive index layer uses these low reflection materials,
Wet coating method by roll coating or printing, vacuum evaporation, sputtering, plasma CVD,
It is provided on the high refractive index layer by a gas phase method such as ion plating. When provided by a wet coating method, as necessary, a leveling agent such as silicone oil, polyethylene wax, carnauba wax, higher alcohol, bisamide, higher fatty acid, as well as a roughened layer, in order to improve coating suitability or printability. Oils and fats such as isocyanate, hardeners such as isocyanate, and additives such as ultrafine particles of 0.05 μm or less such as calcium carbonate, silica sol, and synthetic mica can be appropriately used.
【００４３】低屈折率層が良好な反射防止機能を発揮す
るための厚さについては、公知の計算式で算出すること
ができる。公知の文献（サイエンスライブラリ、物理学
９「光学」７０〜７２頁）によれば、入射光が低屈折率
層に垂直に入射する場合に、低屈折率層が光を反射せ
ず、かつ１００％透過するための条件は次の関係式を満
たせば良いとされている。なお、式中Ｎ0は低屈折率層
の屈折率、Ｎｓは高屈折率層の屈折率、ｈは低屈折率層
の厚さ、λ0は光の波長を示す。The thickness for the low refractive index layer to exhibit a good antireflection function can be calculated by a known calculation formula. According to a known document (Science Library, Physics 9 "Optics", pp. 70-72), when the incident light is perpendicularly incident on the low refractive index layer, the low refractive index layer does not reflect light, and It is said that the condition for% transmission should satisfy the following relational expression. In the formula, N 0 is the refractive index of the low refractive index layer, Ns is the refractive index of the high refractive index layer, h is the thickness of the low refractive index layer, and λ 0 is the wavelength of light.
【００４４】[0044]
【数２】 Ｎ0＝Ｎｓ1/2 式（１） Ｎ0ｈ＝λ0／４ 式（２）[Number 2] N 0 = Ns 1/2 Equation (1) N 0 h = λ 0/4 formula (2)
【００４５】前記（１）式によれば、光の反射を１００
％防止するためには、低屈折率層の屈折率が下層（高屈
折率層）の屈折率の平方根になるような材料を選択すれ
ばよいことが分かる。但し、実際は、この数式を完全に
満たす材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択する
ことになる。前記（２）式では（１）式で選択した低屈
折率層の屈折率と、光の波長から低屈折率層の反射防止
膜としての最適な厚さが計算される。たとえば、高屈折
率層、低屈折率層の屈折率をそれぞれ１．５０、１．３
８、光の波長を５５０ｎｍ（視感度の基準）とし、これ
らの値を前記（２）式に代入すると、低屈折率層の厚さ
は０．１μｍ前後の光学膜厚、好ましくは０．１０±
０．０１μｍの範囲が最適であると計算される。このよ
うに、低屈折率層は極めて薄く、そして極めて均一に設
ける必要がある（厚さの面内バラツキは高屈折率層との
干渉により、色ムラになる）。よって、低屈折率層を設
ける方法としては、気相法が好ましい。According to the above equation (1), the reflection of light is 100
It can be seen that in order to prevent the percentage, the material should be selected such that the refractive index of the low refractive index layer becomes the square root of the refractive index of the lower layer (high refractive index layer). However, in practice, it is difficult to find a material that completely satisfies the formula, and a material as close as possible is selected. In the formula (2), the optimum thickness of the low refractive index layer as an antireflection film is calculated from the refractive index of the low refractive index layer selected in the formula (1) and the wavelength of light. For example, the refractive indices of the high refractive index layer and the low refractive index layer are 1.50 and 1.3, respectively.
8. When the wavelength of light is set to 550 nm (standard of visibility) and these values are substituted into the above equation (2), the thickness of the low refractive index layer is about 0.1 μm, preferably 0.10 μm. ±
A range of 0.01 μm is calculated to be optimal. Thus, the low-refractive-index layer needs to be extremely thin and very evenly provided (in-plane variations in thickness cause color unevenness due to interference with the high-refractive-index layer). Therefore, as a method for providing the low refractive index layer, a gas phase method is preferable.
【００４６】また、ディスプレイ表面に静電的に付着す
るホコリ等の汚れを防止するために帯電防止剤を低屈折
率層に添加したり、もしくは低屈折率層上に静電防止層
を設けても良い。帯電防止剤は、前述の帯電防止層で説
明した材料がそのまま適用できる。Further, an antistatic agent is added to the low refractive index layer to prevent contamination such as dust which electrostatically adheres to the display surface, or an antistatic layer is provided on the low refractive index layer. Is also good. As the antistatic agent, the materials described for the above antistatic layer can be applied as they are.
【００４７】このようにして作製した本発明の反射防止
材料のＪＩＳ Ｋ７１０５によるＨＡＺＥ値は、３〜３
０の範囲、特に好ましくは５〜１５の範囲であることが
好ましい。この場合、この値が３未満では、光拡散の効
果が少なくそれ程大きな反射防止効果を得ることができ
ない。一方、ＨＡＺＥ値が３０を超えると、画像コント
ラストが悪く視認性不良となり、ディスプレイとしての
機能低下を招くことから好ましくない。なお、ＨＡＺＥ
値とは、曇価を意味するものであり、積分球式光線透過
率測定装置を用いて、拡散透過率（Ｈｄ％）と全光線透
過率（Ｈｔ％）を測定し、下記式にて算出する。The anti-reflective material of the present invention thus produced has a HAZE value of 3 to 3 according to JIS K7105.
It is preferably in the range of 0, particularly preferably in the range of 5 to 15. In this case, if this value is less than 3, the effect of light diffusion is small, and a so large antireflection effect cannot be obtained. On the other hand, when the HAZE value exceeds 30, the image contrast is poor and the visibility is poor, and the function as a display is undesirably reduced. In addition, HAZE
The value means the haze value. The diffuse transmittance (Hd%) and the total light transmittance (Ht%) are measured using an integrating sphere light transmittance measuring device, and calculated by the following formula. I do.
