JPH1068934A - 液晶装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
動に対する耐性を得ることにより、装置の性能の劣化を
防止し、かつ液晶の注入処理を容易にする。 【解決手段】 液晶装置は、間に液晶材料を挟持した一
対の基板と、基板間にわたって設けられた壁構造とを有
する。壁構造は、例えば三角波形状に基づく複数の壁4
0からなる。ここで、壁40の隣接する波形間の間隔g
は、1つのセルCの対角線の長さに等しい。また、ラビ
ング方向及び液晶の注入方向は、矢印RDに示す波形の
長手方向に沿っている。この液晶装置は、特に強誘電性
液晶装置とした場合に有効である。
Description
らなる液晶装置に関するものであり、特に、機械的スト
レスに対する耐性を必要とする大画面の強誘電性液晶表
示装置へ適用される。また、本発明は、例えばプリンタ
や投影表示システムに使用される液晶シャッター装置に
も同様に適用することができる。さらに、機械的ストレ
スへの耐性を有する液晶装置の製造方法に関するもので
ある。
リ性、および広視野角性等の優れた特性と、単純マトリ
クス駆動が可能であるという特徴が注目され、強誘電性
液晶を用いた大画面直視フラットパネルディスプレイ、
携帯情報端末用ディスプレイ等の実現化が期待されてお
り、幅広い分野で活発な研究開発が行われている。
性液晶装置(以下、FLCDと略称する)を含む液晶装
置、特に大画面の液晶装置は、機械的ストレスに影響さ
れやすいことが知られている。また、例えストレスを受
けることによって液晶装置の機械的要素にダメージが与
えられなくとも、その性能はいくらか落ちてしまう。こ
こで、FLCDの場合、このような機械的ストレスは、
装置内の液晶材料の流動によって引き起こされる。この
ときの流動は、液晶分子の配向の劣化、あるいは、例え
ばスメクティック相のC1配向からスメクティック相の
C2配向への変化等の液晶分子の状態の変化に起因す
る。
改善された液晶装置を得ることを目的としている。
めに、本発明の請求項1に記載の液晶装置は、複数の液
晶画素をアドレスするための電極線が設けられた2枚の
基板と、該2枚の基板間に注入された液晶材料と、上記
2枚の基板間にわたって配置され、基板平面にほぼ垂直
な少なくとも1つの方向への液晶材料の流動を制限する
壁構造とを有することを特徴としている。
製造方法は、第1の基板上に設置された壁構造から離し
て第2の基板を配置する工程と、上記壁構造によって形
成される複数の穴内に液晶材料を導入する工程と、上記
第2の基板を壁構造に近接した状態とする工程とを含む
ことを特徴としている。
ることによって、液晶はその動きを抑制されるので、液
晶は装置内を自由に流動することができなくなる。
って形成される複数の壁から構成してもよい。これらの
壁が直線状で互いに平行に配置されたとき、液晶材料の
流動は、一方向のみに制限される。
耐性を与えることができる。剪断は、装置内の2枚の基
板が互いに相対的に移動したときに発生する。このよう
な剪断は機械的なダメージを引き起こすので、剪断の発
生を防止した方がよい。
動及び剪断を、基板平面にほぼ直交する方向にさらに制
限することによってより向上させることができる。
壁構造を格子状にすればよい。即ち、壁構造は格子の形
状に類似しており、1画素あるいは数画素に対応するエ
リア内に液晶材料が分離されることとなる。しかしなが
ら、このような構成は、製造過程において、装置内に液
晶を注入させる処理が困難になるという問題がある。一
般的には、FLCDはネマティック相の液晶が注入され
る。そして、温度を制御して装置を冷却することによっ
て、カイラルスメクティックC相にする。
程を効果的にするために重要な要素である。この問題に
対する解決策の1つとしては、第1の基板と壁構造との
みからなる段階、言い換えれば第2の基板を貼り合わせ
る前に、液晶を注入すればよい。他の解決策としては、
注入処理に必要な間隔を開けて、第2の基板を壁構造に
近接させて装置を組み立ててもよい。つまり、例えばガ
ラスビーズ等の破壊可能部材を用いて2つの基板を分離
し、液晶を導入した後でこの破壊可能部材を壊せばよ
い。しかしながら、これらの2つの解決策は、製造過程
における注入処理に時間を要すると共に、液晶材料を無
駄にするという問題が生じる。
材料の流動及び剪断を制限する一方、より容易な注入が
可能な開口配置を有する構造としてもよい。この開口配
置の1つとしては、装置の透明基板間にわたって設けら
れた複数の非線型の壁からなるものである。この場合に
は、上記非線型の壁によってできる副区画内に通常の方
法で液晶を容易に注入することができる。また、壁同士
は十分に密接しており、2方向において液晶材料の流動
と剪断を制限するのに十分な長さの個々の区画を有して
いる。このような壁は、いくつかの異なる形状、例えば
三角波、矩形波、あるいは正弦波等をとることができ
る。
なるように配置してもよいし、交互に反転させて副区画
