JPH10208881A - 有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィルム及びこれを用いた有機電子発光素子の製造方法 - Google Patents

有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィルム及びこれを用いた有機電子発光素子の製造方法

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JPH10208881A JP9355791A JP35579197A JPH10208881A JP H10208881 A JPH10208881 A JP H10208881A JP 9355791 A JP9355791 A JP 9355791A JP 35579197 A JP35579197 A JP 35579197A JP H10208881 A JPH10208881 A JP H10208881A
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章 赫 權
Si-Hyun Lee
時 賢 李
Joo-Sang Park
柱 相 朴
Lee-Gon Kim
利 坤 金
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィルム
及びこれを用いた有機電子発光素子の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 前記ドナーフィルムは、基材フィルム、
前記基材フィルム上部に形成された光吸収層及び前記光
吸収層上部に形成された転写層を含んでいるが、前記転
写層が有機電子発光物質、有機金属錯体電子発光物質及
び電子発光性高分子の中で選択された発光体、ホール注
入性低分子、ホール注入性高分子、電子注入性低分子及
び電子注入性高分子よりなる群から選択された、少なく
とも一つよりなることを特徴とする。 【効果】 これにより、有機電子発光素子の有機薄膜を
微細パターンで形成できるし、また赤色、緑色及び青色
の画素を微細パターンで形成できるので、フルカラーが
具現できて高品質の有機電子発光素子を得ることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機電子発光素子
の製造方法に係り、より詳細にはレーザー転写法を用い
た有機薄膜のパターン形成時に用いられるドナーフィル
ム及び、これを利用して有機電子発光素子を製造する方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子発光素子は、一般的に製造するのが
容易であり、駆動電圧が低く、大量生産だけでなく薄形
化もできる長所を有しており、次世代表示素子として注
目されている。
【０００３】電子発光素子を製造する方法を調べると次
の通りである。
【０００４】まず、ガラス、透明性高分子等よりなる透
明基板上に第１電極層と発光層を順次形成する。そして
前記発光層上部に第２電極層を形成した後、その上に絶
縁層を形成することによって電子発光素子が完成され
る。
【０００５】前記のような電子発光素子では、電極上に
電圧を印加すると電界が形成され、これにより発光層が
発光することで画像が形成される。
【０００６】電子発光素子は発光層形成用材料によっ
て、無機電子発光素子と有機電子発光素子とに分かれ
る。
【０００７】有機電子発光素子は輝度、駆動電圧及び応
答速度特性が優秀で多色化が可能であるという長所を有
しているので、これに対する研究が無機電子発光素子に
比べてより活発に進められている。
【０００８】図１は、一般的な有機電子発光素子の構造
を示した図面である。これを参照すれば、基板１１の上
に第１電極層１２が形成されている。そしてこの第１電
極層１２の上部にはホール注入層１３、発光層１４、電
子注入層１５及び第２電極層１６が順次形成されてい
る。ここで第２電極層１６を除いたホール注入層１３、
発光層１４及び電子注入層１５は全てが有機薄膜であ
る。
【０００９】最近は、図１に示した基本的な構造を変形
させた新たな有機電子発光素子が開発されている。この
ような有機電子発光素子の構造は図２及び図３に示した
通りである。
【００１０】図２に示した有機電子発光素子は、基板１
１の上に第１電極層１２、ホール注入層１３、電子注入
