JPH0980204A

JPH0980204A - 反射防止シート

Info

Publication number: JPH0980204A
Application number: JP7262135A
Authority: JP
Inventors: Hiroko Suzuki; 裕子鈴木
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1995-09-14
Filing date: 1995-09-14
Publication date: 1997-03-28
Anticipated expiration: 2015-09-14
Also published as: JP3932060B2

Abstract

(57)【要約】【課題】長期間の使用においても、クラックや塗膜の
脱離がなく耐久性があり、耐擦傷性がある反射防止シー
トを提供する。【解決手段】離型フィルム６上に、接着剤層の屈折率
以上の屈折率を有する高屈折率層４を少なくとも１層以
上形成し、次いで該高屈折率層４に対しガラス転移温度
（Ｔｇ）２０℃以上の接着剤層２を介して透明基材フィ
ルム１をラミネートする。接着剤層２を硬化させた後、
離型フィルム６を剥離し、露出した高屈折率層４上に低
屈折率層３を形成する。上記接着剤はウレタン系接着剤
が好ましく、さらにウレタン系接着剤中に、イソシアネ
ート基を有する化合物が１０％以上含有されているこ
と、或いは電離放射線硬化型樹脂が含有されていること
が、Ｔｇ２０℃以上とするために望ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ワープロ、コンピ
ュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種
ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透
明プラスチック類サングラスレンズ、度付メガネレン
ズ、カメラ用ファインダーレンズ等の光学レンズ、各種
計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面の反
射防止に優れた反射防止シート及びその製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】カーブミラー、バックミラー、ゴーグ
ル、窓ガラス、パソコン・ワープロ等のディスプレイ、
その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプラス
チック等の透明基板が用いられており、これらの透明基
板を通して物体や文字、図形の視覚情報を或いはミラー
では透明基板を通して反射層からの像を観察する場合
に、これらの透明基板の表面が光で反射して内部の視覚
情報が見えにくいという問題があった。

【０００３】従来、光の反射防止技術には、例えば、次
のような技術があった。すなわち、ガラスやプラスチッ
ク表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明
基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ₂等の極薄膜
や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプ
ラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その
上に蒸着によりＳｉＯ₂やＭｇＦ₂の膜を形成する方
法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜
を形成する方法があった。

【０００４】入射光が薄膜に垂直に入射する場合に、特
定の波長をλ₀とし、この波長に対する反射防止膜の屈
折率をｎ₀、反射防止膜の厚みをｈ、および基板の屈折
率をｎ_gとすると、反射防止膜が光の反射を１００％防
止し、光を１００％透過するための条件は、次の式
（１）および式（２）の関係を満たすことが必要である
ことは既に知られている（サイエンスライブラリ物理
学＝９「光学」７０〜７２頁、昭和５５年，株式会社サ
イエンス社発行）。

【０００５】

【数１】

【０００６】

【数２】ガラスの屈折率ｎ_g＝約１．５であり、ＭｇＦ₂膜の屈
折率ｎ₀＝１．３８、入射光の波長λ₀＝５５００Å
（基準）と既に知られているので、これらの値を前記式
（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈは約０．１μ
ｍが最適であると計算される。

【０００７】前記式（１）によれば、光の反射を１００
％防止するためには、上層塗膜の屈折率がその下層塗膜
の屈折率の約平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことが分かる。このような原理を利用して、上層塗
膜の屈折率をその下層塗膜の屈折率よりも若干低い値と
なるようにして、光の反射防止を行うことが従来行われ
ていた。

【０００８】透明基材フィルム上の最表面に低屈折率層
を形成した従来の反射防止シートは、低屈折率層の厚み
が約０．１μｍ前後と薄いため、形成された反射防止シ
ートはハード性能に劣り、傷付きやすいとう問題があっ
た。反射防止シートにハード性能を付与するために、従
来、透明基材フィルム上に熱硬化型樹脂や電離放射線硬
化型樹脂の塗膜を形成し、硬化させてハードコート層と
し、その上に低屈折率層を形成して得ていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のハードコート層を形成する硬化性の樹脂層は、架橋
密度が大きく、塗膜の内部凝集力が高いために、透明基
材フィルムであるプラスチックフィルムやシートとの密
着性に乏しく、表面保護を兼ね備えた反射防止シートと
して耐久性に優れているとは言いがたかった。例えば、
長期間経過後の反射防止シートにおいては、ハードコー
ト層にクラックが発生したり、或いはハードコート層の
塗膜が脱落するといった問題が生じることがあった。

【００１０】また、密着生に乏しいが故に塗膜が剥離し
やすく、耐擦傷性に劣るという欠点があった。

【００１１】また、透明基材フィルム上に、ハードコー
ト層や、高屈折率層や、低屈折率等の各層を順次積層し
ていく反射防止シートの製造方法は、各層を形成する毎
に、塗膜の硬化操作における熱が透明基材フィルムにダ
メージを与えられ、最終製品の完成に悪影響が及んでい
た。

【００１２】また、反射防止シートの製造過程におい
て、透明基材フィルム上に電離放射線硬化型樹脂を直接
塗布して未硬化状態の塗膜とし、紫外線又は電子線照射
にて硬化させてハードコート層とした場合、透明基材フ
ィルムが紫外線又は電子線の照射のため着色されてしま
う欠点があった。

【００１３】そこで、本発明の目的は、反射防止シート
を長期間使用しても、クラックや塗膜の脱離がなく耐久
性があり、耐擦傷性があり、また反射防止シートの製造
工程中に透明基材フィルムにダメージが与えられたり、
また着色することがない、反射防止シートを提供するこ
とを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るために、本発明のタイプＩの反射防止シートは、後記
する接着剤層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層
が、ガラス転移温度２０℃以上の接着剤層を介して透明
基材フィルムにラミネートされていることを特徴とす
る。