が狭くなったり広くなったりを繰り返すように配置して
もよい。壁が後者の反転方式で配置されたときには、液
晶材料の流動は、ボトルネック効果によって制限される
こととなる。
ことで、液晶の流動の制限に影響を与える構成としても
よい。このような壁の構成の1つとしては、直交し連結
した矩形波のペアからなる構成がある。このとき、各矩
形波の一方向における部分のみを取り出して配置すれ
ば、開口配置を有する構造となる。
電圧は変わらないので、壁構造の存在がユーザに認識で
きないように配置することが重要である。従って、壁構
造を装置の液晶画素間に配置することが望ましい。壁構
造の要素の間隔は、1画素分の外径寸法に近い値として
もよいし、製造過程における注入処理を容易にするため
に上記外径寸法よりも大きくしてもよい。これにより、
壁構造によって生じる液晶材料のエッジ不良を低減する
ことが可能となる。この間隔は、500μm以下であれ
ば効果が得られ、200μm以下では液晶材料の流動と
剪断の制限がより良好となり、その結果、装置の機械的
安定性がより改善される。
平行な方向)において厚みのある壁を使用することによ
って向上するが、もし壁の厚さが厚くなり過ぎると、装
置の光学的性能に不利な影響を与えてしまう。厚さが1
5μmより薄ければ、光学的性能に悪影響を与えること
なく効果が得られ、厚さが3μmあれば装置の画素に干
渉が生じることなく、十分な機械的安定性を得ることが
できる。
ばポリイミドからなる層をセルの厚みになるようにスピ
ンダウンによって容易に製造することができる。しかし
ながら、これにより、壁構造と第2の基板との間で微小
な液晶の流動と剪断とが生じる。従って、壁構造をさら
に第2の基板上にも設け、第1の基板上の壁構造との結
合を図る。例えば、第1の基板上にほぼ装置の厚さと同
じになるように設けられた壁が第2の基板上に設けられ
た一対の短い壁間に結合するようにすればよい。あるい
は、第1の基板上の各壁に対応する単一の長い壁を第2
の基板上に設けてもよい。これらの壁を相対的に互い違
いに配置することによって、第1の基板に対する第2の
基板の相対的な移動を防止することができ、その結果、
剪断を制限することができる。
機械的ストレスに敏感であることから、特にFLCDに
適用すれば効果的である。製造過程において、液晶の配
向ベクトル(液晶分子)の配向及び層配列は、温度によ
って制御される。この熱過程は、特に装置の光学的性能
にとって重要である。もし装置が機械的ストレスを受け
ると、塑性変形が生じ、分子の配列に重大なダメージを
与えてしまう。一旦ダメージを受けると、元の配向は復
帰しない。
CDは非常に薄い液晶層(通常、1〜2μm)を有して
いるので、特に機械的ストレスには敏感である。
ームに記載の通りである。
1ないし図15に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。
Dと略称する)10の第1の基板12を示す平面図であ
る。第1の基板12の一方の表面には、互いに平行に配
置された複数の壁14が設けられている。この壁14の
材料は、例えば後述するようにポリイミドである。第1
の基板12は、FLCDの技術としてよく知られている
ラビングされたポリイミド膜(配向膜)で覆われてい
る。このポリイミド膜のラビング方向は、矢印RDに示
すように、壁14に平行な方向である。
す。上記第1の基板12と第2の基板16との間には、
液晶材料22が充填されている。また、第1の基板12
の第2の基板16に対向する面には電極線18が設けら
れ、第2の基板16の第1の基板12に対向する面には
電極線20が設けられる。大画面アレイ装置では、これ
らの電極線18・20によって、マトリクス状の液晶画
素が形成される。また、FLCD10では、さらに第1
の偏光板24と第2の偏光板26とが第1の基板12及
び第2の基板16を挟むように設けられる。
第2の基板16との間にわたって配置することによっ
て、壁14の長手方向に直交する方向(図中の左右方
向)への液晶材料22の移動を制限している。さらに、
液晶材料22の流動の制限と同様に、壁14はその機械
的安定性を改善させることによって、FLCD10の耐
性を増加させることができる。このとき、各壁14は、
画素を分断することがないように画素間に配置される。
尚、ここでは壁14の配置間隔を1画素としているが、
機械的安定性が改善できれば、さらに配置間隔をあけて
もよい。壁14の配置間隔が200μm程度の場合には
良好な結果が得られており、この200μmという値
は、通常、大画面アレイ装置における3、4画素分の幅
に一致している。
の構成は、液晶材料22の流動と剪断とをほぼ一方向の
みで制限しているだけである。装置の機械的安定性をよ
り改善するためには、液晶材料22の流動と剪断とを上
記一方向に直交する方向にも同様に制限した方が好まし
い。
方向に制限することができる液晶装置の微小部分の拡大
図である。このような液晶装置では、図1及び図2に示
