JPH11124231A

JPH11124231A - 基板搬送装置及び位置決め装置

Info

Publication number: JPH11124231A
Application number: JP9306373A
Authority: JP
Inventors: Buichi Ando; 武一安藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-10-22
Filing date: 1997-10-22
Publication date: 1999-05-11

Abstract

(57)【要約】【目的】基板の受け渡しを迅速なものとし、基板の受
け渡しに際して基板に与えるダメージを最小限にするこ
とができる基板搬送装置、及び、基板の測定等に際して
迅速なフォーカシングを可能にする位置決め装置。【解決手段】厚さセンサ７の出力がウェハＷが比較的
厚いことを示している場合、吸着パッドの吸着力が比較
的強い段階で第１搬送アーム２からウェハＷを離間して
もウェハＷにダメージが発生しない。このような場合、
主制御装置６は、比較的短時間で第１搬送アーム２から
第２搬送アーム４へのウェハＷの移載を完了する。厚さ
センサ７の出力がウェハＷが比較的薄いことを示してい
る場合、吸着パッドの吸着力が十分弱くなった段階で吸
着パッド２１からウェハＷを離間しなければウェハＷに
ダメージが発生する。このような場合、このような場
合、主制御装置６は、比較的長時間かけて第１搬送アー
ム２から第２搬送アーム４へのウェハＷの移載を完了す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術の分野】この発明は、半導体ウェハ
や液晶ガラス基板等の各種基板を搬送する基板搬送装置
と、基板の検査装置、測定装置、処理装置等の各種装置
に組み込まれ搬送されてきた基板に対し光学系を位置決
めする位置決め装置とに関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウェハや液晶ガラス基板を検査・
処理するための装置は、クリーンルームと呼ばれる特殊
な無塵室内に配置されており、通常、無人で動作する基
板搬送装置によってキャリア等から装置の観察部等への
基板の搬送が行われている。

【０００３】上記のように自動化された基板搬送装置で
は、基板をある場所から別の場所に搬送する際に、吸着
パッドを備える搬送アーム等を利用して基板の受け渡し
を行う。例えば、搬送アームをキャリア中の基板の直下
に挿入するとともにこれを上昇させて、搬送アーム上に
基板を載置し、この基板の裏面を搬送アーム上面に設け
た吸着パッドによって吸着保持する。こうして受け渡し
を完了した基板をキャリアから搬出し、次の搬送アーム
やアライメント用のチャック等の上方に移送する。そし
て、基板を吸着保持している状態の搬送アームの真空吸
着を切って吸着パッドの真空圧が大気と同程度になるま
で待ち、同程度になったタイミングで搬送アームを降下
させるなどして次の搬送アーム等に基板を受け渡してい
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
基板の受け渡しに際しては、どんな厚さの基板の受け渡
しであっても基板が割れないように、搬送アームの真空
吸着を切って吸着パッドの真空圧が大気と同程度になる
まで十分な時間を確保して次の搬送アーム等に基板を受
け渡していたので、必要以上に時間がかかった。

【０００５】また、基板を搬送する時の吸着の真空圧
は、どんな厚さの基板でも確実に保持できるように所定
以上の一定値に保たれていたので、薄い基板の搬送にお
いて基板がそってしまうなど基板にダメージを与える可
能性があった。

【０００６】また、搬送されてきた基板をさらに測定部
等のステージ上に載置する場合、測定部の光学系の位置
は、どんな厚さの基板とも干渉しないように予めある一
定の位置まで待避させておかねばならず、ステージ上に
基板を載置した後ベストフォーカスの位置まで移動する
のに時間がかかった。

【０００７】そこで、この発明は、基板の受け渡しを迅
速なものとし、基板の受け渡しに際して基板に与えるダ
メージを最小限にすることができる基板搬送装置、及
び、基板の測定等に際して迅速なフォーカシングを可能
にする位置決め装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するためのものであり、以下に、実施形態に示した
各図面を用いてその内容を説明する。