性発光層１５’及び第２電極層１６が順次に形成されて
いる構造を有する。そして図３に示した有機電子発光素
子は、第１電極層１２、ホール注入性発光層１３’、電
子注入層１５及び第２電極層１６が順次形成されている
構造を有する。
【００１１】図４、図５及び図６は、カラー有機電子発
光素子の構造を示した図面である。この中で図４に示し
た有機電子発光素子ではカラー具現手段として赤色
（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の各発光層２６を含
む。そして、図５に示した有機電子発光素子は、カラー
具現手段として色変換層３７を使用し、図６に示した有
機電子発光素子は、カラーフィルター４７を使用してい
る。
【００１２】ところが、前記したカラー有機電子発光素
子を用いたフルカラー(full color)具現がまだ満足する
ほどの水準に達しなかった。このようにフルカラー具現
が満足する水準に到達し難い理由は、有機電子発光素子
の発光層、電子注入層、ホール注入層などの有機薄膜の
微細パターンを形成することが実質的に非常に難しいた
めである。
【００１３】有機薄膜パターンを形成する方法として
は、有機薄膜上にフォトレジストをコーティング、露光
及び現像して得られたフォトレジストパターンを利用す
ることによって、有機薄膜を微細加工するフォトリソグ
ラフィ方法がある。
【００１４】ところが、前記フォトリソグラフィ方法に
よれば、有機薄膜がフォトリソグラフィ工程で用いられ
る有機溶媒と現像液残留物によって変形されるので、実
質的に使用するのが困難である。
【００１５】有機薄膜パターンを形成する他の方法とし
て、マスクを利用する真空蒸着法がある。ところが、こ
の方法によれば、数十ミクロン程度の微細加工がむずか
しい問題点がある。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
問題点を解決して微細パターンを有する有機薄膜微細パ
ターンを形成してフルカラーが具現できる有機電子発光
素子有機薄膜用ドナーフィルムを提供することである。
【００１７】本発明のまた他の目的は、前記ドナーフィ
ルムを用いた有機電子発光素子の製造方法を提供するこ
とである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】前記の目的を成すため
に、本発明の目的は、（１） 基材フィルム(base fil
m)、前記基材フィルムの上部に形成された光吸収層及び
前記光吸収層上部に形成された転写層(transfer layer)
を含んでいる有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィル
ムにおいて、前記転写層が有機電子発光物質、有機金属
錯体電子発光物質及び電子発光性高分子の中から選択さ
れた発光体、ホール注入性低分子、ホール注入性高分
子、電子注入性低分子並びに電子注入性高分子よりなる
群から選択された少なくとも一つよりなることを特徴と
する有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィルムにより
達成される。
【００１９】また、本発明の目的は、（２） 前記発光
体が、下記構造式（１）〜（７）の化合物の中から選択
された少なくとも一つであることを特徴とする上記
（１）に記載の有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィ
ルムにより達成される。
【００２０】
【化２７】
【００２１】
【化２８】
【００２２】
【化２９】
【００２３】
【化３０】
【００２４】
【化３１】
【００２５】
【化３２】
【００２６】
【化３３】
【００２７】また、本発明の目的は、（３） 前記電子
注入性低分子が、１，３，４−オキサジアゾール誘導体
及び１，２，４−トリアゾール誘導体よりなる群から選
択された少なくとも一つであることを特徴とする上記
（１）に記載の有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィ
ルムにより達成される。
【００２８】また、本発明の目的は、（４） 前記電子
注入性高分子が、１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）
成分を有する高分子であることを特徴とする上記（１）
