JPH11143051A - フォトマスク作画装置及び方法 - Google Patents
フォトマスク作画装置及び方法Info
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- JPH11143051A JPH11143051A JP31018997A JP31018997A JPH11143051A JP H11143051 A JPH11143051 A JP H11143051A JP 31018997 A JP31018997 A JP 31018997A JP 31018997 A JP31018997 A JP 31018997A JP H11143051 A JPH11143051 A JP H11143051A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フォトマスクを作画する場合において、使用
される工程の環境に起因する寸法伸縮による寸法精度悪
化を防ぐ。 【解決手段】 データ入力部１に登録される作画データ
に、使用される工程を表す属性情報を付加する。そし
て、作画室とフォトマスクが使用される工程の温湿度を
パラメータ記憶部７から読み取り、スケールファクタ演
算部２で最適のスケールファクタを算出する。さらに、
作画データスケール補正部３にて、作画データに、スケ
ールファクタ演算部２で算出されたスケールファクタを
乗じ、データ処理部４にて、作画データをフォーマット
変換して作画機械制御部５に供給し、作画機械制御部５
の制御により、作画機械部６にて最適な寸法精度を有す
るフォトマスクが作画される。
される工程の環境に起因する寸法伸縮による寸法精度悪
化を防ぐ。 【解決手段】 データ入力部１に登録される作画データ
に、使用される工程を表す属性情報を付加する。そし
て、作画室とフォトマスクが使用される工程の温湿度を
パラメータ記憶部７から読み取り、スケールファクタ演
算部２で最適のスケールファクタを算出する。さらに、
作画データスケール補正部３にて、作画データに、スケ
ールファクタ演算部２で算出されたスケールファクタを
乗じ、データ処理部４にて、作画データをフォーマット
変換して作画機械制御部５に供給し、作画機械制御部５
の制御により、作画機械部６にて最適な寸法精度を有す
るフォトマスクが作画される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトマスクの作
画技術に係り、特に、ＣＡＤ（computer aided design
）等を用いて設計された、印刷配線板等のＣＡＤデー
タ（作画データ）から、印刷配線板等のフォトマスクを
描画（作画）するフォトマスク作画装置及び方法に関す
る。
画技術に係り、特に、ＣＡＤ（computer aided design
）等を用いて設計された、印刷配線板等のＣＡＤデー
タ（作画データ）から、印刷配線板等のフォトマスクを
描画（作画）するフォトマスク作画装置及び方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来におけるフォトマスク作画
装置の構成の一例を示すブロック図である。
装置の構成の一例を示すブロック図である。
【０００３】図４における従来のフォトマスク作画装置
は、作画データを入力するデータ入力部１１と、作画デ
ータを変換するデータ処理部１４と、データ処理部１４
に入力されたデータにスケールを乗じて補正するととも
に、フォーマット変換を行う作画データスケール補正部
１３と、印刷配線板用フォトマスクを作画する作画機械
部１６と、作画データスケール補正部１３により変換さ
れた入力データに基づき作画機械部６を制御する作画機
械制御部１５とにより構成される。
は、作画データを入力するデータ入力部１１と、作画デ
ータを変換するデータ処理部１４と、データ処理部１４
に入力されたデータにスケールを乗じて補正するととも
に、フォーマット変換を行う作画データスケール補正部
１３と、印刷配線板用フォトマスクを作画する作画機械
部１６と、作画データスケール補正部１３により変換さ
れた入力データに基づき作画機械部６を制御する作画機
械制御部１５とにより構成される。
【０００４】従来におけるフォトマスク作画装置では、
例えば、作画を開始する前に、作画装置（作画機械部１
６）が設置されている周囲の環境変化に応じた所定のス
ケール値（例えば×１．０００４）が、作業者により、
作画データスケール補正部１３に設けられた図示しない
キーボード等の入力手段から、補正部１３の内部に設け
られたメモリ等の記憶手段に登録される。
例えば、作画を開始する前に、作画装置（作画機械部１
６）が設置されている周囲の環境変化に応じた所定のス
ケール値（例えば×１．０００４）が、作業者により、
作画データスケール補正部１３に設けられた図示しない
キーボード等の入力手段から、補正部１３の内部に設け
られたメモリ等の記憶手段に登録される。
【０００５】これにより、データ入力部１１より入力さ
れた作画データは、データ処理部１４を介して作画デー
タスケール補正部１３に供給され、作画データスケール
補正部１３にて、作画データにスケール値を乗じて補正
され、さらに、作画データを作画機械制御部５の受け取
り易いフォーマットに変換されて、データ処理部１４を
介して作画機械制御部５に供給される。そして、作画機
械制御部５により作画機械部６が制御され、任意の縮尺
のフォトマスクが作画される。
れた作画データは、データ処理部１４を介して作画デー
タスケール補正部１３に供給され、作画データスケール