【００１５】また、本発明のタイプIIの反射防止シート
は、後記する接着剤層の屈折率以上の屈折率を有する高
屈折率層と該高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率の低
屈折率層からなる積層体が、ガラス転移温度２０℃以上
の接着剤層を介して、前記高屈折率層を内側にして透明
基材フィルムにラミネートされていることを特徴とす
る。

【００１６】また、本発明のタイプIII の反射防止シー
トは、ハードコート層と、該ハードコート層上に設けら
れた該ハードコート層の屈折率より高い屈折率の高屈折
率層と、該高屈折率層上に設けられた該高屈折率層の屈
折率より低い屈折率の低屈折率層とからなる積層体が、
ガラス転移温度２０℃以上の接着剤層を介して、前記ハ
ードコート層側を内側にして透明基材フィルムにラミネ
ートされていることを特徴とする。

【００１７】本発明の反射防止シートにおける接着剤層
は、ガラス転移温度２０℃以上であるので、接着剤層は
密着性を有し同時に高い硬度を付与することができ、し
たがって、本発明の反射防止シートはハード性能を有
し、クラックや塗膜の脱離がなく耐久性や、耐擦傷性が
改善される。

【００１８】本発明の反射防止シートにおける高屈折率
層は、それ自身がハード性能を有してもよい。本発明の
反射防止シートは、接着剤層、前記高屈折率層以外に、
さらにハード性能を付与するためのハードコート層を設
けてもよい。

【００１９】本発明の反射防止シートにおいては、接着
剤層にイソシアネート基を有する化合物を１０％以上含
有させることにより、接着剤層のガラス転移温度を２０
℃以上とすることができる。

【００２０】本発明の反射防止シートにおいては、接着
剤層に電離放射線硬化型樹脂を含有させることにより、
接着剤層のガラス転移温度を２０℃以上とすることがで
きる。

【００２１】本発明のタイプＩの反射防止シートの製造
方法は、（１）離型フィルム上に、後記する接着剤層の
屈折率より低い屈折率の低屈折率層を形成し、（２）離
型フィルム上に形成された層に対して、硬化後のガラス
転移温度が２０℃以上の接着剤を介して透明基材フィル
ムとラミネートし、（３）得られたラミネート物を硬化
させた後、前記離型フィルムを剥離することを特徴とす
る。

【００２２】本発明のタイプIIの反射防止シートの製造
方法は、（１）離型フィルム上に、後記する高屈折率層
の屈折率より低い屈折率の低屈折率層を形成し、（２）
得られた低屈折率層上に、後記する接着剤層の屈折率以
上の屈折率を有する高屈折率層を形成し、（３）離型フ
ィルム上に形成された層に対して、硬化後のガラス転移
温度が２０℃以上の接着剤を介して透明基材フィルムと
ラミネートし、（４）得られたラミネート物を硬化させ
た後、前記離型フィルムを剥離することを特徴とする。

【００２３】本発明のタイプIIの反射防止シートの別の
製造方法は、（１）離型フィルム上に、後記する接着剤
層の屈折率以上の屈折率を有する高屈折率層を形成し、
（２）離型フィルム上に形成された層に対して、硬化後
のガラス転移温度が２０℃以上の接着剤を介して透明基
材フィルムとラミネートし、（３）得られたラミネート
物を硬化させた後、前記離型フィルムを剥離し、（４）
前記透明基材フィルム上の高屈折率層上に、該高屈折率
層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層を形成するこ
とを特徴とする。

【００２４】本発明のタイプIII の反射防止シートの製
造方法は、（１）離型フィルム上に、後記する接着剤層
の屈折率より低い屈折率の低屈折率層を形成し、（２）
得られた低屈折率層上に、後記する接着剤層の屈折率よ
りも高い屈折率の高屈折率層を形成し、（３）得られた
高屈折率層上に、ハードコート層を形成し、（４）離型
フィルム上に形成された層に対して、硬化後のガラス転
移温度が２０℃以上の接着剤を介して透明基材フィルム
とラミネートし、（５）得られたラミネート物を硬化さ
せた後、前記離型フィルムを剥離することを特徴とす
る。

【００２５】本発明のタイプIII の反射防止シートの別
の製造方法は、（１）離型フィルム上に、後記する接着
剤層の屈折率よりも高い屈折率の高屈折率層を形成し、
（２）得られた高屈折率層上に、ハードコート層を形成
し、（３）離型フィルム上に形成された層に対して、硬
化後のガラス転移温度が２０℃以上の接着剤を介して透
明基材フィルムとラミネートし、（４）得られたラミネ
ート物を硬化させた後、前記離型フィルムを剥離し、
（５）前記透明基材フィルム上の高屈折率層上に、該高
屈折率層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層を形成
することを特徴とする。

【００２６】上記各反射防止シートの製造方法において
使用する接着剤は、ウレタン系接着剤を主体としたもの
であることが、後記する理由により好ましい。また、本
発明で使用する接着剤は、硬化後のガラス転移温度が２
０℃以上であることことが後記する理由により好まし
い。

【００２７】以下に本発明を更に詳しく説明する。

【００２８】反射防止シート：図１は本発明のタイプＩ
の反射防止シートを示し、１は透明基材フィルムであ
り、この透明基材フィルム１上に接着剤層２を介して、
低屈折率層３が形成されている。図２は本発明のタイプ
IIの反射防止シートを示し、タイプＩの反射防止シート
における接着剤層２と低屈折率層３との間に、さらに高
屈折率層４が設けられている。図３は本発明のタイプII
I の反射防止シートを示し、タイプIIの反射防止シート
における接着剤層２と高屈折率層４との間に、さらにハ
ードコート層５が設けられている。

