JPH106195A - ガラス基板面取り装置 - Google Patents

ガラス基板面取り装置

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JPH106195A
JPH106195A JP16317696A JP16317696A JPH106195A JP H106195 A JPH106195 A JP H106195A JP 16317696 A JP16317696 A JP 16317696A JP 16317696 A JP16317696 A JP 16317696A JP H106195 A JPH106195 A JP H106195A
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JP
Japan
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glass substrate
thin film
edge
chamfering
stage
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JP16317696A
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English (en)
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Hisao Yamazaki
久雄 山▲ざき▼
Haruki Okada
春樹 岡田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ガラス基板の面取り加工における薄膜領域への
カレットの付着を防止する。 【解決手段】上面にガラス基板1を吸着するための吸着
孔3aを有してガラス基板1の端縁を突出させて載置固
定するステージ3と、ガラス基板1の端縁に沿って移動
しつつ当該端縁の面取り加工を行う回転砥石8と、ガラ
ス基板1の外周面に開放端縁を密着して当該ガラス基板
に形成した薄膜領域5を内包して密閉する防塵カバー9
と、ステージ3に対して防塵カバー9を着脱するカバー
移載装置11と、吸着孔3aに連通する減圧管7と、防
塵カバー9の内部と減圧管7を連結する連結チューブ1
0とを備え、ガラス基板1の薄膜領域5を回転砥石8に
よる面取り加工で生じる加工塵埃から遮断するごとく構
成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はガラス基板の面取り
に係り、特に液晶表示装置を構成する液晶パネルの切断
面を成形するためのガラス基板面取り装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、画像表示デバイスとして液晶表示
装置が多くの分野において使用されるようになった。
【0003】この種の液晶表示装置は、表示窓をもつ上
フレームと、駆動回路基板を一体化したガラス基板等の
少なくとも一方が透明な一対の基板からなる液晶パネル
と、光拡散板と導光板等からなる背面照明部材である導
光体組立と、少なくとも一辺に線状のバクライト光源を
搭載する中間フレームと、下フレーム等を有し、これら
を上記の順で積層し、上記上フレームと下フレームとを
連結固定してなるのが一般的である。なお、中間フレー
ムと下フレームとを一体化したものもある。
【0004】そして、上記液晶パネルを構成する一対の
ガラス基板の液晶対向面には走査電極、信号電極、配向
膜、その他の機能膜群を有し、それらの対向ギャップに
シリカあるいはプラスチック等からなる略々球形あるい
は断面円形の微小スペーサを分散させて介在させること
により一対の基板を所定のセル厚(以下、単にギャップ
とも言う)で保持させるようにしている。
【0005】カラー対応の液晶表示装置では、上記一対
のガラス基板の一方のガラス基板(例えば、上ガラス基
板)の内面に複数色のカラーフィルタ層を始め、何れか
のガラス基板には画素選択用の透明電極などの機能膜群
が形成され、上記一方のガラス基板または他方のガラス
基板(下ガラス基板)には信号印加用の透明電極(画素
の点灯/非点灯を制御する制御手段として薄膜トランジ
スタ等のスイッチング素子を用いたTFT型などのアク
ティブ方式の液晶表示装置では、下ガラス基板に画素選
択用の薄膜トランジスタ等のスイッチング素子およびそ
の信号電極)等の上記一方のガラス基板とは異なる構成
の機能膜群が設けられている。
【0006】なお、この種の液晶表示装置の従来技術を