補正部１３にて、作画データにスケール値を乗じて補正
され、さらに、作画データを作画機械制御部５の受け取
り易いフォーマットに変換されて、データ処理部１４を
介して作画機械制御部５に供給される。そして、作画機
械制御部５により作画機械部６が制御され、任意の縮尺
のフォトマスクが作画される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術によるフォトマスク装置では、フォトマスクが
作画される工程における環境に対して、フォトマスクが
実際に使用される工程における環境については、何ら考
慮がなされていないため、ＣＡＤ等を用いてフォトマス
クを作画した時点では正確な寸法精度を維持していて
も、前述の実際にフォトマスクを使用する工程における
環境において、フォトマスクに伸縮が生じてしまうとい
う問題があった。
来の技術によるフォトマスク装置では、フォトマスクが
作画される工程における環境に対して、フォトマスクが
実際に使用される工程における環境については、何ら考
慮がなされていないため、ＣＡＤ等を用いてフォトマス
クを作画した時点では正確な寸法精度を維持していて
も、前述の実際にフォトマスクを使用する工程における
環境において、フォトマスクに伸縮が生じてしまうとい
う問題があった。
【０００７】また、従来のフォトマスク作画装置では、
作画装置が設置されている周囲の環境変化に応じた、所
定のスケール値のフォトマスク作画装置への入力は、作
業者（人手）により、キーボード等の入力手段を用いて
行われるため、入力ミスを起こす可能性があり、この場
合、間違ったスケール値による間違った寸法により作画
されたフォトマスクが作成されてしまうという問題（欠
点）があった。
作画装置が設置されている周囲の環境変化に応じた、所
定のスケール値のフォトマスク作画装置への入力は、作
業者（人手）により、キーボード等の入力手段を用いて
行われるため、入力ミスを起こす可能性があり、この場
合、間違ったスケール値による間違った寸法により作画
されたフォトマスクが作成されてしまうという問題（欠
点）があった。
【０００８】そこで、本発明の目的は、前記問題点に鑑
みてなされたものであって、フォトマスクを作画する環
境と、実際にフォトマスクが使用される環境との温湿度
差を考慮して、スケール値を決定することにより、フォ
トマスクが使用される工程で最適の寸法精度を達成し得
るフォトマスク作画装置を提供することにある。
みてなされたものであって、フォトマスクを作画する環
境と、実際にフォトマスクが使用される環境との温湿度
差を考慮して、スケール値を決定することにより、フォ
トマスクが使用される工程で最適の寸法精度を達成し得
るフォトマスク作画装置を提供することにある。
【０００９】さらに、本発明の他の目的は、フォトマス
ク作画の際のスケール値を自動的に設定可能とすること
により、人手によるインプットミスを無くし信頼性の向
上を図ったフォトマスク作画装置を提供することにあ
る。
ク作画の際のスケール値を自動的に設定可能とすること
により、人手によるインプットミスを無くし信頼性の向
上を図ったフォトマスク作画装置を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、印刷配線板の作画データを読み込むデー
タ入力部と、作画室及び作画されたフォトマスクが使用
される各製造工程の温湿度等の各種のパラメータを格納
するパラメータ記憶部と、前記パラメータ記憶部より前
記パラメータを読み取り、前記作画室及び作画されたフ
ォトマスクが使用される各製造工程の温湿度から求まる
温湿度差により、最適なスケールファクタを算出するス
ケールファクタ演算部と、前記スケールファクタ演算部
にて算出されたスケールファクタを前記作画データに乗
じるデータスケール補正部と、前記データスケール補正
部にて処理された作画データに基づき、前記フォトマス
クを作画するための制御信号を出力する出力する作画機
制御部と、前記作画機制御部より出力された制御信号に
基づいてフォトマスクを作画する作画機械部と、を備え
て構成されることを特徴とするものである。
め、本発明は、印刷配線板の作画データを読み込むデー
タ入力部と、作画室及び作画されたフォトマスクが使用
される各製造工程の温湿度等の各種のパラメータを格納
するパラメータ記憶部と、前記パラメータ記憶部より前
記パラメータを読み取り、前記作画室及び作画されたフ
ォトマスクが使用される各製造工程の温湿度から求まる
温湿度差により、最適なスケールファクタを算出するス
ケールファクタ演算部と、前記スケールファクタ演算部
にて算出されたスケールファクタを前記作画データに乗
じるデータスケール補正部と、前記データスケール補正
部にて処理された作画データに基づき、前記フォトマス
クを作画するための制御信号を出力する出力する作画機
制御部と、前記作画機制御部より出力された制御信号に
基づいてフォトマスクを作画する作画機械部と、を備え
て構成されることを特徴とするものである。
【００１１】また、本発明は、印刷配線板の作画データ
を読み込む工程と、作画室及び作画されたフォトマスク
が使用される各製造工程の温湿度等の各種のパラメータ
を記憶手段に格納する工程と、前記格納されたパラメー
タを読み取り、前記作画室及び作画されたフォトマスク
が使用される各製造工程の温湿度から求まる温湿度差に
より、最適なスケールファクタを算出する工程と、前記
算出されたスケールファクタを前記作画データに乗じる
工程と、前記スケールファクタを乗算された作画データ
