JPH10302459A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH10302459A
JPH10302459A JP11116897A JP11116897A JPH10302459A JP H10302459 A JPH10302459 A JP H10302459A JP 11116897 A JP11116897 A JP 11116897A JP 11116897 A JP11116897 A JP 11116897A JP H10302459 A JPH10302459 A JP H10302459A
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JP
Japan
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sense amplifier
word line
semiconductor memory
memory cell
memory device
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JP11116897A
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Kaori Mori
香織 森
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Mitsubishi Electric Corp
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    • GPHYSICS
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    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高速かつ選択的にデータを複写できる半導体
記憶装置を提供する。 【解決手段】 センスアンプ群1、2、3は、それぞれ
センスアンプ駆動回路5から受けるセンスアンプ駆動信
号(φR、/φR)、(φG、/φG)、(φB、/φ
B)に基づき活性化する。行デコーダ11におけるワー
ド線選択のタイミングと、これらのセンスアンプ駆動信
号の変化とに基づき、半導体記憶装置100は、ワード
線WLiに接続されるメモリセル6の一部のデータを、
高速かつ選択的に、他のメモリセル6に複写する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、特に、高速かつ選択的にデータを複写することが
可能な半導体記憶装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、画像処理用、特に3次元グラフィ
ック処理用の半導体記憶装置においては、格納された膨
大な画素データをいかに高速に書換えるかが課題とされ
ている。
【0003】この課題を解決するための1つの方法とし
て、高速なデータの書換えを可能とする「半導体記憶装
置の書込み方法」が開示されている(特開平1−116
990号)。
【0004】以下、参考のため、従来の半導体記憶装
置、およびこの「半導体記憶装置の書込み方法」(特開
平1−116990号)について簡単に説明する。
【0005】図7は、従来の半導体記憶装置200の基
本構成の一例を示すブロック図であり、図8は、従来の
半導体記憶装置200のセンスアンプSA0を中心とす
る構成の一例を示す図である。図7〜図8を参照して、
半導体記憶装置200は、メモリセルアレイ10、行デ
コーダ11、列デコーダ12、センスアンプ群13、お
よびセンスアンプ駆動回路15を含む。
【0006】メモリセルアレイ10は、行デコーダ1
1、列デコーダ12、センスアンプ群13に接続されて
いる。センスアンプ群13は、センスアンプ駆動回路1
5と接続されている。
【0007】メモリセルアレイ10は、行方向および列
方向に配列された複数のメモリセル6を含む。メモリセ
ル6は、トランジスタ61、およびキャパシタ62から
構成される。各メモリセル6は、行方向にワード線WL
i(i=0、1、…)で接続され、列方向にビット線対
BLi、/BLi(i=0、1、…、n)で接続され
る。
【0008】行デコーダ11は、メモリセルアレイ10
の行方向、すなわちワード線WLiを選択する。列デコ
ーダ12は、メモリセルアレイ10の列方向、すなわち
ビット線対BLi、/BLiを選択する。
【0009】センスアンプ群13は、複数のセンスアン
プSA0を含む。各センスアンプSA0は、1つのビッ
ト線対BLi、/BLiに接続されている。
【0010】センスアンプ駆動回路15は、センスアン
プ駆動信号φを生成して出力する。センスアンプSA0