開示したものとしては、特公昭51−13666号公
報、特開昭63−309921号公報を挙げることがで
きる。図10は本発明を適用するTFT型液晶表示モジ
ュールの構造例を説明する展開斜視図である。
【0007】同図において、MDLは液晶表示モジュー
ル、SHDは上フレームである金属製のシールドケー
ス、WDは液晶表示モジュールの有効画面を画定する表
示窓、PNLは液晶表示素子からなる液晶パネル、PC
B1はドレイン側回路基板、PCB2はゲート側回路基
板、PCB3はインターフェース回路基板、PRSはプ
リズムシート、SPSは拡散シート、GLBは導光体、
RFSは反射シート、BLはバックライト、LPはバッ
クライトBLのランプを構成する冷陰極蛍光灯、LSは
反射シート、GCはゴムブッシュ、LPCはランプケー
ブル、MCAは導光体GLBを設置する開口MOを有す
る下側ケース、JN1,2,3は回路基板間を接続する
ジョイナ、TCP1,2はテープキャリアパッケージ、
INS1,2,3は絶縁シート、GCはゴムクッショ
ン、BATは両面粘着テープ、ILSは遮光スペーサ、
LPは冷陰極蛍光灯(蛍光管)、LSは反射シート、L
PCはランプケーブル、RFSは反射シート、BLはバ
ックライト構造体である。
【0008】上記の各構成材は、金属製のシールドケー
スSHDと下側ケースMCAの間に積層されて挟持固定
されて液晶表示モジュールMDLを構成する。
【0009】液晶パネルPNLはTFT、カラーフィル
タ、その他の構成層を成膜した二枚のガラス基板から構
成され、その一方または両方の面に複屈折媒体と偏光板
が積層され、その周辺に各種の回路基板を取り付けて画
像表示のための駆動がなされる。
【0010】また、液晶パネルPNLの裏面には冷陰極
蛍光灯(蛍光管)LPを一辺に備えた導光体GLBに各
種の光学シートを積層してなるバックライト構造体BL
が設置され、液晶表示パネルPNLに形成された画像を
照明して表示窓WDに表示する。
【0011】液晶パネルPNLを構成するガラス基板は
1枚の素材ガラス板にTFT等の薄膜処理を施した後、
所定のサイズに切断し、切断した端縁に面取り加工を施
してバリ等を除去して成形し、最終的に一対のガラス基
板として当該液晶パネルに組立てられる。
【0012】図11は液晶パネル用のガラス基板の形成
工程の典型例の説明図であって、1’は素材ガラス板、
1は清浄化後のガラス板、1A,1B,1C,1Dは一
次切断した中間分割ガラス基板、1a,1b,1c,1
dは二次切断した最終サイズのガラス基板、A,B,
C,Dは薄膜領域を示す。
【0013】同図において、(a)液晶パネルの製造工
程に搬入された素材ガラス板1’は、清浄化処理されて
ガラス板1とした後、(b)TFT等の成膜処理がなさ
れて薄膜領域A,B,C,Dが形成される。
【0014】(c)上記ガラス板1は、薄膜領域A,B
を有する中間分割ガラス基板1Aと薄膜領域C,Dを有
する中間分割ガラス基板1B、および余分のガラス部分
1C,1Dとに一次切断される。
【0015】上記薄膜領域A,Bを有する中間分割ガラ
ス基板1Aと薄膜領域C,Dを有する中間分割ガラス基
板1Bについて、所要の薄膜処理を施した後、(d)薄
膜領域A,B,C,Dをそれぞれ有する液晶パネルに組
み合わされる個別の単位ガラス基板1a,1b,1c,
1dに二次切断される。
【0016】なお、上記の薄膜形成工程中でそれぞれの
検査工程があり、中間分割ガラス基板1Aと1Bの各薄
膜領域A,B,C,Dの合否が判定されて、二次切断さ
れたガラス基板1a,1b,1c,1dの選択がなされ
るが、ここでは説明は省略する。
【0017】また、上記(c)での薄膜形成後、個別の
単位ガラス基板1a,1b,1c,1dに切断する以前
に、中間分割ガラス基板1Aと1Bを対として貼り合わ
せて一対の液晶パネルを一体形成した後に二次切断する
方法もある。
【0018】以下の説明では、切断される素材ガラス
板、清浄化後のガラス板、一次切断した中間分割ガラス
基板、二次切断対象の最終サイズのガラス基板を共通に
ガラス板として説明する。
【0019】ガラス基板の分割加工においては、上記し
たように、清浄化後のガラス基板から一次切断、二時切
断により所定のサイズのガラス基板を得るが、切断後の
分割端縁はバリ、欠け等では不定型な形状となってお
り、これを除去して成形する面取り加工を施す必要があ
る。
【0020】以下、従来のガラス基板の切断と面取り加
工について説明する。
【0021】図12は従来のガラス板の切断方法の説明
図であって、1はガラス基板、2はクラック、3はスク
