JPH1067851A - ポリイミドフィルム - Google Patents
ポリイミドフィルムInfo
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- JPH1067851A JPH1067851A JP15925197A JP15925197A JPH1067851A JP H1067851 A JPH1067851 A JP H1067851A JP 15925197 A JP15925197 A JP 15925197A JP 15925197 A JP15925197 A JP 15925197A JP H1067851 A JPH1067851 A JP H1067851A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 強度と耐熱性に優れたポリイミドフィルムを
提供する。 【解決手段】 全芳香族テトラカルボン酸成分に対して
１５〜８５モル％のビフェニルテトラカルボン酸類と８
５〜１５モル％のピロメリット酸類とからなる芳香族テ
トラカルボン酸成分と、全芳香族ジアミン成分に対して
１０〜３０モル％（３０モル％は含まず）のフェニレン
ジアミン類と９０〜７０モル％（７０モル％は含まず）
のジアミノジフェニルエーテル類とからなる芳香族ジア
ミン成分とから得られたポリアミック酸を支持体上に流
延、加熱して得られたポリイミドフィルム。
提供する。 【解決手段】 全芳香族テトラカルボン酸成分に対して
１５〜８５モル％のビフェニルテトラカルボン酸類と８
５〜１５モル％のピロメリット酸類とからなる芳香族テ
トラカルボン酸成分と、全芳香族ジアミン成分に対して
１０〜３０モル％（３０モル％は含まず）のフェニレン
ジアミン類と９０〜７０モル％（７０モル％は含まず）
のジアミノジフェニルエーテル類とからなる芳香族ジア
ミン成分とから得られたポリアミック酸を支持体上に流
延、加熱して得られたポリイミドフィルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリイミドフィルムに
関するものである。本発明は、特に高密度記録媒体用の
ベースフィルムとして有用な粗面化ポリイミドフィルム
の製造に有利なポリイミド成分からなる芳香族ポリイミ
ドフィルムを提供する。
関するものである。本発明は、特に高密度記録媒体用の
ベースフィルムとして有用な粗面化ポリイミドフィルム
の製造に有利なポリイミド成分からなる芳香族ポリイミ
ドフィルムを提供する。
【０００２】
【従来の技術】磁気テープなどの磁気記録媒体の非磁性
支持体（ベースフィルム）として、従来よりポリエチレ
ンテレフタレートなどのポリエステルからなるフィルム
が一般的に用いられてきたが、最近では耐熱性や強度な
どに優れた芳香族ポリイミドフィルムの使用が提案され
ている。非磁性支持体の特性として、上記のように耐熱
性や強度は非常に重要なものであるが、同時に、支持体
の表面状態が適当な状態にあることも、優れた磁気記録
媒体を得るためには重大な要件となる。すなわち磁性物
質層をベースフィルムの表面に蒸着等により形成した金
属薄膜タイプの磁気記録媒体は高密度記録が可能である
が、このように形成された磁性層はその厚さが非常に薄
いため、使用するベースフィルムの表面形態がそのまま
磁性層の表面形態となって現われる傾向がある。このた
め、ベースフィルムの表面が粗すぎると電磁変換特性が
悪くなるという問題があり、例えば出力の低下やドロッ
プアウトの増加が発生する。一方、逆に電磁変換特性を
向上させる目的でフィルム表面を鏡面のような高度に平
滑な状態ににするとすべり性が著しく低下し、テープの
走行性や耐久性が悪くなるという問題がある。
支持体（ベースフィルム）として、従来よりポリエチレ
ンテレフタレートなどのポリエステルからなるフィルム
が一般的に用いられてきたが、最近では耐熱性や強度な
どに優れた芳香族ポリイミドフィルムの使用が提案され
ている。非磁性支持体の特性として、上記のように耐熱
性や強度は非常に重要なものであるが、同時に、支持体
の表面状態が適当な状態にあることも、優れた磁気記録
媒体を得るためには重大な要件となる。すなわち磁性物
質層をベースフィルムの表面に蒸着等により形成した金
属薄膜タイプの磁気記録媒体は高密度記録が可能である
が、このように形成された磁性層はその厚さが非常に薄
いため、使用するベースフィルムの表面形態がそのまま
磁性層の表面形態となって現われる傾向がある。このた
め、ベースフィルムの表面が粗すぎると電磁変換特性が
悪くなるという問題があり、例えば出力の低下やドロッ
プアウトの増加が発生する。一方、逆に電磁変換特性を
向上させる目的でフィルム表面を鏡面のような高度に平
滑な状態ににするとすべり性が著しく低下し、テープの
走行性や耐久性が悪くなるという問題がある。
【０００３】上記の理由により、テープの走行性、耐摩
耗性及び耐久性の向上のためにテープ表面に適度な凹凸
を付与する方法が種々提案されている。例えば、テープ
表面に微粒子を含んだ塗布液をコーティングする方法、
微粒子をベースフィルム中に添加してフィルム表面に微
細突起を付与する方法、ベースフィルム表面にポリマー
溶液をコーティングした後、フィルムを延伸することに
より不連続膜を形成する方法等が提案されている。
