JPH10135229A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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JPH10135229A
JPH10135229A JP8305652A JP30565296A JPH10135229A JP H10135229 A JPH10135229 A JP H10135229A JP 8305652 A JP8305652 A JP 8305652A JP 30565296 A JP30565296 A JP 30565296A JP H10135229 A JPH10135229 A JP H10135229A
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保 谷藤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空予備室がひずみや変形を生じたとして
も、搬送機構の精度不良が発生する恐れがなく、真空予
備室を高精度に加工する必要もない熱処理装置を提供す
る。 【解決手段】 熱処理炉１９に連設された真空予備室１
０内に搬送機構２０を備えた熱処理装置において、上記
搬送機構２０を上記真空予備室１０から独立したベース
部２８に設置している。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱処理装置に関す
る。
【従来の技術】
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造においては、被処理基
板である半導体ウエハに酸化、拡散、ＣＶＤ等の各種の
処理を施すために、種々の熱処理装置が用いられてい
る。このような熱処理装置の一つとして、例えば枚葉式
などでは、熱処理炉に真空予備室を連設し、この真空予
備室内にウエハの搬送機構を備えたものが知られてい
る。この熱処理装置においては、上記真空予備室内を予
め熱処理炉内とほぼ同じ圧力にしておくことにより、熱
処理炉内の圧力を大気圧に戻すことなく炉口を開放して
ウエハの搬入搬出を行なうことができるため、時間の短
縮やスループットの向上等が図れる。
【０００３】ところで、上記搬送機構等は、真空予備室
に直接取付けられている。熱処理炉がランプ加熱等で直
接ウエハを加熱する、いわゆるコールドウォール型であ
る場合には、上記真空予備室が熱処理炉からの熱影響を
受けにくいため、真空予備室に搬送機構が直接取付けら
れていても、それほど問題はない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記熱
処理装置においては、特に熱処理炉が反応管の周囲をヒ
ーター線および断熱層で取り囲んで炉内全体を加熱す
る、いわゆるホットウォール型である場合、真空予備室
が熱処理炉からの熱影響を受けやすい。そのため、真空
予備室に搬送機構が直接取付けられていると、熱影響に
よる真空予備室のひずみや変形により搬送機構の軸芯位
置がずれ、精度不良が発生する恐れがある。また、搬送
機構の精度を出すために、真空予備室を高精度に加工す
る必要があり、製造コストの増大を招く問題もある。
【０００５】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、真空予備室がひずみや変形を生じたとしても、搬送
機構の精度不良が発生する恐れがなく、真空予備室を高
精度に加工する必要もない熱処理装置を提供することに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のうち請求項１記載の熱処理装置は、熱処理炉
に連設された真空予備室内に搬送機構を備えた熱処理装
置において、上記搬送機構を上記真空予備室から独立し
たベース部に設置したことを特徴とする。
【０００７】請求項２記載の熱処理装置は、熱処理炉に
連設された真空予備室内に搬送機構を備えた熱処理装置
において、上記真空予備室外に独立して設けられたベー
ス部に上記搬送機構を設置し、上記真空予備室に上記搬
送機構のための開口部を設け、この開口部と上記ベース
部または搬送機構との間に真空シール用のベローズを設
けたことを特徴とする。
【０００８】請求項３記載の熱処理装置は、上記ベース
部が上記真空予備室の下方に設けられた第１ベース部を
含み、この第１ベース部に、複数枚の被処理基板を保持