ライブ装置のステージ(定盤)、3はブレーク装置のス
テージ、3aは吸引孔、4はスクライブユニット、5は
薄膜領域、6はカレット、7は吸引管、19はスキージ
である。
【0022】従来のガラス基板の切断は、同図に示した
ように2つの装置で行っている。すなわち、(a)に示
したスクライブ装置はステージ3にガラス基板1を載置
し、真空により吸着して固定保持する。これに対して、
回転歯を有するスクライブユニット4を所定の切断線に
沿って矢印P方向に押圧しながら移動させてクラック線
2を形成する。
【0023】次に、(b)クラック線2を形成したガラ
ス基板1を移載ロボット等を用いてブレーク装置に移載
し、その主要部分をステージ3に真空により吸着して固
定保持する。このとき、クラック線2を形成した切断線
をステージ3の端縁に一致させ、切り離し部分を張り出
させた状態とし、クラック線2を形成した側と同一方向
である上方からスキージ19を下降させて矢印Pに示し
た圧力で押圧することによりクラック線2に沿った分割
切断を行う。
【0024】なお、上記ではガラス基板の端部(図11
の1C,1D)の切断を行う場合について図示し、説明
したが、中間分割ガラス基板1Aと1Bを得るための切
断についても同様である。
【0025】この切断工程では、図示したように、スク
ライブ装置によるクラック線の形成やスキージによる分
割切断時に細かいガラス屑(カレット)6が発生し、こ
れがガラス基板1上に形成した薄膜領域5に付着してし
まう。
【0026】図13従来のガラス基板の面取り方法の説
明図、図14は図13の矢印F方向からみた上面図であ
って、8(8a,8b)は回転砥石、図12と同一符号
は同一部分に対応する。
【0027】切断したガラス基板1は、その切断端縁を
ステージ3から若干突出させて載置され、吸引管7から
供給される減圧力で固定される。この状態で回転砥石8
(8a,8b)を当該切断端縁に沿って移動させること
で面取り加工が行われる。
【0028】このとき、回転砥石8(8a,8b)での
加工で除去されたカレット6がガラス基板1に形成した
薄膜領域5側に飛散して付着してしまう。
【0029】上記したカレットの付着防止策として、加
工後に洗浄処理(シャワーリング)を行ったり、あるい
は予めポリビニルアルコール(PVA)等の保護膜を薄
膜領域に成膜しておき、加工後に剥離する方法が採られ
ている。
【0030】なお、上記従来のガラス基板の切断装置に
ついては周知であるので、特に文献を挙げない。
【0031】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
技術においては、ガラス基板の切断時や面取り加工時に
加工に伴うカレットが薄膜領域に付着する。
【0032】このカレットをシャワーリングで除去する
方法では、カレットを完全に除去することが不可能であ
り、一対のガラス基板(例えば、TFT基板とカラーフ
ィルタ基板)を貼り合わせて液晶パネルを構成する際に
カレットの存在で両基板間のギャップ出しが正しく行わ
れず、所謂ギャップ不良が発生するという問題がある。
【0033】また、後者、すなわち予め保護膜を成膜す
る方法では、当該保護膜の成膜工程と剥離工程とが必要
となり、製造工程の複雑化と材料費の増加でコスト高に
なるという問題がある。
【0034】本発明の目的は、上記従来技術の諸問題点
を解消し、ガラス基板の切断と面取り加工における薄膜
領域へのカレットの付着を防止したガラス基板面取り装
置を提供することにある。
【0035】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の構成を実施例の図面に付した符号を併記して
説明する。
【0036】すなわち、請求項1に記載の第1の発明
は、上面にガラス基板1を吸着するための吸着孔3aを
有し、前記ガラス基板1の端縁を突出させて載置固定す
るステージ3と、前記ガラス基板1の端縁に沿って移動
しつつ当該端縁の面取り加工を行う回転砥石8と、前記
ガラス基板1の外周面に開放端縁を密着して当該ガラス
基板に形成した薄膜領域5を内包して密閉する防塵カバ
ー9と、前記ステージ3に対して前記防塵カバー9を着
脱するカバー移載装置11と、前記吸着孔3aに連通す
る減圧管7と、前記防塵カバー9の内部と前記減圧管7
を連結する連結チューブ10とを備え、前記ガラス基板
1の薄膜領域5を前記回転砥石8による面取り加工で生
じる加工塵埃から遮断するごとく構成したことを特徴と
する。
【0037】また、請求項2に記載の第2の発明は、上
面にガラス基板1を吸着するための吸着孔3aと前記吸