【００２９】反射防止シートの製造方法：図４は本発明
のタイプＩの反射防止シートの製造方法の一例を示すプ
ロセス図である。図４（ａ）は、離型フィルム６上に、
低屈折率層３を形成した状態を示す。低屈折率層３の形
成は真空形成法又は塗布により行う。図４（ｂ）は、前
記低屈折率層３を接着剤からなる接着剤層２を介して透
明基材フィルム１とラミネートしようとする状態を示
す。この接着剤層２の形成は接着剤を透明基材フィルム
１側或いは低屈折率層３側に塗布により形成することが
できる。接着剤はそのまま或いは溶媒に溶解、分散させ
て使用する。図４（ｃ）は、ラミネート物から離型フィ
ルム６を剥離して、離型フィルム６上の塗膜を透明基材
フィルム１側に転写している状態を示し、転写されたシ
ートが本発明のタイプＩの反射防止シートとなる。

【００３０】図５は本発明のタイプIIの反射防止シート
の一番目の製造方法の一例を示すプロセス図である。図
５（ａ）は、離型フィルム６上に、低屈折率層３を形成
し、さらに低屈折率層３上に高屈折率層４を形成した状
態を示す。図５（ｂ）は、離型フィルム６上に前記工程
で形成された各層を接着剤からなる接着剤層２を介して
透明基材フィルム１とラミネートしようとする状態を示
す。この接着剤層２の形成は接着剤を透明基材フィルム
１側或いは高屈折率層４側に塗布して形成することがで
きる。接着剤はそのまま或いは溶媒に溶解、分散させて
使用する。図５（ｃ）は、ラミネート物から離型フィル
ム６を剥離して離型フィルム６上の塗膜を透明基材フィ
ルム１側に転写している状態を示し、転写されたシート
が本発明のタイプIIの反射防止シートとなる。

【００３１】図６は本発明のタイプIIの反射防止シート
の二番目の製造方法の一例を示すプロセス図である。図
６（ａ）は、離型フィルム６上に、高屈折率層４を形成
した状態を示す。図６（ｂ）は、前記高屈折率層４に対
して接着剤からなる接着剤層２を介して透明基材フィル
ム１とラミネートしようとする状態を示す。この接着剤
層２の形成は接着剤を透明基材フィルム１側或いは高屈
折率層４側に塗布により形成することができる。接着剤
はそのまま或いは溶媒に溶解、分散させて使用する。図
６（ｃ）は、ラミネート物から離型フィルム６を剥離し
て、離型フィルム６上の塗膜を透明基材フィルム１側に
転写している状態を示す。図６（ｄ）は、露出された高
屈折率層４上に、さらに低屈折率層３を形成した状態を
示し、本発明のタイプIIの反射防止シートとなる。

【００３２】図７は本発明のタイプIII の反射防止シー
トの一番目の製造方法の一例を示すプロセス図である。
図７（ａ）は、離型フィルム６上に、低屈折率層３を形
成し、さらに低屈折率層３上に高屈折率層４を形成し、
さらにその上にハードコート層５を形成した状態を示
す。図７（ｂ）は、離型フィルム６上に前記工程で形成
された各層を接着剤からなる接着剤層２を介して透明基
材フィルム１とラミネートしようとする状態を示す。こ
の接着剤層２の形成は接着剤を透明基材フィルム１側或
いはハードコート層５側に塗布して形成することができ
る。接着剤はそのまま或いは溶媒に溶解、分散させて使
用する。図７（ｃ）は、ラミネート物から離型フィルム
６を剥離して離型フィルム６上の塗膜を透明基材フィル
ム１側に転写している状態を示し、転写されたシートが
本発明のタイプIII の反射防止シートとなる。

【００３３】図８は本発明のタイプIII の反射防止シー
トの二番目の製造方法の一例を示すプロセス図である。
図８（ａ）は、離型フィルム６上に、高屈折率層４を形
成し、さらにその上にハードコート層５を形成した状態
を示す。図８（ｂ）は、離型フィルム６上に前記工程で
形成された各層を接着剤からなる接着剤層２を介して透
明基材フィルム１とラミネートしようとする状態を示
す。この接着剤層２の形成は接着剤を透明基材フィルム
１側或いはハードコート層５側に塗布により形成するこ
とができる。接着剤はそのまま或いは溶媒に溶解、分散
させて使用する。図８（ｃ）は、ラミネート物から離型
フィルム６を剥離して、離型フィルム６上の塗膜を透明
基材フィルム１側に転写している状態を示す。図８
（ｄ）は、露出された高屈折率層４上に、さらに低屈折
率層３を形成した状態を示し、本発明のタイプIII の反
射防止シートとなる。

【００３４】上記の本発明の反射防止シートの各製造方
法において、接着剤としてウレタン系の接着剤を用いた
場合、ウレタン系接着剤は、溶液で塗工し、溶媒を除去
した後、ラミネーションを行う時点では粘着性を示して
いるためラミネート直後でもある程度の接着強度を有す
るが、ラミネーションを行うロールを４０〜８０℃に加
温することによってラミネート直後の接着強度をより向
上させることができるので好ましい。また、反射防止シ
ートの透明基材フィルムとハードコート層間を十分な接
着強度とするには、接着剤層は乾燥厚みで０．５〜２０
μｍ、好ましくは１〜１０μｍであることが必要であ
る。