に記載の有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィルムに
より達成される。
【００２９】また、本発明の目的は、（５） 前記ホー
ル注入性低分子が、下記構造式（８）〜（１１）の化合
物の中から選択された少なくとも一つであることを特徴
とする上記（１）に記載の有機電子発光素子有機薄膜用
ドナーフィルムにより達成される。
【００３０】
【化３４】
【００３１】
【化３５】
【００３２】
【化３６】
【００３３】
【化３７】
【００３４】また、本発明の目的は、（６） 前記ホー
ル注入性高分子が、下記構造式（１２）で示されること
を特徴とする上記（１）に記載の有機電子発光素子有機
薄膜用ドナーフィルムにより達成される。
【００３５】
【化３８】
【００３６】前記式中、Ｒ1 は水素及びＣ1 〜Ｃ10アル
キル基の中から選択されてなるものであり、Ｒ2 は、
【００３７】
【化３９】
【００３８】よりなる群から選択されてなるものであ
り、ｎは３〜５０の整数である。
【００３９】また、本発明の目的は、（７） 前記光吸
収層と転写層の間にガス生成層がさらに含まれているこ
とを特徴とする上記（１）に記載の有機電子発光素子有
機薄膜用ドナーフィルムにより達成される。
【００４０】また、本発明の目的は、（８） 前記ガス
生成層が、四硝酸ペンタエリトリトール（ＰＥＴＮ）及
びトリニトロトルエン（ＴＮＴ）よりなる群から選択さ
れた少なくとも一つの物質よりなることを特徴とする上
記（７）に記載の有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフ
ィルムにより達成される。
【００４１】本発明の他の目的は、（９） （ａ）基板
上に第１電極層を形成する段階と、（ｂ）前記第１電極
層が形成された基板から所定間隔離隔された位置に、基
材フィルム、光吸収層、並びに有機電子発光物質、有機
金属錯体電子発光物質及び電子発光性高分子の中から選
択された発光体、ホール注入性低分子、ホール注入性高
分子、電子注入性低分子及び電子注入性高分子よりなる
群から選択された、少なくとも一つの転写物質よりなる
転写層を含むドナーフィルムを設ける段階と、（ｃ）前
記ドナーフィルムの基材フィルム上に光源より赤外線〜
可視光線領域の光を照射して、前記転写物質中の少なく
とも一つを基板上に転写させて転写物質に対応される目
的層を形成する段階、並びに、（ｄ）前記目的層が形成
された基板面上に第２電極層を形成する段階を含むこと
を特徴とする有機電子発光素子の製造方法により達成さ
れる。
【００４２】また、本発明の他の目的は、（１０） 前
記発光体が、下記構造式（１）〜（７）の化合物の中か
ら選択された少なくとも一つであることを特徴とする上
記（９）に記載の有機電子発光素子の製造方法により達
成される。
【００４３】
【化４０】
【００４４】
【化４１】
【００４５】
【化４２】
【００４６】
【化４３】
【００４７】
【化４４】
【００４８】
【化４５】
【００４９】
【化４６】
【００５０】また、本発明の他の目的は、（１１） 前
記電子注入性低分子が、１，３，４−オキサジアゾール
誘導体及び１，２，４−トリアゾール誘導体よりなる群
から選択された少なくとも一つであることを特徴とする
上記（９）に記載の有機電子発光素子の製造方法により
達成される。
【００５１】また、本発明の他の目的は、（１２） 前
記電子注入性高分子が、１，２，４−トリアゾール誘導
体（ＴＡＺ）成分を有する高分子よりなる群から選択さ
れた少なくとも一つであることを特徴とする上記（９）
に記載の有機電子発光素子の製造方法により達成され
る。
【００５２】また、本発明の他の目的は、（１３） 前
記ホール注入性低分子が、下記構造式（８）〜（１１）
の化合物の中から選択された少なくとも一つであること
を特徴とする上記（９）に記載の有機電子発光素子の製
造方法により達成される。
【００５３】
【化４７】
【００５４】
【化４８】
【００５５】
【化４９】
【００５６】
【化５０】
【００５７】また、本発明の他の目的は、（１４） 前
記ホール注入性高分子が、下記構造式（１２）で示され
ることを特徴とする上記（９）に記載の有機電子発光素
子の製造方法により達成される。
【００５８】
【化５１】
【００５９】前記式中、Ｒ1 は水素及びＣ1 〜Ｃ10アル
キル基の中から選択されてなるものであり、Ｒ2 は、
【００６０】
【化５２】
【００６１】よりなる群から選択されてなるものであ