は、センスアンプ駆動信号φを入力に受けて、活性状態
になり、接続されるビット線対BLi、/BLiの電位
差を感知して、これを増幅する。
【0011】続いて、「半導体記憶装置の書込み方法」
(特開平1−116990号)について説明する。この
「半導体記憶装置の書込み方法」は、ビット線対BL
i、/BLiにデータを保持させままで、順次、ワード
線WLiを立ち上げ、立ち下げることにより、連続的に
他のワード線WLkにデータを書込む(複写する)こと
を可能とする方法である。
【0012】参考のため、この方法を用いて、従来の半
導体記憶装置200における記憶情報を高速に書換える
複写動作について説明する。
【0013】図9は、従来の半導体記憶装置200にお
ける複写動作の一例を説明するためのタイミングチャー
トであり、図10は、図9における複写動作の結果を模
式的に表わした図である。
【0014】半導体記憶装置200は、以下の手順に従
うことで、メモリセルアレイ10のワード線WL0に接
続されたメモリセル6のデータを、順次、ワード線WL
1、ワード線WL2に接続されたメモリセル6に複写す
る。なお、特に説明しないが、ワード線WLiの電位の
立ち上げ、立ち下げは、行デコーダ11が行なう。
【0015】時刻t1で、ワード線WL0の電位を立ち
上げる。これにより、ワード線WL0に接続されるメモ
リセル6の記憶情報に応じて、各メモリセル6に接続さ
れるビット線対BLi、/BLiの電位が変化する。
【0016】時刻t2で、センスアンプ駆動信号φを、
LレベルからHレベルに立ち上げる。これにより、セン
スアンプ群13を構成する全てのセンスアンプSA0が
活性状態になる。
【0017】各センスアンプSA0は、対応するビット
線対BLi、/BLiの電位差を感知して、電位差を増
幅する。ワード線WL0に接続されるメモリセル6に
は、対応するセンスアンプSA0で増幅されたデータが
再書込みされる。
【0018】時刻t3で、ワード線WL0の電位を立ち
下げる。この時点で、全てのセンスアンプSA0は活性
状態にある。センスアンプSA0は、ワード線WL0に
接続されたメモリセル6の記憶情報に対応したデータを
ラッチしている。
【0019】時刻t4で、ワード線WL1の電位を立ち
上げる。この時点で、センスアンプSA0は活性状態に
ある。このため、その電流駆動能力により、各センスア
ンプSA0に接続されるビット線対BLi、/BLiの
電位は、センスアンプSA0のラッチしているデータに
対応した電位を保持する。ワード線WL1に接続された
各メモリセル6の記憶情報は、対応するビット線対BL
i、/BLiの電位に対応して書換えられる。
【0020】時刻t5で、ワード線WL1の電位を立ち
下げる。これにより、ワード線WL1に接続された各メ
モリセル6には、ワード線WL0に接続された各メモリ
セル6の記憶情報が複写されたことになる。なお、この
時点で、全てのセンスアンプSA0は活性状態にあり、
ワード線WL0に接続されたメモリセル6の記憶情報に
対応したデータをラッチしている。
【0021】時刻t6で、ワード線WL2の電位を立ち
上げる。この時点で、センスアンプSA0は活性状態に
ある。このため、各センスアンプSA0に接続されるビ
ット線対BLi、/BLiの電位は、センスアンプSA
0のラッチしているデータに対応した電位を保持する。
ワード線WL2に接続される各メモリセル6の記憶情報
は、対応するビット線対BLi、/BLiの電位に対応
して書換えられる。
【0022】時刻t7で、ワード線WL2の電位を立ち
下げる。これにより、ワード線WL2に接続された各メ
モリセル6には、ワード線WL0に接続された各メモリ
セル6の記憶情報が複写されたことになる。
【0023】すなわち、従来の半導体記憶装置200を
画像処理用に使用するにあたって、この「半導体記憶装
置の書込み方法」を用いることにより、画素データの高
速な複写を実現することができる。
【0024】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法を従来の半導体記憶装置200で実施した場合は、上
記に説明したようにワード線単位でしかデータの複写が
行なえない。すなわち、1本のワード線WLiに接続さ
れた全てのメモリセル6のデータは、ワード線WL0に
接続された全てのメモリセル6と同じデータにそれぞれ
書換えられる。
【0025】従って、例えば画像処理において、1本の
ワード線WLiに接続されたメモリセル6に赤色Rに関
する画素データ、緑色Gに関する画素データ、そして青
色Bに関する画素データを格納する場合、特定の画素デ
ータ(例えば、赤色Rに関する画素データ)だけを複写
することができず、その特定の画素データ以外の画素デ
ータ(例えば、緑色Gに関する画素データ)も複写され
てしまうという問題が生じる。