耗性及び耐久性の向上のためにテープ表面に適度な凹凸
を付与する方法が種々提案されている。例えば、テープ
表面に微粒子を含んだ塗布液をコーティングする方法、
微粒子をベースフィルム中に添加してフィルム表面に微
細突起を付与する方法、ベースフィルム表面にポリマー
溶液をコーティングした後、フィルムを延伸することに
より不連続膜を形成する方法等が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、強度および
耐熱性に優れ、磁気記録媒体のような高密度記録媒体の
ベースフィルムとして使用するのに適したポリイミドフ
ィルムを提供することを目的とする。本発明は、強度お
よび耐熱性に優れ、磁気記録媒体のような高密度記録媒
体のベースフィルムとして使用するのに特に適した、適
度の凹凸を有する粗面化されたポリイミドフィルムを提
供することも、その目的とする。
耐熱性に優れ、磁気記録媒体のような高密度記録媒体の
ベースフィルムとして使用するのに適したポリイミドフ
ィルムを提供することを目的とする。本発明は、強度お
よび耐熱性に優れ、磁気記録媒体のような高密度記録媒
体のベースフィルムとして使用するのに特に適した、適
度の凹凸を有する粗面化されたポリイミドフィルムを提
供することも、その目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、全芳香族テト
ラカルボン酸成分に対して１５〜８５モル％のビフェニ
ルテトラカルボン酸類と８５〜１５モル％のピロメリッ
ト酸類とからなる芳香族テトラカルボン酸成分と、全芳
香族ジアミン成分に対して１０〜３０モル％（３０モル
％は含まず）のフェニレンジアミン類と９０〜７０モル
％（７０モル％は含まず）のジアミノジフェニルエーテ
ル類とからなる芳香族ジアミン成分とから得られたポリ
アミック酸を支持体上に流延、加熱して得られたポリイ
ミドフィルムにある。上記のポリイミドフィルムは、フ
ィルム表面に直径０．０２〜２μｍの微細突起が１０4
〜１０8 個／ｍｍ2 の範囲の数で存在する粗面化された
ポリイミドフィルムであることが好ましい。また、上記
のポリイミドフィルムにおいて、芳香族ジアミン成分
が、全芳香族ジアミン成分に対して１０〜２０モル％の
フェニレンジアミン類と９０〜８０モル％のジアミノジ
フェニルエーテル類とからなることが好ましい。
ラカルボン酸成分に対して１５〜８５モル％のビフェニ
ルテトラカルボン酸類と８５〜１５モル％のピロメリッ
ト酸類とからなる芳香族テトラカルボン酸成分と、全芳
香族ジアミン成分に対して１０〜３０モル％（３０モル
％は含まず）のフェニレンジアミン類と９０〜７０モル
％（７０モル％は含まず）のジアミノジフェニルエーテ
ル類とからなる芳香族ジアミン成分とから得られたポリ
アミック酸を支持体上に流延、加熱して得られたポリイ
ミドフィルムにある。上記のポリイミドフィルムは、フ
ィルム表面に直径０．０２〜２μｍの微細突起が１０4
〜１０8 個／ｍｍ2 の範囲の数で存在する粗面化された
ポリイミドフィルムであることが好ましい。また、上記
のポリイミドフィルムにおいて、芳香族ジアミン成分
が、全芳香族ジアミン成分に対して１０〜２０モル％の
フェニレンジアミン類と９０〜８０モル％のジアミノジ
フェニルエーテル類とからなることが好ましい。
【０００６】以下、本発明について、代表的な実施の態
様を示して詳しく説明する。本発明の粗面化ポリイミド
の製造法において使用される芳香族ポリアミック酸は、
全芳香族テトラカルボン酸成分に対して１５〜８５モル
％のビフェニルテトラカルボン酸類と８５〜１５モル％
のピロメリット酸類とからなる芳香族テトラカルボン酸
成分、そして全芳香族ジアミン成分に対して１０〜３０
モル％（３０モル％は含まず）のフェニレンジアミン類
と９０〜７０モル％（７０モル％は含まず）のジアミノ
ジフェニルエーテル類とからなる芳香族ジアミン成分
を、実質的に等モル使用し、有機極性溶媒中にて重合し
て得られる芳香族ポリアミック酸である。ビフェニルテ
トラカルボン酸類としては、ビフェニルテトラカルボン
酸、その二無水物、またはその低級アルキルエステル、
さらにそれらの混合物を挙げることができる。ビフェニ
ルテトラカルボン酸類としては、2,3',3,4'-ビフェニル
テトラカルボン酸類、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカル
ボン酸類を好適に挙げることができる。
様を示して詳しく説明する。本発明の粗面化ポリイミド
の製造法において使用される芳香族ポリアミック酸は、
全芳香族テトラカルボン酸成分に対して１５〜８５モル
％のビフェニルテトラカルボン酸類と８５〜１５モル％
のピロメリット酸類とからなる芳香族テトラカルボン酸
成分、そして全芳香族ジアミン成分に対して１０〜３０
モル％（３０モル％は含まず）のフェニレンジアミン類
と９０〜７０モル％（７０モル％は含まず）のジアミノ
ジフェニルエーテル類とからなる芳香族ジアミン成分
を、実質的に等モル使用し、有機極性溶媒中にて重合し
て得られる芳香族ポリアミック酸である。ビフェニルテ
トラカルボン酸類としては、ビフェニルテトラカルボン
酸、その二無水物、またはその低級アルキルエステル、
さらにそれらの混合物を挙げることができる。ビフェニ