り、ｎは３〜５０の整数である。
【００６２】また、本発明の他の目的は、（１５） 前
記光吸収層と転写層の間にガス生成層がさらに含まれて
いることを特徴とする上記（９）に記載の有機電子発光
素子の製造方法により達成される。
【００６３】また、本発明の他の目的は、（１６） 前
記ガス生成層が、四硝酸ペンタエリトリトール及びトリ
ニトロトルエンよりなる群から選択された物質よりなる
ことを特徴とする上記（１５）に記載の有機電子発光素
子の製造方法により達成される。
【００６４】
【発明の実施の形態】本発明は、有機電子発光素子有機
薄膜の微細パターン形成時にレーザー転写技術を適用し
たことにある。
【００６５】レーザーによる転写法は、印刷、組み版、
写真などの分野で広く利用されている方法である。この
方法は転写される物質（被転写物質）よりなる層を含む
ドナーフィルムから被転写物質を受容体（本発明では、
透明電極層が形成された基板等である）の方に押し出す
ことによって前記受容体上に転写する原理を利用する方
法である。
【００６６】被転写物質を受容体上に転写するには一般
的に非常に多くのエネルギーを必要とするので、安定的
で効率的に転写させ得るドナーフィルムが要求される。
ドナーフィルムは通常的に被転写物質の種類、被転写物
質を含んでいる層の物性、転写時に使用するエネルギー
源の種類等によってその構造が変わる。
【００６７】本発明のドナーフィルムは、図７に示した
ように、基材フィルム５１の上に光吸収層５２と転写層
５３が順次積層されている構造を有する。このような構
造は最も基本的なものであって、当該構造に基づき色々
な応用ができる。即ち、用途に応じてドナーフィルムの
構造を変更して使用することができる。例えば、反射に
よって転写層の特性が低下することを防止するために反
射防止コーティング処理ができるし、ドナーフィルムの
感度を向上させるために前記光吸収層と前記転写層との
間にガス生成層をさらに設けることもできる。
【００６８】前記ガス生成層は、光または熱を吸収する
と、分解反応を起こして窒素ガスまたは水素ガスを放出
することによって転写エネルギーを提供する役割をす
る。このようなガス生成層としては、四硝酸ペンタエリ
トリトール（ＰＥＴＮ）及びトリニトロトルエン（ＴＮ
Ｔ）よりなる群から選択された少なくとも一つの物質な
どが挙げられる。
【００６９】本発明のドナーフィルムにおいて、基材フ
ィルムは、透明性高分子よりなる。このような透明性高
分子としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートの
ようなポリエステル、ポリアクリル、ポリエポキシ、ポ
リエチレン、ポリスチレンなどが挙げられるが、その中
でもポリエチレンテレフタレートを使用することが望ま
しい。前記基材フィルムは、ドナーフィルムを支持する
役割をし、望ましい厚さは１０〜５００μｍである。
【００７０】また、本発明のドナーフィルムにおいて、
光吸収層は、赤外線〜可視光線領域の光を吸収する性質
を有している光吸水性物質より形成されてなるものであ
る。このような特性を有している光吸収層（膜）として
は、アルミニウム、その酸化物及び／またはその硫化物
よりなる金属層（膜）、あるいはカーボンブラック、黒
鉛または赤外線染料などが添加された高分子よりなる有
機層（膜）がある。前記光吸収層として、前記金属層
（膜）を用いる場合には、真空蒸着法、電子ビーム蒸着
法またはスパッタリングを利用して１００〜５０００Å
の厚さに形成されてなるものであり、前記有機層（膜）
を用いる場合には、一般的なフィルムコーティング方
法、例えば、押出コーティング方法、スピンコーティン
グ方法またはナイフコーティング方法を利用して０．１
〜１０μｍの厚さに形成されてなるものが望ましい。
【００７１】また、本発明のドナーフィルムにおいて、
転写層は、前述したように、有機電子発光物質、有機金
属錯体電子発光物質及び電子発光性高分子の中から選択
された発光体、ホール注入性低分子、ホール注入性高分
子、電子注入性低分子、並びに電子注入性高分子よりな
る群から選択された少なくとも一つの転写物質よりなる
ものである。前記転写層の形成は、一般的なコーティン
グ方法、例えば、押出コーティング方法、スピンコーテ
ィング方法、ナイフコーティング方法、真空蒸着法、化
学気相蒸着法などの方法を利用して１００〜５００００
Åの厚さにコーティングすることによりなされる。