する基板保持具を水平に搬送する水平搬送機構と、上記
基板保持具を設置する基板保持具設置台とが設置されて
いることを特徴とする。
【０００９】請求項４記載の熱処理装置は、上記ベース
部が上記真空予備室の上方に設けられた第２ベース部を
含み、この第２ベース部に、下部に炉口を有する縦型の
熱処理炉と、この熱処理炉に複数枚の被処理基板を保持
した基板保持具を搬入搬出する垂直搬送機構が設置され
ていることを特徴とする。
【００１０】
【実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添付図面
に基づいて詳述する。
【００１１】図２ないし図３において、１は熱処理装置
として例示したバッチ式の縦型熱処理装置の筐体、２は
被処理基板である半導体ウエハＷを複数枚例えば２５枚
程度垂直に立てた状態で所定のピッチで収納する上部に
収納口２ａを有する運搬用の容器であるカセットであ
る。上記筐体１の一端には、上記カセット２を搬入搬出
するための開閉ゲートを有する搬出入口３が設けられて
いる。上記筐体１内における搬出入口３近傍には、上記
カセット２を収納口２ａが上部にある垂直状態で載置す
るための載置台４が設けられている。
【００１２】上記載置台４には、カセット２を前後から
押える押え部５，６、カセット２内のウエハＷのオリフ
ラ合せを行うオリフラ整合機等（図示省略）が設けられ
ている。また、載置台４は、垂直に回動可能に設けられ
ており、上記カセット２内のウエハＷを垂直状態から水
平状態にすべくカセット２をほぼ９０度回動できるよう
になっている。上記筐体１内には、昇降および回転可能
な基台７を有する移載機構８が設けられ、その基台７の
周囲に上記載置台４と、上記カセット２を設置する設置
台９と、後述する第１の真空予備室（ロードロック室と
もいう）１０Ａとが配置されている。
【００１３】上記移載機構８は、ボールネジ等を用いた
昇降機構により昇降可能に設けられた昇降アーム１１を
有し、この昇降アーム１１上に上記基台７が水平に回転
可能に取付けられている。上記昇降アーム１１内には、
上記基台７を位置決め可能に回転駆動するための回転駆
動部が設けられている（図示省略）。
【００１４】上記基台７上には、ウエハＷを支持する水
平に延出した短冊状のウエハ支持部（フォークともい
う）１２を複数段例えば５段有するウエハ移載機１３
と、上記カセット２を載置して支持する水平に延出した
カセット支持部１４を有するカセット移載機１５とが対
向して往復移動可能に設けられ、そのカセット移載機１
５によりカセットＷを載置台４から設置台９にまたはそ
の逆に、上記ウエハ移載機１３によりウエハＷを設置台
９のカセット２内から第１の真空予備室１０Ａ内の後述
するボート１６にまたはその逆にそれぞれ移載可能に構
成されている。
【００１５】上記ウエハ移載機１３およびカセット移載
機１５が基台７上の待機位置にある状態において、上記
カセット支持部１４が上記ウエハ移載機１３の直上に配
置され、これによりカセット２を基台７から外側にはみ
出さない状態で旋回させることができ、旋回半径Ｒの縮
小化が図られている。上記設置台９は、高さ方向にカセ
ット２を複数個設置可能に棚部１７を複数段例えば４段
有している。
【００１６】上記筐体１の後端側上部には、下部に炉口
１８を有する縦型熱処理炉１９が設けられ、この熱処理
炉１９には、その熱処理時の真空度例えば１Ｔｏｒｒと
ほぼ同じ真空度とされる真空予備室１０が連設されてい
る。この真空予備室１０内には、後述する搬送機構２０
が配設されている。上記真空予備室１０は、搬出入口３
側の第１の真空予備室１０Ａと、熱処理炉１９側の第２
の真空予備室１０Ｂとからなり、第１および第２の真空
予備室１０Ａ，１０Ｂ間には、これらの間を開閉するゲ
ートバルブ２１が介設されている。
【００１７】上記第１の真空予備室１０Ａは、熱処理炉
１９内に複数枚例えば３０枚のウエハＷを装入するため
に用いられる基板保持具である石英製のボート１６を収
容してウエハＷの移載と予備真空を行うための部屋で、
上記基台７を挟んで上記載置台４と対向する位置に配置
されている。第１の真空予備室１０Ａの上記基台７側へ
臨む前面部は開口しており、この前面部にはその開口部
を開閉するロードロックドア２２が設けられている。
【００１８】第１の真空予備室１０Ａは、ゲートバルブ
２１を開けて第２の真空予備室１０Ｂと連通するに際し
て第２の真空予備室１０Ｂと同じ圧力に制御され、第１