【0026】この問題を解決するために、画素データ毎
に専用のメモリセルアレイを用意することが考えられる
が、メモリセルアレイ間での転送が必要となり、処理速
度が落ちるため高速化の課題を達成できない。
【0027】従って、本発明は、これらの問題点を解決
するためになされたものであって、その目的は、記憶情
報を、高速かつ選択的に、複写することができる半導体
記憶装置を提供することにある。
【0028】さらに、本発明は、チップサイズ影響を与
えることなく、通常の動作に加えて、高速かつ選択的な
複写を実現することができる半導体記憶装置を提供する
ことにある。
【0029】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、行および列に配置され、複数のグループに分
割された複数のメモリセルを備え、複数のグループの各
々は、少なくとも1つの列に配置された複数のメモリセ
ルを含み、複数のグループのうち少なくとも1つにおけ
る少なくとも1つのメモリセルに格納されたデータを、
少なくとも1つのグループにおける当該他の少なくとも
1つのメモリセルに複写する複写手段をさらに備える。
【0030】請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項
1に係る半導体記憶装置であって、行に配置され、各々
が対応する1つの行に配置された複数のメモリセルに接
続された複数のワード線と、複数のワード線に接続され
た行デコーダとをさらに備え、複数のグループの各々は
さらに、少なくとも1つの列に配置され、各々が対応す
る列に配置された複数のメモリセルに接続された少なく
とも1つのビット線対と、少なくとも1つのビット線対
に対応して設けられ、各々が対応するビット線対に接続
された少なくとも1つのセンスアンプとを含み、複写手
段は、複数のワード線を順次所定時間活性化するよう行
デコーダを制御し、かつ複数のワード線のうち1つが活
性化された後に、少なくとも1つのグループにおけるセ
ンスアンプを活性化し続ける。
【0031】請求項3に係る半導体記憶装置は、請求項
2に係る半導体記憶装置であって、複写手段はさらに、
当該他のグループにおけるセンスアンプを1つのワード
線が活性化された後に活性化し、1つのワード線が非活
性化された後に非活性化する。
【0032】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態1にお
ける半導体記憶装置の説明においては、図7に示す従来
の半導体記憶装置200と同じ構成要素については、同
じ符号を用いてその説明を省略する。
【0033】[実施の形態1]本発明の実施の形態1
は、半導体記憶装置に関して、格納されているデータ
を、高速かつ選択的に、他のメモリセルに複写すること
を可能とするものである。
【0034】以下、本発明の実施の形態1の半導体記憶
装置100の構成について具体例を挙げて説明する。図
1は、本発明の実施の形態1の半導体記憶装置100の
基本構成の一例を示すブロック図であり、さらに図2
は、図1に示す半導体記憶装置100のセンスアンプ群
1、2、3を中心とする構成の一例を示す図である。
【0035】図1〜図2を参照して、半導体記憶装置1
00は、メモリセルアレイ10、行デコーダ11、セン
スアンプ群1、2、3、およびセンスアンプ駆動回路5
を含む。
【0036】メモリセルアレイ10は、行デコーダ1
1、およびセンスアンプ群1、2、3に接続されてい
る。センスアンプ群1、2、3は、それぞれセンスアン
プ駆動回路5に接続されている。
【0037】センスアンプ群1は、複数のセンスアンプ
SA1を含む。各センスアンプSA1は、1つのビット
線対BLi、/BLi(i=0〜k−1)と接続されて
いる。センスアンプSA1は、外部から受けるセンスア
ンプ駆動信号φR、/φRに応じて活性化/非活性化す
る。
【0038】図3は、本発明の実施の形態1のセンスア
ンプSA1の基本構成の一例を示す図である。図3を参
照して、より具体的には、センスアンプSA1はNMO
Sトランジスタ20、21、22、およびPMOSトラ
ンジスタ23、24、25を含む。センスアンプSA1
は、センスアンプ駆動信号φR、/φRに応じて活性状
態/非活性状態になる。
【0039】図1〜図2を参照して、センスアンプ群2
は、複数のセンスアンプSA2を含む。各センスアンプ
SA2は、1つのビット線対BLi、/BLi(i=k
〜m−1)と接続されている。センスアンプSA2は、
外部から受けるセンスアンプ駆動信号φG、/φGに応
じて活性状態/非活性状態になる。なお、センスアンプ
SA2の具体的な構成は、図3に示すセンスアンプSA
1と同じである。
【0040】センスアンプ群3は、複数のセンスアンプ
SA3を含む。各センスアンプSA3は、1つのビット
線対BLi、/BLi(i=m〜n)と接続されてい