【００７２】前記転写層が有機電子発光素子の発光層の
形成に使われる場合、該転写層は有機電子発光物質、有
機金属錯体電子発光物質及び電子発光性高分子の中から
選択された発光体よりなるものがよい。前記発光体の具
体的な例としては、下記構造式（１）〜（７）の化合物
が挙げられる。
【００７３】
【化５３】
【００７４】
【化５４】
【００７５】
【化５５】
【００７６】
【化５６】
【００７７】
【化５７】
【００７８】
【化５８】
【００７９】
【化５９】
【００８０】前記転写層が、有機電子発光素子の電子注
入層および／またはホール注入層の形成に使われる場
合、該転写層はホール注入性低分子、ホール注入性高分
子、電子注入性低分子および電子注入性高分子よりなる
群から選択された少なくとも一つの転写物質よりなるも
のがよい。この場合、転写層は、低分子有機物質または
高分子よりなるものである。
【００８１】ここで、前記電子注入性低分子としては、
１，３，４−オキサジアゾール誘導体及び１，２，４−
トリアゾール誘導体よりなる群から選択された少なくと
も一つのものが使われ、前記電子注入性高分子として
は、１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）誘導体成分を
有する高分子よりなる群から選択された少なくとも一つ
のものが使われる。
【００８２】前記ホール注入性低分子としては、下記構
造式（８）〜構造式（１１）で示される化合物（芳香族
アミノ誘導体）よりなる群から選択された少なくとも一
つのものが使われる。
【００８３】
【化６０】
【００８４】
【化６１】
【００８５】
【化６２】
【００８６】
【化６３】
【００８７】前記ホール注入性高分子には、上記構造式
（１０）の成分を主鎖または側鎖に有する高分子を使用
することが望ましい。このような構造式（１０）の成分
を側鎖に有する高分子の具体的な例として下記構造式
（１２）の化合物がある。
【００８８】
【化６４】
【００８９】前記式中、Ｒ1 は水素及びＣ1 〜Ｃ10アル
キル基の中から選択されてなるものであり、Ｒ2 は、
【００９０】
【化６５】
【００９１】よりなる群から選択されてなるものであ
り、ｎは３〜５０の数である。
【００９２】前述したホール注入性低分子、電子注入性
低分子、ホール注入性高分子及び電子注入性高分子にお
いて、全般的に低分子系よりは高分子系を使用すること
がより望ましい。これは高分子系が低分子系より成膜塗
布性が優秀で実用化面でより望ましいためである。
【００９３】以下、添付した図面（図８）を参照して本
発明による有機電子発光素子有機薄膜の微細パターンを
形成する方法及びこれを用いた有機電子発光素子の製造
方法を説明する。
【００９４】まず、透明基板６５の上に第１電極層６６
を形成する。これとは別途に基材フィルム６１の上に光
吸収層６２及び転写層６３を順次塗布してドナーフィル
ム６４を準備する。
【００９５】ここで、転写層は、（有機電子発光素子の
構成要素であるところの）電子注入層、ホール注入層及
び発光層と同じ有機薄膜形成用物質を含んでいる。この
際、（前記透明基板６５の上部の透明電極層６６の上
に、転写層より転写物質が転写されることにより形成さ
れるところの）有機薄膜の特性を改善するために、該転
写層には、所定含有量の添加物質を添加してあっても差
し支えない。例えば、発光層の効率を上げるために、該
転写層にドープ剤(dopant)を添加してあってもよい。そ
して転写層を形成する方法には、前述したように一般的
なフィルムコーティング方法、例えば、押出コーティン
グ方法、スピンコーティング方法及びナイフコーティン
グ方法などを用いることができる。
【００９６】一方、変形された有機電子発光素子の製造
時に必要な有機薄膜、即ち電子注入性発光層を形成する
場合には、そのもとになる転写層の形成に電子注入層形
成用材料と発光層形成用材料を一つの溶媒に溶解及び分
散させた混合物を使用すればよいし、ホール注入性発光
層の場合にも、そのもとになる転写層の形成にホール注
入層形成用材料と発光層形成用材料を一緒に使用すれば
よい。これらの電子注入層形成用材料、発光層形成用材
料、ホール注入層形成用材料及び発光層形成用材料は、
いずれも転写層を構成する転写物質であるところの有機
電子発光物質、有機金属錯体電子発光物質及び電子発光
性高分子の中から選択された発光体、ホール注入性低分
子、ホール注入性高分子、電子注入性低分子、並びに電