した装置とは違って容易には液晶材料を注入させること
ができないものと考えられる。従って、この液晶装置で
は、第1の基板12上に搭載された壁構造30の上に所
定の間隔をあけて第2の基板16が設けられる。即ち、
第2の基板16は、スペーサとしての複数のビーズ(一
般に、ガラスからなる)32によって、壁構造30から
離れて配置されている。
6との間に、壁構造30によって形成される複数の穴に
液晶材料を注入するための隙間を与えているので、この
状態にて液晶装置における注入処理を行うことができ
る。一旦液晶装置に液晶が注入されると、第2の基板1
6に力を加えてビーズ32を破壊して、液晶装置を完成
させる。このとき、ビーズ32が残留して装置の性能に
悪影響を及ぼすのを防止するために、これらのビーズ3
2は装置の表示領域から離れた位置に配置することが好
ましい。
ズの複数の穴を形成している。しかしながら、これらの
穴は、1画素の大きさよりも幾分大きい方が装置構成及
び液晶の注入処理が容易になるので望ましい。例えば、
1つの穴を3×3のマトリクス、即ち9画素に対応する
ように構成すればよい。
法として、まず壁構造30によって形成された穴内に液
晶材料を導入した後、壁構造30の上部に第2の基板1
6を配置することもできる。
れも液晶材料を無駄に消費する傾向があり、実質的に装
置の生産コストが増加してしまう。
この壁40は、平面図において、ジグザク形状、言い換
えれば三角波形状である。この構造では、基板平面にお
ける2つの互いに直交する方向で液晶材料が制限される
と共に、図3に示す構造の場合に比べてさらに製造しや
すい。上記壁40は、アレイの一方のエッジから他方の
エッジにわたって配置されており、液晶材料の導入を容
易にしている。もし大画面の液晶装置に壁40を適用
し、両基板を壁40に密着させた状態とすれば、よく知
られた毛管現象を用いた注入技術を用いて液晶材料を導
入することができる。
波形の高さをh、隣接する壁同士の間隔をgとすると、 λ=2h=2g=1mm の関係を満たしている。
のラビング方向は、三角波の長手方向に沿っている。こ
のことは、図8に基づいて詳細に後述する。
この構造は図4の変形であり、三角波の上昇部aと下降
部bとで長さが異なると共に、上昇部aと下降部bとの
間の角θが必ずしも90°ではない構造となっている。
この例では、上昇部aが下降部bよりも長くなってい
る。
性質上、液晶材料の流動に制限がかかりにくいので、注
入処理がより容易になる。しかしながら、角θが180
°に近づくと、図5に示す壁構造は液晶材料の流動を一
方向のみしか規制しない図1及び図2の構成に近くな
る。これにより、角θの値を変えることによって、液晶
装置の製造過程の簡便さの改善と、液晶材料の流動の制
限の改善とを選択することができることがわかる。図5
に示す壁を含む液晶装置の配向膜のラビング方向は、鋸
歯状の長部(ここでは、上昇部a)の長手方向に沿って
いる。
ある。この壁構造は、平面図において矩形波形状で表さ
れる複数の壁からなる。図中では、2つの壁のみを示し
ている。ここで、配向方向は、波形の長手方向に沿って
いる。また、隣接する壁同士の間隔が非常に小さくなる
と、その構成は図3に示す壁構造30に近づく。
切りとしての波形の長手方向に沿う注入速度の改善と、
液晶材料の流動及び剪断の制限の改善とを選択すること
ができる。例えば、隣接する壁同士の間隔を狭めると、
液晶材料の流動及び剪断の制限を良好にすることができ
るが、製造過程における注入速度は低下してしまう。
て急激な変化があると、製造過程における注入速度が相
対的に遅くなってしまう。図7は、鋭利なエッジを持た
ない正弦波に基づいた複数の壁からなる壁構造を示して
いる。この構成によれば、注入処理がより容易になり、
隣接する壁同士の間隔gを100〜200μm程度に小
さくすることが可能となる。このとき、液晶の注入方向
と最適な配向方向とは、共に波形の長手方向に沿ってい
る。
晶への印加電圧が変わることはない。従って、壁構造が
液晶装置のいかなる画素にも影響を与えることはない。
このことは、壁構造の厚さが増加したときに特に重要で
ある。図1ないし図3に示した例では、このような制限
に従うように調整することが容易である。即ち、これら
の図に示された壁14及び壁構造30は、アレイのセル
間隔に一致するように直線状に調整すればよい。
に一致するように調整される方法を示している。本図
は、三角波の壁構造の平面図を示しており、図の左側に
破線で画素の位置を示している。この例では、隣接する
波形間の間隔gは、1つのセルCの対角線の長さに等し
い。また、ラビング方向は、矢印RDに示されるよう
に、波形の長手方向に沿っている。注入方向もまた矢印
RDに一致している。これにより、液晶分子の配向方向
は、画素の何れのエッジにも平行にはならない。このよ
うな壁を有する液晶装置の偏光板(図示せず)は、それ
に従って調整する必要がある。即ち、偏光方向をアレイ
の長手方向あるいは幅方向のいずれにも平行にならない