に基づき、前記フォトマスクを作画するための制御信号
を出力し、前記制御信号に基づいてフォトマスクを作画
する工程と、を備えたことを特徴とするものである。
を読み込む工程と、作画室及び作画されたフォトマスク
が使用される各製造工程の温湿度等の各種のパラメータ
を記憶手段に格納する工程と、前記格納されたパラメー
タを読み取り、前記作画室及び作画されたフォトマスク
が使用される各製造工程の温湿度から求まる温湿度差に
より、最適なスケールファクタを算出する工程と、前記
算出されたスケールファクタを前記作画データに乗じる
工程と、前記スケールファクタを乗算された作画データ
に基づき、前記フォトマスクを作画するための制御信号
を出力し、前記制御信号に基づいてフォトマスクを作画
する工程と、を備えたことを特徴とするものである。
【００１２】上記記載の発明によれば、スケールファク
タ演算部は、データ入力部に登録されたフォトマスクデ
ータに含まれる製造工程を明示する属性情報と、パラメ
ータ記憶部に登録された作画室の温湿度や各製造工程の
温湿度、さらにはフォトマスクに使用されるフィルムの
温湿度に対する伸縮係数から作画時点のスケールファク
タを算出・登録する。また、作画データスケール補正部
は、演算されたスケールファクタをフォトマスクデータ
に乗じて登録する。データ処理部は、スケールファクタ
を乗じられたフォトマスクデータを作画機械制御部の受
け取り易いフォーマットに変換して作画機械制御部に引
き渡す。最後に作画機械部は、フォーマット変換された
フォトマスクデータを作画機か制御部のコントロールの
基でフィルム上に描画する。これにより、本発明におけ
るフォトマスは、フォトマスクが用いられる各工程にお
いて、常に最適の寸法精度を維持することができる。
タ演算部は、データ入力部に登録されたフォトマスクデ
ータに含まれる製造工程を明示する属性情報と、パラメ
ータ記憶部に登録された作画室の温湿度や各製造工程の
温湿度、さらにはフォトマスクに使用されるフィルムの
温湿度に対する伸縮係数から作画時点のスケールファク
タを算出・登録する。また、作画データスケール補正部
は、演算されたスケールファクタをフォトマスクデータ
に乗じて登録する。データ処理部は、スケールファクタ
を乗じられたフォトマスクデータを作画機械制御部の受
け取り易いフォーマットに変換して作画機械制御部に引
き渡す。最後に作画機械部は、フォーマット変換された
フォトマスクデータを作画機か制御部のコントロールの
基でフィルム上に描画する。これにより、本発明におけ
るフォトマスは、フォトマスクが用いられる各工程にお
いて、常に最適の寸法精度を維持することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
て図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】図１は本発明におけるフォトマスク作画装
置の実施の形態を示すブロック図である。
置の実施の形態を示すブロック図である。
【００１５】図１に示す本発明の、コンピュータ支援に
より処理を行う、フォトマスク作画装置は、媒体読取り
装置，ＣＲＴ表示装置，キーボード，及びマウスを含む
データ入力部１と、ディジタルコンピュータで構成され
るスケールファクタ演算部２と、作画データスケール補
正部３と、データ処理部４と、ディジタルコンピュー
タ，オンライン回線等で構成される作画機械制御部５
と、レーザー発信装置やフィルム保持機構等で構成され
る作画機械部６により構成される。
より処理を行う、フォトマスク作画装置は、媒体読取り
装置，ＣＲＴ表示装置，キーボード，及びマウスを含む
データ入力部１と、ディジタルコンピュータで構成され
るスケールファクタ演算部２と、作画データスケール補
正部３と、データ処理部４と、ディジタルコンピュー
タ，オンライン回線等で構成される作画機械制御部５
と、レーザー発信装置やフィルム保持機構等で構成され
る作画機械部６により構成される。
【００１６】データ入力部１は、製造工程を明示する属
性情報を含む印刷配線板の作画データを読み込み記憶す
るものであり、スケールファクタ演算部２は、フォトマ
スク材料の温湿度伸縮係数を記憶しており、製造工程を
明示する属性情報からパラメータ記憶部７に記憶されて
いる作画室や印刷配線板製造工程の温湿度を抽出し、作
画時点での最適スケールファクタを算出するものであ
り、作画データスケール補正部３は、スケールファクタ
演算部２で算出されたスケールファクタデータ入力部１
に登録された作画データに乗じ登録するものである。
性情報を含む印刷配線板の作画データを読み込み記憶す
るものであり、スケールファクタ演算部２は、フォトマ
スク材料の温湿度伸縮係数を記憶しており、製造工程を
明示する属性情報からパラメータ記憶部７に記憶されて
いる作画室や印刷配線板製造工程の温湿度を抽出し、作
画時点での最適スケールファクタを算出するものであ
り、作画データスケール補正部３は、スケールファクタ
演算部２で算出されたスケールファクタデータ入力部１
に登録された作画データに乗じ登録するものである。
【００１７】また、データ処理部４は、作画データスケ
ール補正部３に登録された作画データを作画機械制御部
５が受け取り易いフォーマットに変換するものであり、
作画機械制御部５は、データ処理部４でフォーマット変
換された作画データをフォトマスク材料のフィルムに作
画するための作画機をコントロールするものであり、作
画機械部６は、データ処理部４で変換された作画データ
を作画機械制御部５からの指示に基づいて、フォトマス