子注入性高分子よりなる群から選択されたものである。
【００９７】それから、透明電極層６６が形成された基
板６５と所定間隔離隔された位置に、前記ドナーフィル
ム６４を（該ドナーフィルム６４の転写層６３が、基板
６５の透明電極層６６と対向するように）配置した後、
前記ドナーフィルム６４に光源６７より赤外線〜可視光
線領域の光を照射する。
【００９８】前記光源６７から照射される赤外線〜可視
光線領域の光は、転写装置と基材フィルム６１を順次通
過して光吸収層６２を活性化させ、光吸収層６２は光熱
交換メカニズムによって熱を放出する。放出された熱に
よって透明基板６５の上部の透明電極層６６の上に転写
層６３の転写される物質が転写される。
【００９９】本発明で使用することのできる光源として
は、例えば、レーザー、キセノンランプ、そしてフラッ
シュランプなどが挙げられる。その中でもレーザーが最
も優れた転写効果を得ることができて望ましい。この
際、レーザーには全ての汎用的なレーザーが使用でき
る。
【０１００】前記したような転写過程をたどった後は、
転写された物質の中に残された溶媒を取り除くために熱
処理する工程をたどる。
【０１０１】ここで、転写物質の転写は一度または多段
階を経てなり得るものである。即ち、ドナーフィルム中
の転写層から、透明基板の上部の透明電極層の上に、転
写物質を転写して形成される有機薄膜層は、一回に必要
な厚さを転写して形成する事もできるし、数回反復して
転写することによって形成する事もできる。しかしなが
ら、工程の便宜性及び信頼性を考えると、一回に転写物
質を転写させることが望ましい。
【０１０２】前記の方法によって、透明基板の上部の透
明電極層の上に転写物質を転写し、該転写物質に対応さ
れる目的層として、例えば、有機薄膜のホール注入層、
発光層及び電子注入層を形成してから、（当該結果物で
あるホール注入層、発光層及び電子注入層が形成された
有機薄膜の上に）第２電極層及び絶縁層を形成すれば、
図１、図２及び図３に示したような有機電子発光素子が
完成される。
【０１０３】
【実施例】以下、本発明を実施例を挙げて詳細に説明す
るが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【０１０４】実施例１ 約２００μｍの厚さを有するＰＥＴフィルム上に、ニチ
ゴポリエステルＬＰ−０１１(Nichigo polyester LP-01
1)の２０重量％メチルエチルケトン溶液：カーボンブラ
ック：メチルエチルケトン＝３００：１０：３２７重量
比に調製してなる、ニチゴポリエステルＬＰ−０１１(N
ichigo polyester LP-011)の２０重量％メチルエチルケ
トン溶液、カーボンブラック及びメチルエチルケトンを
含む組成物をコーティングして約３μｍの厚さの光吸収
層を形成した。
【０１０５】前記光吸収層上部にポリ（２−メトキシ−
５−（２−エチルヘキシルオキシ）−１，４−フェニレ
ンビニリデン（ＭＥＨ−ＰＰＶ）をＴＨＦに溶かした組
成物をコーティングして約５００Åの厚さの転写層を形
成することによってドナーフィルムを製造した。
【０１０６】透明電極層が形成されている基板と一定間
隔離れた位置に前記ドナーフィルムを（該ドナーフィル
ムの転写層側が、基板の透明電極層側と対向するよう
に）設置した後、前記ドナーフィルムのＰＥＴフィルム
上に光源よりレーザー光を照射して前記基板上に発光層
を形成した。この際、光源にはビームの大きさが約１０
０μｍ（１／ｅ2 ）のＮｄ−Ｙａｇ８Ｗレーザーを利用
した。
【０１０７】実施例２ ２００μｍの厚さを有するＰＥＴフィルムにアルミニウ
ムを蒸着して約１０００Åの厚さの光吸収層を形成し
た。そしてこの層の上部に前述した構造式（６）で示す
化合物をＴＨＦに溶解した組成物を押出コーティングし
て、約１μｍの厚さの転写層を形成してドナーフィルム
を製造した。
【０１０８】透明電極層が形成されている基板と一定間
隔離れた位置に前記ドナーフィルムを（該ドナーフィル
ムの転写層側が、基板の透明電極層側と対向するよう
に）設置した後、前記ドナーフィルムのＰＥＴフィルム
上に光源を照射して基板上に発光層を形成した。この
際、光源にはビームの大きさが約１００μｍ（１／
ｅ2 ）のＮｄ−Ｙａｇ８Ｗレーザーを利用した。
【０１０９】電子走査顕微鏡（ＳＥＭ）を利用して前記
実施例１及び２によって形成された発光層のパターン状
態を調べた。
【０１１０】その結果、従来技術によれば画素ピッチが