ルテトラカルボン酸類としては、2,3',3,4'-ビフェニル
テトラカルボン酸類、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカル
ボン酸類を好適に挙げることができる。
【０００７】ピロメリット酸類としては、ピロメリット
酸、その二無水物、またはその低級アルキルエステル、
さらにそれらの混合物を挙げることができる。上記芳香
族テトラカルボン酸成分には、全芳香族テトラカルボン
酸成分に対して７０モル％以下、好ましくは５０モル％
以下、さらに好ましくは３０モル％以下、の量にて他の
芳香族テトラカルボン酸類を使用してもよい。そのよう
な他の芳香族テトラカルボン酸類の例としては、3,3',
4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2-ビス（3,4
-ジカルボキシフェニル）プロパン、ビス（3,4-ジカル
ボキシフェニル）メタン、ビス（3,4-ジカルボキシフェ
ニル）エーテル、ビス（3,4-ジカルボキシフェニル）ホ
スフィン、およびこれらのカルボン酸の無水物、低級ア
ルキルエステルなどを挙げることができる。
酸、その二無水物、またはその低級アルキルエステル、
さらにそれらの混合物を挙げることができる。上記芳香
族テトラカルボン酸成分には、全芳香族テトラカルボン
酸成分に対して７０モル％以下、好ましくは５０モル％
以下、さらに好ましくは３０モル％以下、の量にて他の
芳香族テトラカルボン酸類を使用してもよい。そのよう
な他の芳香族テトラカルボン酸類の例としては、3,3',
4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2-ビス（3,4
-ジカルボキシフェニル）プロパン、ビス（3,4-ジカル
ボキシフェニル）メタン、ビス（3,4-ジカルボキシフェ
ニル）エーテル、ビス（3,4-ジカルボキシフェニル）ホ
スフィン、およびこれらのカルボン酸の無水物、低級ア
ルキルエステルなどを挙げることができる。
【０００８】フェニレンジアミン類としては、1,4-ジア
ミノベンゼン（パラフェニレンジアミン）、1,3-ジアミ
ノベンゼン、1,2-ジアミノベンゼンなどを挙げることが
できる。また、ジアミノジフェニルエーテル類として
は、4,4'- ジアミノミフェニルエーテル、3,4-ジアミノ
ジフェニルエーテル、3,3'- ジアミノジフェニルエーテ
ルを好適に挙げることができる。芳香族ジアミン成分に
は、少量（３０モル％以下）の他の芳香族ジアミン類を
使用してもよい。そのような他の芳香族ジアミン成分と
しては、4,4'- ジアミノジフェニルチオエーテルなどの
ジフェニルチオエーテル系ジアミン、3,3'- ジアミノベ
ンゾフェノン、4,4'- ジアミノベンゾフェノンなどのベ
ンゾフェノン系ジアミン、3,3'- ジアミノジフェニルホ
スフィン、4,4'- ジアミノジフェニルホスフィンなどの
ジフェニルホスフィン系ジアミン、3,3'- ジアミノジフ
ェニルメタン、4,4'- ジアミノジフェニルメタンなどの
ジフェニルメタン系ジアミンなどを挙げることができ
る。
ミノベンゼン（パラフェニレンジアミン）、1,3-ジアミ
ノベンゼン、1,2-ジアミノベンゼンなどを挙げることが
できる。また、ジアミノジフェニルエーテル類として
は、4,4'- ジアミノミフェニルエーテル、3,4-ジアミノ
ジフェニルエーテル、3,3'- ジアミノジフェニルエーテ
ルを好適に挙げることができる。芳香族ジアミン成分に
は、少量（３０モル％以下）の他の芳香族ジアミン類を
使用してもよい。そのような他の芳香族ジアミン成分と
しては、4,4'- ジアミノジフェニルチオエーテルなどの
ジフェニルチオエーテル系ジアミン、3,3'- ジアミノベ
ンゾフェノン、4,4'- ジアミノベンゾフェノンなどのベ
ンゾフェノン系ジアミン、3,3'- ジアミノジフェニルホ
スフィン、4,4'- ジアミノジフェニルホスフィンなどの
ジフェニルホスフィン系ジアミン、3,3'- ジアミノジフ
ェニルメタン、4,4'- ジアミノジフェニルメタンなどの
ジフェニルメタン系ジアミンなどを挙げることができ
る。
【０００９】重合反応は、各モノマー成分および／また
は両モノマー成分が生成するオリゴマー、または低分子
のポリアミック酸を均一に溶解する有機極性溶媒を用い
て行なう。そのような有機極性溶媒の例としては、N,N-
ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-
メチル-2- ピロリドン、N-メチルカプロラクタムなどの
アミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフ
ォスホルアミド、ジメチルスルホン、テトラメチレンス
ルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン、ピリジン、
エチレングリコールなどを挙げることができる。これら
の有機極性溶媒は、ベンゼン、トルエン、ベンゾニトリ
ル、キシレン、ソルベントナフサ、およびジオキサンの
ような他の有機溶媒と混合して使用することもできる。
各モノマー成分を重合してポリアミック酸を製造する反
応液に任意に公知の添加成分を添加することもできる。
は両モノマー成分が生成するオリゴマー、または低分子