ようにすれば、液晶装置の性能に悪影響を及ぼすことは
ない。
では、複数の壁50が第1の方向に沿って配置され、複
数の壁52が上記第1の方向に直交する第2の方向に沿
って配置されている。これらの壁50・52の長さは比
較的短く、数画素分の長さに相当している。この構成
は、互いに直交した2つの連結した矩形波からなると考
えることができる。ここで、波形の時間軸に平行に見え
る部分のみを設けると、壁同士が繋がることなく、2つ
の状態の壁50・52が配置される。
ウトは、図9の左側に破線で示している。各壁50・5
2の長さは液晶画素2つ分の幅に等しい。尚、壁50・
52は、ここで示されたよりも長く形成してもよく、例
えば、液晶画素5〜10個分の長さを持つようにして
も、本発明の効果を損なうことはない。また、このよう
な壁が設けられた液晶装置のラビング方向は、壁50あ
るいは壁52の何れかに平行な方向とする。壁50と壁
52との間は開口しているので、配向方向に沿って容易
に注入処理を行うことができる。
の3つの例を示す平面図である。これら3つの壁構造
は、それぞれ三角波、矩形波、及び正弦波に基づいてい
る。このとき、複数の壁は交互に逆向きに配置されてお
り、言い換えれば、2つの隣接した壁同士が互いに逆配
置となっている。図からわかるように、液晶装置に液晶
材料が満たされるとき、この構成によりボトルネック効
果が生じる。ここに示した3つの例では、ラビング方向
及び注入方向は共に、波形の長手方向に沿っている。
である。この壁構造は、互いに平行に配置された複数
(図中では、2つ)の長い直線状の壁60と、各壁60
から壁60に垂直に延びた複数の延長部62とからな
る。このときのラビング方向及び注入方向は、壁60に
ほぼ平行な方向である。この構成では、製造過程におけ
る注入速度が向上し、かつ液晶の流動及び剪断に対して
良好な耐性を得ることができる。即ち、延長部62を短
くしたり長くしたりすることによって、流動の制限を大
きくしたり小さくしたりすることができ、また注入速度
にも影響を与えることができる。図13に示された壁6
0・62は、液晶装置アレイにおける例えば4、9、あ
るいは16個の画素に対応した矩形部分を形成するよう
に、画素間に容易に配置することができる。
しているが、もし液晶装置の基板間において壁が十分な
間隔を有していなかったり、逆に接近し過ぎていたりす
ると、装置の性能が劣化してしまう。
基板に直交する方向における壁構造の効果について説明
する。図14(a)は、液晶装置の第1の基板12上に
形成された壁構造70を示している。ここで、第2の基
板16が壁構造70に接触して配置されたときには、液
晶材料の制限は、製造過程に与えられる壁構造70の高
さ精度に依存する。この目的に合った製造方法は、図1
5とそれに関連した記載によってわかるであろう。
られた厚さtの壁72と、第2の基板16上に設けられ
た壁72よりも短い一対の壁74・76とを示してい
る。液晶装置を組み立てるときに、壁72の高さ方向に
製造時の許容度に対する耐性をいくらか持たせるため
に、壁74と壁76との間に壁72が嵌まるように配置
する。これにより、2枚の基板間に液晶の仕切りが設け
られているので、第1の基板12に対する第2の基板1
6の移動も制限され、剪断の危険性を低減することが可
能となる。基板間の相対的な移動によって液晶材料内に
欠陥が生じるので、この構成は有効となる。しかしなが
ら、上記壁構造は、3つの壁74・72・76からなる
幅を有するという不利がある。また、表示の質を落とす
ことなく、液晶装置のセル間の3つの壁の厚さを調整す
ることは困難であると考えられる。
図14(c)に示す。この例では、第1の基板12上に
は、複数(図中では、2つ)の壁84・86が設置され
ている。壁84・86は、第2の基板16に向かって延
設されている。また、同様に、第2の基板16上には、
複数(図中では、2つ)の壁80・82が設置されてい
る。図からわかるように、壁80・82の間隔は、壁8
4・86の間隔よりもわずかに狭くなっている。壁84
・86間に壁80・82が合うように液晶装置を組み立
てると、液晶の区画によって液晶材料の流動が制限され
るだけでなく、第1の基板12に対して第2の基板16
が少なくとも一方向に相対的に移動するのが防止され
る。これにより、さらに機械的安定性を向上させること
が可能となる。
れた2つの工程を示す説明図である。図15(a)は、
基板に電極線及びラビングされた配向膜が設けられた後
に行われる生成工程を示している。第1の基板12の表
面に溶媒とモノマーの混合物をスピンダウンさせなが
ら、第1の基板12を高速で回転させる。この過程は、
スピンダウンされたモノマー層の厚みが厚いのを除い
て、基板上に配向膜を設けるときの過程と類似してい
る。図14(a)に示された壁構造では、モノマー層は
完成した液晶装置の液晶と同じ厚さ、通常1500nm
とする必要がある。
モノマーは、例えば紫外線照射等のよく知られた技術を