【００４８】[0048]
【数３】ＨＡＺＥ値＝Ｈｄ／Ｈｔ×１００Haze value = Hd / Ht × 100
【００４９】また、表面粗さは、Ｒａ；０．０３〜０．
３０μｍ、Ｓｍ；１０〜５０μｍ、好ましくは１５〜２
５μｍの範囲が良い。Ｒａが０．０３μｍより小さい場
合は、光拡散性の低下に伴い、防眩性が悪くなる。０．
３０μｍより大きい場合は、ＨＡＺＥが高くなり画像コ
ントラストが悪くなる。Ｓｍが１０μｍより小さい場合
は、防眩性が悪くなる。５０μｍより大きい場合は、画
像のギラツキがひどくなる。 （２）偏光フィルムの内容 上記構成の反射防止材料をフィルム状の偏光基体の片面
に設けることにより、偏光フィルムを構成することがで
きる。また、偏光基体の他方の面に保護材を積層するこ
とも可能である。以下、本発明の偏光フィルムの詳細に
ついて説明する。The surface roughness is Ra;
30 μm, Sm; 10 to 50 μm, preferably 15 to 2
A range of 5 μm is good. When Ra is smaller than 0.03 μm, the anti-glare property deteriorates due to a decrease in light diffusivity. 0.
If it is larger than 30 μm, HAZE increases and image contrast deteriorates. When Sm is smaller than 10 μm, the anti-glare property is deteriorated. If it is larger than 50 μm, the glare of the image becomes severe. (2) Contents of Polarizing Film A polarizing film can be formed by providing the antireflection material having the above structure on one surface of a film-shaped polarizing substrate. It is also possible to laminate a protective material on the other surface of the polarizing substrate. Hereinafter, the details of the polarizing film of the present invention will be described.
【００５０】Ａ．偏光基体 偏光基体は、透明フィルムを形成できる材料で構成さ
れ、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニレン
等が使用できる。そして、このような材料を延伸させて
フィルム化することにより偏光基体を得ることができ
る。例えば、２色性素子として沃素または染料を吸着さ
せたポリビニルアルコールを一軸延伸して得られたポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ)フィルムを用いることが好
ましい。偏光基体は１０〜８０μｍの厚みを有するもの
が使用される。具体的には、ＰＶＡフィルムを一軸方向
に３〜４倍程度延伸し、高次の沃素イオン中に延伸した
ＰＶＡフィルムを含浸させることにより偏光基体を得る
ことができる。A. Polarizing Substrate The polarizing substrate is composed of a material capable of forming a transparent film, and specifically, polyvinyl alcohol, polyvinylene, or the like can be used. Then, a polarizing substrate can be obtained by stretching such a material to form a film. For example, it is preferable to use a polyvinyl alcohol (PVA) film obtained by uniaxially stretching polyvinyl alcohol adsorbing iodine or a dye as the dichroic element. A polarizing substrate having a thickness of 10 to 80 μm is used. Specifically, the polarizing substrate can be obtained by stretching the PVA film about 3 to 4 times in the uniaxial direction and impregnating the stretched PVA film into higher-order iodine ions.
【００５１】Ｂ．透明基体及び保護材 上記で得られるＰＶＡフィルムは、強度等が不足してい
ることから、裂け易く、湿度変化に対して収縮率が大き
いという欠点を有していることから、偏光基体の両面に
透明基体及び保護材がそれぞれ積層される。これらは偏
光基体の両面に、ポリエステル系接着剤、ポリアクリル
系接着剤、ポリウレタン系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接
着剤等により接着される。B. Transparent Substrate and Protective Material The PVA film obtained above has shortcomings due to lack of strength and the like, and is liable to be torn and has a large shrinkage ratio with respect to a change in humidity. The transparent substrate and the protective material are respectively laminated. These are adhered to both surfaces of the polarizing substrate with a polyester adhesive, a polyacrylic adhesive, a polyurethane adhesive, a polyvinyl acetate adhesive, or the like.
【００５２】透明基体には、前述した材料が用いられ、
保護材としては、透明な高分子化合物のフィルム、例え
ば、ＴＡＣ等のセルロース系フィルム、ポリエステルフ
ィルム、ポリカーボネートフィルム等が使用される。そ
の中でも特にＴＡＣが好ましい。これらのフィルムの厚
さは１０〜２０００μｍが好ましい。また、これらのフ
ィルムには特にほう酸等のゲル化剤を使用したり、熱処
理やホルマール化を行うことによって、フィルムの耐水
性を向上させることが好ましい。また、偏光基体との密
着性を向上させるために、偏光基体との接着面の表面エ
ネルギーが５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上になるように、けん
化処理やコロナ処理等の表面処理を行うことが好まし
い。For the transparent substrate, the aforementioned materials are used.
As the protective material, a transparent polymer compound film, for example, a cellulosic film such as TAC, a polyester film, a polycarbonate film and the like are used. Among them, TAC is particularly preferable. The thickness of these films is preferably from 10 to 2000 μm. Further, it is preferable to improve the water resistance of the films by using a gelling agent such as boric acid, or by performing a heat treatment or formalization on these films. Further, in order to improve the adhesion to the polarizing substrate, it is preferable to perform a surface treatment such as a saponification treatment or a corona treatment so that the surface energy of the bonding surface with the polarizing substrate becomes 50 dyne / cm or more.
【００５３】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図１は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料１０は、透明基体１１の片面上に粗面化層１２
を有する構成である。なお、粗面化層１２の表面には高
屈折率層および低屈折率層からなる表面層が形成されて
いるが、表面層は極めて薄いために図示を省略している
（以下においても同じ）。図２は、本発明の偏光フィル
ム２０の構成を示す概略断面図であり、偏光基体２４の
片面に、透明基体２１と粗面化層２２とを有する反射防
止材料２３が設けられ、偏光基体２４の他の面に保護材
２５が設けられていることを示している。Hereinafter, the antireflection material and the polarizing film of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an antireflection material of the present invention. An antireflection material 10 has a roughened layer 12 on one surface of a transparent substrate 11.
It is a structure which has. A surface layer composed of a high-refractive index layer and a low-refractive index layer is formed on the surface of the roughened layer 12, but is not shown because the surface layer is extremely thin (the same applies hereinafter). . FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the polarizing film 20 of the present invention. An antireflection material 23 having a transparent substrate 21 and a roughened layer 22 is provided on one side of a polarizing substrate 24. Indicates that the protection member 25 is provided on the other surface.