の真空予備室１０Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間の
ゲートバルブ２１を閉めた状態で第１の真空予備室１０
Ａのロードロックドア２２を開けて筐体１内と連通する
に際して筐体１内と同じ圧力（大気圧）に制御されるよ
うになっている。
【００１９】上記第２の真空予備室１０Ｂは、上記熱処
理炉１９の下方において炉内へのボート１６の搬入搬出
を行なうためのローディング室１０ａと、上記ボート１
６を２個使用する場合にボート１６同士が干渉しないよ
う熱処理炉１９から搬出されたボート１６を仮置きする
バッファー室１０ｂと、ボート１６の搬送を行なう後述
の水平搬送機構２０Ａが配置されたトランスファー室１
０ｃとから構成され、これら３つの室１０ａ，１０ｂ，
１０ｃは互に連通されている。
【００２０】上記ローディング室１０ａ内には、熱処理
炉１９の炉口１８を開閉する蓋体２３が後述する垂直搬
送機構（昇降機構）２０Ｂの昇降アーム２４により昇降
可能に設けられ、この蓋体２３の上部には、石英製の保
温筒２５を介して上記ボート１６が載置されるようにな
っている。上記垂直搬送機構２０Ｂにより、熱処理炉１
９内へのボート１６の搬入または熱処理炉１９内からの
ボート１６の搬出が行なわれる。
【００２１】上記トランスファー室１０ａ内には、上記
ボート１６を第１の真空予備室１０Ａから上記保温筒２
５上に、または保温筒２５上から上記バッファー室１０
ｂを介して第１の真空予備室１０Ａに搬送するための多
関節アーム構造の搬送アーム２６を有する水平搬送機構
２０Ａが設けられている。なお、上記保温筒２５は、洗
浄等のために、上記水平搬送機構２０Ａにより上記蓋体
２３上から第１の真空予備室１０Ａに搬送され、筐体１
外に搬出可能になっている。
【００２２】上記水平搬送機構２０Ａは、ボート１６を
昇降させる機能を有していないため、第１の真空予備室
１０Ａおよびバッファー室１０ｂには、搬送アーム２６
との間でボート１６の受取り受渡しを可能とすべくボー
ト１６を上下動可能に設置する基板保持具設置台（ボー
トスタンドともいう）２７が配置されている。なお、水
平搬送機構２０Ａとしては、搬送アーム２６を介してボ
ート１６を昇降させる機能を有していてもよく、その場
合、ボートスタンド２７は上下動可能に構成されていな
くてもよい。
【００２３】上記搬送機構２０は、真空予備室１０から
独立したベース部２８に設置されている。この場合、上
記ベース部２８は、真空予備室１０の下方に設けられた
第１ベース部２８Ａと、真空予備室１０の上方に設けら
れた第２ベース部２８Ｂとを含んでいる。また、上記搬
送機構２０は、第１ベース部２８Ａに設置される水平搬
送機構２０Ａと、第２ベース部２８Ｂに設置される垂直
搬送機構２０Ｂとを含んでいる。第１ベース部２８Ａ
は、図１に示すように、第１の真空予備室１０Ａおよび
第２の真空予備室１０Ｂ（但し、ローデンイング室１０
ａを除いた部分）の下方にこれらから切り離されて独立
した状態で設置され、この第１ベース部２８Ａに上記水
平搬送機構２０Ａと、上記ボートスタンド２７とが第１
および第２の真空予備室１０Ａ，１０Ｂから独立して設
置されている。上記第１ベース部２８Ａは、例えばアル
ミニウム合金により形成されている。
【００２４】上記水平搬送機構２０Ａは、作動部である
搬送アーム２６と、この搬送アーム２６を駆動する駆動
部２９とからなり、その駆動部２９が第１ベース部２８
Ａに取付けられている。また、上記ボートスタンド２７
は、ボート１６を載置する載置部２７ａと、この載置部
２７ａを昇降駆動する例えばエアシリンダ等の駆動部２
７ｂとからなり、その駆動部２７ｂが第１ベース部２８
Ａに取付けられている。上記第１および第２の真空予備
室１０Ａ，１０Ｂの底部には、上記ボートスタンド２７
および水平搬送機構２０Ａを各真空予備室１０Ａ，１０
Ｂ内に臨ませるための開口部３０ａ，３０ｂがそれぞれ
設けられ、各開口部３０ａ，３０ｂと第１ベース部２８
Ａとの間には真空シール用として筒状の伸縮可能なベロ
ーズ３１ａ，３１ｂが気密に取付けられている。
【００２５】なお、上記ベローズ３１ａ，３１ｂの一端
は、第１ベース部２８Ａでなく、水平搬送機構２０Ａお
よびボートスタンド２７の各駆動部２９，２７ｂに気密
に接続されていてもよい。上記第１ベース部２８Ａとし
ては、図２に示すように、水平搬送機構２０Ａを設置す