【００３５】離型フィルム：一般的にシート上にシリコ
ン、フッ素、アクリル−メラミンなど離型処理を施した
もの、または、未処理のものが使用される。その表面は
凹凸を有していてもよく、この場合、最終製品の表面に
凹凸が形成されるので、得られる反射防止シートの表面
に更に防眩効果を付与することができる。

【００３６】透明基材フィルム：反射防止シートに適し
た透明基材フィルムには、透明性のあるフィルムであれ
ばよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジ
アセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセ
ルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポ
リアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ト
リメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィル
ム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等が使用できる
が、特に、トリアセチルセルロースフィルム、及び一軸
延伸ポリエステルが透明性に優れ、光学的に異方性が無
い点で好適に用いられる。その厚みは、通常は８μｍ〜
１０００μｍ程度のものが好適に用いられる。

【００３７】低屈折率層：低屈折率層は、少なくとも低
屈折率層に直接接する下層（タイプI では接着剤層、タ
イプIIとタイプIII では高屈折率層）の屈折率よりも低
いことが必要であり、無機材料、有機材料を問わず用い
ることができる。低屈折率層の厚みは約０．１μｍ前後
の薄膜で形成する必要がある。低屈折率層の屈折率は前
記式（１）又は式（２）に示した関係を有することが反
射防止効果を高める上で望ましい。低屈折率層の形成に
使用される低屈折率材料は前記式（１）又は式（２）の
条件を満足するものであればどのような材料でもよく、
無機材料、有機材料が使用できる。

【００３８】低屈折率無機材料としては、例えば、Ｌｉ
Ｆ（屈折率１．４）、ＭｇＦ₂（屈折率１．４）、３Ｎ
ａＦ・ＡｌＦ₃（屈折率１．４）、ＡｌＦ₃（屈折率
１．４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（氷晶石、屈折率１．３
３）、ＳｉＯ_X（ｘ：１．５０≦ｘ≦２．００）（屈折
率１．３５〜１．４８）等の無機材料が使用される。低
屈折率無機材料で形成される膜は、硬度が高く、特にプ
ラズマＣＶＤ法で、ＳｉＯ_X（ｘは１．５０≦ｘ≦４．
００、望ましくは１．７０≦ｘ≦２．２０）の膜を形成
したものは硬度が良好であり、且つハードコート層との
密着性に優れ、透明プラスチック基材フィルムの熱ダメ
ージを他の気相法に比べて軽減できるので好ましい。低
屈折率の無機材料を用いた低屈折率層の形成方法は、該
無機材料を蒸着、スパッタリング、イオンプレーティン
グ、プラズマＣＶＤ等の気相法により皮膜を単層又は多
層形成するか、或いは、低屈折率の無機材料を含有させ
た低屈折率樹脂組成物又は低屈折率有機材料を塗布し単
層又は多層の塗膜を形成して行うことができる。

【００３９】特に、プラズマＣＶＤ法により形成したＳ
ｉＯ_x膜は、通常の真空蒸着膜と比べて密度が高く、ガ
スバリヤー性が高い。そのため、防湿性に優れ、本発明
の反射防止シートを偏光素子にラミネートして使用する
場合に、湿気に弱いとされている偏光素子の防湿機能を
果たす利点がある。

【００４０】低屈折率有機材料としては、フッ素原子の
導入されたポリマー等の有機物がその屈折率が１．４５
以下と低い点から好ましい。溶剤が使用できる樹脂とし
てその取扱いが容易であることからポリフッ化ビニリデ
ン（屈折率ｎ＝１．４０）が挙げられる。低屈折率の有
機材料としてこのポリフッ化ビニリデンを用いた場合に
は、低屈折率層の屈折率はほぼ１．４０程度となるが、
さらに低屈折率層の屈折率を低くするためにはトリフル
オロエチルアクリレート（屈折率ｎ＝１．３２）のよう
な低屈折率アクリレートを１０重量部から３００重量
部、好ましくは１００重量部から２００重量部添加して
もよい。

【００４１】なお、このトリフルオロエチルアクリレー
トは単官能型であり、そのため低屈折率層の膜強度が十
分ではないので、さらに多官能アクリレート、例えば、
電離放射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート（略号：ＤＰＨＡ，４官能型）を添加
することが望ましい。このＤＰＨＡによる膜強度は添加
量が多いほど高いが、低屈折率層の屈折率を低くする観
点からはその添加量は少ない方がよく、１〜５０重量
部、好ましくは５〜２０重量部添加することが推奨され
る。

【００４２】高屈折率層：さらに反射防止性能を向上さ
せるため、低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率の高屈
折率層を低屈折率層の下層に形成することが好ましい。
高屈折率層の厚みは約０．１μｍ前後の薄膜で形成する
と反射防止効果におてい有利である。例えば、高屈折率
の金属や金属酸化物を用いることにより高屈折率層を容
易に形成することができる。その成膜には真空形成法等
により薄膜を形成してもよい。或いは、バインダー樹脂
中に、下記に列挙する屈折率の高い微粒子を分散して用
いてもよい。或いは、前記高屈折率層に使用されるバイ
ンダー樹脂自体に高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹
脂を用いてもよい。即ち、ハードコート層用樹脂に、屈折率の高い微粒子を分散
させたものを用いる。ハードコート層用樹脂を構成する分子或いは原子とし
て、屈折率の高い成分を多く導入した原子を含んだ屈折
率の高い樹脂を用いる。

【００４３】前記屈折率の高い超微粒子としては、例え
ば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ₂（屈折率２．
３〜２．７）、ＣｅＯ₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ₂Ｏ
₅（屈折率１．７１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率１．
９５）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈
折率１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａｌ₂
Ｏ₃（屈折率１．６３）等が挙げられる。

