JP4335908B2 - 縦型熱処理装置及び縦型熱処理方法 - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 75
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 64
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 55
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 22
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 208000024891 symptom Diseases 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 46
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 34
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 25
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/663—Bell-type furnaces
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B17/00—Furnaces of a kind not covered by any preceding group
- F27B17/0016—Chamber type furnaces
- F27B17/0025—Especially adapted for treating semiconductor wafers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
1 縦型熱処理装置
17 蓋体
19 保温筒
20 回転機構
22 ボート載置台
23 ボート搬送機構
25 引っ掛け部(係止部)
26 係止溝部(被係止部)
34 センセ
35 制御装置
43 ラッチキー(係止部)
44 ラッチキーホール(鍵穴)
45 底板の上面(被係止部)
Claims (8)
- 下部に炉口が形成された熱処理炉と、該熱処理炉の炉口を閉塞する蓋体と、該蓋体上に保温筒を介して載置され多数の基板を多段に保持する基板保持具と、上記蓋体に設けられ保温筒を介して基板保持具を回転させる回転機構と、上記蓋体を昇降させて基板保持具を熱処理炉内に搬入・搬出する昇降機構と、上記基板保持具が熱処理炉内にあるときにもう一つの基板保持具を基板の移載のために載置する載置台と、該載置台と上記保温筒との間で基板保持具の搬送を行う搬送機構とを備えた縦型熱処理装置において、上記保温筒の上部と基板保持具の底部に、基板保持具を搬送機構により保温筒の直上に位置させた状態で保温筒を回転機構により所定角度回転させることで互いに係止可能又は解除可能となる係止部と被係止部を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。
- 上記基板保持具は、環状の底板を有し、前記保温筒は、上記底板の下面をその周方向に沿って適宜間隔で支持する複数の支柱を有し、これら支柱の外側部に溝状の被係止部を設け、上記底板の下面に上記各被係止部に係止される鉤状の複数の係止部を設けたことを特徴とする請求項1記載の縦型熱処理装置。
- 上記回転機構は、保温筒の回転方向の原点位置を検出するセンサと、該センサからの検出信号に基いて上記係止部と上記被係止部が係止可能となる位置又は解除可能となる位置に保温筒を回転制御するための制御装置とを有していることを特徴とする請求項1記載の縦型熱処理装置。
- 上記保温筒は、上部中央から立上り左右方向に鍔状に延出された係止部を有し、上記基板保持具は、上記保温筒の上部に載置可能な底板を有し、該底板には上記係止部が通過可能な鍵穴が形成され、該鍵穴を通過した係止部を保温筒と一体に所定角度回転させることにより該係止部と対向する上記底板の上面が被係止部とされることを特徴とする請求項1記載の縦型熱処理装置。
- 熱処理炉の炉口を閉塞する蓋体上に、多数の基板を多段に保持した基板保持具を保温筒を介して載置し、蓋体を上昇させて基板保持具を熱処理炉内に搬入し、回転機構により保温筒を介して基板保持具を回転させながら基板を熱処理し、この熱処理中に載置台上のもう一つの基板保持具に対する基板の移載を行い、熱処理後に熱処理炉から搬出した保温筒上の基板保持具と載置台上の基板保持具とを搬送機構により移替える縦型熱処理方法において、上記保温筒の上部と基板保持具の底部に保温筒の回転により互いに係止可能又は解除可能となる係止部と被係止部を設けておき、上記搬送機構により基板保持具を保温筒上に下降させ、基板保持具が保温筒上に載る直前に保温筒を回転機構により所定角度回転させて係止部と被係止部が係止可能となる状態にした後、基板保持具を更に下降させて保温筒上に載置することを特徴とする縦型熱処理方法。
- 上記基板保持具は、環状の底板を有し、前記保温筒は、上記底板の下面をその周方向に沿って適宜間隔で支持する複数の支柱を有し、これら支柱の外側部に溝状の被係止部を設け、上記底板の下面に上記各被係止部に係止される鉤状の複数の係止部を設けたことを特徴とする請求項5記載の縦型熱処理方法。
- 上記回転機構は、保温筒の回転方向の原点位置を検出するセンサと、該センサからの検出信号に基いて上記係止部と上記被係止部が係止可能となる位置又は解除可能となる位置に保温筒を回転制御するための制御装置とを有していることを特徴とする請求項5記載の縦型熱処理方法。
- 上記保温筒は、上部中央から立上り左右方向に鍔状に延出された係止部を有し、上記基板保持具は、上記保温筒の上部に載置可能な底板を有し、該底板には上記係止部が通過可能な鍵穴が形成され、該鍵穴を通過した係止部を保温筒と一体に所定角度回転させることにより該係止部と対向する上記底板の上面が被係止部とされることを特徴とする請求項5記載の縦型熱処理方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006346362A JP4335908B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 縦型熱処理装置及び縦型熱処理方法 |
US12/000,678 US7798811B2 (en) | 2006-12-22 | 2007-12-14 | Vertical type heat processing apparatus and vertical type heating method |
TW096148803A TWI393203B (zh) | 2006-12-22 | 2007-12-19 | 直立式熱處理裝置及直立式加熱方法 |
CN2007101597429A CN101207006B (zh) | 2006-12-22 | 2007-12-21 | 立式热处理装置和立式热处理方法 |
KR1020070134855A KR101194547B1 (ko) | 2006-12-22 | 2007-12-21 | 종형 열처리 장치 및 종형 열처리 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006346362A JP4335908B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 縦型熱処理装置及び縦型熱処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008159793A JP2008159793A (ja) | 2008-07-10 |
JP4335908B2 true JP4335908B2 (ja) | 2009-09-30 |
Family
ID=39543346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006346362A Active JP4335908B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 縦型熱処理装置及び縦型熱処理方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7798811B2 (ja) |