のポリアミック酸を均一に溶解する有機極性溶媒を用い
て行なう。そのような有機極性溶媒の例としては、N,N-
ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-
メチル-2- ピロリドン、N-メチルカプロラクタムなどの
アミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフ
ォスホルアミド、ジメチルスルホン、テトラメチレンス
ルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン、ピリジン、
エチレングリコールなどを挙げることができる。これら
の有機極性溶媒は、ベンゼン、トルエン、ベンゾニトリ
ル、キシレン、ソルベントナフサ、およびジオキサンの
ような他の有機溶媒と混合して使用することもできる。
各モノマー成分を重合してポリアミック酸を製造する反
応液に任意に公知の添加成分を添加することもできる。
【００１０】重合反応の実施に際して、有機極性溶媒中
の全モノマーの濃度は５〜４０重量％、好ましくは６〜
３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％とされ
る。芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分
との重合反応は、例えば、それぞれを実質的に等モルに
て混合し、反応温度１００℃以下、好ましくは８０℃以
下で約０．２〜６０時間の反応を行なわせることにより
実施する。本発明のポリイミドフィルムの製造に利用さ
れるポリアミック酸溶液は、３０℃で測定した回転粘度
が約０．１〜５００００ポイズ、特に０．５〜３０００
０ポイズ、さらに好ましくは１〜２００００ポイズ程度
のものであることが、このポリアミック酸溶液を取り扱
う作業性の面から好ましい。従って、重合反応は、生成
するポリアミック酸が上記のような粘度を示す程度にま
で実施することが望ましい。
の全モノマーの濃度は５〜４０重量％、好ましくは６〜
３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％とされ
る。芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分
との重合反応は、例えば、それぞれを実質的に等モルに
て混合し、反応温度１００℃以下、好ましくは８０℃以
下で約０．２〜６０時間の反応を行なわせることにより
実施する。本発明のポリイミドフィルムの製造に利用さ
れるポリアミック酸溶液は、３０℃で測定した回転粘度
が約０．１〜５００００ポイズ、特に０．５〜３０００
０ポイズ、さらに好ましくは１〜２００００ポイズ程度
のものであることが、このポリアミック酸溶液を取り扱
う作業性の面から好ましい。従って、重合反応は、生成
するポリアミック酸が上記のような粘度を示す程度にま
で実施することが望ましい。
【００１１】本発明のポリイミドフィルムの製造に際し
ては、たとえば、まず前述の芳香族ポリアミック酸の溶
液を、まず適当な支持体（例えば、金属、セラミック、
プラスチック製のロール、または金属ベルト、あるいは
金属薄膜テープが供給されつつあるロールまたはベル
ト）の表面上に流延して、約１０〜２０００μｍ、特に
２０〜１０００μｍ程度の均一な厚さのポリアミック酸
溶液を膜状態に形成し、次いで熱風、赤外線等の熱源を
利用して６０〜１６０℃に加熱して、溶剤を徐々に除去
することにより、自己支持性になるまで前乾燥を行い、
該支持体より自己支持性フィルムを剥離する。剥離され
る自己支持性フィルムは、その加熱減量が１０〜６５重
量％の範囲にあることが好ましく、さらに１５〜６０重
量％の範囲にあることが特に好ましい。
ては、たとえば、まず前述の芳香族ポリアミック酸の溶
液を、まず適当な支持体（例えば、金属、セラミック、
プラスチック製のロール、または金属ベルト、あるいは
金属薄膜テープが供給されつつあるロールまたはベル
ト）の表面上に流延して、約１０〜２０００μｍ、特に
２０〜１０００μｍ程度の均一な厚さのポリアミック酸
溶液を膜状態に形成し、次いで熱風、赤外線等の熱源を
利用して６０〜１６０℃に加熱して、溶剤を徐々に除去
することにより、自己支持性になるまで前乾燥を行い、
該支持体より自己支持性フィルムを剥離する。剥離され
る自己支持性フィルムは、その加熱減量が１０〜６５重
量％の範囲にあることが好ましく、さらに１５〜６０重
量％の範囲にあることが特に好ましい。
【００１２】ポリアミック酸溶液からポリイミドフィル
ムを製造するに際しては、ポリアミック酸溶液に任意に
公知の添加成分を添加してもよい。上記の自己支持性フ
ィルムの加熱減量とは、測定対称のフィルムを４２０℃
で２０分間乾燥し、乾燥前の重量Ｗ1 と乾燥後の重量Ｗ
2 とから次式によって求めた値である。 加熱減量（重量％）＝｛（Ｗ1 −Ｗ2 ）／Ｗ1 ｝×１０
０
ムを製造するに際しては、ポリアミック酸溶液に任意に
公知の添加成分を添加してもよい。上記の自己支持性フ
ィルムの加熱減量とは、測定対称のフィルムを４２０℃
で２０分間乾燥し、乾燥前の重量Ｗ1 と乾燥後の重量Ｗ
2 とから次式によって求めた値である。 加熱減量（重量％）＝｛（Ｗ1 −Ｗ2 ）／Ｗ1 ｝×１０
０
【００１３】次に、上記自己支持性フィルムを、フィル