【００４４】また、前記屈折率を向上させる成分の分子
及び原子としては、芳香族環、Ｆ以外のハロゲン原子、
Ｓ、Ｎ、Ｐの原子等が挙げられる。

【００４５】ハードコート層：本発明において、「ハー
ドコート層」或いは「ハード性を有する」とは、ＪＩＳ
Ｋ５４００で示される鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度
を示すものをいう。

【００４６】ハードコート層を構成する材料は、無機材
料、有機材料問わず何でも用いることができる。無機材
料をハードコート層材料とする場合には、例えば、金属
酸化物を真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリ
ング、（プラズマ）ＣＶＤ等の公知の方法で形成するこ
とができる。或いはゾル−ゲル法によって複合酸化物の
膜を形成してもよい。ハードコート層材料が有機材料の
場合には、バインダー樹脂には、透明性のあるものであ
ればどのような樹脂（例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化型
樹脂、電離放射線硬化型樹脂等）でも使用することがで
きる。ハード性能を付与するためには、ハードコート層
の厚みは０．５μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上とす
ることにより、硬度を維持することができ、反射防止シ
ートにハード性能を付与することができる。

【００４７】また、ハードコート層の硬度をより向上さ
せるために、ハードコート層に使用するバインダー樹脂
には、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び／又は
電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。生産
性、エネルギー効率、離型フィルムの熱ダメージ等を考
慮すると、電離放射線硬化型樹脂をハードコート層のバ
インダー樹脂に用いることが最適である。

【００４８】前記熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、
尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グ
アナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン
−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が
使用され、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合
開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を
加えて使用する。

【００４９】前記電離放射線硬化型樹脂には、好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能
化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプ
レポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ス
チレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単
官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ
オール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用でき
る。

【００５０】特に好適には、ポリエステルアクリレート
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。

【００５１】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を
混合するのが好ましい。

【００５２】ハードコート層に、特に、屈曲性を付与す
るためには、電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し
溶剤乾燥型樹脂を１重量部以上１００重量部以下含ませ
てもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性
樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶
剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使
用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエステ
ルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物を
使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリメ
タクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸ブ
チルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができ
る。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂と
の屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、
特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において
有利である。

【００５３】ハードコート層にバインダー樹脂として電
離放射線硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方
法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電
子線または紫外線の照射によって硬化することができ
る。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルト
ン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器
型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子
線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好まし
くは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線
等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等
が利用できる。

【００５４】反射防止性能の向上のためには、透明基材
フィルムよりもハードコート層の屈折率が高いことが好
ましい。ハードコート層を高屈折率とするためには、前
記高屈折率層で述べた手法により行うことができる。ま
た、各層間の界面の反射を防止するためには、高屈折率
層の屈折率をハードコート層の屈折率よりも高い屈折率
とすることが好ましい。

【００５５】接着剤：ハードコート層と透明基材フィル
ムの間に強固な着強を形成し、かつ、反射防止シートの
十分な硬度や耐久性を付与するためには、接着剤の架橋
密度を上げ、層間の密着性を高め、硬度の高い接着剤層
とすることが重要であり、そのためには、硬化後のガラ
ス転移温度が２０℃以上となる接着剤を用いることによ
り達成される。このようなガラス転移温度を持つ接着剤
は、ウレタン系接着剤を挙げることができ、特に、ウレ
タン系接着剤中にイソシアネート基を有する化合物を１
０％以上含有させるか、或いは接着剤中に電離放射線硬
化型樹脂を含有させることによって調製することができ
る。接着剤中に電離放射線硬化型樹脂を含有させる場合
には、その電離放射線硬化型樹脂の添加量は、ラミネー
ト時に要する初期タックが失われない範囲とすることが
重要である。

【００５６】このようにするためには、接着剤に含有さ
れる電離放射線硬化型樹脂の量が全体の１０〜９０％で
あることが望ましく、さらに望ましくは３０〜７０％で
ある。その理由は、電離放射線硬化型樹脂の量が１０％
未満であると、架橋密度を十分に上げられず、耐久性が
付与できず、ガラス転移温度も２０℃にならないからで
ある。また、その量が９０％を越えるとラミネート時の
ＴＡＣ性（粘性）が失われ、貼り合わせが不可となるか
らであり、さらに基材との層間密着性も悪くなり、所望
の接着性が得られなくなるからである。

【００５７】本発明で使用されるウレタン系接着剤とし
て、例えば、湿気硬化型（１液型）、熱硬化型（２液
型）等の反応硬化型ウレタン系接着剤を用いることが好
ましい。即ち、湿気硬化型では、ポリイソシアネート化
合物のオリゴマー、プレポリマー、熱硬化型では、ポリ
イソシアネート化合物のモノマー、オリゴマー、プレポ
リマーと、ポリオール化合物のオリゴマー、プレポリマ
ーを混合して用いることができる。これらの反応硬化型
ウレタン系接着剤を用いる場合、ラミネートの後に、室
温から８０℃程度の温度下でエージング処理を施すこと
が、反射防止シートに熱的影響を与えないために望まし
い。

【００５８】透明基材フィルムにＯＨ基が含まれている
場合、例えば、アルカリ処理されたトリアセチルセルロ
ースフィルム等の場合、ウレタン系接着剤中のイソシア
ネート基が透明基材フィルム等とのＯＨ基と反応し、強
固な接着となる。