る。センスアンプSA3は、外部から受けるセンスアン
プ駆動信号φB、/φBに応じて活性状態/非活性状態
になる。なお、センスアンプSA3の具体的な構成は、
図3に示すセンスアンプSA1と同じである。
【0041】ここで、簡単のため、メモリセルアレイ1
0におけるビット線対BLi、/BLi(i=0〜k−
1)に接続されるメモリセル6のグループを領域Rとよ
び、ビット線対BLi、/BLi(i=k〜m−1)に
接続されるメモリセル6のグループを領域Gとよび、さ
らにビット線対BLi、/BLi(i=m〜n)に接続
されるメモリセル6のグループを領域Bとよぶ。センス
アンプ群1は、メモリセルアレイ10の領域Rにおける
ビット線対BLi、/BLiと、センスアンプ群2は、
メモリセルアレイ10の領域Gにおけるビット線対BL
i、/BLiと、センスアンプ群3は、メモリセルアレ
イ10の領域Bにおけるビット線対BLi、/BLiと
それぞれ接続されている。
【0042】センスアンプ駆動回路5は、メモリセルア
レイ10の活性化を指示するセンスアンプ活性化信号φ
X、/RAS(ロウアドレスストローブ信号)および/
CAS(コラムアドレスストローブ信号)等の各種制御
信号を入力に受けて、センスアンプSA1、SA2、S
A3の活性状態を制御するセンスアンプ駆動信号(φ
R、/φR)、(φG、/φG)、(φB、/φB)を
生成して出力する。
【0043】センスアンプ駆動回路5は、ワード線WL
iを順次所定期間活性化するように行デコーダ11を制
御し、かつ、1つのワード線WLiが活性化された後
に、領域R、G、Bのうち複写動作を行なわせる少なく
とも1つの領域、例えば、領域RのセンスアンプSA1
を活性化し続ける。また、複写動作の対象とならない他
の領域、例えば領域G、領域Bについては、センスアン
プSA2、SA3をワード線WLiが活性化された後に
活性化し、ワード線WLiが非活性化された後に非活性
化する。
【0044】続いて、本発明の実施の形態1の半導体記
憶装置100の複写動作について説明する。図4は、本
発明の実施の形態1の半導体記憶装置100の複写動作
の一例を示す図である。図4に示すように、本発明の実
施の形態1における半導体記憶装置100は、一部のメ
モリセル6の記憶情報を、他のメモリセル6に複写する
ことができる。以下、図4に示す複写(領域Rについて
は、ワード線WL0のデータをワード線WL1、WL2
に複写し、領域Bについては、ワード線WL1のデータ
をワード線WL2に複写し、また、領域Gについては書
換えを行なわない)動作についてその手順を説明する。
【0045】図5は、図4に対応した複写動作を行なう
場合に、本発明の実施の形態1のセンスアンプ駆動回路
5が生成するセンスアンプ駆動信号のタイミングチャー
トである。センスアンプ駆動回路5は、Hレベルのセン
スアンプ活性化信号φXを受けて、図5に示すセンスア
ンプ駆動信号φR、φG、φB、および各々の反転信号
である/φR、/φG、/φBを生成する。センスアン
プ群1、2、3は、それぞれ図3に示すセンスアンプ駆
動信号に従って活性/非活性状態になる。
【0046】図6は、図5に示すセンスアンプ駆動信号
に応じて行なわれる複写動作を説明するためのタイミン
グチャートである。図6を参照して、半導体記憶装置1
00では、センスアンプ駆動信号φR、/φR、φG、
/φG、φB、/φBの変化と、行デコーダ11(図
1)のワード線WLiの選択のタイミングとに応じて、
以下の手順に従って高速かつ選択的な複写が行なわれ
る。なお、以下の説明においては、/φR、/φG、/
φBの説明を省略する。
【0047】時刻t1で、ワード線WL0の電位を立ち
上げる。これにより、ワード線WL0に接続されるメモ
リセル6の記憶情報に応じて、各メモリセル6に接続さ
れるビット線対BLi、/BLiの電位が変化する。
【0048】時刻t2で、各センスアンプ駆動信号φ
R、φG、φBがLレベルからHレベルに立ち上がる。
これにより、センスアンプSA1、SA2、SA3がそ
れぞれ活性状態になる。
【0049】センスアンプSA1、SA2、SA3は、
対応するビット線対BLi、/BLiの電位差を感知し
て、これを増幅する。ワード線WL0に接続されるメモ
リセル6には、読出されたデータが再び書込まれる。
【0050】時刻t3で、ワード線WL0の電位を立ち
下げる。この時点で、センスアンプSA1、SA2、S
A3は、活性状態にあり、ワード線WL0に接続された
メモリセル6の記憶情報に対応したデータをラッチして
いる。
【0051】時刻t4で、センスアンプ駆動信号φG、
φBがHレベルからLレベルに立ち下がる。これによ
り、センスアンプSA2、SA3が、非活性状態にな
る。
【0052】時刻t5で、ワード線WL1の電位を立ち
上げる。これにより、領域G、Bにおける各ビット線対