【０００９】本発明の基板搬送装置は、基板（Ｗ）を保
持する保持部材（２，９）と、前記保持部材（２，９）
から前記基板を受け取り、所定位置に搬送する搬送アー
ム（４）と、前記基板の厚さに関する情報を出力する出
力装置（７，７１）と、前記出力装置（７、７１）の出
力に基づいて前記保持部材（２，９）から前記搬送アー
ム（４）への前記基板の受け渡し速度を調節する速度調
節装置（６）とを備えることを特徴とする。

【００１０】別の態様によれば、基板（Ｗ）を吸着保持
する保持部材（２，９）と、前記保持部材（２，９）に
吸着保持される前記基板の厚さに関する情報を出力する
出力装置（７，７１）と、前記出力装置（７、７１）の
出力に基づいて前記保持部材（２，９）が前記基板を吸
着保持する際の吸着圧を調節する吸着圧制御装置（６，
９）とを備えることを特徴とする。

【００１１】好ましい態様によれば、前記出力装置が、
前記基板の厚さを検出するセンサ（７）を備えることを
特徴とする。

【００１２】好ましい態様によれば、前記出力装置が、
前記基板の厚さを予め記憶しておく厚さ記憶部（７１）
を備えることを特徴とする。

【００１３】本発明の位置決め装置は、基板（Ｗ）を載
置可能な載置台（５２）と、前記載置台（５２）に載置
された前記基板（Ｗ）を処理、観察又は計測する光学系
（５６）と、前記載置台（５２）に載置された基板の厚
さに関する情報を出力する出力装置（７，７１）と、前
記出力装置（７，７１）の出力に基づいて前記光学系
（５６）のフォーカス位置を調整する調整装置（５５）
とを備えることを特徴とする。

【００１４】好ましい態様によれば、前記出力装置が、
前記基板の厚さを検出するセンサ（７）を備えることを
特徴とする。

【００１５】好ましい態様によれば、前記出力装置が、
前記基板の厚さを予め記憶しておく厚さ記憶部（７１）
を備えることを特徴とする。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の基板搬送装置の具
体的な実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明す
る。

【００１７】〔第１実施形態〕図１は、本発明の第１実
施形態である基板搬送装置を組み込んだウェハ観察装置
の構造を説明するブロック図である。図示のように、ウ
ェハ観察装置は、基板搬送装置として、観察前のウェハ
をキャリア１から取り出したり観察後のウェハをキャリ
ア１に収納するための保持部材である第１搬送アーム２
と、キャリア１から取り出されたウェハを第１搬送アー
ム２から受け取って観察部５に設けた観察ヘッド（図示
を省略）下のＸＹステージ上に搬送する第２搬送アーム
４と、第１搬送アーム２がキャリア１から搬出するウェ
ハの厚さを検出する厚さセンサ７と、第１及び第２搬送
アーム２、４等を含むウェハ観察装置全体を統括制御す
る主制御装置６とを備えている。

【００１８】図２は、図１の第１搬送アーム２等を拡大
して示す側面図である。第１搬送アーム２は、アーム本
体２０の先端部に、ウェハＷの裏面を支持するとともに
ウェハＷの移送に際してウェハＷの裏面を吸着保持する
吸着パッド２１を備える。この吸着パッド２１は、アー
ム本体２０内部に設けた配管２４を介して真空源（図示
を省略）に接続されている。配管２４の途中には、電磁
弁２５が設けられており、主制御装置６の制御に基づい
て吸着パッド２１の吸引力のオン・オフを制御する。

【００１９】アーム本体２０の根元側には、ウェハＷの
縁部の近傍位置に、ウェハＷの厚さに関する情報を出力
する出力装置として厚さセンサ７が固設されている。こ
の厚さセンサ７は、ウェハＷの縁側に向けて所定波長の
光を照射し、ウェハＷの周側面で反射された一部の光を
検出する。主制御装置６は、厚さセンサ７の出力が所定
光量以上を示している場合、ウェハＷがあるしきい値の
厚さを超えていると判断して、第１及び第２搬送アーム
２、４のウェハＷの受け渡し動作、すなわち第１及び第
２搬送アーム２、４の移動や吸着パッド２１の吸引力の
オン・オフのタイミングを適宜制御する。