【００５９】本発明で使用される接着剤に含有させるこ
とができるイソシアネート基を有する化合物には、トリ
レンジイソシアネート（ＴＤＩ）、３，３’−トリレン
−４，４’−イソシアネート、ジフェニルメタン４，
４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリフェニルメタ
ンｐ，ｐ' ，ｐ" −トリイソシアネート（Ｔ．Ｍ）、
２，４−トリレンダイマー（ＴＴ）、ナフタレン−１，
５−ジイソシアネート、トリス（４−フェニルイソシア
ネート）チオホスフェート、クルード（ＭＤＩ）、ＴＤ
Ｉ三量体、ジシクロヘキサメタン４，４’−ジイソシア
ネート（ＨＭＤＩ）、水素添加ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）、メ
タキシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサヒド
ロメタキシリレンジイソシアネート（ＨＸＤＩ）、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、トリメチルプロパン−１
−メチル−２−イソシアノ−４−カババメート、ポリメ
チレンポリフェニルイソシアネート、３，３' −ジメト
キシ４，４’−ジフェニルジイソシアネート、ジフェニ
ルエーテル２，４，１’−トリイソシアネート、ｍ−キ
シリレンジイソシアネート（ＭＸＤＩ）、ポリメチレン
ポリフェニルイソシアネート（ＰＡＰＩ）等が挙げられ
る。

【００６０】本発明で使用される接着剤に含有させるこ
とができる電離放射線硬化型樹脂には、好ましくは、ア
クリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低
分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹
脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリ
チオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合
物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプレポ
リマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリ
レート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレ
ン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能
モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオー
ル（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリ
レート等を比較的多量に含有するものが使用できる。

【００６１】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫
外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤とし
て、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベ
ンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テ
トラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン
類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いる
ことができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレ
タンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート等を混合するのが好ましい。

【００６２】偏光板及び液晶表示装置：本発明の反射防
止シートの下面には、粘着剤が塗布されていてもよく、
この反射防止シートは反射防止すべき対象物、例えば、
偏光素子に貼着して偏光板とすることができる。

【００６３】この偏光素子には、よう素又は染料により
染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、
ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタール
フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィ
ルム等を用いることができる。このラミネート処理にあ
たって接着性を増すため及び静電防止のために、反射防
止シートの透明基材フィルムが例えば、トリアセチルセ
ルロースフィルムである場合には、トリアセチルセルロ
ースフィルムにケン化処理を行う。このケン化処理はト
リアセチルセルロースフィルムにハードコートを施す前
または後のどちらでもよい。

【００６４】図９に本発明の反射防止シートが使用され
た偏光板の一例を示す。図中１１は反射防止性を有する
本発明の反射防止シートであり、トリアセチルセルロー
スフィルム（略：ＴＡＣフィルム、本発明でいう透明基
材フィルムに相当する）７／接着剤層２／高屈折率層４
／低屈折率層３からなる層構成となっている。該反射防
止シート１１が偏光素子８上にラミネートされており、
一方、偏光素子８の他面にはＴＡＣフィルム９がラミネ
ートされている。また偏光素子８の両面に本発明の反射
防止シート１１がラミネートされてもよい。

【００６５】図１０に本発明の反射防止シートが使用さ
れた液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子１０上
に、図９に示した偏光板、即ち、ＴＡＣフィルム９／偏
光素子８／反射防止シート１１からなる層構成の偏光板
がラミネートされており、また液晶表示素子１０の他方
の面には、ＴＡＣフィルム９／偏光素子８／ＴＡＣフィ
ルム９からなる層構成の偏光板がラミネートされてい
る。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子
と偏光板との間に、位相差板が挿入される。

【００６６】

【実施例】

〔実施例１〕離型フィルムであるアクリル＝メラミン処
理を施した５０μｍのポリエステルフィルム（ＭＣ−１
９：商品名、麗光（株）製）上に、ＺｎＯ超微粒子トル
エン分散液（住友大阪セメント（株）製）３６重量部及
びカルボキシル基含有（メタ）アクリレート（三菱化学
（株）製）９重量部からなる高屈折率樹脂を膜厚が７μ
ｍとなるように塗工した。

【００６７】前記工程で形成した塗膜上に、３２０ｍｊ
の紫外線照射を行った後、さらに１７５ｋｖ、７．５Ｍ
ｒａｄで電子線照射を行い、塗膜を硬化して高屈折率層
を形成した。次いで、熱硬化２液型ウレタン系接着剤
〔ＬＸ６６０：大日本インキ（株）製）４重量部と、Ｋ
Ｗ７５：芳香族系ポリイソシアネート、大日本インキ
（株）製１重量部、酢酸エチル１６重量部からなる接着
剤〕を、前記高屈折率層上に、接着剤を厚さ３〜１０μ
ｍとなるように塗工し、接着剤層を形成した。この接着
剤は硬化後のＴｇ（ガラス転移温度）が４３℃であっ
た。

【００６８】次いで、接着剤層を介してＴＡＣフィルム
（ＦＴ−ＵＶ−８０：膜厚８０μｍ、富士写真フィルム
製）をラミネートし、４０℃で３日間以上エージングし
た。次いで、前記離型フィルムを剥離して、前記高屈折
率層をＴＡＣフィルムに転写し、高屈折率層を形成し
た。得られた高屈折率層上に、真空蒸着法により低屈折
率層であるＳｉＯ_X膜を厚さ１００ｎｍとなるように形
成し、反射防止シートを得た。得られた反射防止シート
の鉛筆硬度、耐久性、密着性を下記の表１に、屈折率、
反射率を下記の表２に示す。