用いてポリマー化される。こうして、図15(b)に示
すように、第1の基板12の表面にポリマー層90が形
成される。そして、適切な材料からなるマスク92をポ
リマー層90の表面に設け、例えばウェットエッチング
等でポリマー層90をエッチングすることによって、第
1の基板12上に複数の壁(図中の破線で示す)を形成
する。
ための配向工程を施してもよい。この場合には、壁を形
成する際のエッチング工程が配向膜にダメージを与える
危険性がないという効果がある。
る第2の基板16側に設けられる壁74・76または壁
80・82を形成するために、第2の基板16(図15
には図示せず)でもまた上記と同様の生成工程を用いて
処理が行われ、第2の基板16上に適切な壁構造が形成
される。スピンダウンされたモノマー層は、図14
(b)に示す例では壁74・76の高さが低いので、前
述の場合よりも薄く形成される。尚、マスク92の形状
は、図1ないし図13に示された必要とされる壁構造の
形状に一致するようにする。
たときに考え得る如何なる変形及び改良された構成をも
含んでいる。
の液晶装置は、複数の液晶画素をアドレスするための電
極線が設けられた2枚の基板と、該2枚の基板間に注入
された液晶材料と、上記2枚の基板間にわたって配置さ
れ、基板平面にほぼ垂直な少なくとも1つの方向への液
晶材料の流動を制限する壁構造とを有する構成である。
を抑制され、装置内を自由に流動することができなくな
るので、機械的ストレスの発生を防止することが可能と
なる。また、この壁構造により剪断に対する耐性を与え
ることができるので、機械的なダメージをも防止するこ
とが可能となるという効果を奏する。
ぼ垂直な少なくとも他の方向への液晶材料の流動を制限
する壁構造をさらに有する構成が好ましい。
なくとも1つの、三角波形状、少なくとも1つの正弦波
形状、あるいは少なくとも1つの矩形波形状からなる構
成が望ましい。
方向に整列した複数の波形、あるいは互いに逆向きに整
列した複数の波形からなる構成が望ましい。
数の第1の矩形波と、該第1の矩形波に直交するように
配列された複数の第2の矩形波とからなる構成が好まし
い。
の直線状の壁からなり、該直線状の各壁には側面に突出
した複数の延長部が設けられている構成が好ましく、さ
らに、請求項7に記載の通り、上記延長部は、上記直線
状の壁に直交するように設けられている構成が望まし
い。
数の第1の壁と、装置内に微小な穴を形成するために上
記第1の壁と所定の角度をなして配置された複数の第2
の壁とからなる構成が好ましい。
は、上記穴の数の整数倍に一致する構成が好ましい。
成する要素間の間隔は、200μm以下である構成が望
ましい。
壁構造は、上記基板平面に平行な方向の厚さが15μm
以下、より好ましくは3μmの少なくとも1つの壁から
なる構成が望ましい。
強誘電性液晶とした場合に、特に本発明は効果的であ
る。
造方法は、基板上に壁構造形成用の膜材料を設ける工程
と、壁構造形成用のマスクを上記膜材料上に設ける工程
と、上記マスクを用いて上記膜材料をエッチングするこ
とによって、壁構造を有する基板を作成する工程とを含
む製造方法である。
基板を容易に作成することが可能になるという効果を奏
する。
置の製造方法は、請求項1に記載の液晶装置の製造方法
であって、第1の基板上に設置された壁構造から離して
第2の基板を配置する工程と、上記壁構造によって形成
される複数の穴内に液晶材料を導入する工程と、上記第
2の基板を壁構造に近接した状態とする工程とを含む製
造方法である。
の基板に設けられた壁構造と第2の基板との間に隙間が
あるので、注入処理を容易に行うことができ、装置の製
造処理時間が増加するのを最小限に抑えることが可能に
なるという効果を奏する。
部材を介することによって、第1の基板上に設置された
壁構造から離して第2の基板が配置され、液晶材料が導
入された後で上記破壊可能部材を壊す方法が好ましい。
を示す平面図である。
る。
平面図である。
る。
る。
示す壁構造を示す平面図である。
である。
である。
である。
す説明図である。
Claims (16)
- 【請求項1】複数の液晶画素をアドレスするための電極
線が設けられた2枚の基板と、該2枚の基板間に注入さ
れた液晶材料と、上記2枚の基板間にわたって配置さ
れ、基板平面にほぼ垂直な少なくとも1つの方向への液
晶材料の流動を制限する壁構造とを有することを特徴と
する液晶装置。 - 【請求項2】上記基板平面にほぼ垂直な少なくとも他の
方向への液晶材料の流動を制限する壁構造をさらに有す
ることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 【請求項3】上記壁構造は、少なくとも1つの、三角波
形状、正弦波形状、あるいは矩形波形状からなることを
特徴とする請求項2に記載の液晶装置。 - 【請求項4】上記壁構造は、一方向に整列、あるいは互
いに逆向きに整列した複数の波形からなることを特徴と
する請求項3に記載の液晶装置。 - 【請求項5】上記壁構造は、複数の第1の矩形波と、該