ク材料のフィルム上に実際に作画するものである。
ール補正部３に登録された作画データを作画機械制御部
５が受け取り易いフォーマットに変換するものであり、
作画機械制御部５は、データ処理部４でフォーマット変
換された作画データをフォトマスク材料のフィルムに作
画するための作画機をコントロールするものであり、作
画機械部６は、データ処理部４で変換された作画データ
を作画機械制御部５からの指示に基づいて、フォトマス
ク材料のフィルム上に実際に作画するものである。
【００１８】さらに、データ入力部１は、印刷配線板製
造に必要な各工程毎のフォトマスク用の作画データを読
み込む。ＣＡＤ等により作成された作画データは、印刷
配線板製造工程を明示する属性情報を有している。スケ
ールファクタ演算部２は、パラメータ記憶部７に記憶さ
れている作画データの属性情報が示す工程の温湿度と作
画室の温湿度を読み出し、作画室と印刷配線板製造工程
の温湿度差を求め、あらかじめ登録してあるフォトマス
ク材料のポリエステルフィルムの温湿度伸縮係数を乗
じ、温湿度差による寸法伸縮量を算出し、印刷配線板製
造工程で最適の寸法精度を維持するためのスケールファ
クタを算出する。
造に必要な各工程毎のフォトマスク用の作画データを読
み込む。ＣＡＤ等により作成された作画データは、印刷
配線板製造工程を明示する属性情報を有している。スケ
ールファクタ演算部２は、パラメータ記憶部７に記憶さ
れている作画データの属性情報が示す工程の温湿度と作
画室の温湿度を読み出し、作画室と印刷配線板製造工程
の温湿度差を求め、あらかじめ登録してあるフォトマス
ク材料のポリエステルフィルムの温湿度伸縮係数を乗
じ、温湿度差による寸法伸縮量を算出し、印刷配線板製
造工程で最適の寸法精度を維持するためのスケールファ
クタを算出する。
【００１９】作画データスケール補正部３では、スケー
ルファクタ演算部２にて算出されたスケールファクタを
作画データに乗じて登録し、データ処理部４にて作画デ
ータを作画機が受け取り易いフォーマットに変換し、作
画機械制御部５にてフォトマスク材料のフィルムのハン
ドリングやレーザー発振等のスイッチングコントロール
を行い、作画機械部６にて実際にフィルム上にフォトマ
スクを作画する。
ルファクタ演算部２にて算出されたスケールファクタを
作画データに乗じて登録し、データ処理部４にて作画デ
ータを作画機が受け取り易いフォーマットに変換し、作
画機械制御部５にてフォトマスク材料のフィルムのハン
ドリングやレーザー発振等のスイッチングコントロール
を行い、作画機械部６にて実際にフィルム上にフォトマ
スクを作画する。
【００２０】次に、以上のように構成された、本発明の
動作について、図１及び図２を参照してに説明を行う。
尚、図２は、本発明の実施の形態の動作を説明するため
の流れ図である。
動作について、図１及び図２を参照してに説明を行う。
尚、図２は、本発明の実施の形態の動作を説明するため
の流れ図である。
【００２１】図２に示す如くに、本発明のフォトマスク
作画装置は、先ず、印刷配線板製造に必要な各種作画デ
ータを入力し（ステップ２１）、作画データ（ＣＡＤデ
ータ）に追加（付加）されている属性情報を読みとる
（ステップ２２）。属性情報とは、作画データを基に作
画されたフォトマスクが印刷配線板製造工程のどこの工
程で使用されるかを明確化するために付けられた工程識
別情報であり、データ入力部１により読み取られ、パラ
メータ記憶部７に記憶される。
作画装置は、先ず、印刷配線板製造に必要な各種作画デ
ータを入力し（ステップ２１）、作画データ（ＣＡＤデ
ータ）に追加（付加）されている属性情報を読みとる
（ステップ２２）。属性情報とは、作画データを基に作
画されたフォトマスクが印刷配線板製造工程のどこの工
程で使用されるかを明確化するために付けられた工程識
別情報であり、データ入力部１により読み取られ、パラ
メータ記憶部７に記憶される。
【００２２】次に、パラメータ記憶部７のパラメータフ
ァイルから、本発明のフォトマスク作画装置が設置して
ある作画室の温湿度、作画データに追加されている属性
情報が示す印刷配線板製造工程の温湿度が読み取られ
（ステップ２３）、作画室と属性情報が示す印刷配線板
製造工程間の温度差・湿度差を求め、あらかじめ登録さ
れている温湿度伸縮係数を乗じフィルム伸縮量を算出し
て作画時点のスケールファクタを決定する（ステップ２
４）。
ァイルから、本発明のフォトマスク作画装置が設置して
ある作画室の温湿度、作画データに追加されている属性
情報が示す印刷配線板製造工程の温湿度が読み取られ
（ステップ２３）、作画室と属性情報が示す印刷配線板
製造工程間の温度差・湿度差を求め、あらかじめ登録さ
れている温湿度伸縮係数を乗じフィルム伸縮量を算出し
て作画時点のスケールファクタを決定する（ステップ２
４）。
【００２３】次に、作画データにスケールファクタを乗
じ（ステップ２５）、スケールファクタの乗じられた作
画データを、作画機械制御部５が受け取り易いフォーマ
ットに変換して出力する（ステップ２６）。
じ（ステップ２５）、スケールファクタの乗じられた作
画データを、作画機械制御部５が受け取り易いフォーマ
ットに変換して出力する（ステップ２６）。
【００２４】そして最後に、作画機械制御部５にてフォ
トマスク材料のフィルムのハンドリングやレーザー発振
等のスイッチングコントロールが行われ、作画データを
基に作画機械部６にて、フィルム上にフォトマスクが作
画され一連のステップが終了する（ステップ２７）。
トマスク材料のフィルムのハンドリングやレーザー発振