【００５４】図３は本発明の反射防止材料により防眩性
を改善した液晶表示体３０の構成を示している。この液
晶表示体３０は、上面の液晶パネル３１と下面の導光板
装置（ＥＬ）やランプ等の背面光源３２とを積層して形
成されている。液晶パネル３１には、例えば、ツイステ
ッドネマチック（ＴＮ）液晶セルなどが使用可能であ
る。FIG. 3 shows the structure of a liquid crystal display 30 in which the anti-glare property is improved by the anti-reflection material of the present invention. The liquid crystal display 30 is formed by laminating a liquid crystal panel 31 on the upper surface and a back light source 32 such as a light guide plate (EL) or a lamp on the lower surface. As the liquid crystal panel 31, for example, a twisted nematic (TN) liquid crystal cell or the like can be used.
【００５５】ＴＮ液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの２枚のガラス基板３３，３４の透明電極
面３３'、及び３４'上に、ポリイミドの溶液を塗布して
配向膜を形成し、これをラビング操作により配向させ、
その後、このガラス基板３３，３４間にネマチック液晶
３５を注入し、ガラス基板３３，３４周辺部をエポキシ
樹脂等で封着することにより形成される。このネマチッ
ク液晶３５は、配向膜の作用により９０゜捻れ配向す
る。このようなＴＮ液晶セルの２枚のガラス基板３３，
３４の背面光源とは反対側には、図２に示される粗面化
層２２を有する反射防止材料２３と保護材２５とで偏光
基体２４の両面を保護された偏光フィルム３６を、ま
た、その背面光源側には、粗面化層のない偏光フィルム
３７を、偏光角度が互いに９０゜捻れるように貼ること
で液晶パネル３１が形成される。In the TN liquid crystal cell, an alignment film is formed by applying a polyimide solution on the transparent electrode surfaces 33 'and 34' of two glass substrates 33 and 34 having transparent electrodes having a desired pattern. , This is orientated by a rubbing operation,
Thereafter, a nematic liquid crystal 35 is injected between the glass substrates 33 and 34, and the periphery of the glass substrates 33 and 34 is sealed with an epoxy resin or the like. The nematic liquid crystal 35 is twist-aligned by 90 ° by the action of the alignment film. Two glass substrates 33 of such a TN liquid crystal cell,
On the opposite side of the back light source 34, a polarizing film 36 whose both surfaces of the polarizing substrate 24 are protected by an antireflective material 23 having a roughened layer 22 and a protective material 25 shown in FIG. The liquid crystal panel 31 is formed on the rear light source side by attaching a polarizing film 37 having no roughening layer so that the polarization angles are twisted by 90 ° with respect to each other.
【００５６】上記ＴＮ液晶パネル３１の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体３０においては、
液晶パネル３１に透過させ、液晶パネル３１の光の透過
する部分と透過しない部分にコントラストを持たせるこ
とにより画像表示を可能とするものである。When a drive signal is applied to the transparent electrodes of the TN liquid crystal panel 31, an electric field is generated between the electrodes to which the signals are applied. At that time, due to the electronic anisotropy of the liquid crystal molecules,
Since the major axis of the liquid crystal molecules is parallel to the direction of the electric field, the optical rotatory power of the liquid crystal molecules is lost, and as a result, the light does not pass through the liquid crystal panel. The display of the image is recognized as visual information by contrast based on the difference in light transmission at this time. In the above liquid crystal display 30,
An image can be displayed by transmitting the light through the liquid crystal panel 31 and giving a contrast to a portion of the liquid crystal panel 31 where light is transmitted and a portion where light is not transmitted.
【００５７】図４は、本発明の反射防止材料１０を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図４に
おいて、液晶パネル４１は、２枚のガラス基板４３、４
４及びその間に介在するネマチック液晶４５と、ガラス
基板４３，４４の外側に位置する粗面化層を有しない上
部の偏光フィルム４６、粗面化層を有しない下部の偏光
フィルム４７及び該上部の偏光フィルム４６の上に積層
された反射防止材料１０より構成されている。また、液
晶表示体４０は、液晶パネル４１とその下面に位置する
背面光源３２を積層して形成されている。FIG. 4 is a sectional view showing the structure of another liquid crystal display using the antireflection material 10 of the present invention. In FIG. 4, the liquid crystal panel 41 has two glass substrates 43, 4
4, a nematic liquid crystal 45 interposed therebetween, an upper polarizing film 46 having no roughening layer, a lower polarizing film 47 having no roughening layer, and a lower polarizing film 47 located outside the glass substrates 43 and 44. It is composed of an antireflection material 10 laminated on a polarizing film 46. The liquid crystal display 40 is formed by laminating a liquid crystal panel 41 and a back light source 32 located on the lower surface thereof.
【００５８】[0058]
【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において、「部」は「重量部」を
意味するものとする。 ＜実施例１＞まず、架橋アクリルビーズとトルエンの混
合物をサンドミルにて３０分間分散することによって得
られた下記分散液と、下記ベース塗料をディスパーにて
１５分間撹拌、混合した塗料を、膜厚８０μｍ、透過率
９２％からなる透明基体であるけん化ＴＡＣの片面上
に、リバースコーティング方式にて塗布し、１００℃で
２分間乾燥後、ＵＶランプ出力１２０ｗ／ｃｍの集光型
高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離（ランプ中心から塗
工面までの距離）１０ｃｍ、処理速度（塗工基体側のＵ
Ｖランプに対する速度）５ｍ／分でＵＶ照射を行い、塗
工膜を硬化させた。このようにして、厚さ２．５μｍ、
ＨＡＺＥ値１６．５、屈折率１．５３の粗面化層を形成
した。The present invention will be described in more detail by way of examples. In the following description, “parts” means “parts by weight”. <Example 1> First, the following dispersion obtained by dispersing a mixture of cross-linked acrylic beads and toluene in a sand mill for 30 minutes, and the following base coating were stirred for 15 minutes with a disper, and the mixed coating was coated to a film thickness. One side of a saponified TAC, which is a transparent substrate having a transmittance of 80 μm and a transmittance of 92%, is applied by a reverse coating method, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then a condensing high pressure mercury lamp having a UV lamp output of 120 w / cm is used. The irradiation distance (distance from the center of the lamp to the coated surface) was 10 cm, and the processing speed (U on the coated substrate side) was used.
UV irradiation was performed at a speed of 5 m / min (speed with respect to a V lamp) to cure the coating film. Thus, a thickness of 2.5 μm,
A roughened layer having a HAZE value of 16.5 and a refractive index of 1.53 was formed.