ムに含まれる溶媒の除去及びアミド・酸結合のイミド結
合への転換を行うために、約１００℃以上の温度で加熱
し、これにより芳香族ポリイミドフィルムを製造する。
この芳香族ポリイミドフィルムを製造する時の最高加熱
温度を該芳香族ポリイミドのガラス転移温度（Ｔｇ）以
上、好ましくはＴｇよりも２０℃以上、さらに好ましく
は３０〜２００℃、とくに好ましくは５０〜１６０℃の
温度にすることにより、生成する芳香族ポリイミドフィ
ルム表面に、目的の条件にあう微細突起を形成すること
ができる。
ムに含まれる溶媒の除去及びアミド・酸結合のイミド結
合への転換を行うために、約１００℃以上の温度で加熱
し、これにより芳香族ポリイミドフィルムを製造する。
この芳香族ポリイミドフィルムを製造する時の最高加熱
温度を該芳香族ポリイミドのガラス転移温度（Ｔｇ）以
上、好ましくはＴｇよりも２０℃以上、さらに好ましく
は３０〜２００℃、とくに好ましくは５０〜１６０℃の
温度にすることにより、生成する芳香族ポリイミドフィ
ルム表面に、目的の条件にあう微細突起を形成すること
ができる。
【００１４】上記の加熱条件にて得られた芳香族ポリイ
ミドフィルム表面上に形成される微細突起の大きさの大
部分は０．０２〜２μｍの範囲にある。ここで言う微細
突起の大きさとは、フィルム表面を電子顕微鏡で１万倍
に拡大した場合に観察される微細突起の最大径部分の長
さを言う。
ミドフィルム表面上に形成される微細突起の大きさの大
部分は０．０２〜２μｍの範囲にある。ここで言う微細
突起の大きさとは、フィルム表面を電子顕微鏡で１万倍
に拡大した場合に観察される微細突起の最大径部分の長
さを言う。
【００１５】本発明の芳香族ポリイミドフィルム表面上
には、直径が０．０２〜２μｍの微細突起が、１０4 〜
１０8 個／ｍｍ2 、好ましくは１０5 〜１０8 個／ｍｍ
2 の範囲の数（微細突起数）で存在することが好まし
い。微細突起数は、更に好ましくは１０6 〜１０8 個／
ｍｍ2 の範囲にある。この微細突起の数は、フィルム表
面を電子顕微鏡で１万倍に拡大した時に観察される突起
の最大径が０．０２μ以上のものについて個数を数えて
得られる数値である。
には、直径が０．０２〜２μｍの微細突起が、１０4 〜
１０8 個／ｍｍ2 、好ましくは１０5 〜１０8 個／ｍｍ
2 の範囲の数（微細突起数）で存在することが好まし
い。微細突起数は、更に好ましくは１０6 〜１０8 個／
ｍｍ2 の範囲にある。この微細突起の数は、フィルム表
面を電子顕微鏡で１万倍に拡大した時に観察される突起
の最大径が０．０２μ以上のものについて個数を数えて
得られる数値である。
【００１６】芳香族ポリイミドフィルム表面上に形成さ
れる微細突起の大きさと個数は、芳香族ポリイミドフィ
ルムの組成、ガラス転移温度と最高加熱温度によって変
化する。一般的な傾向としてガラス転移温度と最高加熱
温度の差が大きくなるほど、フィルム表面上に形成され
る微細突起の大きさが上記の範囲内で大きくなり、また
その個数が増大する。さらに芳香族ジアミン成分として
4,4'- ジアミノジフェニルエーテル成分を使用した場合
に、そしてその使用量が多くなるほど、フィルム表面上
に形成される微細突起の大きさと個数が増加する傾向が
ある。また、ポリアミック酸フィルムをポリイミドフィ
ルムに変換する際における最高加熱温度が同じであって
も、昇温速度の相違により表面の微細突起の形成される
様子が異なる場合がある。また、一般的に言えば、フィ
ルム厚みが薄くなると微細突起の大きさ、個数が減少す
る傾向がある。
れる微細突起の大きさと個数は、芳香族ポリイミドフィ
ルムの組成、ガラス転移温度と最高加熱温度によって変
化する。一般的な傾向としてガラス転移温度と最高加熱
温度の差が大きくなるほど、フィルム表面上に形成され
る微細突起の大きさが上記の範囲内で大きくなり、また
その個数が増大する。さらに芳香族ジアミン成分として
4,4'- ジアミノジフェニルエーテル成分を使用した場合
に、そしてその使用量が多くなるほど、フィルム表面上
に形成される微細突起の大きさと個数が増加する傾向が
ある。また、ポリアミック酸フィルムをポリイミドフィ
ルムに変換する際における最高加熱温度が同じであって
も、昇温速度の相違により表面の微細突起の形成される
様子が異なる場合がある。また、一般的に言えば、フィ
ルム厚みが薄くなると微細突起の大きさ、個数が減少す
る傾向がある。
【００１７】本発明のポリイミドフィルムの厚みは、通
常１〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは２〜５０μ
ｍの範囲にある。
常１〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは２〜５０μ
ｍの範囲にある。
【００１８】
【実施例】以下の実施例における各々の物性値と特性の
評価方法は以下の通りである。 （１）ガラス転移温度（Ｔｇ）：理学電気（株）製ＴＭ
Ａ装置で引張法により求めた。 （２）微細突起数：フィルム表面を電子顕微鏡で１万倍
で観察し、突起の最大径が０．０２μｍ以上のものにつ
いて個数を数えた。 （３）電磁変換特性：中心周波数４．５ＭＨｚで記録、
再生した場合のＳ／Ｎ比（相対値）を比較例１４を基準