等のスイッチングコントロールが行われ、作画データを
基に作画機械部６にて、フィルム上にフォトマスクが作
画され一連のステップが終了する（ステップ２７）。
【００２５】次に、上記の動作について、具体例（実際
のデータ等用い）を挙げながら、さらに詳細に説明す
る。
のデータ等用い）を挙げながら、さらに詳細に説明す
る。
【００２６】先ず、作画データ入力部１より、製造され
る印刷配線板の品名，版数，総層数，層面，並びに製造
工程識別のための属性情報の５項目をキーとしたフォト
マスク用の作画データを登録する（ステップ２１）。そ
して、ステップ２１で登録された作画データの製造工程
識別のための属性情報（例えば、回路形成工程を示す
“ＤＥ”やソルダーレジスト工程を示す“ＤＳ”等）を
読み取る（ステップ２２）。
る印刷配線板の品名，版数，総層数，層面，並びに製造
工程識別のための属性情報の５項目をキーとしたフォト
マスク用の作画データを登録する（ステップ２１）。そ
して、ステップ２１で登録された作画データの製造工程
識別のための属性情報（例えば、回路形成工程を示す
“ＤＥ”やソルダーレジスト工程を示す“ＤＳ”等）を
読み取る（ステップ２２）。
【００２７】次に、フォトマスクが必要な印刷配線板製
造の各工程の温湿度をそれぞれ個別にセンサでモニタリ
ングし、リアルタイムでメモリ上に記憶している、図１
のパラメータ記憶部７から、作画データに付加されてい
る製造工程識別のための属性情報が示す、印刷配線板製
造工程の温湿度（例えば、回路形成工程の温度＝２５
℃，湿度＝６０％ＲＨ）及びフォトマスク作画装置が設
置されている作画室の温湿度（例えば、温度＝２２．５
℃，湿度＝５３％ＲＨ）を読み取る（ステップ２３）。
造の各工程の温湿度をそれぞれ個別にセンサでモニタリ
ングし、リアルタイムでメモリ上に記憶している、図１
のパラメータ記憶部７から、作画データに付加されてい
る製造工程識別のための属性情報が示す、印刷配線板製
造工程の温湿度（例えば、回路形成工程の温度＝２５
℃，湿度＝６０％ＲＨ）及びフォトマスク作画装置が設
置されている作画室の温湿度（例えば、温度＝２２．５
℃，湿度＝５３％ＲＨ）を読み取る（ステップ２３）。
【００２８】そして、ステップ２３で読み取られた、印
刷配線板製造工程の温湿度と作画室の温湿度から、温湿
度差を算出し、あらかじめ登録してあるフォトマスク材
料であるポリエステルベースを支持体とし、ハロゲン化
銀（ＡｇＣｌ等）を感光材とするフィルムの温湿度に対
する伸縮係数（それぞれ１．７９×１０-5ｃｍ／ｃｍ／
℃，１．０３×１０-5ｃｍ／ｃｍ／％ＲＨ）を乗じ、印
刷配線板製造工程と作画室の温湿度差に起因するフォト
マスクフィルムの寸法伸縮量を算出し、フォトマスクを
使用する印刷配線板製造工程で最適の寸法値を維持する
ためのスケールファクタを算出する（ステップ２４）。
刷配線板製造工程の温湿度と作画室の温湿度から、温湿
度差を算出し、あらかじめ登録してあるフォトマスク材
料であるポリエステルベースを支持体とし、ハロゲン化
銀（ＡｇＣｌ等）を感光材とするフィルムの温湿度に対
する伸縮係数（それぞれ１．７９×１０-5ｃｍ／ｃｍ／
℃，１．０３×１０-5ｃｍ／ｃｍ／％ＲＨ）を乗じ、印
刷配線板製造工程と作画室の温湿度差に起因するフォト
マスクフィルムの寸法伸縮量を算出し、フォトマスクを
使用する印刷配線板製造工程で最適の寸法値を維持する
ためのスケールファクタを算出する（ステップ２４）。
【００２９】具体的算出方法の一例について、以下に記
す。即ち、回路形成工程において、フォトマスクの寸法
精度が理論値を欲せられているとした場合、作画室（温
度＝２２．５℃，湿度＝５３％ＲＨ）でシーズニング
（環境馴らし）されたＸｃｍ基長のフィルムは、回路形
成工程では、温度差の影響で、
す。即ち、回路形成工程において、フォトマスクの寸法
精度が理論値を欲せられているとした場合、作画室（温
度＝２２．５℃，湿度＝５３％ＲＨ）でシーズニング
（環境馴らし）されたＸｃｍ基長のフィルムは、回路形
成工程では、温度差の影響で、
【００３０】
【数１】（回路形成工程の温度−作画室の温度）×1.79
×10-5(cm/cm/℃)×X(cm)・・・ （式１）だけ伸び
る。よって、上記条件の場合、
×10-5(cm/cm/℃)×X(cm)・・・ （式１）だけ伸び
る。よって、上記条件の場合、
【００３１】
【数２】 (25℃-22.5℃)×1.79×-5(cm/cm/℃)×X(cm)=4.475×10-5×X(cm) ・・・ （式２） だけ伸びることになる。また、湿度差の影響で
【００３２】
【数３】 （回路形成工程の湿度−作画室の湿度）×1.03×10-5(cm/cm/％RH)×X(cm) ・・・ （式３） だけ伸びる。よって、上記条件の場合、
【００３３】
【数４】 (60％RH-53％RH)×1.03×10-5(cm/cm/％RH)×X(cm)=7.21×10-5×X(cm) ・・・ （式４） だけ伸びることになる。
【００３４】したがって、理論値で作成された作画デー
タでそのままフォトマスクを作画したとすると、回路形
成工程では、
タでそのままフォトマスクを作画したとすると、回路形
成工程では、
【００３５】
【数５】 4.475×10−５×X(cm)+7.21×10-5×X(cm)=11.685×10-5×X(cm) ・・・ （式５） だけ理論値より伸びた状態となるため、回路形成工程に
おいて理論値を維持するためには、フォトマスク作画時
点において作画データに対し、
おいて理論値を維持するためには、フォトマスク作画時
点において作画データに対し、
【００３６】