【００５９】その後、下記配合からなる高屈折率層塗料
を前記粗面化層上にリバースグラビアコーティングによ
り塗布し、１００℃で２分間乾燥後、ＵＶランプ出力１
２０ｗ／ｃｍの集光型高圧水銀灯１灯を用いて、照射距
離（ランプ中心から塗工面までの距離）１０ｃｍ、処理
速度（塗工基体側のＵＶランプに対する速度）５ｍ／分
でＵＶ照射を行い、塗工膜を硬化させた。厚さが０．１
μｍ、屈折率１．７０の高屈折率層を形成した。Thereafter, a high-refractive-index layer paint having the following composition was applied to the surface-roughened layer by reverse gravure coating, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then output with a UV lamp of 1
Using one 20 w / cm condensing high pressure mercury lamp, UV irradiation was performed at an irradiation distance (distance from the lamp center to the coating surface) of 10 cm and a processing speed (speed of the coating substrate side relative to the UV lamp) of 5 m / min. Then, the coating film was cured. Thickness 0.1
A high refractive index layer having a thickness of μm and a refractive index of 1.70 was formed.
【００６０】次に、下記配合からなる低屈折率層塗料を
前記高屈折率層上にリバースグラビアコーティングによ
り塗布し、１２０℃で６時間乾燥キュアーして、厚さが
０．１μｍ、屈折率１．３８の表面層を形成して本発明
の反射防止材料を得た。Next, a low-refractive-index layer paint having the following composition was applied onto the high-refractive-index layer by reverse gravure coating, and dried and cured at 120 ° C. for 6 hours to have a thickness of 0.1 μm and a refractive index of 1 μm. .38 to form an antireflective material of the present invention.
【００６１】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ９部 (商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン ２１０部[Blending of dispersion] 9 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX150, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 210 parts of toluene
【００６２】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ジペンタエリスリトールトリアクリレート ４５部 ・エポキシ系化合物 ４５部 （商品名：セロキサイト２０２１、ダイセル化学工業社製） ・下記化学式の光カチオン重合開始剤 ２部[Blending of base paint] 45 parts of acrylic compound dipentaerythritol triacrylate 45 parts of epoxy compound (trade name: celloxite 2021, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 2 parts of cationic photopolymerization initiator represented by the following chemical formula
【００６３】[0063]
【化３】 Embedded image
【００６４】 ・イソプロピルアルコール ５部 [高屈折率層塗料の配合] ・ＵＶモノマー ５０部 （商品名：ＭＰＧ 住友精化社製） ・光カチオン重合開始剤 １部 （商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製） ・ＩＴＯ ３０部 ・分散剤 ３部 （商品名：ＰＣ３０ 日清製油社製） ・ＭＩＢＫ ３２０部 ・トルエン ３２０部 [低屈折率層塗料の配合] ・シリカゾル １０部 （粒子径１５ｎｍでＳｉＯ2として３０重量％のシリカ粒子を含有するエタノ ール分散液） ・被膜形成剤 １５部 （テトラエトキシシランの加水分解物：ＳｉＯ2として計算して固形分濃度６ ％） ・溶剤：エタノール ５３部・ Isopropyl alcohol 5 parts [Blending of high refractive index layer paint] ・ UV monomer 50 parts (trade name: MPG manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) ・ Photocationic polymerization initiator 1 part (trade name: MPI03, Midori Kagaku Co., Ltd.)・ 30 parts of ITO ・ 3 parts of dispersant (trade name: PC30 manufactured by Nisshin Oil Co., Ltd.) ・ 320 parts of MIBK ・ 320 parts of toluene [Blending of low refractive index layer paint] ・ 10 parts of silica sol (SiO 2 with a particle diameter of 15 nm) Ethanol dispersion containing 30% by weight of silica particles) Film-forming agent 15 parts (Hydrolysate of tetraethoxysilane: calculated as SiO 2 , solid content concentration 6%) Solvent: Ethanol 53 parts
【００６５】＜実施例２＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値２２．０、屈折率１．５５の粗面化層を有する
反射防止材料を得た。Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that the composition of the surface-roughened layer was changed as follows.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 22.0 and a refractive index of 1.55 was obtained.
【００６６】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ４部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン ２０５部[Blending of dispersion] 4 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 205 parts of toluene
【００６７】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ４５部 （トリペンタエリスリトールポリアクリレート） ・エポキシ系化合物 ４５部 （商品名：サイラキュアＵＶＲ−６１１０、ユニオンカーバイド（株）社製） ・光カチオン重合開始剤 ２部 （商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド（株）社製） ・イソプロピルアルコール ５部[Blending of base paint] 45 parts of acrylic compound (tripentaerythritol polyacrylate) 45 parts of epoxy compound (trade name: Cyracure UVR-6110, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) 2 parts (trade name: Cyracure UVI-6990, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) ・ 5 parts of isopropyl alcohol
【００６８】＜実施例３＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１３．０、屈折率１．５４の粗面化層を有する
反射防止材料を得た。Example 3 The procedure of Example 1 was repeated, except that the composition of the surface-roughened layer was changed as follows.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 13.0 and a refractive index of 1.54 was obtained.
【００６９】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ (商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ３部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ３部 ・トルエン ２１０部[Blending of Dispersion] Crosslinked acrylic beads (trade name: MX150, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 3 parts (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0. 5, Soken Chemical Co., Ltd.) 3 parts ・ Toluene 210 parts
【００７０】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 テトラジペンタエリスリトールポリアクリレート １５部 ネオペンチルグリコールジアクリレート ３０部 ・エポキシ系化合物 ４５部 （商品名：エピコート８２８、油化シェルエポキシ社製） ・光カチオン重合開始剤 ２部 （商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド社製） ・イソプロピルアルコール ５部[Blending of base paint] ・ Acrylic compound: tetradipentaerythritol polyacrylate: 15 parts Neopentyl glycol diacrylate: 30 parts ・ Epoxy compound: 45 parts (trade name: Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co.) Cationic polymerization initiator 2 parts (trade name: Cyracure UVI-6990, manufactured by Union Carbide) 5 parts of isopropyl alcohol
【００７１】＜実施例４＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値９．０、屈折率１．５４の粗面化層を有する反
射防止材料を得た。Example 4 The procedure of Example 1 was repeated, except that the composition of the surface-roughened layer was changed as follows.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 9.0 and a refractive index of 1.54 was obtained.