【００６９】〔実施例２〕前記実施例１の反射防止シー
トの製造方法において、接着剤を構成する成分の組成比
を下記に示すように変えた以外は、前記実施例１と全く
同様にして本実施例２の反射防止シートを製造した。こ
の接着剤は硬化後のＴｇが４５℃であった。得られた反
射防止シートの鉛筆硬度、耐久性、密着性を下記の表１
に、屈折率、反射率を下記の表２に示す。

【００７０】熱硬化２液型ウレタン系接着剤ＬＸ６６０：大日本インキ（株）製４重量部ＫＷ７５：芳香族系ポリイソシアネート、大日本インキ
（株）製３重量部酢酸エチル１６重量部〔実施例３〕前記実施例１の反射防止シートの製造方法
において、接着剤を熱硬化２液型ウレタン系接着剤に変
えて、湿気硬化１液型ウレタン系接着剤（下記組成の接
着剤）を用い、接着剤の塗工時に加湿した以外は、前記
実施例１と全く同様にして本実施例３の反射防止シート
を製造した。この接着剤は硬化後のＴｇが５３℃であっ
た。得られた反射防止シートの鉛筆硬度、耐久性、密着
性を下記の表１に、屈折率、反射率を下記の表２に示
す。

【００７１】湿気硬化１液型ウレタン系接着剤Ａ２７０Ｌ：ポリエステル芳香族系イソシアネート、武
田薬品（株）製５重量部酢酸エチル７重量部〔実施例４〕前記実施例１の反射防止シートの製造方法
において、接着剤を熱硬化２液型ウレタン系接着剤に変
えて、湿気硬化１液型ウレタン系接着剤と熱硬化２液型
ウレタン系接着剤の混合物（下記組成の接着剤）を用い
た以外は、前記実施例１と全く同様にして本実施例４の
反射防止シートを製造した。この接着剤は硬化後のＴｇ
が４５℃であった。得られた反射防止シートの鉛筆硬
度、耐久性、密着性を下記の表１に、屈折率、反射率を
下記の表２に示す。

【００７２】湿気硬化１液型ウレタン系接着剤と熱硬化
２液型ウレタン系接着剤からなる混合接着剤Ａ２７０Ｌ：ポリエステル芳香族系イソシアネート、武
田薬品（株）製７重量部ＬＸ６６０：大日本インキ（株）製４重量部ＫＷ７５：芳香族系ポリイソシアネート、大日本インキ
（株）製３重量部酢酸エチル２０重量部〔実施例５〕前記実施例１の反射防止シートの製造方法
において、離型フィルム上に高屈折率樹脂組成物を塗布
硬化させて高屈折率層を形成するまでの工程は同一とし
た。得られた高屈折率層上に、接着剤として下記組成の
熱硬化２液型ウレタン系接着剤と電離放射線硬化型樹脂
の混合物を接着剤として用い、膜厚３〜１０μｍとなる
ように塗工し、接着剤層を形成した。本実施例５におけ
る接着剤層の硬化後のＴｇが５０℃であった。

【００７３】次いで、接着剤層を介して、ＴＡＣフィル
ムをラミネートし、４０℃で３日以上エージングした。
得られたラミネート物に対して、電子線を１７５ｋｖ，
５Ｍｒａｄで照射を行い、接着剤層を硬化した。この接
着剤は硬化後のＴｇが５０℃であった。次いで、前記離
型フィルムを剥離して、前記高屈折率層をＴＡＣフィル
ムに転写し、高屈折率層を形成した。得られた高屈折率
層上に、真空蒸着法により低屈折率層であるＳｉＯ_X膜
を厚さ１００ｎｍとなるように形成し、反射防止シート
を得た。得られた反射防止シートの鉛筆硬度、耐久性、
密着性を下記の表１に、屈折率、反射率を下記の表２に
示す。

【００７４】熱硬化２液型ウレタン系接着剤と電離放射
線硬化型樹脂ウレタン系接着剤からなる混合接着剤ＬＸ６６０：大日本インキ製１０重量部ＫＷ７５：芳香族系イソシアネート、大日本インキ
（株）製１重量部ＰＰＺ：ホスファゼン骨格多官能アクリレート：出光興
産（株）製１１重量部〔実施例６〕前記実施例５の反射防止シートの製造方法
において、前記実施例５で使用した接着剤である熱硬化
２液型ウレタン系接着剤と電離放射線硬化型樹脂の混合
物中の電離放射線硬化型樹脂の種類を変更した以外は、
全て前記実施例５と同じようにして本実施例６の反射防
止シートを製造した。この接着剤は硬化後のＴｇが５０
℃であった。得られた反射防止シートの鉛筆硬度、耐久
性、密着性を下記の表１に、屈折率、反射率を下記の表
２に示す。本実施例６で使用した接着剤の組成を下記に
示す。

【００７５】熱硬化２液型ウレタン系接着剤と電離放射
線硬化型樹脂ウレタン系接着剤からなる混合接着剤ＬＸ６６０：大日本インキ（株）製１０重量部ＫＷ７５：芳香族系イソシアネート、大日本インキ
（株）製１重量部カルボキシル基含有（メタ）アクリレート：三菱化学
（株）製１１重量部〔比較例１〕前記実施例１の反射防止シートの製造方法
において、硬化後のＴｇが１６℃である下記の組成の熱
硬化２液型ウレタン系接着剤に変えた以外は、全て前記
実施例１と同じようにして本比較例１の反射防止シート
を製造した。得られた反射防止シートの鉛筆硬度、耐久
性、密着性を下記の表１に、屈折率、反射率を下記の表
２に示す。