【数６】 X(cm)/(X+11.685×10-5×X(cm)=0.99988（倍） ・・・ （式６） のスケールファクタを乗じる必要がある。
【００３７】このようにして算出されたスケールファク
タは、回路形成工程で用いられるフォトマスク用の原画
データに乗じられる（ステップ２５）。
タは、回路形成工程で用いられるフォトマスク用の原画
データに乗じられる（ステップ２５）。
【００３８】次に、ステップ２５にて、最適スケールフ
ァクタを乗じられた作画データは、図１に示されるデー
タ処理部４にて、同じく図１の作画機械制御部５が受け
取り易いフォーマットに変換されて、作画機械制御部５
に供給される（ステップ２６）。
ァクタを乗じられた作画データは、図１に示されるデー
タ処理部４にて、同じく図１の作画機械制御部５が受け
取り易いフォーマットに変換されて、作画機械制御部５
に供給される（ステップ２６）。
【００３９】その後、図１に示される作画機械部６に
て、フォトマスク作画装置内部にセットされたフィルム
の作画テーブルへのセッティングや作画光源であるアル
ゴンイオンレーザのスイッチング及び作画光源の移動等
が制御され、作画機械制御部５により供給されたスケー
ルファクタが乗じられた作画データに基づいて、所定の
絵柄が作画される（ステップ２７）。
て、フォトマスク作画装置内部にセットされたフィルム
の作画テーブルへのセッティングや作画光源であるアル
ゴンイオンレーザのスイッチング及び作画光源の移動等
が制御され、作画機械制御部５により供給されたスケー
ルファクタが乗じられた作画データに基づいて、所定の
絵柄が作画される（ステップ２７）。
【００４０】ところで、回路形成工程で使用されるプリ
ンタは、超高圧水銀ランプを用いているため、露光の
際、フォトマスク表面の温度が若干上昇することにな
る。
ンタは、超高圧水銀ランプを用いているため、露光の
際、フォトマスク表面の温度が若干上昇することにな
る。
【００４１】そこで次に、作画室の温湿度と各製造工程
の温湿度に、実際にフォトマスクを用いて製造を行う際
に使用する、製造設備に起因する温度上昇を考慮したス
ケールファクタを算出してフォトマスクを作画するフォ
トマスク作画装置について説明を行う。
の温湿度に、実際にフォトマスクを用いて製造を行う際
に使用する、製造設備に起因する温度上昇を考慮したス
ケールファクタを算出してフォトマスクを作画するフォ
トマスク作画装置について説明を行う。
【００４２】図３は、パラメータ記憶部７に記憶されて
いる各種のパラメータを示した図である。
いる各種のパラメータを示した図である。
【００４３】図３に示すように、パラメータ記憶部７に
は、作画室の温湿度と各製造工程の温湿度が前述の通り
リアルタイムに記憶（更新）されている。このパラメー
タ記憶部７に対して、さらに、実際にフォトマスクを用
いて製造を行う際、使用する製造設備に起因する上昇温
度７ａを記憶させておく。
は、作画室の温湿度と各製造工程の温湿度が前述の通り
リアルタイムに記憶（更新）されている。このパラメー
タ記憶部７に対して、さらに、実際にフォトマスクを用
いて製造を行う際、使用する製造設備に起因する上昇温
度７ａを記憶させておく。
【００４４】例えば、回路形成工程で使用されるプリン
タは、超高圧水銀ランプを用いているため、露光の際、
フォトマスク表面が２８℃に上昇する。従って、作画室
の温湿度（例えば、温度＝２２．５℃、湿度＝５３％Ｒ
Ｈ），回路形成工程の温湿度（例えば、温度＝２５℃、
湿度＝６０％ＲＨ）の場合、フィルム伸縮量は、
タは、超高圧水銀ランプを用いているため、露光の際、
フォトマスク表面が２８℃に上昇する。従って、作画室
の温湿度（例えば、温度＝２２．５℃、湿度＝５３％Ｒ
Ｈ），回路形成工程の温湿度（例えば、温度＝２５℃、
湿度＝６０％ＲＨ）の場合、フィルム伸縮量は、
【００４５】
【数７】 {(28℃-22.5℃)×1.79×10-5(cm/cm/℃)+(60％RH-53％RH)1.03 ×10-5(cm/cm/％RH)}×Xcm=17.055×10-5×X(cm) ・・・（式７） だけ伸びるため、スケールファクタは、
【００４６】
【数８】 X(cm)/(X+17.055×10-5×X)(cm)=0.99983 ・・・（式８） となる。このように、新たなパラメータである上昇温度
７ａ付加してスケールファクタの算出を行うことによ
り、より正確なスケールファクタを算出することが可能
となる。
７ａ付加してスケールファクタの算出を行うことによ
り、より正確なスケールファクタを算出することが可能
となる。
【００４７】そして、この（式８）により算出されたス
ケールファクタを用いて、図２のステップ２５以降を実
行することにより、さらに正確で、且つ最適な寸法精度
を有するフォトマスクを作画し得る、フォトマスク作画
装置を提供することが可能となる。
ケールファクタを用いて、図２のステップ２５以降を実
行することにより、さらに正確で、且つ最適な寸法精度
を有するフォトマスクを作画し得る、フォトマスク作画
装置を提供することが可能となる。
【００４８】
【発明の効果】以上述べたように、上記本発明によれ
ば、フォトマスクを作画する場所の温湿度だけでなく、
実際にフォトマスクを使用する製造工程の温湿度を考慮
して作画時点のスケールファクタを決定すると共に、ス
ケールファクタ算出及び作画データへのスケールファク
タ展開を自動化したことにより、フォトマスクが使用さ
れる印刷配線板製造工程において、最適の寸法精度を保
持することができると共に印刷配線板の製造歩留を大幅
に向上することができる。