【００２０】以下、図１及び図２に示すウェハ観察装置
の動作について説明する。まず、第１搬送アーム２を制
御してこれをキャリア１中に収納されたウェハＷの直下
に挿入させるとともに第１搬送アーム２を上昇させる。
これと同時に電磁弁２５を制御して吸着パッド２１の吸
引力をオンにする。これにより、第１搬送アーム２上に
ウェハＷが載置されるとともに、このウェハＷの裏面を
吸着パッド２１によって吸着保持することができる。

【００２１】次に、第１搬送アーム２を制御してキャリ
ア１からウェハＷを搬出させ、次の第２搬送アーム４の
上方に移送する。

【００２２】次に、ウェハＷを吸着保持している状態の
第１搬送アーム２の吸着パッド２１の吸引力をオフす
る。すなわち、第１搬送アーム２の電磁弁２５をオフ状
態にし、所定時間の経過を待って吸着パッド２１の吸着
力が十分に弱まった状態で第１搬送アーム２をウェハＷ
とともに降下させる。第１搬送アーム２と第２搬送アー
ム４とは、互いに干渉しない形状を有しており、第１搬
送アーム２の吸着パッド２１上端が第２搬送アーム４に
設けたオン状態の吸着パッド（図示を省略）上端よりも
下側に移動した段階で、第１搬送アーム２から第２搬送
アーム４にウェハＷが受け渡され第２搬送アーム４側に
吸着保持される。

【００２３】なお、第１搬送アーム２の電磁弁２５をオ
フしてから、第１搬送アーム２の降下を開始するまでの
所定時間は、吸着パッド２１の吸着力が十分に弱まるま
での時間であり、ウェハＷが吸着パッド２１から離間す
る際にウェハＷにダメージを与えないようなものとなっ
ている。このような時間は、ウェハＷの厚さや種類に応
じて変化する。

【００２４】したがって、厚さセンサ７の出力がウェハ
Ｗの厚さがあるしきい値を超えていることを示している
場合、つまりウェハＷが比較的厚い場合、吸着パッド２
１の吸着力が比較的強い段階で吸着パッド２１からウェ
ハＷを離間してもウェハＷにダメージが発生しない。こ
のような場合、主制御装置６は、吸着パッド２１の吸着
力が比較的強く残っている段階、つまり電磁弁２５をオ
フしてから比較的短時間で、第１搬送アーム２に降下を
開始させて迅速な処理を図る。一方、厚さセンサ７の出
力がウェハＷの厚さがあるしきい値以下であることを示
している場合、つまりウェハＷが比較的薄い場合、吸着
パッド２１の吸着力が十分に弱くなった段階で吸着パッ
ド２１からウェハＷを離間しなければウェハＷにダメー
ジが発生する。このような場合、主制御装置６は、吸着
パッド２１の吸着力が十分弱くなった段階、つまり電磁
弁２５をオフしてから比較的長時間で、第１搬送アーム
２に降下を開始させてウェハＷの保護を図る。

【００２５】次に、第２搬送アーム４を制御して第１搬
送アーム２から受け取ったウェハＷを観察部５に設けた
ＸＹステージ上に搬送する。この際も、上記と同様に、
ウェハＷを吸着保持している第２搬送アーム４の電磁弁
をオフ状態にし、ウェハＷの厚みに応じた所定時間の経
過を待ち、吸着パッドの吸着力が十分に弱まって安全に
なった状態で、第２搬送アーム４からＸＹステージにウ
ェハＷを渡す。