第1の矩形波に直交するように配列された複数の第2の
矩形波とからなることを特徴とする請求項2に記載の液
晶装置。 - 【請求項6】上記壁構造は複数の直線状の壁からなり、
該直線状の各壁には側面に突出した複数の延長部が設け
られていることを特徴とする請求項2に記載の液晶装
置。 - 【請求項7】上記延長部は、上記直線状の壁に直交する
ように設けられていることを特徴とする請求項6に記載
の液晶装置。 - 【請求項8】上記壁構造は、複数の第1の壁と、装置内
に微小な穴を形成するために上記第1の壁と所定の角度
をなして配置された複数の第2の壁とからなることを特
徴とする請求項2に記載の液晶装置。 - 【請求項9】装置内の画素数は、上記穴の数の整数倍に
一致することを特徴とする請求項9に記載の液晶装置。 - 【請求項10】上記壁構造を構成する要素間の間隔は、
200μm以下であることを特徴とする請求項1ないし
9の何れかに記載の液晶装置。 - 【請求項11】上記壁構造は、上記基板平面に平行な方
向の厚さが15μm以下の少なくとも1つの壁からなる
ことを特徴とする請求項1ないし10の何れかに記載の
液晶装置。 - 【請求項12】上記壁構造は、上記基板平面に平行な方
向の厚さが3μm以下の少なくとも1つの壁からなるこ
とを特徴とする請求項1ないし10に記載の液晶装置。 - 【請求項13】上記液晶材料は、強誘電性液晶であるこ
とを特徴とする請求項1ないし12の何れかに記載の液
晶装置。 - 【請求項14】基板上に壁構造形成用の膜材料を設ける
工程と、壁構造形成用のマスクを上記膜材料上に設ける
工程と、上記マスクを用いて上記膜材料をエッチングす
ることによって、壁構造を有する基板を作成する工程と
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 【請求項15】複数の液晶画素をアドレスするための電
極線が設けられた2枚の基板と、該2枚の基板間に注入
された液晶材料と、上記2枚の基板間にわたって配置さ
れ、基板平面にほぼ垂直な少なくとも1つの方向への液
晶材料の流動を制限する壁構造とを有する液晶装置の製
造方法であって、 第1の基板上に設置された壁構造から離して第2の基板
を配置する工程と、上記壁構造によって形成される複数
の穴内に液晶材料を導入する工程と、上記第2の基板を
壁構造に近接した状態とする工程とを含むことを特徴と
する液晶装置の製造方法。 - 【請求項16】複数の破壊可能部材を介することによっ
て、第1の基板上に設置された壁構造から離して第2の
基板が配置され、液晶材料が導入された後で上記破壊可
能部材を壊すことを特徴とする請求項15に記載の液晶
装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9615778A GB2315900B (en) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | Liquid crystal device |
GB9615778.9 | 1996-07-26 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006314648A Division JP4071266B2 (ja) | 1996-07-26 | 2006-11-21 | 液晶装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1068934A true JPH1068934A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=10797583
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9202019A Pending JPH1068934A (ja) | 1996-07-26 | 1997-07-28 | 液晶装置及びその製造方法 |
JP2006314648A Expired - Fee Related JP4071266B2 (ja) | 1996-07-26 | 2006-11-21 | 液晶装置の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006314648A Expired - Fee Related JP4071266B2 (ja) | 1996-07-26 | 2006-11-21 | 液晶装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6016180A (ja) |
EP (1) | EP0821262A1 (ja) |
JP (2) | JPH1068934A (ja) |
GB (3) | GB2347006B (ja) |