着孔3aに連通する減圧管7とを有し、前記ガラス基板
1の端縁を突出させて載置固定するステージ3と、前記
ガラス基板1の端縁に沿って移動しつつ当該端縁の面取
り加工を行う回転砥石8と、内底に少なくとも1本のシ
ャワー配管13を有して開放端縁を前記ステージ3上に
載置固定したガラス基板側に向けて上方に配置したシー
ルドパン12とを備え、前記回転砥石8による前記ガラ
ス基板1の面取り加工で生じる加工塵埃を前記シャワー
配管13からの吹き付け流体により前記薄膜領域5外に
排除するごとく構成したことを特徴とする。
【0038】薄膜を成膜した単板ガラス基板(膜付きガ
ラスシート)の面取り工程は、 先端部の鋭利なホイール(スクライバ)に圧力を加え
て前進させ、ガラス基板に垂直クラックを形成するスク
ライブ工程、 スクライブの入ったガラス基板にゴム材のバー(ブレ
ークスキージ)で荷重を加えて基板を切断するブレーク
工程、 切断ラインの端縁(エッジ)をダイヤモンド等の入っ
た砥石で切削成形する面取り工程、 の各工程からなる。これらの工程のうち、スクライブ工
程、ブレーク工程で発生するカレットは、スクライブ線
周りから脱落するチッピング片、面取り工程で発生する
カレットは切断ラインの端縁部から削り取った切削屑で
あり、殆どのカレットは面取り工程で発生する。また、
これらのカレットは各加工部から弾け富んでガラス基板
の薄膜領域に付着し、一旦薄膜に付着したカレットはそ
の除去が困難である。
【0039】第1の発明の構成によれば、面取りの加工
部分を除いて薄膜領域を防塵カバーで密閉し、ガラス基
板と防塵カバーとを一緒に移動させながら加工を行うこ
とで、カレットの薄膜領域への付着が完全に防止され
る。
【0040】また、第2の発明の構成によれば、ガラス
基板の面取り加工端縁を除いた薄膜移動範囲の上方をシ
ャワー配管を取り付けたシールドパンで覆い、薄膜領域
の上から液体または気体を噴出させることで、当該薄膜
領域から面取り加工端縁に向かう液体または気体の高速
液体流または気体流を発生させ、カレットの薄膜領域へ
の入り込みが防止される。上記流体は純水が好適であ
り、また気体は空気またはチッソガス等の不活性ガスが
好適である。
【0041】なお、上記の防塵カバー、あるいはシャワ
ー配管を取り付けたシールドパンは、ガラス基板のスク
ライブ工程、ブレーク工程において使用することもでき
る。
【0042】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例の図面を参照して詳細に説明する。図1は本
発明によるガラス基板面取り装置の第1実施例の構成を
説明する上面図、図2は図1のA−A線に沿った断面図
であって、1はガラス基板、3はステージ、3aは吸引
孔、5は薄膜領域、7は吸引管、8(8a,8b,8
c,8d)は回転砥石、9は防塵カバー、10は連結チ
ューブ、11は移載装置、11a,11bは防塵カバー
把持アームである。
【0043】図1、図2において、ガラス基板1は面取
りする端縁がはみ出るようにステージ3上に薄膜領域5
を上方にして載置され、吸引管7からの吸引孔3aを通
した吸引で固定される。
【0044】回転砥石8(8a,8b,8c,8d)
は、各加工端縁についてそれぞれ一対(8s,8b)、
(8c,8d)が配置されている。
【0045】ガラス基板を載置固定したステージ3に対
し、移載装置11は防塵カバー把持アーム11a,11
bで把持した防塵カバー9を当該ガラス基板1の外周面
に開放端縁を密着して当該ガラス基板に形成した薄膜領
域5を内包して密閉するごとく設置される。この設置
後、防塵カバー把持アーム11a,11bは防塵カバー
から離れて待機位置に後退する。
【0046】防塵カバー9の内部は連結チューブ10を
介して吸引管7に連結され、ガラス基板に設置された状
態で内部が減圧されてガラス基板と一体化される。な
お、防塵カバー9の開放端縁にはパッキングを備え、ガ
ラス基板と当接した際の当該ガラス基板の損傷を防止す
ると共に密着度を向上させている。
【0047】ステージ3はこの状態で矢印a方向に移動
し、載置したガラス基板の加工端縁を回転砥石(8s,
8b)、(8c,8d)で切削加工して面取りを行う。
【0048】面取り加工後、ステージ3は元の位置に戻
り、図示しない圧力開放機構で防塵カバー9の内部の圧
力を大気圧に戻した後、移載装置11が前進してその防
塵カバー把持アーム11a,11bで除去される。
【0049】なお、面取り加工を終えたガラス基板1
は、図示しない移載ロボット等で後段の処理ステーショ