る部分２８ａと、ボートスタンド２７を設置する部分２
８ｂとに分割されていてもよい。
【００２６】一方、上記第２ベース部２８Ｂは、図４に
示すように、第２の真空予備室１０Ｂの上方にこれから
切り離されて独立した状態で設置され、この第２ベース
部２８Ｂに垂直搬送機構２０Ｂと、熱処理炉１９とが第
２の真空予備室１０Ｂから独立して設置されている。上
記第２ベース部２８Ｂは、例えばステンレス鋼により板
状に形成され、上記筐体１に横架されて取付けられてい
る。上記垂直搬送機構２０Ｂは、上記昇降アーム２４
と、この昇降アーム２４を垂直の昇降ロッド３２を介し
て昇降駆動する駆動部３３とからなり、その駆動部３３
が上記第２ベース部２８Ｂ上に取付けられている。
【００２７】第２の真空処理室１０Ｂの上部および第２
ベース部２８Ｂには、熱処理炉１９の炉口１８と対応し
た開口部３４ａ，３４ｂと、垂直搬送機構２０Ｂの昇降
ロッド３２を貫通させる開口部３４ｃ，３４ｄとが設け
られている。上記熱処理炉１９は、上記第２ベース部２
８Ｂの炉口用開口部３４ｂの上端に設置される例えばス
テンレス鋼製の円環状のマニホールド３５を有し、この
マニホールド３５の上端に例えば石英製の反応管３６が
取付けられている。また、上記マニホールド３６の上端
には、ヒータベース３７が取付けられ、このヒータベー
ス３７上には、上記反応管３６を覆う円筒状の断熱材３
８の内周に図示しないヒーター線を配線してなる加熱ヒ
ータ３９が取付けられている。これにより、ホットウォ
ール型の熱処理炉１９が構成されている。
【００２８】上記マニホールド３５が熱処理炉１９の炉
口１８を形成しており、その開口端が上記蓋体２３によ
って下方から閉じられるようになっている。また、第２
の真空予備室１０Ｂの炉口用開口部３４ａとマニホール
ド３５との間には、真空シール用のベローズ４０ａが気
密に取付けられ、上記昇降ロッド用開口部３４ｃと昇降
ロッド３２の上端部との間にも同様のベローズ４０ｂが
気密に取付けられている。なお、上記マニホールド３５
には、処理ガスを導入したり、炉内を減圧排気する図示
しない各種の配管が接続されている。熱処理炉１９とし
ては、反応管３６の上部に排気管を有するものであって
もよい。マニホールド３５は、メンテナンス上、上下に
分割可能に構成されていることが好ましい。
【００２９】次に上記実施の形態による作用を述べる。
ウエハＷを垂直に立てて収納したカセット２を搬出入口
３から熱処理装置の筐体１内に搬入して載置台４上に載
置すると、カセット２が押え部５，６により前後から押
えられ、オリフラ合せ後、カセット２がウエハＷを水平
にすべく載置台４と共にほぼ９０度回動される。これに
よりカセット２は、上部に収納口２ａがある垂直状態か
ら収納口２ａが水平に向いた水平状態になる。
【００３０】移載機構８における昇降アーム１１の昇
降、基台７の旋回およびカセット移載機１５の移動によ
り、上記カセット２が載置台４から設置台９の棚部１７
に移載される。所定個数のカセット２が設置台９の各棚
部１７に移載されたなら、移載機構８における昇降アー
ム１１の昇降、基台７の旋回およびウエハ移載機１３の
移動により、上記設置台９上のカセット２内からウエハ
Ｗが予め第１の真空予備室１０Ａ内のボートスタンド２
７に設置されているボート１６に移載される。
【００３１】上記ウエハＷの移載に際して、第１の真空
予備室１０Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間のゲート
バルブ２１は閉じられ、第１の真空予備室１０Ａのロー
ドロックドア２２は開放されている。所定枚数のウエハ
Ｗがボート１６に移載されたなら、ロードロックドア２
２が閉じられ、第１の真空予備室１０Ａ内が所定の真空
度に真空引きされる。
【００３２】一方、同時進行で行なわれている熱処理炉
１９における熱処理が終了すると、垂直搬送機構２０Ｂ
の昇降アーム２４による蓋体２３の下降により熱処理炉
１９の炉口１８が開放されると共にボート１６および保
温筒２５が熱処理炉１９内から第２の真空予備室１０Ｂ
のローディング室１０ａ内に降下され、水平搬送機構２
０Ａの搬送アーム２６により上記ボート１６が保温筒２
５上からバッファー室１０ｂ内のボートスタンド２７上
に搬送されて仮置きされる。次いで、第１の真空予備室
１０Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間のゲートバルブ