（０ｄＢ）として測定した。 Ａ：出力が−３ｄＢより大きい。 Ｂ：出力が−３ｄＢより小さい。 （４）走行性：テープ走行の乱れによる画面のみだれを
観察した。 Ａ：走行性順調で再生画面のみだれなし。 Ｂ：走行性が悪く再生画面がみだれる。 （５）耐久性：１００回走行させた後の磁性面のすり傷
や出力低下をみた。 Ａ：すり傷が殆どないか、弱いすり傷。出力低下が−３
ｄＢより小さい。 Ｂ：強いすり傷が認められる。出力低下が−３ｄＢより
大きい。
評価方法は以下の通りである。 （１）ガラス転移温度（Ｔｇ）：理学電気（株）製ＴＭ
Ａ装置で引張法により求めた。 （２）微細突起数：フィルム表面を電子顕微鏡で１万倍
で観察し、突起の最大径が０．０２μｍ以上のものにつ
いて個数を数えた。 （３）電磁変換特性：中心周波数４．５ＭＨｚで記録、
再生した場合のＳ／Ｎ比（相対値）を比較例１４を基準
（０ｄＢ）として測定した。 Ａ：出力が−３ｄＢより大きい。 Ｂ：出力が−３ｄＢより小さい。 （４）走行性：テープ走行の乱れによる画面のみだれを
観察した。 Ａ：走行性順調で再生画面のみだれなし。 Ｂ：走行性が悪く再生画面がみだれる。 （５）耐久性：１００回走行させた後の磁性面のすり傷
や出力低下をみた。 Ａ：すり傷が殆どないか、弱いすり傷。出力低下が−３
ｄＢより小さい。 Ｂ：強いすり傷が認められる。出力低下が−３ｄＢより
大きい。
【００１９】［参考例］内容積１リットルの円筒型重合
槽に、N,N-ジメチルアセトアミド４４８ｇ、ｐ−フェニ
レンジアミン（ＰＰＤ）２２．７０９ｇ（０．２１モ
ル）、そして4,4'- ジアミノジフェニルエーテル（4,4'
−ＤＡＤＥ）１８．０２２ｇ（０．０９モル）を入れ、
窒素中室温（約３０℃）で撹拌した。この溶液に3,3',
4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（s-ＢＰＤ
Ａ）４４．１３３ｇ（０．１５モル）およびピロメリッ
ト酸二無水物（ＰＭＤＡ）３２．７１８ｇ（０．１５モ
ル）を添加し、６時間撹拌してポリアミック酸の溶液を
得た。この溶液の対数粘度（３０℃、０．５ｇ／１００
ｍＬ、N,N-ジメチルアセトアミド）は２．５４であり、
回転粘度は２４００ポイズ（３０℃）であった。粘度は
東京計器（株）製Ｅ粘度計を使用して測定した。
槽に、N,N-ジメチルアセトアミド４４８ｇ、ｐ−フェニ
レンジアミン（ＰＰＤ）２２．７０９ｇ（０．２１モ
ル）、そして4,4'- ジアミノジフェニルエーテル（4,4'
−ＤＡＤＥ）１８．０２２ｇ（０．０９モル）を入れ、
窒素中室温（約３０℃）で撹拌した。この溶液に3,3',
4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（s-ＢＰＤ
Ａ）４４．１３３ｇ（０．１５モル）およびピロメリッ
ト酸二無水物（ＰＭＤＡ）３２．７１８ｇ（０．１５モ
ル）を添加し、６時間撹拌してポリアミック酸の溶液を
得た。この溶液の対数粘度（３０℃、０．５ｇ／１００
ｍＬ、N,N-ジメチルアセトアミド）は２．５４であり、
回転粘度は２４００ポイズ（３０℃）であった。粘度は
東京計器（株）製Ｅ粘度計を使用して測定した。
【００２０】上記のポリアミック酸溶液をガラス板上に
流延してポリアミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜
を１２０℃の熱風で２０分間乾燥して溶媒を留去して、
ポリアミック酸フィルムを製造した。次に、ポリアミッ
ク酸フィルムをガラス板からはがした。このフィルムの
加熱減量は３４．１重量％であった。このポリアミック
酸フィルムを金属枠にとり付けて、熱風乾燥器内で２０
０℃から４００℃まで２０分間で昇温して、厚さ３５μ
ｍの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。この芳香族
ポリイミドフィルムのガラス転移温度は３６０℃であ
り、得られた芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起
数は５．０×１０6 個／ｍｍ2 であった。
流延してポリアミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜
を１２０℃の熱風で２０分間乾燥して溶媒を留去して、
ポリアミック酸フィルムを製造した。次に、ポリアミッ
ク酸フィルムをガラス板からはがした。このフィルムの
加熱減量は３４．１重量％であった。このポリアミック
酸フィルムを金属枠にとり付けて、熱風乾燥器内で２０
０℃から４００℃まで２０分間で昇温して、厚さ３５μ
ｍの芳香族ポリイミドフィルムを作成した。この芳香族
ポリイミドフィルムのガラス転移温度は３６０℃であ
り、得られた芳香族ポリイミドフィルム表面の微細突起
数は５．０×１０6 個／ｍｍ2 であった。
【００２１】［実施例１〜３］ｐ−フェニレンジアミン
（ＰＰＤ）、4,4'- ジアミノジフェニルエーテル（4,4'
−ＤＡＤＥ）、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ）、そしてピロメリット酸二無
水物（ＰＭＤＡ）の使用量をそれぞれ第１表に示す使用
量に変えた以外は、参考例と同様にしてポリアミック酸
を得た。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に流
延してポリアミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜を
１２０℃の熱風で２０分間乾燥して溶媒を留去して、ポ
リアミック酸フィルムを形成したのち、このフィルムを
はがした。
（ＰＰＤ）、4,4'- ジアミノジフェニルエーテル（4,4'
−ＤＡＤＥ）、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ）、そしてピロメリット酸二無
水物（ＰＭＤＡ）の使用量をそれぞれ第１表に示す使用
量に変えた以外は、参考例と同様にしてポリアミック酸
を得た。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に流
延してポリアミック酸溶液の皮膜を形成し、その皮膜を
１２０℃の熱風で２０分間乾燥して溶媒を留去して、ポ
リアミック酸フィルムを形成したのち、このフィルムを
はがした。
【００２２】このポリアミック酸フィルムを金属枠にと
り付けて、熱風乾燥器内で２００℃から２５分間で昇温
して、第１表に記載の厚さを有する芳香族ポリイミドフ
ィルムを製造した。得られた芳香族ポリイミドフィルム
の諸特性を表１に示す。
り付けて、熱風乾燥器内で２００℃から２５分間で昇温
して、第１表に記載の厚さを有する芳香族ポリイミドフ
ィルムを製造した。得られた芳香族ポリイミドフィルム
の諸特性を表１に示す。
【００２３】
【表１】 表１ ──────────────────────────────────── 実施例 カルボン酸 ジアミン 最高加熱 ポリイミド フィルム 微細突起数 BPDA/PMDA PPD/DADE 温度 ℃ Ｔｇ ℃ 厚 μｍ ×１０6 ──────────────────────────────────── １ 0.09/0.21 0.06/0.24 ４５０ ３３５ ３６ ２７ ２ 0.06/0.24 0.06/0.24 ４５０ ３５７ ２８ ２４ ３ 0.06/0.24 0.03/0.27 ４５０ ３２８ ２４ １９ ────────────────────────────────────
【００２４】注：表１において、ＢＰＤＡはｓ−ＢＰＤ
Ａを表わし、ＤＡＤＥは、４，４'−ＤＡＤＥを表わ
す。
Ａを表わし、ＤＡＤＥは、４，４'−ＤＡＤＥを表わ
す。
【００２５】［磁気テープ支持体としての評価］実施例
１〜３のポリイミドフィルム表面に、真空蒸着により厚
さ０．２μｍのＣｏ−Ｃｒ合金層を形成して磁気テープ
とし、磁気テープの電磁変換特性、走行性および耐久性
を前記の方法により評価したところ、いずれの項目につ
いてもＡの評価が得られた。
１〜３のポリイミドフィルム表面に、真空蒸着により厚
さ０．２μｍのＣｏ−Ｃｒ合金層を形成して磁気テープ
とし、磁気テープの電磁変換特性、走行性および耐久性
を前記の方法により評価したところ、いずれの項目につ
いてもＡの評価が得られた。
【００２６】
【発明の効果】本発明の芳香族ポリイミドフィルムは、
芳香族カルボン酸成分として、それぞれ特定量のビフェ
ニルテトラカルボン酸類とピロメリット酸類とを併用し
て得られたものであり、そのような芳香族ポリイミドフ
ィルムは、優れた機械的物性、例えば高い引張強度（通
常は約２０ｋｇ／ｍｍ2 以上、２５ｋｇ／ｍｍ2 以上の
ものが多い）、適度な弾性率（通常は約３００〜９００
ｋｇ／ｍｍ2 ）を有し、また優れた熱的性質、例えば、
高い二次転移温度（通常は約３００℃以上）、高い熱分
解温度（通常は約４００℃以上）を有するため、特に磁
気テープなどの磁気記録媒体の支持体として優れた特性
を示す。
芳香族カルボン酸成分として、それぞれ特定量のビフェ
ニルテトラカルボン酸類とピロメリット酸類とを併用し
て得られたものであり、そのような芳香族ポリイミドフ
ィルムは、優れた機械的物性、例えば高い引張強度（通
常は約２０ｋｇ／ｍｍ2 以上、２５ｋｇ／ｍｍ2 以上の
ものが多い）、適度な弾性率（通常は約３００〜９００
ｋｇ／ｍｍ2 ）を有し、また優れた熱的性質、例えば、
高い二次転移温度（通常は約３００℃以上）、高い熱分
解温度（通常は約４００℃以上）を有するため、特に磁
気テープなどの磁気記録媒体の支持体として優れた特性
を示す。
【００２７】また、本発明のポリイミドフィルムは粗面
化ポリイミドフィルムとした場合、その表面に適度な量
の微細突起を有するため、その上に磁気記録層を形成し
た場合には、記録層の表面が、ほぼ同等な適度な量の微
細突起を有するようになる。従って、磁気記録媒体用ベ
ースフィルム、特に金属薄膜磁気記録媒体用ベースフィ
ルムとして使用した場合には、得られる磁気記録媒体の
電磁変換特性が良好になり、走行性、耐久性も向上す
る。
化ポリイミドフィルムとした場合、その表面に適度な量
の微細突起を有するため、その上に磁気記録層を形成し
た場合には、記録層の表面が、ほぼ同等な適度な量の微
細突起を有するようになる。従って、磁気記録媒体用ベ
ースフィルム、特に金属薄膜磁気記録媒体用ベースフィ
ルムとして使用した場合には、得られる磁気記録媒体の
電磁変換特性が良好になり、走行性、耐久性も向上す
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｋ 79:00 Ｂ２９Ｌ 7:00
Claims (3)