ンに移送される。
【0050】図3は本発明によるガラス基板面取り装置
の第1実施例の構成の作用を説明する図1の矢印B方向
から見た要部側面図、図4は図3の矢印C方向から見た
要部上面図であって、6はカレット、図1、図2と同一
符号は同一部分に対応する。図3、図4に示したよう
に、回転砥石8s,8bで切削加工(面取り加工)する
際には、図中6で示したカレット6が多量に発生する。
このカレット6は防塵カバー9によってガラス基板1の
薄膜領域5に達することはなく、従って薄膜にカレット
が付着することが防止される。
【0051】本実施例により、ガラス基板1の薄膜領域
にカレットが付着することによる液晶パネル作成時のギ
ャップ出し不良が無くなり、液晶表示装置の歩留りが向
上すると共に、製造工程の複雑化を伴わないことから、
製造コストの上昇を招くことがない。
【0052】図5は本発明によるガラス基板面取り装置
の第2実施例の構成を説明する上面図、図6は図5のD
−D線に沿った断面図であって、12はシールドパン、
13はシャワー配管、14はマニホールド、前記実施例
と同一符号は同一部分に対応する。
【0053】図5と図6において、ガラス基板1は面取
りする端縁がはみ出るようにステージ3上に薄膜領域5
を上方にして載置され、吸引管7からの吸引孔3aを通
した吸引で固定される。
【0054】回転砥石8(8a,8b,8c,8d)
は、各加工端縁についてそれぞれ一対(8s,8b)、
(8c,8d)が配置されている。
【0055】そして、ガラス基板1を載置固定したステ
ージ3の上方には、その内底にシャワー配管13(本実
施例では4本)を有して開放端縁をステージ3上のガラ
ス基板1側に向けて配置したシールドパン12とを備え
ている。
【0056】シールドパン12は、少なくともガラス基
板1の薄膜領域5をカバーする幅を有すると共に、回転
砥石8(8a,8b,8c,8d)に対するガラス基板
1を載置したステージ3の移動範囲を十分に覆う長さと
され、かつ、ステージ3へのガラス基板の着脱のために
退避位置との間で移動可能に設置されている。
【0057】シャワー配管13にはガラス基板側に多数
の細孔が形成されており、4本のシャワー配管13の一
端側はマニホールド14で束ねられ、図示しない純水供
給源から純水が圧送される。
【0058】ガラス基板1とシールドパン12のシャワ
ー配管13との隙間は、出来るだけ狭い方がよく、回転
砥石8(8a,8b,8c,8d)による面取り加工時
にシャワー配管13から噴出する純水がシールドパン1
2とガラス基板1の間隙を通してその薄膜領域側から面
取り加工ラインのある外側に、向けて高速水流を形成す
る。
【0059】図7は本発明によるガラス基板面取り装置
の第2実施例の作用を説明する図6の矢印D方向から見
た部分正面図であって、シールドパン12とシャワー配
管13とは断面で示してある。
【0060】また、図8は図7の矢印E方向から見た部
分平面図であって、図7と同一符号は同一部分に対応す
る。
【0061】図7と図8に示したように、ガラス基板1
の薄膜領域5を含む上面の大部分はシールドパン12で
カバーされており、シャワー配管13から噴出する純水
は、小矢印で示したように、シールドパン12とガラス
基板1の間隙から外部に高速で流出する。このため、ガ
ラス基板1の端縁で回転砥石8(8a,8b)で切削さ
れたカレット6はガラス基板1側に入り込むことがな
く、従って、当該カレットが薄膜領域5に付着すること
はない。
【0062】このように、本実施例によっても、カレッ
ト6はガラス基板1上に入り込むことがなく、薄膜領域
は清浄に保たれる。
【0063】なお、上記の実施例では、流体として純水
を用いたが、これに代えて清浄な空気流を用いても同様
の効果が得られる。
【0064】なお、上記実施例では、液晶表示パネル用
のガラス基板の面取り装置として説明したが、本発明は
これに限るものではなく、他の用途のガラス基板、ある
いはセラミックスその他の硬質薄板の精密面取り加工に
も適用できる。
【0065】図9はガラス基板の切断加工装置における
カレットがガラス基板上の形成された薄膜領域に付着す
るのを防止するための構成例の説明図であって、(a)
はガラス基板にクラック線を形成するスクライブ装置の
要部断面図、(b)はガラス基板をクラック線に沿って
切断するブレーク装置の要部断面図であって、前記図1
2と同一符号は同一部分に対応し、9は防塵カバーであ
る。
【0066】同図(a)に示したように、クラック線を
形成するスクライブ装置のいステージ3上にガラス基板
1を載置固定した後、前記第1実施例で説明したものと