【００７２】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ （商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製） ３部 （商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製） ３部 ・トルエン ２１０部[Blending of Dispersion] Crosslinked acrylic beads (trade name: MX150, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 3 parts (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0. 5, Soken Chemical Co., Ltd.) 3 parts ・ Toluene 210 parts
【００７３】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ジペンタエリスリトールポリアクリレート １５部 トリペンタエリスリトールポリアクリレート ３０部 ・エポキシ系化合物 ４５部 （商品名：ラピキュアＤＶＥ−３、ＩＳＰ社製） ・光カチオン重合開始剤 ２部 （商品名：ＢＢＩ−１０２、みどり化学社製） ・イソプロピルアルコール ５部[Blending of base paint]-Acrylic compound 15 parts of dipentaerythritol polyacrylate 30 parts of tripentaerythritol polyacrylate-45 parts of epoxy compound (trade name: Lapicure DVE-3, manufactured by ISP)-Photocationic polymerization Initiator 2 parts (trade name: BBI-102, manufactured by Midori Kagaku) ・ Isopropyl alcohol 5 parts
【００７４】＜実施例５＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ２．５μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値６．７、屈折率１．５３の粗面化層を有する反
射防止材料を得た。Example 5 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the composition of the roughened layer was changed as follows, and the thickness was 2.5 μm.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 6.7 and a refractive index of 1.53 was obtained.
【００７５】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ３部 （商品名：ＭＸ３００、粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製） ・トルエン ２１０部[Blending of Dispersion] 3 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 210 parts of toluene
【００７６】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 １，６ヘキサンジオールジメタクリレート ２０部 ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ３０部 ・エポキシ化合物 ４５部 （商品名：エポライト４０Ｅ 共栄社化学社製） ・光カチオン重合開始剤 ２部 （商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製） ・イソプロピルアルコール ５部 ＜実施例６＞高屈折率層の成分を下記に変更した以外は
実施例１と同様にして、厚さ０．１μｍ、屈折率１．９
６を有する反射防止材料を得た。 [高屈折率層塗料の配合] ・ＵＶモノマー ５０部 （商品名：ＭＰＧ 住友精化社製） ・光カチオン重合開始剤 １部 （商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製） ・ＴｉＯ2 ３０部 ・分散剤 ３部 （商品名：ＰＣ３０ 日清製油社製） ・ＭＩＢＫ ３２０部 ・トルエン ３２０部 ＜実施例７＞低屈折率層を以下のようにして設けた以外
は実施例６と同様にして、本発明の反射防止材料を得
た。 低屈折率層の形成：ＳｉＯ2をスパッタリング法によ
り、層厚０．１μｍになるように高屈折率層上に設け
た。この実施例の低屈折率層の屈折率は１．４５であっ
た。[Blending of base paint]-Acrylic compound 1,6 hexanediol dimethacrylate 20 parts Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate 30 parts-Epoxy compound 45 parts (trade name: Epolite 40E manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)-Photocation 2 parts of polymerization initiator (trade name: MPI03, manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.) 5 parts of isopropyl alcohol <Example 6> A thickness of 0 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the components of the high refractive index layer were changed as follows. .1 μm, refractive index 1.9
6 was obtained. [Blend of high refractive index layer paint] ・ 50 parts of UV monomer (trade name: MPG, manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) ・ 1 part of cationic photopolymerization initiator (trade name: MPI03, manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.) ・ 30 parts of TiO 2・3 parts of dispersant (trade name: PC30 manufactured by Nisshin Oil Co., Ltd.) 320 parts of MIBK 320 parts of toluene <Example 7> In the same manner as in Example 6 except that the low refractive index layer was provided as follows, The antireflection material of the present invention was obtained. Formation of low-refractive-index layer: SiO 2 was provided on the high-refractive-index layer by a sputtering method so as to have a layer thickness of 0.1 μm. The refractive index of the low refractive index layer of this example was 1.45.
【００７７】（比較例１）粗面化層の成分を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ３．６μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１１．０、屈折率１．５１の粗面化層を有する
反射防止材料を得た。Comparative Example 1 A film having a thickness of 3.6 μm and a thickness of 3.6 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the components of the roughened layer were changed as follows.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 11.0 and a refractive index of 1.51 was obtained.
【００７８】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ３部 (商品名：ＭＸ３００ 粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン ２００部[Blending of dispersion] 3 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 200 parts of toluene
【００７９】 [ベース塗料の配合] ・アクリレート系化合物 ジペンタエリスリトールポリアクリレート ５０部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０部 ヒドロキシエチルアクリレート ２２部 ・ラジカル系光重合開始剤 ５部 （商品名：イルガキュア １８４、チバガイギー社製） ・イソプロピルアルコール ５０部[Blending of base paint] ・ Acrylate compound Dipentaerythritol polyacrylate 50 parts Pentaerythritol tetraacrylate 20 parts Hydroxyethyl acrylate 22 parts ・ Radical photopolymerization initiator 5 parts (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy)・ 50 parts of isopropyl alcohol
【００８０】（比較例２）厚さ８０μｍ、透過率９２％
のＴＡＣをそのまま比較用の反射防止材料とした。(Comparative Example 2) Thickness 80 μm, transmittance 92%
Was used as an antireflection material for comparison.
【００８１】（比較例３）粗面化層の組成を以下に変更
した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．２μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１７．５、屈折率１．５４の粗面化層を有する
反射防止材料を得た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ６部 （商品名：ＭＲ−７Ｇ、綜研化学社製 粒径：０．５〜６．０μｍの範囲のもの ６０重量％ 粒径：６．０μｍを越えるもの ２５重量％） ・トルエン ２１０部Comparative Example 3 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the composition of the roughened layer was changed as follows, and the thickness was 4.2 μm.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 17.5 and a refractive index of 1.54 was obtained. [Blending of dispersion] Crosslinked acrylic beads 6 parts (trade name: MR-7G, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. Particle size: 0.5 to 6.0 μm 60% by weight Particle size: more than 6.0 μm・ 25 parts by weight of toluene
【００８２】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ４２部 ジペンタエリストリールトリアクリレート ・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２部 ・下記化学式の光カチオン重合開始剤 １０部[Blending of base paint]-Acrylic compound 42 parts Dipentaerythryl triacrylate-Trimethylolpropane triacrylate 42 parts-Photocationic polymerization initiator of the following chemical formula 10 parts
【００８３】[0083]
【化４】 Embedded image
【００８４】 ・イソプロピルアルコール ５部・ Isopropyl alcohol 5 parts
【００８５】（比較例４）粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例５と同様にして、厚さ３．０μｍ、Ｈ
ＡＺＥ値１３．０、屈折率１．５０の粗面化層を有する
反射防止剤を得た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ ２部 （商品名：ＭＸ３００、粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製） ・トルエン １００部Comparative Example 4 The procedure of Example 5 was repeated, except that the composition of the surface-roughened layer was changed as follows, and the thickness was 3.0 μm.