２１が開放され、上記搬送アーム２６により第１の真空
予備室１０Ａ内のボート１６が上記ローディング室１０
ａ内の昇降アーム２４の保温筒２５上に移載され、バッ
ファー室１０ｂ内のボート１６が第１の真空予備室１０
Ａ内に移載される。
【００３３】上記ボート１６の移載後に、上記ゲートバ
ルブ２１が閉じられ、垂直搬送機構２０Ｂの昇降アーム
２４による蓋体２３の上昇により上記ボート１６および
保温筒２５が熱処理炉１９内に装入されると共に、炉口
１８が蓋体２３で閉じられ、所定の熱処理が開始され
る。一方、第１の真空予備室１０Ａ内に移されたボート
１６から設置台９上の空のカセット２内に処理済みのウ
エハＷが移載され、そのカセット２が設置台９から載置
台４に搬送されて搬出入口３から搬出されることにな
る。
【００３４】上記熱処理装置においては、熱処理炉１９
に連設された真空予備室１０内に搬送機構２０を備えて
いるが、上記搬送機構２０が上記真空予備室１０から独
立したベース部２８に真空予備室１０から独立した状態
で設置されているため、真空予備室１０が熱処理炉１９
からの熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、搬
送機構２０の精度不良が発生する恐れがない。また、こ
のように搬送機構２０の精度が保たれるので、真空予備
室１０を高精度に加工する必要もない。
【００３５】更に具体的には、上記搬送機構２０は、上
記真空予備室１０外に独立して設けられたベース部２８
に設置され、上記真空予備室１０には上記搬送機構２０
のための開口部３０ａ，３０ｂ，３４ｃが設けられ、こ
の開口部３０ａ，３０ｂ，３４ｃと上記ベース部２８ま
たは搬送機構２０との間に真空シール用のベローズ３１
ａ，３１ｂ，４０ｂが設けられているため、真空予備室
１０が熱処理炉１９からの熱影響によりひずみや変形を
生じたとしても、搬送機構２０の精度不良の発生を防止
することができると共に、上記ベローズ３１ａ，３１
ｂ，４０ｂによって上記開口部３０ａ，３０ｂ，３４ｃ
を真空シールしつつ真空予備室１０とベース部２８また
は搬送機構２０との間の相対的変位を吸収することがで
きる。また、ベローズ３４ａによって、熱処理炉１９の
炉口１８と真空予備室１０の開口部３４ａとを気密に連
結しつつ熱処理炉１９と真空予備室１０との間の相対的
変位を吸収することができる。
【００３６】上記ベース部２８は、上記真空予備室１０
の下方に設けられた第１ベース部２８Ａを含み、この第
１ベース部２８Ａに、ボート１６を水平に搬送する水平
搬送機構２０Ａと、上記ボート１６を設置するボートス
タンド２７とが設置されているため、真空予備室１０が
熱処理炉１９からの熱影響によりひずみや変形を生じた
としても、ボートスタンド２７に対する水平搬送機構２
０Ａの精度不良が発生する恐れがない。また、上記ベー
ス部２８は、上記真空予備室１０の上方に設けられた第
２ベース部２８Ｂを含み、この第２ベース部２８Ｂに、
下部に炉口１８を有する縦型の熱処理炉１９と、この熱
処理炉１９にボート１６を搬入搬出する垂直搬送機構２
０Ｂが設置されているため、真空予備室１０が熱処理炉
１９からの熱影響によりひずみや変形を生じたとして
も、熱処理炉１９に対する垂直搬送機構２０Ｂの精度不
良が発生する恐れがない。従って、炉口１８を形成する
マニホールド３５と、その炉口１８を塞ぐ蓋体２３の精
度不良が発生する恐れがなく、蓋体２３の昇降によりボ
ート１６および保温筒２５を熱処理炉１９内に確実に搬
入し、あるいは熱処理炉１９内から搬出することがで
き、また、蓋体２３で炉口１８を確実に閉塞することが
できる。
【００３７】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、本発明は、枚葉式の
熱処理装置にも適用可能である。
【００３８】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果が得られる。
【００３９】（１）請求項１記載の熱処理装置によれ
ば、熱処理炉に連設された真空予備室内に搬送機構を備
えた熱処理装置において、上記搬送機構を上記真空予備
室から独立したベース部に設置したので、真空予備室が
熱処理炉からの熱影響によりひずみや変形を生じたとし
ても、搬送機構の精度不良が発生する恐れがなく、ま
た、真空予備室を高精度に加工する必要もない。
【００４０】（２）請求項２記載の熱処理装置によれ
ば、熱処理炉に連設された真空予備室内に、搬送機構を