同様の構成を持つ防塵カバー9で当該ガラス基板1の少
なくとも薄膜領域5を覆い、その状態でスクライブユニ
ット4を動作させてクラック線2を形成する。
【0067】その後、(b)に示したブレーク装置のス
テージ3に移載したガラス基板1に対して、上記と同様
の防塵カバー9を被せ、ブレークスキージ19で矢印P
方向の力を加えることにより、上記クラック線2に沿っ
てガラス基板1を切断する。また、このようなガラス基
板の切断加工に前記第2実施例で説明した構成のシール
ドパン11を用いることもできる。
【0068】なお、上記の各説明では、ガラス基板の端
部の切断を行う場合について説明したが、前記図11に
示した中間分割ガラス基板1Aと1Bを得るための切断
についても同様である。
【0069】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
面取り加工におけるカレットが薄膜領域に付着すること
を防止でき、液晶パネルを構成する際のガラス基板間の
ギャップ出しの際の、所謂ギャップ不良の発生を回避で
き、高画質の液晶表示装置を得るためのガラス基板面取
り装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるガラス基板面取り装置の第1実施
例の構成を説明する上面図である。
【図2】図1のA−A線に沿った断面図である。
【図3】本発明によるガラス基板面取り装置の第1実施
例の構成の作用を説明する図1の矢印B方向から見た要
部側面図である。
【図4】図3の矢印C方向から見た要部上面図である。
【図5】本発明によるガラス基板面取り装置の第2実施
例の構成を説明する上面図である。
【図6】図5のD−D線に沿った断面図である。
【図7】本発明によるガラス基板面取り装置の第2実施
例の作用を説明する図6の矢印D方向から見た部分正面
図である。
【図8】図7の矢印E方向から見た部分平面図である。
【図9】ガラス基板の切断加工装置におけるカレットが
ガラス基板上の形成された薄膜領域に付着するのを防止
するための構成例の説明図である。
【図10】本発明を適用するTFT型液晶表示モジュー
ルの構造例を説明する展開斜視図である。
【図11】液晶パネル用のガラス基板の形成工程の典型
例の説明図である。
【図12】従来のガラス板の切断方法の説明図である。
【図13】従来のガラス基板の面取り方法の説明図であ
る。
【図14】図13の矢印F方向からみた上面図である。
【符号の説明】
1 ガラス基板 3 ステージ 3a 吸引孔 5 薄膜領域 6 カレット 7 吸引管 8(8a,8b,8c,8d) 回転砥石 9 防塵カバー 10 連結チューブ 11 移載装置 11a,11b 防塵カバー把持アーム 12 シールドパン 13 シャワー配管 14 マニホールド。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】上面にガラス基板を吸着するための吸着孔
    を有し、前記ガラス基板の端縁を突出させて載置固定す
    るステージと、前記ガラス基板の端縁に沿って移動しつ
    つ当該端縁の面取り加工を行う回転砥石と、前記ガラス
    基板の外周面に開放端縁を密着して当該ガラス基板に形
    成した薄膜領域を内包して密閉する防塵カバーと、前記
    ステージに対して前記防塵カバーを着脱するカバー移載
    装置と、前記吸着孔に連通する減圧管と、前記防塵カバ
    ーの内部と前記減圧管を連結する連結チューブとを備
    え、前記ガラス基板の薄膜領域を前記回転砥石による面
    取り加工で生じる加工塵埃から遮断するごとく構成した
    ことを特徴とするガラス基板面取り装置。
  2. 【請求項2】上面にガラス基板を吸着するための吸着孔
    と前記吸着孔に連通する減圧管とを有し、前記ガラス基
    板の端縁を突出させて載置固定するステージと、前記ガ
    ラス基板の端縁に沿って移動しつつ当該端縁の面取り加
    工を行う回転砥石と、内底に少なくとも1本のシャワー
    配管を有して開放端縁を前記ステージ上に載置固定した
    ガラス基板側に向けて上方に配置したシールドパンとを
    備え、前記回転砥石による前記ガラス基板の面取り加工
    で生じる加工塵埃を前記シャワー配管からの吹き付け流
    体により前記薄膜領域外に排除するごとく構成したこと
    を特徴とするガラス基板面取り装置。
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