An antireflection agent having an AZE value of 13.0 and a roughened layer having a refractive index of 1.50 was obtained. [Blending of dispersion]-2 parts of cross-linked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 3.0 µm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)-100 parts of toluene
【００８６】 [ベース塗料の配合] ・ポリエステル系熱可塑性樹脂 ４０部 （商品名：バイロン２００、東洋紡社製） ・トルエン ７０部 ・ＭＥＫ １００部 （比較例５）実施例１の粗面化層まで設けたものを比較
用の反射防止材料とした。 （比較例６）粗面化層のフィラーの種類及び配合量を下
記の通りに変更し、かつ、高屈折率層を設けない以外
は、実施例１と同様にして、厚さ３．０μｍ、ＨＡＺＥ
値３５．０、屈折率１．５３の粗面化層を有する反射防
止材料を得た。 ・フィラー ２０部 （商品名：ＭＸ３００、粒子径３．０±０．５μｍ、綜研化学社製）[Blending of base paint] 40 parts of polyester-based thermoplastic resin (trade name: Byron 200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 70 parts of toluene 100 parts of MEK (Comparative Example 5) Up to the roughened layer of Example 1 The provided material was used as an antireflection material for comparison. (Comparative Example 6) Except that the kind and the compounding amount of the filler of the roughened layer were changed as described below, and that the high refractive index layer was not provided, the thickness was 3.0 µm, Haze
An antireflection material having a roughened layer having a value of 35.0 and a refractive index of 1.53 was obtained.・ 20 parts of filler (trade name: MX300, particle size 3.0 ± 0.5 μm, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
【００８７】実施例１〜７、比較例１〜６で得られた反
射防止材料１０を用いて図２に示される構成の偏光フィ
ルム２０を作製した。次いで、前記偏光フィルム２０
（図３では符号３６で示す）を図３に示されるようにガ
ラス基板３３に貼り付け、液晶表示体３０を得た。ま
た、比較例２で得られた反射防止材料１０に関しても、
粗面化処理をしていない偏光フィルムにけん化ＴＡＣ面
側が貼り合わせ面になるように粘着剤を介して貼り合わ
せた積層体を作製し、この積層体を図４に示されるよう
に偏光フィルム４６に貼り付け、液晶表示体４０を得
た。Using the anti-reflection material 10 obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 6, a polarizing film 20 having the structure shown in FIG. 2 was produced. Next, the polarizing film 20
(Indicated by reference numeral 36 in FIG. 3) was attached to the glass substrate 33 as shown in FIG. Further, regarding the antireflection material 10 obtained in Comparative Example 2,
A laminate was prepared by laminating a polarizing film that had not been subjected to a surface roughening treatment with an adhesive so that the saponified TAC surface side was the bonding surface, and this laminate was formed as shown in FIG. And a liquid crystal display 40 was obtained.
【００８８】なお、これらの各液晶表示体３０の画像サ
イズは例えば１０．４インチとし、解像度は例えば８０
０ドット×６００ドットとして、下記方法によって、画
像コントラスト、画像ギラツキ、防眩性、各項目につい
て、評価を行った。また、耐摩耗性（透明基体と粗面化
層との密着性）、耐薬品性の評価も下記方法に基づき行
った。The image size of each liquid crystal display 30 is, for example, 10.4 inches and the resolution is, for example, 80.
With 0 dots x 600 dots, the following methods were used to evaluate image contrast, image glare, and anti-glare properties. The abrasion resistance (adhesion between the transparent substrate and the roughened layer) and the chemical resistance were also evaluated based on the following methods.
【００８９】画像コントラストはＪＩＳ Ｃ７０７２
１９８８に於ける液晶表示パネルのコントラスト比（Ｃ
Ｒ）測定方法に準拠し、評価した。画像コントラストの
評価における光源６０−液晶パネル６１−測光器６２の
位置関係を図５に示す。この場合、光源６０と液晶パネ
ル６１との間は例えば１ｃｍ、液晶パネル６１と測光器
６２との間は例えば５０ｃｍ、測光器６２の開口角は例
えば５゜に設定した。なお、光源６０には５ＷのＥＬを
使用し、測光器６２にはミノルタカメラ社製のＬＳ−１
００を使用した。ＣＲが４以上の場合を◎、３以上、４
未満の場合を○、２以上〜３未満を△、２未満を×とし
た。The image contrast is JIS C7072.
1988, the contrast ratio of the liquid crystal display panel (C
R) It was evaluated according to the measuring method. FIG. 5 shows the positional relationship between the light source 60, the liquid crystal panel 61, and the photometer 62 in the evaluation of the image contrast. In this case, the distance between the light source 60 and the liquid crystal panel 61 was set to, for example, 1 cm, the distance between the liquid crystal panel 61 and the photometer 62 was set to, for example, 50 cm, and the aperture angle of the photometer 62 was set to, for example, 5 °. The light source 60 is a 5 W EL, and the photometer 62 is LS-1 manufactured by Minolta Camera.
00 was used. When CR is 4 or more, ◎, 3 or more, 4
In the case of less than ○, 2 or more and less than 3 were evaluated as Δ, and less than 2 was evaluated as ×.
【００９０】画像ギラツキについては、液晶表示体４０
をウィンドウズ、バージョン３．１のペイントブラシの
オープニング画面が表示できるようにパーソナルコンピ
ュータとの接続を行い、この白黒表示における画像ギラ
ツキの有無を任意の１０人の目視判定により評価した。
ギラツキを感じた人が３人未満の場合を○、３人以上、
７人未満の人がギラツキを感じた場合を△、７人以上が
ギラツキを感じた場合を×とした。Regarding the image glare, the liquid crystal display 40
Was connected to a personal computer so that the opening screen of a Windows, version 3.1 paint brush could be displayed, and the presence or absence of image glare in this monochrome display was evaluated by visual judgment of any 10 persons.
○ If less than 3 people felt glare, 3 or more,
A case where less than 7 people felt glare was rated as Δ, and a case where 7 or more people felt glare was rated as x.