【００２６】観察部５で計測等を終了したウェハＷは、
上記と同様の手順で逆に搬送され、第２搬送アーム４及
び第１搬送アーム２を経てキャリア１に再収納される。

【００２７】図３は、図２に示す厚さセンサ７を変形し
た別の厚さセンサ１７を説明する図である。この場合、
第１及び第２搬送アーム２、４にではなく、ウェハＷを
収容したキャリア１近くに厚さセンサ１７を設けてい
る。キャリア１の前面（図面左側）には、開口１ａが形
成されている。厚さセンサ１７の投受光器１７ａは、上
下駆動機構１７ｂに案内されて開口１ａ内を滑らかに上
下動する。なお、この第１実施形態では、投受光器１７
ａ側を上下動させているが、投受光器１７ａを固定して
キャリア１を上下動させることもできる。このようにし
て、投受光器１７ａをキャリア１に対して所定速度で相
対的に上端から下端まで移動させつつウェハＷの縁から
の反射光の強弱変化を検出する。この検出出力を主制御
装置６側で監視することにより、投受光器１７ａの検出
出力と移動速度との関係から、キャリア１中の各ウェハ
Ｗの厚みをほぼ正確に計測することができる。なお、主
制御装置６は、ウェハＷの厚さに関するデータを記憶し
ており、観察のため現在キャリア１外に取り出されてい
るウェハＷの厚みを常にチェックしている。

【００２８】〔第２実施形態〕図４は、本発明の第２実
施形態である基板搬送装置を組み込んだウェハ観察装置
の構造を説明するブロック図である。第２実施形態の基
板搬送装置は、第１実施形態の装置の変形例であり、重
複説明を省略するため、第１実施形態の場合と異なる箇
所について説明する。

【００２９】図示のウェハ観察装置は、基板搬送装置と
して、さらに吸着圧コントローラ８を備える。この吸着
圧コントローラ８は、主制御装置６の指示に基づいて第
１及び第２搬送アーム２、４によるウェハＷの吸着保持
力を調節する。

【００３０】図５は、第１搬送アーム２の要部構造を説
明する図である。この第１搬送アーム２は、アーム本体
２０上に、ウェハＷの移送に際してウェハＷの裏面を吸
着保持する一対の吸着パッド１２１、２２１を備える。
各吸着パッド１２１、２２１は、それぞれ配管１２４、
２２４を介して真空源２８に接続されている。各配管１
２４、２２４の途中には、主制御装置６に制御された吸
着圧コントローラ８として一対の電磁弁１２５、２２５
が設けられており、各電磁弁１２５、２２５は、それぞ
れ個別に吸着パッド１２１、２２１の吸引力のオン・オ
フ状態を制御する。

【００３１】両配管１２４、２２４は、それぞれパイプ
内径が異なっており、結果的にアーム本体２０上の吸着
パッド１２１、２２１毎にウェハＷの吸着力が異なる。
主制御装置６は、厚さセンサ７の出力が所定光量以上を
示している場合、ウェハＷの厚さがあるしきい値を超え
ていると判断して、第１搬送アーム２によるウェハＷの
搬送時におけるウェハＷの吸引力を大小２段階に適宜切
替える。

【００３２】以下、図４及び図５に示すウェハ観察装置
の動作の要点について説明する。まず、第１搬送アーム
２を制御してこれをキャリア１中に収納されたウェハＷ
の直下に挿入させるとともに第１搬送アーム２を上昇さ
せ、第１搬送アーム２上にウェハＷを載置する。

【００３３】厚さセンサ７の出力がウェハＷの厚さがあ
るしきい値を超えていることを示している場合、つまり
ウェハＷが比較的厚い場合、第１搬送アーム２の吸着力
が比較的強くてもウェハＷにそり等のダメージが発生し
ない。このような場合、主制御装置６は、電磁弁１２５
のみを動作させて吸着パッド１２１側にウェハＷを吸着
保持させる。この場合、第１搬送アーム２を比較的迅速
に移動させても、ウェハＷが第１搬送アーム２から落下
等する不都合が生じにくい。

【００３４】一方、厚さセンサ７の出力がウェハＷの厚
さがあるしきい値以下であることを示している場合、つ
まりウェハＷが比較的薄い場合、第１搬送アーム２の吸
着力が強いとウェハＷにそり等のダメージが発生しま
う。このような場合、主制御装置６は、電磁弁２２５の
みを動作させて吸着パッド２２１側にウェハＷを吸着保
持させる。