配設してなる熱処理装置において、上記真空予備室外に
独立して設けられたベース部に上記搬送機構を設置し、
上記真空予備室に上記搬送機構のための開口部を設け、
この開口部と上記ベース部または搬送機構との間に真空
シール用のベローズを設けたので、真空予備室が熱処理
炉からの熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、
搬送機構の精度不良の発生を防止することができると共
に、上記ベローズによって上記開口部を真空シールしつ
つ真空予備室とベース部または搬送機構との間の相対的
変位を吸収することができる。
【００４１】（３）請求項３記載の熱処理装置によれ
ば、上記ベース部が上記真空予備室の下方に設けられた
第１ベース部を含み、この第１ベース部に、複数枚の被
処理基板を保持する基板保持具を水平に搬送する水平搬
送機構と、上記基板保持具を設置する基板保持具設置台
とが設置されているため、真空予備室が熱処理炉からの
熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、基板保持
具設置台に対する水平搬送機構の精度不良が発生する恐
れがない。
【００４２】（４）請求項４記載の熱処理装置によれ
ば、上記ベース部が上記真空予備室の上方に設けられた
第２ベース部を含み、この第２ベース部に、下部に炉口
を有する縦型の熱処理炉と、この熱処理炉に複数枚の被
処理基板を保持した基板保持具を搬入搬出する垂直搬送
機構が設置されているため、真空予備室が熱処理炉から
の熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、熱処理
炉に対する垂直搬送機構の精度不良が発生する恐れがな
い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態を示す熱処理装置の概略
的側断面図である。
【図２】熱処理装置の具体的構成を示す側断面図であ
る。
【図３】同熱処理装置の平断面図である。
【図４】熱処理装置における熱処理炉部分の断面図であ
る。
【符号の説明】
１０ 真空予備室 １０Ａ 第１の真空予備室 １０Ｂ 第２の真空予備室 １６ ボート（基板保持具） １８ 炉口 １９ 熱処理炉 ２０ 搬送機構 ２０Ａ 水平搬送機構 ２０Ｂ 垂直搬送機構 ２７ ボートスタンド（基板保持具設置台） ２８ ベース部 ２８Ａ 第１ベース部 ２８Ｂ 第２ベース部 ３０ａ，３０ｂ，３４ａ，３４ｃ 開口部 ３１ａ，３１ｂ，４０ａ，４０ｂ ベローズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚田 明彦 神奈川県津久井郡城山町町屋１丁目２番41 号 東京エレクトロン東北株式会社相模事 業所内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 熱処理炉に連設された真空予備室内に搬
    送機構を備えた熱処理装置において、上記搬送機構を上
    記真空予備室から独立したベース部に設置したことを特
    徴とする熱処理装置。
  2. 【請求項２】 熱処理炉に連設された真空予備室内に搬
    送機構を備えた熱処理装置において、上記真空予備室外
    に独立して設けられたベース部に上記搬送機構を設置
    し、上記真空予備室に上記搬送機構のための開口部を設
    け、この開口部と上記ベース部または搬送機構との間に
    真空シール用のベローズを取付けたことを特徴とする熱
    処理装置。
  3. 【請求項３】 上記ベース部が上記真空予備室の下方に
    設けられた第１ベース部を含み、この第１ベース部に、
    複数枚の被処理基板を保持する基板保持具を水平に搬送
    する水平搬送機構と、上記基板保持具を設置する基板保
    持具設置台とが設置されていることを特徴とする請求項
    ２記載の熱処理装置。
  4. 【請求項４】 上記ベース部が上記真空予備室の上方に
    設けられた第２ベース部を含み、この第２ベース部に、
    下部に炉口を有する縦型の熱処理炉と、この熱処理炉に
    複数枚の被処理基板を保持した基板保持具を搬入搬出す
    る垂直搬送機構とが設置されていることを特徴とする請
    求項２記載の熱処理装置。
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