【００７６】熱硬化２液型ウレタン系接着剤Ａ３１０：武田薬品製（株）４重量部Ａ３：武田薬品製（株）１重量部酢酸エチル７重量部〔比較例２〕前記実施例１の反射防止シートの製造方法
において、硬化後のＴｇが１６℃である下記の組成の熱
硬化２液型ウレタン系接着剤に変えた以外は、全て前記
実施例１と同じようにして本比較例２の反射防止シート
を製造した。得られた反射防止シートの鉛筆硬度、耐久
性、密着性を下記の表１に、屈折率、反射率を下記の表
２に示す。

【００７７】熱硬化２液型ウレタン系接着剤ＬＸ６６０：大日本インキ（株）製１２重量部ＫＷ７５：大日本インキ（株）製１重量部酢酸エチル１９重量部〔比較例３〕前記実施例３の反射防止シートの製造方法
において、硬化後のＴｇが−２３℃である下記の組成の
湿気硬化１液型ウレタン系接着剤に変えた以外は、全て
前記実施例３と同じようにして本比較例３の反射防止シ
ートを製造した。得られた反射防止シートの鉛筆硬度、
耐久性、密着性を下記の表１に、屈折率、反射率を下記
の表２に示す。

【００７８】湿気硬化１液型ウレタン系接着剤Ａ２８１：ポリエーテル芳香族系イソシアネート、武田
薬品（株）製５重量部酢酸エチル７重量部

【００７９】

【表１】

【００８０】

【表２】

【００８１】上記表１によれば、接着剤層のＴｇが２０
℃以上である本発明の反射防止シートは、鉛筆硬度が高
いことから耐擦傷性に優れ、また長期の保存においても
塗膜の耐久性及び密着性に優れていることがわかる。

【００８２】

【発明の効果】本発明の反射防止シートは、長期間の使
用においても、クラックや塗膜の脱離がなく耐久性があ
り、耐擦傷性を有する。

【００８３】また、本発明の反射防止シートは、離型フ
ィルム上に低屈折率層及び／又は高屈折率層等の各層を
形成した後に、透明基材フィルムにこれらの各層を転写
しているので、反射防止シートの製造工程中に、透明基
材フィルムは、加熱、電離放射線照射等によるダメージ
を受けたり、また着色されたりすることを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のタイプＩの反射防止シートを示す。

【図２】本発明のタイプIIの反射防止シートを示す。

【図３】本発明のタイプIII の反射防止シートを示す。

【図４】本発明のタイプＩの反射防止シートの製造方法
の一例を示プロセス図である。

【図５】本発明のタイプIIの反射防止シートの一番目の
製造方法の一例を示すプロセス図である。

【図６】本発明のタイプIIの反射防止シートの二番目の
製造方法の一例を示すプロセス図である。

【図７】本発明のタイプIII の反射防止シートの一番目
の製造方法の一例を示すプロセス図である。

【図８】本発明のタイプIII の反射防止シートの二番目
の製造方法の一例を示すプロセス図である。

【図９】本発明の反射防止シートが使用された偏光板の
一例を示す。

【図１０】本発明の反射防止シートが使用された液晶表
示装置の一例を示す。

【符号の説明】

１透明基材フィルム２接着剤層３低屈折率層４高屈折率層５ハードコート層６離型フィルム７，９ＴＡＣフィルム８偏光素子１０液晶表示素子１１反射防止シート

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】後記する接着剤層の屈折率よりも低い屈
折率の低屈折率層が、ガラス転移温度２０℃以上の接着
剤層を介して透明基材フィルムにラミネートされている
ことを特徴とする反射防止シート。
【請求項２】後記する接着剤層の屈折率以上の屈折率
を有する高屈折率層と該高屈折率層の屈折率よりも低い
屈折率の低屈折率層からなる積層体が、ガラス転移温度
２０℃以上の接着剤層を介して、前記高屈折率層を内側
にして透明基材フィルムにラミネートされていることを
特徴とする反射防止シート。
【請求項３】ハードコート層と、該ハードコート層上
に設けられた該ハードコート層の屈折率より高い屈折率
の高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた該高屈折
率層の屈折率より低い屈折率の低屈折率層とからなる積
層体が、ガラス転移温度２０℃以上の接着剤層を介し
て、前記ハードコート層側を内側にして透明基材フィル
ムにラミネートされていることを特徴とする反射防止シ
ート。
【請求項４】前記高屈折率層がハード性能を有する請
求項２又は３記載の反射防止シート。
【請求項５】前記接着剤層は、ウレタン系樹脂を主体
としたものからなる請求項１、２、３又は４記載の反射
防止シート。
【請求項６】前記接着剤層は、イソシアネート基を有
する化合物を１０％以上含有している請求項１、２、
３、４又は５記載の反射防止シート。
【請求項７】前記接着剤層は、電離放射線硬化型樹脂
を含有している請求項１、２、３、４、５又は６記載の
反射防止シート。
【請求項８】前記接着剤層に含有される電離放射線硬
化型樹脂の量は、全体の１０〜９０％である請求項７記
載の反射防止シート。
【請求項９】前記ハードコート層は、電離放射線硬化
型樹脂を含んでいることを特徴とする請求項３、４、
５、６、７又は８記載の反射防止シート。
【請求項１０】前記ハードコート層の屈折率は、透明
基材フィルムの屈折率以上であることを特徴とする請求
項３、４、５、６、７、８又は９記載の反射防止シー
ト。
【請求項１１】前記透明基材フィルムがアルカリ処理
されたトリアセチルセルロースフィルムであることを特
徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又
は１０記載の反射防止シート。
【請求項１２】請求項１、２、３、４、５、６、７、
８、９又は１０記載の反射防止シートにおいて、低屈折
率層の表面層が微細な凹凸となっていることを特徴とす
る反射防止シート。