【００３５】〔第３実施形態〕図６は、本発明の第３実
施形態である基板搬送装置を組み込んだウェハ観察装置
の構造を説明するブロック図である。第３実施形態の基
板搬送装置は、第１実施形態の装置の変形例である。

【００３６】図示のウェハ観察装置は、基板搬送装置と
して、ウェハＷの芯出し装置９を備える。この芯出し装
置９は、第１搬送アーム２によってキャリア１から取り
出されたウェハＷを一時的に保持してセンタリングした
後に第２搬送アーム４に移すためのものである。

【００３７】芯出し装置９は、ウェハＷの芯出し動作の
前後にウェハＷの裏面を吸着保持する吸着パッド（図２
に示す第１搬送アーム２の吸着パッドと同一構造）を有
するチャック機構を備える。この吸着パッドは、電磁弁
によって吸引力のオン・オフ制御が可能となっている。

【００３８】以下、図６に示すウェハ観察装置の動作の
要点について説明する。まず、第１搬送アーム２を制御
してキャリア１中からウェハＷを搬出して芯出し装置９
側に搬送する。次に、ウェハＷを吸着保持している状態
の第１搬送アーム２の吸着パッド２１の吸引力をオフす
る。すなわち、第１搬送アーム２の電磁弁２５をオフ状
態にし、所定時間の経過を待って吸着パッド２１の吸着
力が十分に弱まった状態で第１搬送アーム２をウェハＷ
とともに降下させる。第１搬送アーム２と芯出し装置９
とは、互いに干渉しない形状を有しており、第１搬送ア
ーム２の吸着パッド２１上端が芯出し装置９に設けたオ
ン状態の吸着パッド上端よりも下側に移動した段階で、
第１搬送アーム２から芯出し装置９のチャックにウェハ
Ｗが受け渡されて吸着保持される。芯出し装置９でウェ
ハＷの芯出しが終了すると、第２搬送アーム４を制御し
て芯出し装置９のチャックに吸着保持されているウェハ
Ｗ直下に第２搬送アーム４を移動させる。次に、ウェハ
Ｗを吸着保持している芯出し装置９のチャックの吸引力
をオフする。所定時間の経過を待って、芯出し装置９の
チャックの吸着力が十分に弱まった状態で第２搬送アー
ム４を上昇させる。第２搬送アーム４と芯出し装置９と
は、互いに干渉しない形状を有しており、芯出し装置９
のチャック上のウェハＷが第２搬送アーム４に渡されて
吸着保持される。

【００３９】なお、芯出し装置９のチャックを動作させ
る電磁弁をオフしてから、第２搬送アーム４の上昇を開
始するまでの所定時間は、ウェハＷの厚さを考慮し、芯
出し装置９のチャックの吸着力が十分に弱まるまでの時
間であり、ウェハＷがチャックから離間する際にウェハ
Ｗにダメージを与えないようなものとなっている。

【００４０】〔第４実施形態〕図７は、本発明の第４実
施形態である位置決め装置を組み込んだウェハ観察装置
の構造を説明するブロック図である。第４実施形態の位
置決め装置は、第１実施形態の装置を変形したものであ
る。

【００４１】図示のウェハ観察装置は、位置決め装置と
して、観察部５に設けた観察ヘッド５１を構成する観察
光学系をウェハＷの厚さに応じてフォーカス位置に移動
させるヘッド駆動装置５５を備える。

【００４２】図８は、観察部５の要部を説明する図であ
る。ＸＹステージ５２は、ウェハＷの載置台として、ウ
ェハＷを吸着保持することができるようになっている。
このように吸着保持されたウェハＷは、観察光学系５６
を内蔵する観察ヘッド５１によって観察される。この
際、ヘッド駆動装置５５は、結像状態を自動検出するフ
ォーカス検出装置５３の検出出力に基づいて観察ヘッド
５１を機械的に駆動し、観察光学系５６を適正なフォー
カス位置まで移動させる。