ば、フォトマスクを作画する場所の温湿度だけでなく、
実際にフォトマスクを使用する製造工程の温湿度を考慮
して作画時点のスケールファクタを決定すると共に、ス
ケールファクタ算出及び作画データへのスケールファク
タ展開を自動化したことにより、フォトマスクが使用さ
れる印刷配線板製造工程において、最適の寸法精度を保
持することができると共に印刷配線板の製造歩留を大幅
に向上することができる。
【図１】本発明のフォトマスク作画装置の実施の形態を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図２】本発明の実施の形態の動作を説明するための流
れ図である。
れ図である。
【図３】パラメータ記憶部に記憶されている各種のパラ
メータを示した図である。
メータを示した図である。
【図４】従来のフォトマスク作画装置の構成の一例を示
すブロック図である。
すブロック図である。
１ データ入力部 ２ スケールファクタ演算部 ３ 作画データスケール補正部 ４ データ処理部 ５ 作画機械制御部 ６ 作画機械部 ７ パラメータ記憶部
Claims (14)
- 【請求項１】作画データを読み込むデータ入力部と、 作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造
工程の環境情報等の各種のパラメータを格納するパラメ
ータ記憶部と、 前記パラメータ記憶部より前記パラメータを読み取り、
前記作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各
製造工程の環境の差に基づいて、最適なスケールファク
タを算出するスケールファクタ演算部と、 前記スケールファクタ演算部にて算出されたスケールフ
ァクタに基づいて、前記作画データに所定の演算処理を
施すデータスケール補正部と、 前記データスケール補正部にて演算処理された作画デー
タに基づき、前記フォトマスクを作画するための制御信
号を出力する出力する作画機制御部と、 前記作画機制御部より出力された制御信号に基づいてフ
ォトマスクを作画する作画機械部と、 を備えたことを特徴とするフォトマスク作画装置。 - 【請求項２】印刷配線板の作画データを読み込むデータ
入力部と、 作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造
工程の温湿度等の各種のパラメータを格納するパラメー
タ記憶部と、 前記パラメータ記憶部より前記パラメータを読み取り、
前記作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各
製造工程の温湿度から求まる温湿度差により、最適なス
ケールファクタを算出するスケールファクタ演算部と、 前記スケールファクタ演算部にて算出されたスケールフ
ァクタを前記作画データに乗じるデータスケール補正部
と、 前記データスケール補正部にて処理された作画データに
基づき、前記フォトマスクを作画するための制御信号を
出力する出力する作画機制御部と、 前記作画機制御部より出力された制御信号に基づいてフ
ォトマスクを作画する作画機械部と、 を備えたことを特徴とするフォトマスク作画装置。 - 【請求項３】前記スケールファクタ演算部は、前記作画
室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造工程
の温湿度から求まる温湿度差情報に、さらに、フォトマ
スクを用いて製造を行う際に使用する、製造設備に起因
する温度上昇情報を加えることにより、さらに最適なス
ケールファクタを算出することを特徴とする請求項２に
記載のフォトマスク作画装置。 - 【請求項４】前記パラメータ記憶部は、各製造工程別の
温湿度を個別に認識・記憶できることを特徴とする請求
項２または３に記載のフォトマスク作画装置。 - 【請求項５】前記スケールファクタ演算部は、フォトマ
スク材料の温湿度に対する伸縮係数を保有していること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のフォトマ
スク作画装置。 - 【請求項６】前記作画データには、作画されたフォトマ
スクが使用される製造工程を明示する属性情報が含まれ
ていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載
のフォトマスク作画装置。 - 【請求項７】前記作画データは、ＣＡＤデータであるこ
とを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のフォト
マスク作画装置。 - 【請求項８】作画データを読み込む工程と、 作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造
工程の環境情報等の各種のパラメータを記憶手段に格納
する工程と、 前記格納されたパラメータを読み取り、前記作画室及び
作画されたフォトマスクが使用される各製造工程の環境
の差に基づいて、最適なスケールファクタを算出する工
程と、 前記算出されたスケールファクタに基づいて、前記作画
データに所定の演算処理を施す工程と、 前記演算処理された作画データに基づき、前記フォトマ
スクを作画するための制御信号を出力し、前記制御信号
に基づいてフォトマスクを作画する工程と、 を備えたことを特徴とするフォトマスク作画方法。 - 【請求項９】印刷配線板の作画データを読み込む工程
と、 作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造