JP (1) | JP4335908B2 (ja) |
KR (1) | KR101194547B1 (ja) |
CN (1) | CN101207006B (ja) |
TW (1) | TWI393203B (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5088331B2 (ja) * | 2009-01-26 | 2012-12-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置用の構成部品及び熱処理装置 |
CN103871940B (zh) * | 2014-03-27 | 2016-11-23 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 用于半导体制造的氧化炉保温桶及氧化方法 |
CN104849969B (zh) | 2015-06-10 | 2020-06-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 用于形成黑矩阵的后烘装置和后烘方法 |
CN106467980B (zh) * | 2015-08-21 | 2019-01-29 | 东莞市中镓半导体科技有限公司 | 一种大型垂直式hvpe反应室的装配辅助装置 |
CN108346598A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-07-31 | 佛山杰致信息科技有限公司 | 一种用于电子封装固化的加热装置 |
TW202247335A (zh) * | 2021-02-08 | 2022-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 晶舟、用於對準及旋轉晶舟之總成、用於處理晶圓之垂直批式熔爐總成 |
CN117702082B (zh) * | 2024-02-06 | 2024-04-09 | 湖南德智新材料有限公司 | 炉体组件、气相沉积设备、以及气相沉积方法 |
CN117976509B (zh) * | 2024-04-02 | 2024-06-04 | 浙江求是创芯半导体设备有限公司 | 调节组件及晶圆驱动装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3138868B2 (ja) * | 1990-10-18 | 2001-02-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
US5055036A (en) * | 1991-02-26 | 1991-10-08 | Tokyo Electron Sagami Limited | Method of loading and unloading wafer boat |
JP3478364B2 (ja) * | 1995-06-15 | 2003-12-15 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置 |
US5829969A (en) * | 1996-04-19 | 1998-11-03 | Tokyo Electron Ltd. | Vertical heat treating apparatus |
JP3570827B2 (ja) * | 1996-09-13 | 2004-09-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
JP3604241B2 (ja) * | 1996-10-31 | 2004-12-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
US5846073A (en) * | 1997-03-07 | 1998-12-08 | Semitool, Inc. | Semiconductor furnace processing vessel base |
JPH1174205A (ja) | 1997-08-27 | 1999-03-16 | Sony Corp | 半導体製造装置 |
JP3664897B2 (ja) * | 1998-11-18 | 2005-06-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
US6573198B2 (en) * | 2001-10-10 | 2003-06-03 | Asm International N.V. | Earthquake protection for semiconductor processing equipment |
JP3369165B1 (ja) * | 2002-04-09 | 2003-01-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
JP4132932B2 (ja) * | 2002-04-12 | 2008-08-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
JP4503397B2 (ja) * | 2004-08-26 | 2010-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置及びその処理容器急速降温方法 |
WO2007040062A1 (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-12 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 |
-
2006
- 2006-12-22 JP JP2006346362A patent/JP4335908B2/ja active Active
-
2007
- 2007-12-14 US US12/000,678 patent/US7798811B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-19 TW TW096148803A patent/TWI393203B/zh active
- 2007-12-21 CN CN2007101597429A patent/CN101207006B/zh active Active
- 2007-12-21 KR KR1020070134855A patent/KR101194547B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080059068A (ko) | 2008-06-26 |
CN101207006B (zh) | 2010-11-03 |
TW200847311A (en) | 2008-12-01 |
US7798811B2 (en) | 2010-09-21 |
CN101207006A (zh) | 2008-06-25 |
JP2008159793A (ja) | 2008-07-10 |
US20080153049A1 (en) | 2008-06-26 |
KR101194547B1 (ko) | 2012-10-25 |
TWI393203B (zh) | 2013-04-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090602 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090623 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090625 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4335908 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150703 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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