【００４３】ところで、ＸＹステージ５２上に順次載置
されるウェハＷの厚さは、同一キャリア１内に収納され
ているものであっても、比較的大きく変動する。したが
って、実線で示す薄いウェハＷから点線で示す厚いウェ
ハＷに置き換えられた場合、観察ヘッド５１を実線の位
置から点線の位置まで比較的大きく移動させた後フォー
カスを微調整する必要がある。

【００４４】この実施形態では、主制御装置６が、次に
観察すべきウェハＷがＸＹステージ５２上に載置される
前にこのウェハＷがあるしきい値の厚さを超えているか
否かを予め判断する。そして、次に観察すべきウェハＷ
の厚さがあるしきい値を超えていると判断した場合、主
制御装置６は、観察ヘッド５１を点線で示すような近似
的なフォーカス位置まで予め移動させておく。ウェハＷ
をＸＹステージ５２上に載置した後は、フォーカス検出
装置５３の検出出力に基づいて観察ヘッド５１を微動さ
せ、観察ヘッド５１を正確なフォーカス位置まで迅速に
移動させる。一方、次に観察すべきウェハＷの厚さがあ
るしきい値を以下であると判断した場合、主制御装置６
は、観察ヘッド５１を実線で示すような近似的なフォー
カス位置まで予め移動させておく。ウェハＷをＸＹステ
ージ５２上に載置した後は、フォーカス検出装置５３の
検出出力に基づいて観察ヘッド５１を微動させ、観察ヘ
ッド５１を正確なフォーカス位置まで迅速に移動させ
る。

【００４５】この実施形態では、ウェハＷの厚さに応じ
て予め観察ヘッド５１を駆動してほぼ適正なフォーカス
位置まで移動させるので、ＸＹステージ５２上にウェハ
Ｗを載置した後観察ヘッド５１をベストフォーカスの位
置まで移動するに際しての時間が短縮される。

【００４６】〔第５実施形態〕図９は、本発明の第５実
施形態である基板搬送装置を組み込んだウェハ観察装置
の構造を説明するブロック図である。第５実施形態の基
板搬送装置は、第１実施形態の装置の変形例である。

【００４７】図示のウェハ観察装置は、基板搬送装置と
して、図１の厚さセンサ７の代わりに、主制御装置６中
に厚さ記憶部７１を備える簡易な構造となっている。こ
の厚さ記憶部７１には、予めキャリア１中に収納されて
いるウェハＷの厚さ情報が記録されている。ウェハＷの
厚さは、ウェハＷがキャリア１に収納される前に予め測
定されており、オペレータが適当なタイミングで入力装
置３を介して主制御装置９側に入力する。

【００４８】以上、実施形態に即してこの発明を説明し
たが、この発明は上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、第１〜第５実施形態は、ウェハ観察装置を
開示しているが、基板搬送機構を含むものであれば、ウ
ェハの表面状態を計測する基板計測装置や、表面に感光
剤を塗布したウェハ上にマスクの像を記録する投影露光
装置等の各種装置に適用することができる。なお、投影
露光装置の場合、ウェハの厚さに応じて、ウェハの搬送
タイミングや吸着圧を調整するとともに、投影レンズを
予めほぼフォーカス位置に移動させて露光のスループッ
トを向上させることができる。

【００４９】また、ウェハＷの厚さを検出する方法やウ
ェハＷの吸着圧を制御する方法も上記実施形態に限定さ
れるものではない。例えば、開口径の異なる吸着パッド
を切替えることによっても吸着力を調整できる。

【００５０】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の基板搬送装置によれば、速度調節装置が、前記基板の
厚さに関する情報を出力する出力装置の出力に基づいて
前記保持部材から前記搬送アームへの前記基板の受け渡
し速度を調節するので、基板の厚さに応じて基板受け渡
しのタイミングを設定して基板の移載速度を迅速にし、
基板搬送のスループットを高めるとともに基板へのダメ
ージを減少することができる。