３００μｍのパターンを得ることができることに反し
て、前記実施例１及び２によれば約９５μｍの画素ピッ
チを有する微細なパターンを得ることができた。
【０１１１】
【発明の効果】本発明によれば、有機電子発光素子の有
機薄膜を微細パターンで形成できる。また赤色、緑色及
び青色の画素を微細パターンで形成できるので、フルカ
ラーが具現できて高品質の有機電子発光素子を得ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 一般的な有機電子発光素子の構造を示した図
面である。
【図２】 変形された有機電子発光素子の構造の一実施
態様を示した図面である。
【図３】 変形された有機電子発光素子の構造の他の一
実施態様を示した図面である。
【図４】 カラー具現層として３色発光層を使用してい
るカラー有機電子発光素子の構造を示した図面である。
【図５】 カラー具現層として色変換層を使用している
カラー有機電子発光素子の構造を示した図面である。
【図６】 カラー具現層としてカラーフィルターを使用
しているカラー有機電子発光素子の構造を示した図面で
ある。
【図７】 本発明に従う有機電子発光素子有機薄膜用ド
ナーフィルムの構造を示した図面である。
【図８】 本発明に従うドナーフィルムを使用した有機
電子発光素子の製造過程を示した図面である。
【付号の説明】
１１…基板、 １２…第１電極層、１
３…ホール注入層、 １３’…ホール注入性発
光層、１４…発光層、 １５…電子注入
層、１５’…電子注入性発光層、 １６…第２電極
層、２６…赤色Ｒ、緑色Ｇ及び青色Ｂの各発光層、３７
…色変換層、 ４７…カラーフィルター、
５１…基材フィルム、 ５２…光吸収層、５３
…転写層、 ６１…基材フィルム、６２
…光吸収層、 ６３…転写層、６４…ドナ
ーフィルム、 ６５…透明基板、６６…第１電極
層、 ６７…光源。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｂ 33/22 Ｈ０５Ｂ 33/22 Ｚ (72)発明者 朴 柱 相 大韓民国京畿道水原市長安區迎華洞417− ４番地 (72)発明者 金 利 坤 大韓民国京畿道水原市長安區亭子１洞395 −３番地 東信アパート201棟604號

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基材フィルム、前記基材フィルムの上部
    に形成された光吸収層及び前記光吸収層上部に形成され
    た転写層を含んでいる有機電子発光素子有機薄膜用ドナ
    ーフィルムにおいて、 前記転写層が有機電子発光物質、有機金属錯体電子発光
    物質及び電子発光性高分子の中から選択された発光体、
    ホール注入性低分子、ホール注入性高分子、電子注入性
    低分子並びに電子注入性高分子よりなる群から選択され
    た少なくとも一つよりなることを特徴とする有機電子発
    光素子有機薄膜用ドナーフィルム。
  2. 【請求項２】 前記発光体が、下記構造式（１）〜
    （７）の化合物の中から選択された少なくとも一つであ
    ることを特徴とする請求項１に記載の有機電子発光素子
    有機薄膜用ドナーフィルム。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 【化７】
  3. 【請求項３】 前記電子注入性低分子が、１，３，４−
    オキサジアゾール誘導体及び１，２，４−トリアゾール
    誘導体よりなる群から選択された少なくとも一つである
    ことを特徴とする請求項１に記載の有機電子発光素子有
    機薄膜用ドナーフィルム。
  4. 【請求項４】 前記電子注入性高分子が、１，２，４−
    トリアゾール成分を有する高分子であることを特徴とす
    る請求項１に記載の有機電子発光素子有機薄膜用ドナー
    フィルム。
  5. 【請求項５】 前記ホール注入性低分子が、下記構造式
    （８）〜（１１）の化合物の中から選択された少なくと
    も一つであることを特徴とする請求項１に記載の有機電
    子発光素子有機薄膜用ドナーフィルム。 【化８】 【化９】 【化１０】 【化１１】
  6. 【請求項６】 前記ホール注入性高分子が、下記構造式
    （１２）で示されることを特徴とする請求項１に記載の