- 【請求項１】 全芳香族テトラカルボン酸成分に対して
１５〜８５モル％のビフェニルテトラカルボン酸類と８
５〜１５モル％のピロメリット酸類とからなる芳香族テ
トラカルボン酸成分と、全芳香族ジアミン成分に対して
１０〜３０モル％（３０モル％は含まず）のフェニレン
ジアミン類と９０〜７０モル％（７０モル％は含まず）
のジアミノジフェニルエーテル類とからなる芳香族ジア
ミン成分とから得られたポリアミック酸を支持体上に流
延、加熱して得られたポリイミドフィルム。 - 【請求項２】 フィルム表面に直径０．０２〜２μｍの
微細突起が１０4 〜１０8 個／ｍｍ2 の範囲の数で存在
する請求項１に記載のポリイミドフィルム。 - 【請求項３】 芳香族ジアミン成分が、全芳香族ジアミ
ン成分に対して１０〜２０モル％のフェニレンジアミン
類と９０〜８０モル％のジアミノジフェニルエーテル類
とからなる請求項１及び２のうちのいずれかの項に記載
のポリイミドフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15925197A JP2982745B2 (ja) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | ポリイミドフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15925197A JP2982745B2 (ja) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | ポリイミドフィルム |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9428795A Division JP2722333B2 (ja) | 1995-03-27 | 1995-03-27 | 粗面化ポリイミドフィルムの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1067851A true JPH1067851A (ja) | 1998-03-10 |
| JP2982745B2 JP2982745B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=15689671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15925197A Expired - Lifetime JP2982745B2 (ja) | 1997-06-02 | 1997-06-02 | ポリイミドフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2982745B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004062873A1 (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Teijin Limited | ポリイミドフィルムの製造法 |
| WO2005061227A1 (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Teijin Limited | 積層体 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6956098B2 (en) | 2002-09-20 | 2005-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | High modulus polyimide compositions useful as dielectric substrates for electronics applications, and methods relating thereto |
-
1997
- 1997-06-02 JP JP15925197A patent/JP2982745B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004062873A1 (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Teijin Limited | ポリイミドフィルムの製造法 |
| WO2005061227A1 (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Teijin Limited | 積層体 |
| JPWO2005061227A1 (ja) * | 2003-12-24 | 2007-12-13 | 帝人株式会社 | 積層体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2982745B2 (ja) | 1999-11-29 |
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|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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