【００５１】また、別の態様によれば、当該基板を吸着
保持する保持部材と、吸着圧制御装置が、前記保持部材
に吸着保持される前記基板の厚さに関する情報を出力す
る出力装置の出力に基づいて前記保持部材が前記基板を
吸着保持する際の吸着圧を調節するので、基板の厚さに
応じて基板受け渡しの際の吸着圧を設定して基板の移載
速度を迅速にし、基板搬送のスループットを高めること
ができる。

【００５２】本発明の位置決め装置は、基板を載置可能
な載置台と、調整装置が、前記載置台に載置された基板
の厚さに関する情報を出力する出力装置の出力に基づい
て前記光学系のフォーカス位置を調整するので、基板の
厚さに応じて光学系を予め適宜移動させて基板の処理、
観察、計測のスループットを高めることができる。

【００５３】上記の基板搬送装置や基板位置決め装置の
好ましい態様によれば、前記出力装置が前記基板の厚さ
を検出するセンサを備えるので、基板の厚さに対応して
柔軟に搬送・位置決めのスループットを高めることがで
きる。

【００５４】上記の基板搬送装置や基板位置決め装置の
好ましい態様によれば、前記出力装置が前記基板の厚さ
を予め記憶しておく厚さ記憶部を備えるので、基板の厚
さに対応して簡易に搬送・位置決めのスループットを高
めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態に係る基板搬送装置を組
み込んだウェハ観察装置の全体構造を説明するブロック
図である。

【図２】図１の装置の厚さセンサを説明する側面図であ
る。

【図３】図２の厚さセンサの変形例を説明する側面図で
ある。

【図４】第２実施形態に係る基板搬送装置を組み込んだ
ウェハ観察装置の全体構造を説明するブロック図であ
る。

【図５】図４の装置の吸着圧調整方法を説明する図であ
る。

【図６】第３実施形態に係る基板搬送装置を組み込んだ
ウェハ観察装置の全体構造を説明するブロック図であ
る。

【図７】第４実施形態に係る基板搬送装置を組み込んだ
ウェハ観察装置の全体構造を説明するブロック図であ
る。

【図８】図７の装置の観察光学系を説明する側面図であ
る。

【図９】第５実施形態に係る基板搬送装置を組み込んだ
ウェハ観察装置の全体構造を説明するブロック図であ
る。

【符号の説明】

１キャリア２第１搬送アーム４第２搬送アーム５観察部７厚さセンサ６主制御装置２０アーム本体２１吸着パッド２５電磁弁Ｗウェハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を保持する保持部材と、前記保持部材から前記基板を受け取り、所定位置に搬送
する搬送アームと、前記基板の厚さに関する情報を出力する出力装置と、前記出力装置の出力に基づいて前記保持部材から前記搬
送アームへの前記基板の受け渡し速度を調節する速度調
節装置とを備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】基板を吸着保持する保持部材と、前記保持部材に吸着保持される前記基板の厚さに関する
情報を出力する出力装置と、前記出力装置の出力に基づいて前記保持部材が前記基板
を吸着保持する際の吸着圧を調節する吸着圧制御装置と
を備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３】基板を載置可能な載置台と、前記載置台に載置された前記基板を処理、観察又は計測
する光学系と、前記載置台に載置された基板の厚さに関する情報を出力
する出力装置と、前記出力装置の出力に基づいて前記光学系のフォーカス
位置を調整する調整装置とを備えることを特徴とする位
置決め装置。
【請求項４】前記出力装置は、前記基板の厚さを検出
するセンサを備えることを特徴とする請求項１及び請求
項２のいずれか記載の基板搬送装置。
【請求項５】前記出力装置は、前記基板の厚さを予め
記憶しておく厚さ記憶部を備えることを特徴とする請求
項１及び請求項２のいずれか記載の基板搬送装置。
【請求項６】前記出力装置は、前記基板の厚さを検出
するセンサを備えることを特徴とする請求項３記載の位
置決め装置。
【請求項７】前記出力装置は、前記基板の厚さを予め
記憶しておく厚さ記憶部を備えることを特徴とする請求
項３記載の位置決め装置。