【００９１】防眩性については、スガ試験機社製の写像
性測定器ＩＣＭ−１ＤＰ（ＪＩＳＫ７１０５）を使用
し、透過モードで、光学クシ幅２ｍｍにおける写像性を
測定した。なお、この測定試験では、測定データの数値
が小さいほど防眩性が高い。ここでは、５０％未満を
○、５０％以上、７０％未満を△、７０％以上を×とし
て評価した。表面反射率は、反射防止材料の表面層裏面
からの反射を防ぐために、裏面を日本スチールウール社
製のスチールウール＃００００で擦った後、黒マジック
で塗りつぶし、５゜の正反射を測定した。測定は、ＪＩ
Ｓ Ｚ８７０１に準拠し、波長範囲４００〜７００ｎｍ
のＣ光源によるＹ値の平均値を表面の反射率とした。良
好な反射防止効果を得るには、１．０％以下であること
が必要で、０．５％以下であれば特性はかなり良い。As for the antiglare property, the image clarity in an optical comb width of 2 mm was measured in a transmission mode using an image clarity measuring device ICM-1DP (JISK7105) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. In this measurement test, the smaller the numerical value of the measurement data, the higher the anti-glare property. Here, less than 50% was evaluated as ○, more than 50%, less than 70% as Δ, and more than 70% as X. In order to prevent reflection from the back surface of the surface layer of the anti-reflective material, the back surface was rubbed with steel wool # 0000 manufactured by Nippon Steel Wool Co., then painted with black magic, and the specular reflection at 5 ° was measured. The measurement is based on JI
SZ8701, wavelength range 400-700nm
The average value of the Y values by the C light source was defined as the surface reflectance. In order to obtain a good antireflection effect, the content needs to be 1.0% or less, and if it is 0.5% or less, the characteristics are quite good.
【００９２】密着性については、透明基体と粗面化層と
が密着しているかどうかを観察し、両者が密着している
場合を○、密着していない場合を×として評価した。な
お、この評価は、粗面化層を有しない比較例２は対象外
とした。また、実施例および比較例について耐摩耗性を
試験した。耐摩耗性の試験は、日本スチールウール社製
のスチールウール＃００００を板紙耐摩耗試験機（熊谷
理機工業社製）に取り付け、反射防止材料の低屈折率層
面（低屈折率層が形成されていない比較例は最表面層）
を荷重２００ｇにて５０回往復させた。その後、その部
分のＨＡＺＥ値の変化δＨ（下記計算に基づく）を東洋
精機社製ＨＡＺＥメーターで測定した。この測定試験で
は、測定値が大きいほど耐摩耗性が悪い。なお、ＨＡＺ
Ｅ値の測定は反射防止材料単体で行った。また、ＨＡＺ
Ｅ値変化δＨは、試験後のＨＡＺＥ値から試験前のＨＡ
ＺＥ値を除算して算出した。 ＨＡＺＥ値変化δＨ＝試験後のＨＡＺＥ値−試験前のＨ
ＡＺＥ値The adhesion was evaluated by observing whether or not the transparent substrate and the roughened layer were in close contact with each other. In this evaluation, Comparative Example 2 having no roughened layer was excluded. In addition, abrasion resistance was tested for the examples and comparative examples. In the wear resistance test, steel wool # 0000 manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd. was attached to a paperboard abrasion tester (manufactured by Kumagaya Riki Kogyo Co., Ltd.), and the low refractive index layer surface of the antireflective material (the low refractive index layer was formed). The comparative example that is not shown is the outermost layer)
Was reciprocated 50 times with a load of 200 g. Then, the change δH (based on the following calculation) of the HAZE value of that portion was measured with a Haze meter manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. In this measurement test, the larger the measured value, the worse the wear resistance. In addition, HAZ
The measurement of the E value was performed using the antireflection material alone. Also, HAZ
The E value change δH is calculated from the HAZE value after the test to the HA value before the test.
It was calculated by dividing the ZE value. HAZE value change δH = HAZE value after test-H before test
AZE value
【００９３】また、耐薬品性については、表面層をイソ
プロピルアルコールとアセトンを含ませた綿棒（ジョン
ソン社製）それぞれで、５０往復擦った後に、各層に剥
がれ等著しい変化があった場合を×、変化がない場合を
○、その中間を△として評価した。粗面化層の屈折率は
アッベ屈折率（アタゴ社製）で測定した。また、高屈折
率層及び低屈折率層の屈折率は、屈折率が既知のガラス
にスピンコートで各層それぞれ塗工したものを、エリプ
ソメーター（溝尻工業社製）にて測定した。The chemical resistance was evaluated as x when the surface layer was rubbed 50 times with a cotton swab (manufactured by Johnson Co.) containing isopropyl alcohol and acetone, and then the layers were significantly changed such as peeling. The case where there was no change was evaluated as ○, and the middle was evaluated as △. The refractive index of the roughened layer was measured by Abbe refractive index (manufactured by Atago). The refractive indices of the high refractive index layer and the low refractive index layer were measured by spin coating of glass having a known refractive index on each layer using an ellipsometer (manufactured by Mizojiri Kogyo KK).
【００９４】[0094]
【表１】 [Table 1]
【００９５】表１から明らかなように、粗面化層にエポ
キシ化合物と光カチオン重合開始剤を含有する実施例１
〜７では、透明基体と粗面化層の密着性に優れ、光学特
性、耐久性が良好であった。これに対して、比較例１〜
４では、粗面化層に実施例のような紫外線硬化型樹脂を
含まないために、全て透明基体と粗面化層との密着性が
悪くて剥離してしまい、耐摩耗性が得られないばかり
か、フィラーの分散が悪く、ギラツキの問題を生じたり
（比較例１及び３）、耐薬品性の問題を有する（比較例
３及び４）ものであった。また、比較例２は粗面化層が
ないため、防眩性に劣るものであった。さらに、比較例
５では、高屈折率層および低屈折率層を有していないた
めに反射率が高く、比較例６では、フィラーの含有率が
高く、しかも高屈折率層が設けられていないため、ＨＡ
ＺＥ値が大きく、また、画像コントラストが低下した。As is clear from Table 1, Example 1 in which the roughened layer contains an epoxy compound and a cationic photopolymerization initiator.
In Nos. To 7, the adhesion between the transparent substrate and the roughened layer was excellent, and the optical properties and durability were good. On the other hand, Comparative Examples 1 to
In No. 4, since the surface-roughened layer does not contain the ultraviolet-curable resin as in the example, the adhesiveness between the transparent substrate and the surface-roughened layer is poor, so that the substrate is peeled off, and no abrasion resistance is obtained. Not only that, the dispersion of the filler was poor, causing a glare problem (Comparative Examples 1 and 3) and a chemical resistance problem (Comparative Examples 3 and 4). Further, Comparative Example 2 was inferior in anti-glare properties because there was no roughened layer. Furthermore, Comparative Example 5 has a high reflectance because it has no high refractive index layer and low refractive index layer, and Comparative Example 6 has a high filler content and does not have a high refractive index layer. Because of HA
The ZE value was large, and the image contrast was low.