    有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィルム。 【化１２】 前記式中、Ｒ1 は水素及びＣ1 〜Ｃ10アルキル基の中か
    ら選択されてなるものであり、Ｒ2 は、 【化１３】 よりなる群から選択されてなるものであり、 ｎは３〜５０の整数である。
  7. 【請求項７】 前記光吸収層と転写層の間にガス生成層
    がさらに含まれていることを特徴とする請求項１に記載
    の有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィルム。
  8. 【請求項８】 前記ガス生成層が、四硝酸ペンタエリト
    リトール及びトリニトロトルエンよりなる群から選択さ
    れた少なくとも一つの物質よりなることを特徴とする請
    求項７に記載の有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィ
    ルム。
  9. 【請求項９】 （ａ）基板上に第１電極層を形成する段
    階と、 （ｂ）前記第１電極層が形成された基板から所定間隔離
    隔された位置に、基材フィルム、光吸収層、並びに有機
    電子発光物質、有機金属錯体電子発光物質及び電子発光
    性高分子の中から選択された発光体、ホール注入性低分
    子、ホール注入性高分子、電子注入性低分子及び電子注
    入性高分子よりなる群から選択された少なくとも一つの
    転写物質よりなる転写層を含むドナーフィルムを設ける
    段階と、 （ｃ）前記ドナーフィルムの基材フィルム上に光源より
    赤外線〜可視光線領域の光を照射して、前記転写物質中
    の少なくとも一つを基板上に転写させて転写物質に対応
    される目的層を形成する段階、並びに、 （ｄ）前記目的層が形成された基板面上に第２電極層を
    形成する段階を含むことを特徴とする有機電子発光素子
    の製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記発光体が、下記構造式（１）〜
    （７）の化合物の中から選択された少なくとも一つであ
    ることを特徴とする請求項９に記載の有機電子発光素子
    の製造方法。 【化１４】 【化１５】 【化１６】 【化１７】 【化１８】 【化１９】 【化２０】
  11. 【請求項１１】 前記電子注入性低分子が、１，３，４
    −オキサジアゾール誘導体及び１，２，４−トリアゾー
    ル誘導体よりなる群から選択された少なくとも一つであ
    ることを特徴とする請求項９に記載の有機電子発光素子
    の製造方法。
  12. 【請求項１２】 前記電子注入性高分子が、１，２，４
    −トリアゾール誘導体成分を有する高分子よりなる群か
    ら選択された少なくとも一つであることを特徴とする請
    求項９に記載の有機電子発光素子の製造方法。
  13. 【請求項１３】 前記ホール注入性低分子が、下記構造
    式（８）〜（１１）の化合物の中から選択された少なく
    とも一つであることを特徴とする請求項９に記載の有機
    電子発光素子の製造方法。 【化２１】 【化２２】 【化２３】 【化２４】
  14. 【請求項１４】 前記ホール注入性高分子が、下記構造
    式（１２）で示されることを特徴とする請求項９に記載
    の有機電子発光素子の製造方法。 【化２５】 前記式中、Ｒ1 は水素及びＣ1 〜Ｃ10アルキル基の中か
    ら選択されてなるものであり、 Ｒ2 は、 【化２６】 よりなる群から選択されてなるものであり、 ｎは３〜５０の整数である。
  15. 【請求項１５】 前記光吸収層と転写層の間にガス生成
    層がさらに含まれていることを特徴とする請求項９に記
    載の有機電子発光素子の製造方法。
  16. 【請求項１６】 前記ガス生成層が、四硝酸ペンタエリ
    トリトール及びトリニトロトルエンよりなる群から選択
    された物質よりなることを特徴とする請求項１５に記載
    の有機電子発光素子の製造方法。
JP9355791A 1996-12-23 1997-12-24 有機電子発光素子有機薄膜用ドナーフィルム及びこれを用いた有機電子発光素子の製造方法 Pending JPH10208881A (ja)

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