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FR2888950B1 (fr) * | 2005-07-20 | 2007-10-12 | Essilor Int | Composant optique transparent pixellise a parois absordantes son procede de fabrication et son utilisation dans la farication d'un element optique transparent |
FR2888949B1 (fr) * | 2005-07-20 | 2007-10-12 | Essilor Int | Composant optique pixellise a nano parois |
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1996
- 1996-07-26 GB GB0012180A patent/GB2347006B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-26 GB GB9615778A patent/GB2315900B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-26 GB GB0012174A patent/GB2347005B/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-24 US US08/899,440 patent/US6016180A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-25 EP EP97305625A patent/EP0821262A1/en not_active Withdrawn
- 1997-07-28 JP JP9202019A patent/JPH1068934A/ja active Pending
-
1999
- 1999-11-11 US US09/438,163 patent/US6118510A/en not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-11-21 JP JP2006314648A patent/JP4071266B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|---|---|---|
WO2009081468A1 (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-02 | Fujitsu Limited | コレステリック液晶表示素子 |
JP2013114182A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB0012174D0 (en) | 2000-07-12 |
GB2347006B (en) | 2000-10-04 |
EP0821262A1 (en) | 1998-01-28 |
GB2315900A (en) | 1998-02-11 |
GB2347005A (en) | 2000-08-23 |
GB0012180D0 (en) | 2000-07-12 |
GB2347005B (en) | 2000-10-04 |
GB2315900B (en) | 2000-10-04 |
US6016180A (en) | 2000-01-18 |
GB9615778D0 (en) | 1996-09-04 |
GB2347006A (en) | 2000-08-23 |
JP4071266B2 (ja) | 2008-04-02 |
US6118510A (en) | 2000-09-12 |
JP2007052464A (ja) | 2007-03-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060523 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060816 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060821 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070109 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20070409 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20070420 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070608 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070703 |