工程の温湿度等の各種のパラメータを記憶手段に格納す
る工程と、 前記格納されたパラメータを読み取り、前記作画室及び
作画されたフォトマスクが使用される各製造工程の温湿
度から求まる温湿度差により、最適なスケールファクタ
を算出する工程と、 前記算出されたスケールファクタを前記作画データに乗
じる工程と、 前記スケールファクタを乗算された作画データに基づ
き、前記フォトマスクを作画するための制御信号を出力
し、前記制御信号に基づいてフォトマスクを作画する工
程と、 を備えたことを特徴とするフォトマスク作画方法。 - 【請求項１０】前記スケールファクタの算出は、前記作
画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造工
程の温湿度から求まる温湿度差情報に、さらにフォトマ
スクを用いて製造を行う際に使用される製造設備に起因
する温度上昇情報を加えることにより算出されることを
特徴とする請求項９に記載のフォトマスク作画方法。 - 【請求項１１】前記記憶手段は、各製造工程別の温湿度
を個別に認識・記憶できることを特徴とする請求項９ま
たは１０に記載のフォトマスク作画方法。 - 【請求項１２】前記スケールファクタの算出は、フォト
マスク材料の温湿度に対応する伸縮係数に基づいて行わ
れることを特徴とする請求項８〜１１のいずれかに記載
のフォトマスク作画方法。 - 【請求項１３】前記作画データには、作画されたフォト
マスクが使用される製造工程を明示する属性情報が含ま
れていることを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに
記載のフォトマスク作画方法。 - 【請求項１４】前記作画データは、ＣＡＤデータである
ことを特徴とする請求項８〜１３のいずれかに記載のフ
ォトマスク作画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31018997A JP3090107B2 (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | フォトマスク作画装置及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31018997A JP3090107B2 (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | フォトマスク作画装置及び方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11143051A true JPH11143051A (ja) | 1999-05-28 |
| JP3090107B2 JP3090107B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=18002257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31018997A Expired - Fee Related JP3090107B2 (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | フォトマスク作画装置及び方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3090107B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7155504B1 (en) * | 1999-06-18 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Data delivery system and sending station therefor |
| JP2009008735A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラム |
| CN108463054A (zh) * | 2018-01-15 | 2018-08-28 | 江西芯创光电有限公司 | 一种控制基板涨缩的方法 |
-
1997
- 1997-11-12 JP JP31018997A patent/JP3090107B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7155504B1 (en) * | 1999-06-18 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Data delivery system and sending station therefor |
| JP2009008735A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラム |
| CN108463054A (zh) * | 2018-01-15 | 2018-08-28 | 江西芯创光电有限公司 | 一种控制基板涨缩的方法 |
| CN108463054B (zh) * | 2018-01-15 | 2020-10-09 | 江西芯创光电有限公司 | 一种控制基板涨缩的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3090107B2 (ja) | 2000-09-18 |
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