【００９６】[0096]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、デ
ィスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込み
を防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画像
コントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない
鮮明な画像を得ることができるとともに、光学的に安定
で優れた耐磨耗性、耐薬品性を示し、かつ、粗面化層の
密着に優れた反射防止材料と偏光フィルムを得ることが
できる。As described above, according to the present invention, excellent antireflection properties are exhibited by preventing the reflection of external light such as sunlight and fluorescent lights on the display, and the image contrast is reduced. Without any glare, it is possible to obtain a clear image without glare, optically stable, excellent abrasion resistance, chemical resistance, and with an anti-reflective material with excellent adhesion of the roughened layer A polarizing film can be obtained.
【図１】 本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of an antireflection material of the present invention.
【図２】 本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a polarizing film using the antireflection material of the present invention.
【図３】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display including a polarizing film using an antireflection material.
【図４】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing the configuration of another liquid crystal display including a polarizing film using an antireflection material.
【図５】 画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。FIG. 5 is a schematic view showing a layout of an image contrast measuring device.
１０…反射防止材料、１１…透明基体、１２…粗面化
層、２０…粗面化層付偏光フィルム、２１…透明基体、
２２…粗面化層、２３…表面層、２４…偏光基体、２５
…保護材、３０…液晶表示体、３１…液晶パネル、３２
…背面光源、３３，３４…ガラス基板、３３´，３４´
…透明電極面、３５…ネマチック液晶、３６…偏光フィ
ルム、４０…液晶表示体、４１…液晶パネル、４２…背
面光源、４３，４４…ガラス基板、４５…ネマチック液
晶、４６，４７…偏光フィルム、６０…光源、６１…液
晶パネル、６２…測光器。DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Anti-reflective material, 11 ... Transparent base, 12 ... Roughened layer, 20 ... Polarized film with a roughened layer, 21 ... Transparent base,
22: roughened layer, 23: surface layer, 24: polarizing substrate, 25
... Protective material, 30 ... Liquid crystal display, 31 ... Liquid crystal panel, 32
... Back light source, 33, 34 ... Glass substrate, 33 ', 34'
... Transparent electrode surface, 35 ... Nematic liquid crystal, 36 ... Polarizing film, 40 ... Liquid crystal display, 41 ... Liquid crystal panel, 42 ... Back light source, 43,44 ... Glass substrate, 45 ... Nematic liquid crystal, 46,47 ... Polarizing film, Reference numeral 60 denotes a light source, 61 denotes a liquid crystal panel, and 62 denotes a photometer.
Claims (4)
とも粗面化層、表面層を順次設けた反射防止材料におい
て、前記表面層は、前記粗面化層側の高屈折率層と、こ
の高屈折率層よりも屈折率が小さい表面側の低屈折率層
とを有し、前記粗面化層はエポキシ化合物と光カチオン
重合開始剤を含有する紫外線硬化型樹脂を含むことを特
徴とする反射防止材料。1. An anti-reflective material comprising a transparent substrate provided with at least a roughening layer and a surface layer on one or both surfaces in that order, wherein the surface layer comprises a high refractive index layer on the side of the roughening layer, A reflection layer having a lower refractive index layer on the surface side having a smaller refractive index than the refractive index layer, wherein the roughened layer contains an ultraviolet curable resin containing an epoxy compound and a cationic photopolymerization initiator. Prevention material.
化層上に設け、前記低屈折率層を気相法により前記高屈
折率層上に設けたことを特徴とする請求項１に記載の反
射防止材料。2. The high refractive index layer is provided on the roughened layer by a coating method, and the low refractive index layer is provided on the high refractive index layer by a gas phase method. 2. The antireflective material according to 1.
前記球状フィラーの粒子径Ｄは、０．５μｍ≦Ｄ≦６．
０μｍの範囲の粒子が６０重量％以上、６．０μｍ＜Ｄ
≦１０．０μｍの範囲の粒子が２０重量％未満、１０．
０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲の粒子が５重量％以
下、さらに、１５μｍより大きい粒子が１．０重量％以
下である粒度分布を有すことを特徴とする請求項１また
は２に記載の反射防止材料。3. The roughened layer contains a spherical filler,
The particle diameter D of the spherical filler is 0.5 μm ≦ D ≦ 6.
60% by weight or more of particles in the range of 0 μm, 6.0 μm <D
9. less than 20% by weight of particles in the range of ≦ 10.0 μm;
The particles according to claim 1 or 2, wherein particles having a range of 0 µm <D ≤ 15.0 µm have a particle size distribution of 5% by weight or less, and particles having a particle size of more than 15 µm have a particle size distribution of 1.0% by weight or less. Anti-reflective material.
止材料の前記透明基体の前記粗面化層および前記表面層
が設けられていない他方の面に、偏光基体を介して保護
材を積層したことを特徴とする偏光フィルム。4. A protective material of the anti-reflection material according to claim 1, on the other surface of the transparent substrate on which the roughening layer and the surface layer are not provided, via a polarizing substrate. A polarizing film characterized by laminating.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9364126A JPH11183711A (en) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | Antireflection material and polarizing film using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP9364126A JPH11183711A (en) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | Antireflection material and polarizing film using the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11183711A true JPH11183711A (en) | 1999-07-09 |
Family
ID=18481037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9364126A Pending JPH11183711A (en) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | Antireflection material and polarizing film using the same |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JPH11183711A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001100043A (en) * | 1999-09-30 | 2001-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Polarizing plate |
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| JP2008517306A (en) * | 2004-09-29 | 2008-05-22 | インダストリアル テクノロジー リサーチ インスティチュート | Antistatic layer for electrically modulated displays |
| US7781028B2 (en) | 2001-03-13 | 2010-08-24 | Riken | Thin film materials of amorphous metal oxides |
| JP2010244016A (en) * | 2009-03-18 | 2010-10-28 | Toppan Printing Co Ltd | Anti-glare film, polarizing plate and transmission type liquid crystal display |
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1997
- 1997-12-17 JP JP9364126A patent/JPH11183711A/en active Pending
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