BLi、/BLiの電位は、ワード線WL1に接続され
るメモリセル6の記憶情報に応じて変化する。一方、セ
ンスアンプSA1は、活性状態を保持している。このた
め、領域Rにおける各ビット線対BLi、/BLiは、
各センスアンプSA1のラッチしているデータ(すなわ
ち、ワード線WL0に接続されたメモリセル6の記憶情
報)に応じた電位を保持する。
【0053】時刻t6では、センスアンプ駆動信号φ
G、φBが、LレベルからHレベルに立ち上がる。これ
により、センスアンプSA2、SA3が、活性状態にな
る。センスアンプSA2、SA3は、対応するビット線
対BLi、/BLiの電位差を感知して、これを増幅す
る。領域G、Bのワード線WL1に接続されるメモリセ
ル6には、読出されたデータが再び書込まれる。
【0054】時刻t7で、ワード線WL1の電位を立ち
下げる。これにより、領域Rにおけるワード線WL1に
接続された各メモリセル6には、同じく領域Rにおける
ワード線WL0に接続されたメモリセル6の記憶情報が
複写されたことになる。一方、領域G、Bのワード線W
L1接続されるメモリセル6の記憶情報は保持される。
【0055】時刻t8で、センスアンプ駆動信号φGが
HレベルからLレベルに立ち下がる。これにより、セン
スアンプSA2が、非活性状態になる。
【0056】時刻t9で、ワード線WL2の電位を立ち
上げる。これにより、領域Gにおける各ビット線対BL
i、/BLiの電位は、ワード線WL2に接続されるメ
モリセル6の記憶情報に応じて変化する。一方、センス
アンプSA1は、活性状態を保持している。このため、
領域Rにおける各ビット線対BLi、/BLiは、各セ
ンスアンプSA1がラッチしているデータ(すなわち、
ワード線WL0に接続されたメモリセル6の記憶情報)
に応じた電位を保持する。同じく、センスアンプSA3
は、活性状態を保持している。このため、領域Bにおけ
る各ビット線対BLi、/BLiは、各センスアンプS
A3がラッチしているデータ(すなわち、ワード線WL
1に接続されたメモリセル6の記憶情報)に応じた電位
を保持する。
【0057】時刻t10で、センスアンプ駆動信号φG
が、LレベルからHレベルに立ち上がる。これにより、
センスアンプSA2が、活性状態になる。センスアンプ
SA2は、対応するビット線対BLi、/BLiの電位
差を感知して、これを増幅する。領域Gのワード線WL
1に接続されるメモリセル6には、読出されたデータが
再び書込まれる。
【0058】時刻t11で、ワード線WL2の電位を立
ち下げる。これにより、領域Rにおけるワード線WL2
に接続された各メモリセル6には、同じく領域Rにおけ
るワード線WL0に接続されるメモリセル6の記憶情報
が複写されたことになる。さらに、領域Bにおけるワー
ド線WL2に接続される各メモリセル6には、同じく領
域Bにおけるワード線WL1に接続されるメモリセル6
の記憶情報が複写されたことになる。また、領域Gにお
けるワード線WL2接続されるメモリセル6の記憶情報
は保持される。
【0059】すなわち、本発明の実施の形態1における
半導体記憶装置100は、センスアンプSA1、SA
2、SA3を個別に制御し、かつワード線WLiを順次
選択することで、ワード線WLiに接続されたメモリセ
ル6の記憶情報を、高速かつ選択的に、他のワード線W
Lkに接続されたメモリセル6に複写することができ
る。
【0060】従って、画像処理用に半導体記憶装置10
0を使用した場合、例えば、領域Rに赤色Rに関する画
素データを、領域Gに緑色Gに関する画素データを、そ
して領域Bに青色Bに関する画素データを格納するとす
れば、目的とする画素データ(例えば、赤色Rに関する
画素データ)を、他の画素データ(例えば、緑色Gに関
する画素データ、青色Bに関する画素データ)を破壊す
ることなく高速に処理することができる。
【0061】なお、分割ワード線方式の半導体記憶装置
を用いて、分割されたワード線毎に種類の異なる画素デ
ータを格納することによっても、上記に示した複写動作
を実施することが可能である。しかし、分割ワード線方
式では、従来の行デコーダ11、列デコーダ12に加え
て、別のワード線用のデコーダを設ける必要があるた
め、チップ面積の点では、半導体記憶装置100より大
きな面積が必要とされる。
【0062】なお、特に記載しないが、半導体記憶装置
100においては、センスアンプ駆動信号φR、φG、
φBを一括して制御することにより、図7に示す従来の
半導体記憶装置200と同じ動作を行なうこともでき
る。
【0063】また、以上の説明では、半導体記憶装置1
00として、3つのセンスアンプ群1、2、3を備えた
場合を例に挙げて説明したが、センスアンプ群の数は3
つに限られない。
【0064】さらに、選択的に活性化する本発明は、1
つのワード線WLiに接続されたメモリセル6を選択的
に活性化するACP動作(ロウアドレスの選択)、また
は選択された1つのワード線WLiのメモリセル6をプ
リチャージするPRE動作にも適用可能である。
【0065】
【発明の効果】以上のように、請求項1に記載される半
導体記憶装置によれば、メモリセルアレイに格納された
データを、高速かつ選択的に複写することができる。
【0066】さらに、請求項2に記載される半導体記憶
装置によれば、ワード線選択のタイミングと個別に制御
できる複数のセンスアンプ群の活性化/非活性化のタイ
ミングとを制御することにより、高速かつ選択的にデー
タを複写することができる。また、上記複数のセンスア
ンプ群を信号によって個別に制御できるため、これらを
制御するデコーダ等の別回路を設ける必要がなく、チッ
プ面積を抑えることができる。
【0067】さらに、請求項3に記載される半導体記憶
装置によれば、複数の種類のデータが混在する場合にあ
っても、保持したい種類のデータを破壊することなく、
目的とするデータを、高速かつ選択的に複写することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1の半導体記憶装置10
0の基本構成の一例を示すブロック図である。
【図2】 本発明の実施の形態1の半導体記憶装置10
0のセンスアンプ群1、2、3を中心とする構成の一例
を示す図である。
【図3】 本発明の実施の形態1のセンスアンプSA1
の基本構成の一例を示す図である。
【図4】 本発明の実施の形態1の半導体記憶装置10
0の複写動作の一例を示す図である。
【図5】 図4に対応した複写動作を行なう場合に、本
発明の実施の形態1のセンスアンプ駆動回路5が出力す
るセンスアンプ駆動信号のタイミングチャートである。
【図6】 図5に示すセンスアンプ駆動信号に応じて行
なわれる複写動作を説明するためのタイミングチャート
である。
【図7】 従来の半導体記憶装置200の基本構成の一
例を示すブロック図である。
【図8】 従来の半導体記憶装置200のセンスアンプ
SA0を中心とする構成の一例を示す図である。
【図9】 従来の半導体記憶装置200における複写動
作の一例を説明するためのタイミングチャートである。
【図10】 図9における従来の半導体記憶装置200
における複写動作の結果を模式的に表わした図である。
【符号の説明】
100, 200 半導体記憶装置、1, 2, 3, 13
センスアンプ群、5,15 センスアンプ駆動回路、6
メモリセル、10 メモリセルアレイ、11行デコー
ダ、12 列デコーダ、20, 21, 22 NMOSト
ランジスタ、23, 24, 25 PMOSトランジス
タ、61 トランジスタ、62 キャパシタ、SA0,
SA1, SA2, SA3 センスアンプ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 行および列に配置され、複数のグループ
    に分割された複数のメモリセルを備え、 前記複数のグループの各々は、少なくとも1つの前記列
    に配置された複数のメモリセルを含み、 前記複数のグループのうち少なくとも1つにおける少な
    くとも1つのメモリセルに格納されたデータを、前記少
    なくとも1つのグループにおける当該他の少なくとも1
    つのメモリセルに複写する複写手段をさらに備えた、半
    導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記行に配置され、各々が対応する1つ
    の前記行に配置された複数のメモリセルに接続された複
    数のワード線と、 前記複数のワード線に接続された行デコーダとをさらに
    備え、 前記複数のグループの各々はさらに、 少なくとも1つの前記列に配置され、各々が対応する前
    記列に配置された複数のメモリセルに接続された少なく
    とも1つのビット線対と、 前記少なくとも1つのビット線対に対応して設けられ、
    各々が対応するビット線対に接続された少なくとも1つ
    のセンスアンプとを含み、 前記複写手段は、前記複数のワード線を順次所定時間活
    性化するよう前記行デコーダを制御し、かつ前記複数の
    ワード線のうち1つが活性化された後に、前記少なくと
    も1つのグループにおけるセンスアンプを活性化し続け
    る、請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記複写手段はさらに、当該他のグルー
    プにおけるセンスアンプを前記1つのワード線が活性化
    された後に活性化し、前記1つのワード線が非活性化さ
    れた後に非活性化する、請求項2記載の半導体記憶装
    置。
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